도 1 을 참조 하 면 , 캘리 브레이 션 된 모델 을 이용 하 여 시뮬레이션 하 여 도 5 에 제시 된 바 와 같 은 시뮬레이션 컨 투어 결과 ( 503 또는 504 , 505 ) 를 얻 은 후 , 얻 어 진 시뮬레이션 컨 투어 와 실제 웨이퍼 상 에 형성 하 고자 하 는 목표 패턴 의 레이아웃 을 비교 하 여 OPC 결과 를 검증 할 수 있 다 . 이러 한 OPC 검증 이 이루어진 OPC 된 레이아웃 을 마스크 기판 상 에 전사 하 는 마스크 제작 과정 이 수행 될 수 있 다 ( 108 ) . 이 에 따라 웨이퍼 상 에 패턴 을 전사 하 는 데 사용 되 는 포토 마스크 가 제작 된다 .