이상 상술 한 바 와 같이 , 본 발명 에 의하 면 , 반응 챔버 내부 에 소정 유량 의 이소프렌 가스 와 질소 가스 를 공급 하 는 반응 가스 공급 부 와 , 상기 반응 가스 공급 부 에서 공급 되 는 상기 이소프렌 가스 및 상기 질소 가스 를 플 라즈 마 상태 로 여기 시키 고 일정 한 혼합비 로 혼합 시키 는 플 라즈 마 전극 을 구비 하 여 1 . 1 정도 의 낮 은 굴절 율 을 갖 고 약 0 . 4 정도 의 높 은 흡수율 을 갖 는 비정질 탄소막 을 형성 토록 할 수 있 기 때문 에 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 는 효과 가 있 다 .