전술 한 본 발명 의 목적 은 , 플라 즈 마를 이용 하 여 반도체 웨이퍼 , 액정 표시 소자 ( LCD 등 ) , 인쇄 회로 기판 등 과 같 은 처리 대상물 의 표면 에 형성 된 유기물 및 탄화물 을 제거 하 는 세정 장치 에 있 어서 , 플라 즈 마 방전 을 위한 내부 공간 이 형성 되 며 그 하단 이 개방 되 는 챔버 와 , 상기 챔버 의 내측 에 결합 되 는 유전체 패널 과 , 상기 유전체 패널 의 상부 면 에 고정 되 며 상기 유전체 패널 에 접하 는 하단 이 다 수개 로 분기 되 는 제 1 전극 과 , 상기 챔버 의 하단 에 결합 되 어 상기 챔버 의 하 부면 을 폐쇄 시키 며 상기 제 1 전극 의 분기 된 하단 과 상응 하 는 위치 에 는 다수 의 플 라즈 마 토출 공 이 배열 형성 되 어 상기 챔버 의 내부 에서 발생 된 플 라즈 마 가 다수 의 토출 영역 을 통해 토출 되 어 처리 대상물 에 제공 되 도록 하 는 제 2 전극 과 , 상기 챔버 에 설치 되 고 상기 제 1 및 제 2 전극 사이 에 플 라즈 마 방전 에 필요 한 고주파 전압 을 인가 하 는 고주파 전압 제 공부 를 포함 하 여 이루어지 는 것 을 특징 으로 하 는 다수 의 플 라즈 마 토출 영역 을 구비 하 는 세정 장치 를 제공 함 에 의해 달성 된다 .