상기 적어도 하나 의 프로세서 는 상기 다수 의 노즐 중 하나 가 상기 기판 의 제 1 측면 상 으로 상기 액체 의 액적 을 분사 하 는 시점 에서 상기 다수 의 노즐 중 하나 의 각각 의 높이 에 따른 방식 으로 , 상기 프린트 헤드 의 다수 의 노즐 중 각각 에 대해 각각 에 기초 에 따라 상기 액 적 분사 파라미터 를 조정 하 는 것 을 특징 으로 한다 .