도 7 f 를 참조 하 면 , 내부 실링 부 ( IS 2 ) 가 형성 된 영역 들 에 대응 하 는 상부 외장 층 의 부분 ( 210 a ) , 전지 관 통부 ( TH 2 ) 가 형성 될 영역 에 대응 하 는 분리 막 ( 130 ) 의 부분 및 내부 실링 부 ( IS 2 ) 가 형성 된 영역 들 에 대응 하 는 하부 외장 층 의 부분 ( 220 a ) 이 펀칭 장비 ( P ) 에 의해 관통 될 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , 상부 외장 층 의 부분 ( 210 a ) , 전지 관 통부 ( TH 2 ) 가 형성 될 영역 에 대응 하 는 분리 막 ( 130 ) 의 부분 및 하부 외장 층 의 부분 ( 220 a ) 을 관통 하 는 펀칭 장비 ( P ) 의 진행 방향 은 도 7 f 에서 화살표 방향 으로 나타낼 수 있 다 . 펀칭 장비 ( P ) 는 내부 실링 부 ( IS 2 ) 가 형성 된 영역 에 대응 하 는 상부 외장 층 ( 210 ) 의 부분 ( 210 a ) , 내부 실링 부 ( IS 2 ) 가 형성 된 영역 에 대응 하 는 분리 막 ( 130 ) 의 부분 및 내부 실링 부 ( IS 2 ) 가 형성 된 영역 에 대응 하 는 하부 외장 층 ( 220 ) 의 부분 ( 220 a ) 을 차례 대로 관통 할 수 있 는 펀칭 부 ( C ) 를 포함 할 수 있 다 . 펀칭 장비 ( P ) 의 펀칭 부 ( C ) 는 뾰족 한 핀 형상 을 갖 는 단부 를 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 상기 펀칭 장비 로서 송곳 , 인두 또는 중공 파이프 가 이용 될 수 있 다 .