도 4 b 에 도시 된 바 와 같이 , 제 1 포토레지스트 패턴 ( PR 1 ) 을 제거 하 고 , 게이트 텅스텐 막 ( 24 ) 상 에 게이트 하드 마스크 막 ( 25 ) 을 형성 한 후 홈 ( 24 A ) 에 따른 표면 굴곡 을 평탄 화 하 기 위해 표면 을 평탄 화 한다 . 따라서 , 게이트 하드 마스크 막 ( 25 ) 은 게이트 텅스텐 막 ( 24 ) 의 홈 ( 24 A ) 을 매립 하 면서 표면 이 평탄 해진 형태 가 된다 . 여기 서 , 게이트 하드 마스크 막 ( 25 ) 은 질화 막 으로 형성 할 수 있 다 .