세 정수 분사 노즐 ( 25 ) 로부터 분사 되 는 세 정수 ( 24 ) 에 의해 , 제 1 배선 층 ( L 1 ) 의 상면 ( L 1 a ) 및 웨이퍼 ( W ) 의 상면 ( W 2 a ) 이 세정 된 후 , 세 정수 분사 노즐 ( 25 ) 이 세 정수 ( 24 ) 의 분사 를 정지 한다 . 또한 , 도 7 에 나타내 는 바 와 같이 , 유지 테이블 ( 20 ) 이 회전 함 으로써 , 웨이퍼 ( W ) 가 회전 건조 된다 .