다만 , 예비 전하 저장 구조물 ( 250 ) 은 제 1 블로킹 패턴 ( 220 ) 을 포함 하 지 않 을 수 있 으며 , 이 에 따라 제 1 질화 공정 은 제 1 블로킹 패턴 ( 220 ) 을 거치 지 않 고 예비 전하 트래핑 패턴 ( 230 ) 에 직접 수행 될 수 있 다 . 상기 제 1 질화 공정 을 수행 함 에 따라서 , 제 2 갭 ( 350 ) 에 인접 한 예비 전하 트래핑 패턴 ( 230 ) 부분 만 이 질화 되 어 전하 트래핑 패턴 ( 232 ) 이 형성 될 수 있 다 .