소정 의 주파수 ( 예 를 들 면 , 13 . 56 MHz ) 를 갖 는 고주파 전력 이 상부 전극 ( 40 ) 에 인가 되 면 , 상부 전극 ( 40 ) 에 의해 유도 된 전자기장 이 챔버 ( 20 ) 내 로 분사 된 소스 가스 로 인가 되 어 플 라즈 마가 생성 될 수 있 다 . 상기 바이어스 전력 이 상기 기판 전극 에 인가 되 어 챔버 ( 20 ) 내 에서 발생 한 플 라즈 마 원자 또는 이온 을 지지 플레이트 ( 110 ) 를 향하 여 끌어당길 수 있 다 .