한편 , 본 실시 예 에서 , 박막 증착 공정 이 이루어질 때 각 히팅 플레이트 ( 51 ) 는 챔버 ( 40 ) 의 격벽 ( 44 ) 에 의하 여 서로 격리 되 어 있 는 바 , 다른 히팅 플레이트 의 상측 에 마련 된 샤워 헤드 ( 60 ) 에서 분사 되 는 반응 가스 에 의하 여 영향 을 받 지 않 음 으로써 , 박막 증착 공정 을 원활 하 게 행할 수 있 게 된다 .