상기 와 같이 플 라즈 마 를 원자 층 증착 법 에 적용 함 으로써 불순물 이 적 으며 높 은 밀도 의 박막 을 얻 을 수 있 게 되 었 다 . 이 는 플 라즈 마 에 의해 발생 된 이온 의 충돌 효과 와 반응 성 라디칼 을 이용 한 원자 층 증착 법 을 통해서 이루어진다 . 또한 , 플 라즈 마로 형성 한 박막 은 좋 은 물리 적 전기 적 특성 을 보인다 . 그리고 탄소 및 산소 와 같 은 불순물 을 줄여 활성 화 에너지 를 낮추 어 저온 에서 도 증착 이 가능 하 다 . 이 에 따라 , 높 은 증착 속도 로 생산 성 과 열효율 을 높일 수 있 다 . 또한 , 산소 , 수소 , 질소 , N 2 O , NO 등 과 같이 안정 적 인 기체 를 플 라즈 마로 이용 함 으로써 반응 성 높 은 라디칼 을 만들 수 있 다 . 따라서 , 전 구체 와 반응 기체 선택 의 폭 이 넓 어 지 게 되 었 다 . 한편 , 공정 변수 인 플 라즈 마의 입력 파워 를 증가 시키 면 전자 와 라디칼 의 밀도 가 증가 하 여 증착 속도 가 빨라 지 고 , 압력 을 줄이 면 라디칼 의 확산 속도 와 전자 에너지 를 활성 종 에 전달 하 는 효율 이 증가 한다 . 상기 와 같이 플 라즈 마 조건 의 최적화 를 통해 생산 성 과 박막 특성 을 극대 화 시킬 수 있 다 .