본 발명 의 기판 처리 장치 는 , 기판 이 안착 되 는 스핀 헤드 와 ; 기판 으로 약액 들 을 각각 공급 하 는 복수 개 의 노즐 들 이 하나 의 회전축 에 설치 되 고 , 공정 진행 에 따라 상기 노즐 들 각각 이 독립 적 으로 회전 가능 한 노즐 부 와 ; 공정 진행 에 따라 상기 노즐 들 중 하나 의 노즐 을 선택 하 는 선택 부 와 ; 선택 된 상기 하나 의 노즐 으로부터 기판 으로 약액 을 공급 하 도록 상기 회전축 을 회전 시키 는 구동 부 및 ; 상기 하나 의 노즐 이 선택 되 도록 상기 선택 부 를 제어 하 고 , 상기 회전축 의 회전각 을 조절 하 여 선택 된 상기 하나 의 노즐 로부터 기판 전체 영역 에 균일 하 게 약액 을 공급 하 도록 상기 구동 부 를 제어 하 는 제 어부 를 포함 한다 .