포토 리소그래피 마스크 또는 레티 클 은 회로 및 레이아웃 설계자 및 / 또는 합성 툴 에 의해 생성 되 는 디바이스 설계 데이터 를 포함 할 수 있 다 . 사전 OPC 설계 데이터 는 일반 적 으로 설계 데이터 에 임의 의 OPC 구조 를 추가 하 기 전 에 레티 클 에 대하 여 설계자 또는 합성 툴 에 의해 생성 된 다각형 을 포함 한다 . 사전 OPC 설계 데이터 는 설계자 의 의도 를 나타내 는 것 으로 말 할 수 있 고 , 일반 적 으로 웨이퍼 상 의 최종 패턴 과 유사 할 것 이 며 , 이 는 레티 클 설계 데이터 를 사용 하 여 만들 어 진 레티 클로 제조 될 것 이 다 . 멀티 - 패 터닝 경우 에 , 사전 OPC 는 웨이퍼 상 의 최종 패턴 을 나타내 지 않 을 수 있 는 것 으로 이해 된다 . 도 1 a 는 동일 한 형상 및 크기 를 갖 는 2 개 의 사전 OPC 피처 ( 102 a 및 102 b ) 를 갖 는 레티 클 부분 ( 100 ) 의 개략 적 인 평면도 이 다 .