이 와 같이 구성 되 는 자외선 조사 유닛 ( 52 ) 에 있 어서 , 회전 배치 대 ( 52 b ) 상 에 놓여진 웨이퍼 ( W ) 를 회전 시키 면서 , 조사 부 ( 52 c ) 로부터 자외선 을 웨이퍼 ( W ) 에 조사 함 으로써 , 웨이퍼 ( W ) 표면 의 처리 막 , 예컨대 레지스 트 막 을 개질 하 여 , 용해 저해 성 보호기 를 분해 할 수 있 다 . 또한 , 웨이퍼 ( W ) 를 회전 시키 면서 조사 하 고 있 기 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 에 대하 여 균일 하 게 자외선 이나 전자선 을 조사 하 는 것 이 가능 하 다 .