도 6 은 본 발명 에 관한 고체 촬상 장치 의 제 2 의 실시 의 형태 를 설명 하 기 위한 모식도 이 다 . 본 실시 의 형태 의 고체 촬상 장치 는 , 이면 조사 형 의 CMOS 형 고체 촬상 장치 이 다 . 제 2 의 실시 의 형태 에 관한 고체 촬상 장치 ( 21 ) 는 , 예 를 들 면 실리콘 에 의한 반도체 기판 ( 22 ) 에 복수 의 화소 가 배열 된 화소 영역 ( 이른바 촬상 영역 ) ( 23 ) 과 , 도시 하 지 않 지만 화소 영역 ( 23 ) 의 주변 에 배치 된 주변 회로 부 를 형성 하 여 구성 되 어 있 다 .