그 다음 , 상기 기판 ( 11 ) 의 상면 에 상기 마스크 막 ( 13 a ) 을 덮 도록 감광제 ( 19 ) 를 도포 한 다음 그 상방 에 도 5 d 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 마스크 막 ( 13 a ) 과 직교 하 도록 스트라이프 형 의 포토 마스크 ( 20 ) 를 배치 시켜서 , 노광 , 현상 및 식각 공정 을 실시 하 면 상기 포토 마스크 ( 20 ) 와 동일 한 형태 의 감광제 층 ( 19 a ) 이 형성 된다 ( 도 1 e 참조 ) .