주사 노광 장치 에서 는 , 주사 노광 동안 에 , 프로세스 웨이퍼 ( W ) 의 Z 축 , ω x 축 ( X 축 둘레 의 회전 ) , 및 ω y 축 ( Y 축 둘레 의 회전 ) 에 대해서 센서 계측 결과 에 기초 하 여 추종 제어 가 실행 된다 . 따라서 , 노광 슬릿 ( 803 ) 의 면적 이상 의 공간 주파수 의 요철 성분 에 대하 여 는 센서 에 의한 계측 오 차 및 서보 편차 이외 의 오 차 는 발생 하 지 않 는다 . 그러나 , 노광 슬릿 ( 803 ) 내 에서 투영 광학계 의 상면 으로부터 포토레지스트 층 ( 1 ) 의 두께 의 중심 이 벗어나 는 곡면 성분 은 , 재현 성 이 있 는 디 포커스 요인 임 에 도 불구 하 고 , 종래 에 는 보정 되 지 않 았 다 .