세정 방법 은 단순히 세정 용액 만 을 이용 하 지 않 고 불활성 기체 의 버블 링 ( bubbling ) , 자성 교반기 ( stirrers ) 또는 소닉 에너지 를 사용 하 거나 , 이 들 기술 을 조합 하 는 방법 등 에 의해 이루어진다 . 그러 한 습식 세정 처리 에 있 어서 웨이퍼 표면 으로부터 입자 를 제거 하 는 능력 은 처리 온도 , 웨이퍼 전처리 , 세정 용액 의 화학 적 조성 ( composition ) 및 소닉 에너지 파워 강도 등 과 같 은 많 은 요인 에 따라 달라지 는 것 으로 알려져 있 다 .