제 1 및 제 2 액티브 층 ( 30 , 31 ) 은 버퍼 막 ( 21 ) 이 형성 된 하부 기판 ( 20 ) 상 에 아몰 퍼스 - 실리콘 을 증착 하 여 결정 화 방법 으로 폴리 - 실리콘 으로 결정 화 한 후 , 이러 한 폴리 실리콘 을 제 1 마스크 를 이용 한 포토 리소그래피 공정 과 식각 공정 으로 패 터닝 함 으로써 형성 된다 . 결정 화 방법 으로 는 고상 결정 화 방법 , 금속 유도 결정 화 방법 , 레이저 를 이용 한 결정 화 방법 등 이 있 다 .