또한 가스 공 급구 ( 11 a ) 를 , 열 판 ( 13 ) 에 적재 된 웨이퍼 ( W ) 상면 보다 하측 에 마련 하 거나 하 여 , 공급 방향 을 웨이퍼 ( W ) 상면 보다 하측 을 향하 게 함 으로써 , 가스 공 급구 ( 11 a ) 로부터 공급 되 는 희석 가스 는 웨이퍼 ( W ) 상 의 기류 와 간섭 하 지 않 으므로 , 가열 처리 에 대한 영향 이 억제 된다 . 또한 가스 공 급구 ( 11 a ) 의 상측 에 는 정 류체 로서 의 플랜 지부 ( 11 b ) 가 마련 되 어 있 기 때문 에 , 공급 되 는 희석 가스 는 플랜 지부 ( 11 b ) 에 의해 정류 되 어 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 기류 와 간섭 하 는 것 이 더욱 억제 되 어 있 다 .