종래 부터 , 포토 리소그래피 의 분야 에서 활성 방사선 ( 자외선 , 원자외선 , 엑 시머 레이저 광 , X 선 , 전자선 , 극단 자외선 등 ) 의 조사 에 의해 노광 영역 의 수지 를 가교 하 고 , 현상액 에 대한 노광 영역 과 미 노광 영역 의 용해도 차 를 이용 하 여 미 노광 영역 을 제거 함 으로써 , 원 하 는 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 방법 이 사용 되 고 있 다 .