샤워 헤드 ( 3 ) 는 , 처리 용기 ( 1 ) 내 에 처리 가스 를 샤워 형 으로 공급 한다 . 샤워 헤드 ( 3 ) 는 , 금속제 이 며 , 배치 대 ( 2 ) 에 대향 하 도록 설치 되 어 있 고 , 배치 대 ( 2 ) 와 거의 동일 한 직경 을 갖 고 있 다 . 샤워 헤드 ( 3 ) 는 , 처리 용기 ( 1 ) 의 상부 벽 ( 14 ) 에 고정 된 본 체부 ( 31 ) 와 , 본 체부 ( 31 ) 아래 에 접속 된 샤워 플레이트 ( 32 ) 를 갖 고 있 다 . 본 체부 ( 31 ) 와 샤워 플레이트 ( 32 ) 사이 에 는 가스 확산 공간 ( 33 ) 이 형성 되 어 있 고 , 가스 확산 공간 ( 33 ) 에 는 처리 용기 ( 1 ) 의 상부 벽 ( 14 ) 및 본 체부 ( 31 ) 의 중앙 을 관통 하 도록 가스 도입 구멍 ( 36 , 37 ) 이 형성 되 어 있 다 . 샤워 플레이트 ( 32 ) 의 둘레 가장자리 부 에 는 하방 으로 돌출 하 는 환형 돌기 부 ( 34 ) 가 형성 되 어 있 다 . 환형 돌기 부 ( 34 ) 의 내측 의 평탄면 에 는 , 가스 토출 구멍 ( 35 ) 이 형성 되 어 있 다 . 배 치대 ( 2 ) 가 처리 위치 에 존재 한 상태 에서 는 , 배치 대 ( 2 ) 와 샤워 플레이트 ( 32 ) 사이 에 처리 공간 ( 38 ) 이 형성 되 고 , 커버 부재 ( 22 ) 의 상면 과 환형 돌기 부 ( 34 ) 가 근접 하 여 환형 간극 ( 39 ) 이 형성 된다 .