한편 , 상기 제 1 , 제 2 플 라즈 마 처리 과정 에서 반응 가스 는 CF 4 , CHF 4 , SF 6 , C 2 F 6 , C 4 F 8 및 NF 3 와 같 은 불소 라디칼 을 포함 하 거나 , 또는 BCl 3 , Cl 2 와 같 은 염소 라디칼 중 적어도 어느 하나 를 포함 하 는 것 이 바람직 하 다 . 이외 에 기판 ( 10 ) 에 퇴적 된 박막 이나 파티클 등 을 화학 적 으로 식각 시킬 수 있 는 다양 한 식각 가스 를 포함 할 수 있 다 . 또한 , 비 반응 가스 는 산소 , 수소 , 질소 및 불활성 가스 를 포함 할 수 있 고 , 이외 에 기판 ( 10 ) 에 형성 된 박막 을 보호 할 수 있 는 다양 한 보호 가스 를 포함 할 수 있 다 . 물론 , 공정 에 따라 상기 반응 , 비 반응 가스 를 혼합 하 여 사용 할 수 도 있 을 것 이 다 .