또한 , 도 19 a 내지 도 19 c 에 있 어서 는 , 제 4 운동 방향 으로 의 운동 은 제 2 운동 방향 과 상이 한 방향 의 경우 를 설명 하 였 지만 , 예 를 들 어 제 4 운동 방향 이 제 2 운동 방향 과 일치 하 고 있 어도 된다 . 예 를 들 어 , 도 1 에서 도시 한 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에서 는 연마 패드 ( 502 ) 의 제 1 운동 방향 은 기판 Wf 원주 에 대해서 수직 이 되 도록 배치 되 어 있 다 . 이 상태 에서 기판 Wf 위 에 원주 위 에 분포 하 는 피 연마 영역 을 연마 하 는 경우 , 스테이지 ( 400 ) 를 회전 혹은 각도 회전 시키 도록 된다 . 이 경우 스테이지 ( 400 ) 의 제 4 운동 방향 은 연마 패드 ( 502 ) 의 제 1 운동 방향 이 대해서 수직 이 되 고 , 이것 은 제 2 운동 방향 과 일치 한다 . 이 경우 는 , 제 4 운동 방향 으로 운동 을 발생 시키 는 운동 기구 가 , 제 2 운동 방향 으로 운동 을 발생 시키 는 운동 기구 의 작용 을 겸해 도 된다 . 또한 도 1 에 도시 한 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에서 는 , 연마 패드 ( 502 ) 의 제 1 운동 방향 은 기판 Wf 원주 방향 에 대해서 수직 이 되 도록 배치 되 어 있 지만 , 제 2 운동 방향 에 상당 하 는 수직 방향 의 운동 방향 을 갖 고 있 으면 되 며 , 예 를 들 어 45 ° 와 같 은 일정 각도 로 기판 Wf 원주 방향 , 즉 제 4 운동 방향 으로 기울여 배치 하 고 있 어도 된다 .