상술 한 바 와 같이 구성 된 플 라즈 마 식각 장치 ( 100 ) 에 있 어서 는 , 고주파 전원 공급 장치 ( 50 ) 의 고주파 가 매칭 네트워크 ( 60 ) 를 통해 정합 되 어 코일 부재 ( 30 ) 에 공급 됨 으로써 식각 공간 부 ( 101 ) 에 전자계 가 형성 되 므로 , 유입 로 ( 121 ) 를 통해 공급 되 는 식각 가스 가 플라 즈 마 상태 로 유도 되 어 웨이퍼 에 대한 식각 공정 이 이루어지 게 된다 . 그리고 , 고주파 전원 공급 장치 ( 50 ) 의 고주파 가 매칭 네트워크 ( 60 ) 를 통해 정합 되 어 캐소드 ( 21 ) 에 공급 되 므로 , 전자 또는 라디칼 이 웨이퍼 쪽 으로 가속 된다 .