도 1 b 를 참조 하 면 , 상기 템 플레이트 ( 20 ) 를 상기 레지스 트 ( 11 ) 를 향해 가압 하 여 , 레지스 트 ( 11 ) 가 템 플레이트 ( 20 ) 의 패턴 사이 의 공간 으로 로 채워 지 도록 한다 . 이 와 같이 임 프린팅 ( imprinting ) 하 는 동안 자외선 ( 30 ) 을 조사 하 여 , 상기 레지스 트 ( 11 ) 를 경화 시켜 원 하 는 레지스 트 패턴 ( 11 a ) 을 형성 한다 .