본 발명 에 따르 면 , 시트 소재 의 코너 부 ( C 1 ~ C 4 ) 는 코너 부 펀칭 영역 ( 100 ) 에 의해 단위 면적 ( 가로 , 세로 가 단위 길이 ) 만큼 패턴 이 천공 되 고 , 단위 에 지부 ( A 1 ~ A 14 ) 는 에 지부 펀칭 영역 ( 200 ) 에 의해 길이 는 단위 길이 이 고 폭 은 단위 길이 의 1 / 2 이 하인 패턴 이 천공 된다 . 이러 한 구성 에 따르 면 , 도시 된 바 와 같이 천공 된 시트 소재 ( ST ) 에 사진 을 부착 하 더라도 천공 된 문양 이 사진 에 의해 가려 지 거나 간섭 되 지 않 는다 . 또한 , 사진 을 중심 으로 시트 소재 의 가장자리 에 균일 하 고 대칭 적 인 천공 패턴 을 얻 을 수 있 다 . 그렇 지 않 고 , 만약 상기 에 지부 펀칭 영역 ( 200 ) 의 폭 ( W 2 ) 이 단위 길이 의 1 / 2 보다 더 크 게 되 면 , 에 지부 에 천공 된 문양 은 사진 에 의해 가려 지 게 될 것 이 다 .