한편 , 최근 에 는 , 화성 처리 시 에 발생 하 는 슬러 지량 이나 러닝 코스트 의 저감 을 목적 으로 하 여 , 화성 처리 액 의 저 온도 화 가 진행 되 어 , 종래 와 비교 하 여 , 화성 처리 액 의 강판 에 대한 반응 성 이 현저 하 게 낮 은 조건 에서 화성 처리 가 이루어지 게 되 었 다 . 이 와 같 은 화성 처리 조건 의 변경 은 , 종래 부터 사용 되 고 있 는 합금 첨가량 이 적 은 보통 강판 에 있 어서 는 , 표면 조정 기술 의 개량 등 에 의해 특별히 문제 가 되 는 경우 는 없 다 . 그러나 , 합금 성분 을 다량 으로 첨가 한 강판 , 특히 Si 를 다량 으로 첨가 하 여 고강도 화 를 도모 하 고 있 는 고강 도 냉연 강판 에서 는 , 상기 화성 처리 조건 의 변경 에 의한 영향 은 매우 큰 경우 가 있 다 . 그 때문 에 , Si 를 다량 으로 함유 하 는 냉연 강판 에서 는 , 화성 처리 조건 의 악화 에 대응 하 여 , 강판 자체 의 표면 을 활성 화 하 여 , 화성 처리 액과 의 반응 성 을 높이 는 것 이 필요 해 지 고 있 다 .