이러 한 조성 의 투명 전도성 소재 로 개질 처리 된 포토 마스크 표면 에 투명 전도성 층 을 형성 시킨다 . 이때 , 투명 전도성 층 은 크롬 층 ( 110 ) 및 산화 크롬 층 ( 120 ) 보다 얇 아야 하 며 , 광 투과 도 및 전기 전도 도 특성 을 만족 하 기 위해서 , ITO 의 경우 바람직 하 게 는 10 ~ 50 nm , 더 바람직 하 게 는 10 ~ 20 nm 인 것 이 좋 으며 , 투명 전도성 층 의 두께 가 30 nm 를 초과 하 면 광학 적 특성 에 문제 가 있 을 수 있 다 .