그 다음 , 도 17 a 및 도 17 b 에 도시 된 바 와 같이 , 유전체 층 ( 200 ) 의 일부 가 CNT ( 100 ) 의 소스 / 드레 인 영역 으로부터 제거 되 고 따라서 , CNT ( 100 ) 의 소스 / 드레 인 영역 의 일부 가 노출 된다 . 일부 실시 예 에서 , 유전체 층 의 일부 는 도 17 b 에 도시 된 바 와 같이 CNT ( 100 ) 의 최 상부 로부터 제거 된다 . 일부 실시 예 에서 , 이방성 건식 에칭 이 사용 된다 . 다른 실시 예 에서 , 이방성 에칭 및 등방성 에칭 이 교대 로 수행 된다 .