도 4 는 , 도파 로 공동 ( 467 ) 내 의 이동 가능 한 전도성 플레이트 ( 420 ) 의 높이 ( d 1 ) 를 조정 하 는 플 라즈 마 처리 시스템 ( 400 ) 의 일부 를 예시 하 는 개략 적 인 단면도 이 다 . 시스템 ( 400 ) 에서 , 하우징 ( 405 ) 과 결합 된 전도성 플레이트 ( 437 ) 는 도파 로 공동 ( 467 ) 의 하부 경계 를 형성 한다 . 유전체 플레이트 ( 469 ) 는 전도성 플레이트 ( 437 ) 에 인접 하 고 그 와 직접 접촉 한다 . 도 2 a 와 관련 하 여 위 의 논의 와 유사 하 게 , d 1 및 d 2 는 고유 모드 들 을 지지 하 기 위해 도파 로 공동 ( 467 ) 및 유전체 플레이트 ( 469 ) 의 능력 에 각각 영향 을 미친다 . 고유 모드 를 지지 하 기 위해 이러 한 배열 들 중 어느 하나 또는 다른 것 을 조정 하 는 데 에 주파수 조정 이 사용 될 수 있 는 반면 에 , 주파수 조정 은 도파 로 ( 467 ) 및 유전체 플레이트 ( 469 ) 양쪽 모두 에서 동시 에 고유 모드 조건 들 을 생성 하 지 않 을 수 있 다 . 즉 , 조정 들 에서 의 추가 적 인 자유도 가 유용 할 수 있 다 .