회전 보유 기구 ( 3 ) 는 또한 헹굼 액 공급 노즐 ( 83 ) 및 화학 액 공급 노즐 ( 84 ) 을 포함 한다 . 순수 한 물 과 같 은 헹굼 액 은 보유 스테이지 ( 4 ) 상 의 웨이퍼 ( W ) 상 으로 헹굼 액 공급 노즐 ( 83 ) 로부터 공급 되 고 , 화학 액 은 보유 스테이지 ( 4 ) 상 의 웨이퍼 ( W ) 상 으로 화학 액 공급 노즐 ( 84 ) 로부터 공급 된다 . 이러 한 헹굼 액 공급 노즐 ( 83 ) , 화학 액 공급 노즐 ( 84 ) 및 보유 스테이지 ( 4 ) 는 스윙 기구 에 의해 소정 각도 를 노치 부분 에 대해 일체 로 회전 된다 .