레티 클 이 라는 용어 는 클리어 - 필드 ( clear - field ) 레티 클 , 다크 - 필드 ( dark - field ) 레티 클 , 이진 레티 클 , 위상 시프트 마스크 ( phase - shift mask , PSM ) , 교번 PSM , 감쇠 형 ( attenuated ) 또는 하프톤 ( halftone ) PSM , 3 진 감쇠 형 ( ternary attenuated ) PSM 및 크롬 리스 위상 리소그래피 PSM 를 포함 하 는 ( 이 에 제한 되 지 않 음 ) 상이 한 유형 의 레티 클 을 지칭 한다 . 클리어 - 필드 레티 클 은 투명 한 필드 또는 배경 영역 을 가지 고 , 다크 - 필드 레티 클 은 불 투명 한 필드 또는 배경 영역 을 가진다 . 이진 레티 클 은 투명 하 거나 불 투명 한 패 터닝 된 영역 을 갖 는 레티 클 이 다 . 예 를 들 어 , 크롬 금속 흡착 막 에 의해 정의 된 패턴 을 갖 는 투명 한 용융 실리카 블랭크 로 제조 된 포토 마스크 가 사용 될 수 있 다 . 이진 레티 클 은 위상 시프트 마스크 ( PSM ) 와 상이 하 며 , 그 중 하나 의 유형 은 빛 을 부분 적 으로 만 투과 시키 는 막 을 포함 할 수 있 으며 , 그러 한 레티 클 은 일반 적 으로 하프톤 또는 EPSM ( embedded phase - shift mask ) 으로 지칭 될 수 있 다 . 위상 시프트 물질 이 레티 클 의 교호 적 클리어 공간 상 에 배치 되 면 , 레티 클 은 교번 PSM , ALT PSM 또는 레 벤슨 ( Levenson ) PSM 이 라고 지칭 된다 . 임의 의 레이아웃 패턴 에 적용 되 는 한 유형 의 위상 시프트 물질 은 감쇠 형 또는 하프톤 PSM 으로 지칭 되 며 , " 이 는 불 투명 한 재료 를 부분 적 투과 성 또는 "" 하프톤 "" 막 으로 대체 함 으로써 제조 될 수 있 다 . 3 진 감쇠 형 PSM 은 또한 완전히 불 투명 한 피처 를 포함 하 는 감쇠 형 PSM 이 다 . "