본 발명 의 일 측면 에 따르 면 , 챔버 ; 상기 챔버 의 내측 에 위치 되 어 , 공정 이 이루어질 기판 을 지지 하 는 서 셉 터 ; 설정 면적 을 가지 고 , 상기 챔버 의 내부 의 상부 영역 에 위치 되 는 전 극판 ; 플라 즈 마 여기 를 위한 전력 을 제공 하 고 , 상기 서 셉 터 에 연결 되 는 RF 전원 ; 상기 전 극판 을 접 지 시키 는 도선 상 에 위치 되 는 플 라즈 마 제어 유닛 ; 및 제어기 를 포함 하 는 기판 처리 장치 가 제공 될 수 있 다 .