더욱이 , 다이폴 변형 조명 계 와 같 은 비대칭 조명계 에서 스컴 불량 을 억제 시킬 수 있 어 , 노광 과정 의 공정 효율 및 안정 성 , 공정 마진 ( margin ) 을 보다 확보 할 수 있 다 . 보조 패턴 은 산란 스페이스 ( space ) 형태 로 생성 되 므로 , 보조 패턴 생성 후 추가 적 인 디자인 룰 체크 ( design rule check ) 가 생략 될 수 있 어 , 보조 패턴 생성 후 의 레이아웃 검증 과정 이 보다 간략 해질 수 있 다 .