일 실시 예 에 따르 면 , 상기 기판 ( 100 ) 은 , 홀 또는 전자 가 도핑 된 웨이퍼 및 상기 웨이퍼 상 에 형성 된 유전체 층 을 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 상기 기판 ( 100 ) 은 , 홀 또는 전자 가 도핑 된 실리콘 웨이퍼 및 상기 실리콘 웨이퍼 상 에 형성 된 실리콘 디 옥사이드 ( SiO 2 ) 층 을 포함 할 수 있 다 .