또한 , 반도체 소자 의 미세화 를 위해서 노광 광원 의 단파장 화 와 투영 렌즈 의 고개 구수 ( 고 NA ) 화 가 진행 되 어 현재 에 는 193 ㎚ 파장 을 갖 는 ArF 엑 시머 레이저 를 광원 으로 하 는 노광기 가 개발 되 어 있 다 . 또한 , 해상력 을 더욱 향상 시키 는 기술 로서 종래 부터 투영 렌즈 와 시료 사이 에 고 굴절 률 의 액체 ( 이하 , 「 액 침액 」 이 라고 도 한다 ) 로 채우 는 , 소위 액침법 , 또한 단파장 ( 13 . 5 ㎚) 의 자 외광 으로 노광 을 더 행하 는 EUV 리소그래피 등 이 제창 되 어 있 다 .