시스템 ( 300 ) 의 작동 은 , 동일 한 주파수 에 있 지만 구동 위치 들 간 의 기계 적 오프셋 에 대응 할 수 있 는 , 서로 에 대한 위상 오프셋 을 가질 수 있 는 2 개 의 마이크로파 신호 들 ( 220 ( 1 ) , 220 ( 2 ) ) 을 제공 하 는 신호 생성기 ( 215 ) 로 시작 하 는 것 으로 가장 잘 이해 된다 . 예 를 들 어 , 위치 들 ( P 및 Q ) 이 도파 로 ( 210 ) 의 둘레 주위 에서 서로 90 도 떨어져 위치 되 면 , 공칭 위상 오프셋 은 π / 2 일 것 이 다 . 위상 오프셋 에 대한 보정 들 을 결정 하 고 제어 하 는 것 은 바로 아래 에서 논의 된다 . 특정 실시 예 들 에서 , 신호 생성기 ( 215 ) 는 신호 들 ( 320 ) 의 진폭 및 / 또는 주파수 뿐 만 아니 라 신호 들 의 위상 도 제어 할 수 있 다 . 주파수 를 제어 하 는 응용 은 , 고유 모드 조건 들 이 도파 로 ( 210 ) 및 인접 한 프로세스 챔버 에 확립 될 수 있 도록 시스템 ( 300 ) 을 조정 하 는 것 이 다 . 이 는 , 도파 로 및 챔버 치수 들 , 물질 들 , 비대칭 적 챔버 피 쳐들 등 의 제어 하 기 어려운 불규칙성 들 을 전자 적 으로 보정 하 여 이루어질 수 있 지만 , 기계 적 접근 들 이 또한 취해질 수 있 다 ( 예 를 들 어 , 아래 의 도 4 - 6 및 도 10 - 12 참고 ) . 진폭 을 제어 하 는 응용 은 , 아래 에서 더 논의 되 는 바 와 같이 ( 예 를 들 어 , 도 13 , 14 참고 ) , 생성 된 플 라즈 마의 국부 적 인 불규칙성 들 이 매끄러워 질 수 있 도록 회전 모드 제어 를 제공 하 는 것 이 다 .