감광액 도포 공정 은 빛 에 민감 한 물질 인 감광액 ( Photoresist ) 을 웨이퍼 표면 에 고르 게 도포 시키 는 공정 이 고 , 노광 공정 은 스텝 퍼 ( Stepper ) 를 사용 하 여 마스크 에 그려진 회로 패턴 에 빛 을 통과 시켜 감광막 이 형성 된 웨이퍼 상 에 회로 패턴 을 노광 하 는 공정 이 며 , 현상 공정 은 디벨로 퍼 ( Developer ) 를 사용 하 여 노광 공정 을 통해 웨이퍼 의 표면 의 감광막 에서 빛 을 받 은 부분 또는 빛 을 받 지 않 는 부분 을 선택 적 으로 현상 시키 는 공정 이 다 .