그리고 , 215 단계 에서 시준기 ( 110 ) 에 전원 을 인가 하 고 , 시준기 ( 110 ) 를 통해 표적 의 영상 이 획득 되 면 , 220 단계 에서 본 발명 이 적용 되 는 전자 광학 장비 의 초점 조절 시험 시스템 ( 100 ) 의 영상 획득 부 ( 140 ) 는 획득 된 영상 을 출력 하 고 , 컴퓨터 ( 150 ) 는 영상 이 정상 출력 되 는지 확인 하 고 저장 한 후 , 상기 획득 된 표적 의 영상 에 대해 MTF 계산 소프트웨어 를 이용 하 여 MTF 를 측정 한다 . 도 4 는 본 발명 이 적용 되 는 전자 광학 장치 의 초점 조절 시험 시스템 에서 측정 된 로우 MTF ( 405 ) 와 하이 MTF ( 410 ) 를 각각 보여준다 . 225 단계 에서 는 상기 220 단계 에서 측정 된 MTF 값 이 최대 값 인지 를 확인 하 고 , 최대 값 이 아니 라면 , MTF 가 규격 을 충족 시키 지 못한다고 판단 하 고 , 230 단계 에서 상기 205 단계 에서 적용 된 심 ( Shim ) 심 을 교체 한 후 , 최대 값 의 MTF 값 이 측정 될 때 까지 조립 및 측정 을 반복 한다 . 그러 한 반복 을 통해 상기 225 단계 에서 최대 값 의 MTF 값 이 측정 되 었 다면 , 235 단계 에서 규격 이 충족 되 었 다고 판단 하 여 전자 광학 장비 의 최종 조립 을 완료 한 후 , 전자 광학 장비 ( 120 ) 및 시준기 ( 110 ) 의 전원 을 오프 시킨다 .