추가 적 인 방법 및 조성물 이 미국 가 출원 제 61 / 097 , 186 호 ( 2008 년 9 월 15 일 에 출원 ) , 미국 가 출원 제 61 / 097 , 189 호 ( 2008 년 9 월 15 일 에 출원 ) , 및 미국 가 출원 제 61 / 097 , 163 호 ( 2008 년 9 월 15 일 에 출원 ) 에 기재 되 며 , 이 들 모두 특히 이소프렌 을 생성 하 기 위한 조성물 및 방법 에 대해 그 전문 이 참 고 문헌 으로 포함 된다 .