상기 제 1 ∼ 제 3 실시 형태 에서 는 , 웨이퍼 스테이지 와 계측 스테이지 를 구비 한 노광 장치 에 본 발명 이 적용 된 경우 에 대하 여 설명 했 지만 이것 에 한정 되 지 않 고 , 단일 웨이퍼 스테이 지만 을 구비 한 노광 장치 , 혹은 , 예 를 들 어 미국 특허 제 6 , 590 , 634 호 명세서 , 미국 특허 제 5 , 969 , 441 호 명세서 , 미국 특허 제 6 , 208 , 407 호 명세서 등 에 개시 되 어 있 는 바 와 같이 , 복수 의 웨이퍼 스테이지 를 구비 한 멀티 스테이지 형 , 예 를 들 어 트윈 스테이지 형 노광 장치 등 에 도 본 발명 을 적용 할 수 있 다 . 이 경우 , 노광 장치 의 제어 장치 는 , 2 개 의 웨이퍼 스테이지 중 일방 에 유지 된 웨이퍼 에 대한 노광 이 실시 되 는 것 과 병행 하 여 , 타방 의 웨이퍼 스테이지 를 적어도 Y 축 방향 으로 이동 시키 면서 , 웨이퍼 에 대한 얼라이먼트 계측 등 의 계측 이 실시 되 는 영역 ( 계측 스테이션 ) 과 웨이퍼 에 대한 노광 이 실시 되 는 영역 ( 노광 스테이션 ) 사이 의 이동 경로 에 배치 된 주변 노광 유닛 을 제어 하 여 , 노광 위치 를 향해 이동하 는 도중 에 주변 노광 유닛 의 하방 을 통과 하 는 타방 의 웨이퍼 스테이지 에 유지 된 웨이퍼 주변 부 의 쇼트 영역 의 적어도 일부 의 주변 노광 을 실시 하 게 할 수 있 다 .