" 용어 가 본원 에 사용 되 는 바 와 같이 는 "" 삽입 결실 패턴 ( indel pattern ) "" 은 gRNA 분자 를 포함 하 는 조성물 에 의 노출 후 발생 한 삽입 결실 세트 를 지칭 한다 . 실시 형태 에서 ", 삽입 결실 패턴 은 출현 빈도 에 의해 상위 3 개 의 삽입 결실 들 로 구성 된다 . 실시 형태 에서 , 삽입 결실 패턴 은 출현 빈도 에 의해 상위 5 개 의 삽입 결실 들 로 구성 된 이 다 . 실시 형태 에서 , 삽입 결실 패턴 은 모든 시퀀싱 리드 ( read ) 에 비해 약 5 % 초과 의 빈도 로 존재 하 는 삽입 결실 로 구성 된다 . 실시 형태 에서 , 삽입 결실 패턴 은 삽입 결실 시퀀싱 리드 ( 즉 , 변형 되 지 않 은 참조 핵산 서열 로 구성 되 지 않 은 리드 ) 의 총 개수 에 비해 약 10 % 초과 의 빈도 로 존재 하 는 삽입 결실 로 구성 된다 . 실시 형태 에서 , 삽입 결실 패턴 은 상위 5 개 의 가장 빈번 하 게 관찰 된 삽입 결실 중 임의 의 3 개 를 포함 한다 . 삽입 결실 패턴 은 예 를 들 어 gRNA 분자 에 노출 된 세포 집단 의 세포 를 시퀀싱 함 에 의해 결정 될 수 있 다 .