많 은 마이크 로 전자 응용 에서 , 포토 리소그래피 는 실리콘 웨이퍼 와 같 은 기판 하부 의 포토레지스트 층 을 패턴 화 하 는 데 에 사용 된다 . 도 15 a 및 도 15 b 를 참조 하 면 , 대 상체 ( 30 ) 는 기판 , 예 를 들 어 웨이퍼 ( 32 ) 를 포함 하 고 , 상부 층 , 예 를 들 어 포토레지스트 층 ( 34 ) 을 포함 한다 . 대 상체 ( 30 ) 는 상이 한 굴절 률 을 가진 물질 들 사이 에서 생기 는 것 과 같 은 다수 의 계면 을 포함 한다 . 예 를 들 어 , 대 상체 주위 의 계면 ( 38 ) 은 포토레지스트 층 ( 34 ) 의 외부 표면 ( 39 ) 이 주위 의 물체 ( 30 ) , 예 를 들 어 , 액체 , 공기 , 다른 기체 나 진공 과 접하 는 곳 에 형성 된다 . 기판 층 계면 ( 36 ) 은 웨이퍼 ( 32 ) 의 표면 ( 35 ) 과 포토레지스트 층 ( 34 ) 의 바닥 면 ( 37 ) 사이 에 형성 된다 . 웨이퍼 의 표면 ( 35 ) 은 다수 의 패턴 화 된 배 선부 ( feature ) ( 29 ) 를 포함 할 수 있 다 . 이 들 배 선부 의 일부 는 기판 의 인접 한 부분 과 동일 한 높이 와 상이 한 굴절 률 을 갖 는다 . 다른 배 선부 는 기판 의 인접 한 부분 에 상대 적 으로 상방 또는 하방 으로 연장 될 수 있 다 . 따라서 , 계면 ( 36 ) 은 포토 레지스터 의 외부 표면 의 하부 에 있 는 복잡 하 고 가변 의 토포 그래피 를 나타낼 수 있 다 .