도 3 c 는 성장 챔버 ( 1 ) 에 위치 한 내부 인 젝 터 ( 81 ) 배열 의 평면도 를 도시 한다 . 도 1 a 및 도 3 양 도면 에 공통 된 성장 챔버 소자 들 은 양 도면 에 동일 참조 번호 로 도시 되 었 음 을 명심 하 라 . 중간 튜브 ( 89 a , 89 b , 89 c ) 는 성장 챔버 외부 의 개스 포트 ( 27 a , 27 b , 27 c ) 각각 을 각 도관 인 렛 ( 85 a , 85 b , 85 c ) 에 연결 한다 ( 도시 되 지 않 은 접속 ( junction ) 을 통해 ) . 평면 내부 인 젝 터 ( 81 ) 의 도관 ( 83 a , 83 b , 83 c ) 은 도관 인 렛 ( 85 a , 85 b , 85 c ) 을 성장 기판 ( 5 ) 와 자화 기 의 중심 에 걸쳐 위치 하 는 , 도관 포트 ( 87 a , 87 b , 87 c ) 에 각각 연결 한다 . 이 로 인해 , 개스 의 완전 한 경로 가 성장 챔버 외부 의 개스 소스 로부터 성장 기판 부근 의 복수 의 개스 포트 어레이 로 설정 된다 . 성장 챔버 로부터 배기 포트 ( 9 ) 로 개스 가 배출 된다 . 추가 개스 포트 ( 3 ) 가 하나 이사 의 개스 플로우 ( flow ) 를 성장 챔버 를 통해 성장 기판 에 걸쳐 설정 하 다 . 바람직 하 게 는 , 내부 인 젝 터 ( 81 ) 의 개스 플로우 는 포트 ( 3 ) 에 의해 도입 되 는 개스 의 임의 의 크로스 플로우 ( cross - flow ) 에 대응 한다 .