그리고 , 1 차 메탈 콘 택식 각공 정과 2 차 메탈 콘 택식 각 공정 사이 에 1 차 메탈 콘 택식 각 공정 의 식각 과정 중 에 발생 한 콘 택 홀 내 의 폴리머 를 제거 하 기 위하 여 O 2 , O 2 / Ar , O 2 / CO / Ar 및 O 2 / N 2 플 라즈 마 로 이루어진 그룹 중 에서 선택 되 는 어느 하나 의 분위기 에서 인시 튜 또는 엑 시튜 로 세정 을 진행 한다 .