선택 적 으로 , 반도체 기판 은 헹굼 단계 후 에 건조 된다 . 당업 계 에 알려진 임의 의 적합 한 건 조 수단 이 사용 될 수 있 다 . 적합 한 건 조 수단 의 예 는 스핀 ( spin ) 건조 , 반도체 기판 상 에 건조 기체 를 유동 시키 는 것 , 또는 반도체 기판 을 핫 플레이트 또는 적외선 램프 와 같 은 가열 수단 을 이용 하 여 가열 하 는 것 , 마랑 고니 ( Marangoni ) 건조 , 로타 고니 ( Rotagoni ) 건조 , IPA 건조 또는 이 들 의 임의 의 조합 을 포함 한다 . 건조 시간 은 사용 되 는 특정 한 방법 에 따라 다를 것 이 지만 , 전형 적 으로 는 약 30 초 내지 최대 수 분 이 다 .