또한 , 상기 마스크 의 사용수 나 공 정수 를 삭감 하 기 위해 , 투과 한 빛 이 복수 의 강도 가 되 는 노광 마스크 인 다 계조 마스크 에 의해 레지스 트 마스크 를 형성 하 고 , 이 를 이용 하 여 에칭 공정 을 행할 수 있 다 . 다 계조 마스크 를 이용 하 여 형성 한 레지스 트 마스크 는 복수 의 두께 를 갖 는 형상 ( 계단 형상 ) 이 되 고 , 애 싱에 의해 추가 로 형상 을 변형 시킬 수 있 기 때문 에 , 상이 한 패턴 으로 가공 하 는 복수 의 에칭 공정 에 사용 할 수 있 다 . 즉 , 1 장 의 다 계조 마스크 에 의해 적어도 2 종 이상 의 상이 한 패턴 에 대응 하 는 레지스 트 마스크 를 형성 할 수 있 다 . 따라서 , 노광 마스크 수 를 삭감 할 수 있 고 , 대응 하 는 포토 리소그래피 공정도 삭감 할 수 있 기 때문 에 , 공정 의 간략 화 를 도모 할 수 있 다 .