도 2 a 및 도 2 b 는 샤워 플레이트 의 홀 들 을 도시 하 며 , 상기 샤워 플레이트 의 홀 들 을 통하 여 반응 가스 들 및 세정 가스 들 이 반응 챔버 에 인입 되 기 전 에 유동 한다 . 바람직 하 게 는 , 상기 홀 들 은 상기 샤워 플레이트 내 에 가공 되 며 , " 본 명세서 에서 "" 홀 가공 영역 "" 으로 지칭 되 는 상기 샤워 플레이트 의 영역 을 차지 한다 . 도 2 a 는 종래 기술 에 이용 되 는 종래 의 홀 들 을 도시 한다 . 도 2 b 는 본 발명 의 일실 시예 에 따른 개선 된 홀 들 을 도시 한다 . "