투명 도전 막 ( 115 ) 은 예 를 들 어 ITO , IZO 또는 이 들 의 혼합물 로 형성 될 수 있 으며 , 투명 도전 막 ( 115 ) 의 형성 에 는 스퍼터링 ( sputtering ) 또는 화학 기상 증착 법 ( Chemical Vapor Deposition , CVD ) 등 의 방법 이 이용 될 수 있 다 . 아 날로 그 방식 을 채용 할 경우 투명 도전 막 ( 115 ) 은 제 1 절연 기판 ( 111 ) 의 전면 에 형성 되 며 , 디지털 방식 을 채용 할 경우 도전 막 패턴 을 형성 하 여 선택 적 으로 터치 신호 가 감지 되 도록 할 수 있 다 .