상기 에서 채널 구조 를 형성 하 는 단계 는 층간 절 연막 들 및 희생 막 들 을 관통 하 는 채널 홀 들 을 형성 하 는 단계 , 채널 홀 들 각각 을 채널 구조 로 채우 는 단계 를 포함 할 수 있 다 . 채널 구조 는 반도체 막 으로 형성 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 채널 구조 는 실리콘 막 으로 형성 될 수 있 다 . 채널 홀 들 각각 의 중심 영역 이 반도체 막 으로 완전히 채워 지 지 않 은 경우 , 채널 홀 들 각각 의 중심 영역 을 코어 절 연막 으로 채울 수 있 다 .