EUVL 을 실시 할 때 , 미러 와 같 은 광학 부재 의 온도 변화 에 따른 치수 및 형상 변화 를 방지 하 기 위해 , EUVL 용 노광 장치 내 에 위치 시키 는 광학 부재 는 22 ± 2 ℃ 에서 열 팽창 계수 가 0 ± 5 ppb / ℃, 즉 열 팽창 계수 가 거의 0 이 되 는 것 이 바람직 하 다 . EUVL 용 노광 장치 내 에 위치 시키 는 광학 부재 는 22 ± 3 ℃ 에서 열 팽창 계수 가 0 ± 5 ppb / ℃, 즉 열 팽창 계수 가 거의 0 인 것 이 보다 바람직 하 다 . 그러나 , 광학 부재 의 온도 는 , 특히 광원 에 가까운 부재 의 경우 , 고 에너지 의 EUV 광이 조사 되 기 때문 에 , 국소 적 으로 상승 하 는 것 이 시사 되 어 있 다 .