도 5 에 제시 된 결과 에 따르 면 , 제 2 시뮬레이션 컨 투어 ( 505 ) 와 목표 패턴 레이아웃 ( 501 ) 이 상당히 정확 하 게 정렬 되 고 있 다 . 이러 한 정확 하 게 정렬 되 는 검증 결과 를 얻 을 경우 OPC 된 레이아웃 ( 203 ) 에 대한 포토 마스크 제작 이 수행 된다 ( 도 1 의 109 ) . 이러 한 OPC 결과 는 영역 에 따른 다양 한 값 의 도즈 오프셋 을 반영 하 고 있 으므로 , 영역 에 적용 된 도즈 오프셋 값 의 데이터 는 포토 마스크 제작 이나 후속 노광 과정 에 반영 되 도록 한다 . 이러 한 검증 결과 정확 한 정렬 이 얻 어 지 지 않 는 경우 에 는 재 OPC 과정 을 수행 할 수 도 있 다 .