크롬 계 재료 로 형성 된 하드 마스크 막 으로 는 , 일본 특허 공개 제 2007 - 241060 호 공보 ( 특허 문헌 3 ) 에 나타낸 것 등 을 들 수 있 지만 , 특히 고정 밀도 의 가공 을 행하 기 위해서 는 , 하드 마스크 자체 도 고정 밀도 로 가공 될 필요 가 있 다 . 이 때문 에 , 막 두께 는 1 nm 이상 10 nm 이하 인 것 이 바람직 하 고 , 또한 조성 은 크롬 이 50 원자 ％ 이상 100 원자 ％ 이하 , 특히 60 원자 ％ 이상 95 원자 ％ 이하 , 산소 가 0 원자 ％ 이상 50 원자 ％ 이하 , 특히 0 원자 ％ 이상 30 원자 ％ 이하 , 질소 가 0 원자 ％ 이상 50 원자 ％ 이하 , 특히 5 원자 ％ 이상 40 원자 ％ 이하 , 탄소 가 0 원자 ％ 이상 20 원자 ％ 이하 , 특히 0 원자 ％ 이상 10 원자 ％ 이하 인 것 이 바람직 하 다 .