또한 , 본 실시 형태 에 의하 면 , 제 1 스텝 ( 박막 의 에칭 공정 ) 및 제 2 스텝 ( 트리트 먼 트 공정 ) 에 있 어서 , 클리닝 가스 로서 , HF 가 스나 H 2 가스 등 의 수소 함유 가스 를 처리 실 ( 201 ) 내 에 공급 하 지 않 고 , F 2 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 F 2 가스 를 단독 으로 처리 실 ( 201 ) 내 로 공급 한다 . 그 결과 , 처리 실 ( 201 ) 내부 나 가스 유통 경로 내 에 있 어서 금속 부재 , 예 를 들 면 , 매니폴드 ( 209 ) , 씰 캡 ( 219 ) , 회전축 ( 255 ) , 배기관 ( 231 ) , 압력 조정 장치 ( 242 ) 등 의 HF 에 의한 부식 을 억제 할 수 있 고 , 처리 실 ( 201 ) 에 있 어서 금속 오염 의 발생 을 억제 할 수 있 다 . 또한 , 처리 실 ( 201 ) 내 의 석영 부재 [ 프로세스 튜브 ( 203 ) 나 보트 ( 217 ) 등 ] 의 HF 에 의한 침식 을 억제 하 고 , 석영 부재 의 파손 을 억제 할 수 있 다 .