스퍼터링 은 진공 중 에서 불활성 기체 ( Ar , Kr , Xe 등 ) 의 글 로 방전 ( Glow discharge ) 을 형성 하 여 양 이온 들 이 음극 바이어스 된 타 겟 ( Target ) 에 충돌 하 도록 함 으로써 운동량 전달 에 의해 타 겟 의 원자 가 방출 되 도록 하 는 방법 으로 , 상기 PVD 법 중 스퍼터링 법 은 반도체 소자 제조 시 금속 박막 의 증착 을 위해 사용 된다 .