반전 위상 개구부 로서 , 투 광판 에 오 목부 가 형성 된 레벤 손 형 마스크 에 는 , 오 목부 가 , 차광막 의 단부 의 하측 까지 넓 어 지 도록 형성 된 언더컷 부 를 가지 는 것 이 있 다 . 이 레벤 손 형 마스크 에서 는 , 반전 위상 개구부 가 상호 인접 하 면 , 언더컷 부가 상호 인접 한다 . 반도체 장치 의 미세화 가 진행 되 면 , 언더컷 부 끼리 의 거리 가 작아진다 . 이 결과 , 투 광판 의 표면 에 배치 된 차광막 과 투광 판 의 접촉 면적 이 작아져서 , 차광막 이 박리 되 는 경우 가 있 다고 하 는 문제 가 있 었 다 .