묘화 중 , XY 스테이지 ( 105 ) 는 일정 속도 로 연속 이동 하 도록 제어 된다 . 이 때 , 빔 의 조사 위치 가 XY 스테이지 ( 105 ) 의 이동 에 추종 하 도록 , 편 향기 ( 208 ) 에 의하 여 제어 된다 . 동시 에 조사 되 는 멀티 빔 은 , 이상 적 으로 는 성형 애퍼처 부재 ( 203 ) 의 복수 의 개구 의 배 열 피치 에 , 상술 한 원 하 는 축소율 을 곱한 피치 로 배열 된다 . 묘화 중 , 편향 에 의한 위치 제어 에 의하 여 , 멀티 빔 은 기판 ( 101 ) 상 에 정의 된 화소 의 전부 를 노광 하 는 , 래스터 스캔 방식 의 묘화 동작 을 행한다 . 빔 이 패턴 을 포함 하 지 않 는 화소 상 에 있 는 경우 , 빔 은 블 랭킹 제어 에 의하 여 빔 오프 로 제어 된다 .