또한 , 자연 산화 막 의 제거 이외 에 도 , 반도체 집 적 회로 장치 의 제조 프로세스 에 있 어서 , 불소 를 함유 하 는 처리 가스 를 이용 하 여 가스 처리 를 실시 하 여 불소 를 함유 하 는 반응 생성물 을 형성 하 고 , 이 반응 생성물 을 분해 하 는 공정 을 밟 는 프로세스 이 면 적용 할 수 있 다 . 이 경우 에 있 어서 도 불소 나 불소 화합물 의 잔사 를 제 거할 수 있 다는 이점 을 얻 을 수 있 다 .