일반 적 으로 제조 산업 에서 사용 하 는 많 은 전자 부품 들 의 기판 , 웨이퍼 등 의 표면 에 박막 또는 산화 막 을 증착 하 거나 불순물 을 확산 시키 는 공정 을 도입 시키 기 위하 여 , CVD 장치 , 산화 막 형성 장치 , 확산 장치 등 과 같이 반응 챔버 ( 혹은 공정 튜브 ) 의 온도 를 공정 조건 에 맞 게 조성 해 주 기 위한 열처리 장치 를 필요 로 하 는데 , 이러 한 장치 에 사용 되 는 열기구 는 정밀 한 온도 제어 가 필요 하 고 , 따라서 전기 가열로 가 통상 적 으로 사용 되 고 있 다 .