표면 특징화 ( surface characterization ) 에 사용 되 는 종래 의 기술 [ 예 를 들 어 , 일 립 소 메트리 ( ellipsometry ) 및 반사 광도계 ( reflectometry ) ] 은 미지 의 광학 계면 의 복소 반사율 ( complex reflectivity ) 이 고유 특징 ( 재료 의 특성 및 각 층 의 두께 ) 과 반사 율 을 측정 하 기 위해 사용 되 는 , 파장 , 입사각 및 편광 상태 라는 광의 3 가지 특성 에 의존 한다는 사실 에 기초 한다 . 실제로 , 특징화 장치 는 주지 의 범위 에서 3 개 의 파라미터 를 변화 시킴 으로써 반사 율 변동 을 기록 한다 .