그 다음 으로 제거 되 지 않 고 남 아 있 는 나이트 라이드 잔존물 ( Nitride residue ) ( 240 ) 을 제거 하 기 위하 여 CHF 3 를 전 공정 에서 사용 하 는 양 보다 더 추가 로 사용 하 고 , 이 와 같 은 추가 의 Ar 을 이용 하 여 Cl 을 사용 하 지 않 고 순수히 나이트 라이드 막 ( 220 ) 을 제거 시킨다 . 한편 , 상기 나이트 라이드 막 ( 220 ) 제거 를 위해 F 가 함유 된 모든 가스 ( gas ) 가 사용 가능 한 것 은 아니 다 . 예 를 들 어 CF 4 등 의 가스 는 Ti / TiN ( 112 , 114 ) 의 패 터닝 을 함 에 있 어 문제 가 발생 하 는 바 , 본 발명 에서 는 CHF 3 가스 만 을 적용 하 였 다 .