반도체 층 ( 136 ) 은 실리콘 ( silicon ) , 산화물 반도체 ( oxide semiconductor ) 와 같 은 반도체 물질 로 형성 할 수 있 으며 , 중앙 의 채널 영역 , 채널 영역 양측 의 소스 영역 및 드레 인 영역 을 포함 할 수 있 다 . 실리콘 은 비정질 ( amorphous ) 또는 다결정 ( polycrystalline ) 일 수 있 다 .