상기 목적 을 달성 하 기 위한 마스크 리 워크 방법 은 피식 각층 상 에 카본 이 함유 된 제 1 하드 마스크 층 과 실리콘 이 함유 된 제 2 하드 마스크 층 을 적층 하 는 제 1 단계 , 상기 제 2 하드 마스크 층 상 에 감광막 패턴 을 형성 하 는 제 2 단계 , 상기 감광막 패턴 , 제 2 하드 마스크 층 및 제 1 하드 마스크 층 을 제거 하 되 상기 제 2 하드 마스크 층 을 적어도 불 소계 가스 를 이용 하 여 제거 하 는 단계 , 상기 제 1 및 제 2 단계 를 반복 진행 하 는 단계 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .