반도체 소자 를 제조 하 는 과정 중 에 발생 하 는 잔류물 , 파티클 등 오염 물질 을 제거 하 기 위해 웨이퍼 를 세정 하 는 공정 이 실시 되 고 있 다 . 웨이퍼 세정 공정 은 주로 습식 처 리조 를 사용 하 는 습식 세정 이 주로 이용 되 고 있 으며 , 특히 , 다수 의 웨이퍼 들 을 동시 에 세정 할 수 있 는 배치 ( batch ) 방식 으로 처리 하 고 있 다 .