O 3 가스 를 흘릴 때 는 , APC 밸브 ( 243 ) 를 적정 하 게 조정 해서 처리 실 ( 201 ) 내 의 압력 은 , 예 를 들 어 110 Pa 로 한다 . MFC ( 322 ) 로 제어 하 는 노즐 ( 420 ) 로부터 공급 하 는 O 3 가스 의 합계 공급 유량 은 , 예 를 들 어 70 slm 으로 한다 . MFC ( 322 ) 및 APC 밸브 ( 243 ) 로 제어 하 는 O 3 가스 의 유속 은 , 예 를 들 어 7 . 0 m / s 내지 8 . 5 m / s 의 범위 내 의 유속 으로 한다 . O 3 가스 의 분압 은 , 예 를 들 어 9 . 0 Pa ( 처리 실 ( 201 ) 내 의 압력 의 약 8 . 0 ％) 내지 12 . 0 Pa ( 처리 실 ( 201 ) 내 의 압력 의 약 11 . 0 ％), 보다 바람직 하 게 는 11 . 0 Pa ( 처리 실 ( 201 ) 내 의 압력 의 10 . 0 ％) 의 압력 으로 한다 . 처리 실 ( 201 ) 내 에 공급 되 는 O 3 가스 의 농도 는 , 250 g / Nm 3 로 한다 . O 3 가스 에 웨이퍼 ( 200 ) 를 노출 하 는 시간 , 즉 가스 공급 시간 ( 조사 시간 ) 은 , 예 를 들 어 30 내지 120 초간 의 범위 내 의 시간 으로 한다 . 이때 의 히터 ( 207 ) 의 온도 는 , 스텝 S 101 과 마찬가지 의 온도 로 한다 . O 3 가스 의 공급 에 의해 , 웨이퍼 ( 200 ) 상 에 형성 된 Zr 함유층 이 산화 되 어 , ZrO 층 이 형성 된다 . 이때 , ZrO 층 에 는 , TEMAZ 가스 에서 유래 되 는 유기물 ( 탄소 ( C ) , 수소 ( H ) , 질소 ( N ) 등 ) 이 약간 잔류 한다 .