도 6 은 본 발명 의 실시 예 에 따른 웨이퍼 가이드 가 채용 되 는 웨이퍼 세정 장치 를 개략 적 으로 나타낸 평면도 로서 , 본 발명 의 웨이퍼 세정 장치 ( 100 ) 는 웨이퍼 에 대하 여 세정 과정 , 린스 과정 및 건조 과정 으로 이루어진 습식 세정 공정 이 수행 된다 . 이러 한 습식 세정 공정 을 구체 적 으로 살펴보 면 , 먼저 복수 개 의 웨이퍼 ( W ) 들 을 탑재 한 카세트 ( C ) 는 세정 설비 의 로딩 부 ( 102 ) 에 놓여진 후 , 컨베이어 ( 도시 되 지 않 음 ) 에 의해 웨이퍼 매수 를 확인 하 는 제 1 카운터 부 ( 104 ) 로 이송 된다 . 이어서 , 상기 카세트 ( C ) 는 웨이퍼 의 플랫 존 을 일 방향 에 있 도록 정렬 하 는 정렬 부 ( 106 ) 를 거친 뒤 , 카세 트 ( C ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 들 을 분리 토록 하 는 분 리부 ( 108 ) 측 으로 진행 된다 . 그리고 , 상기 카세트 ( C ) 내부 의 웨이퍼 들 은 상기 분리 부 ( 108 ) 에 구비 된 웨이퍼 가이드 ( 110 ) 측 으로 옮겨 지 게 되 며 , 상기 웨이퍼 가이드 ( 110 ) 측 으로 이동 된 웨이퍼 들 은 상기 웨이퍼 가이드 ( 110 ) 의 상단 부 에 형성 되 어 있 는 슬롯 부 에 의해 수직 하 게 세워진 상태 로 지지 된다 . 그리고 , 상기 웨이퍼 가이드 ( 108 ) 측 으로 웨이퍼 를 인계 한 카세트 는 컨베이어 의 구동 에 의해 이후 세정 과정 을 마친 웨이퍼 들 과 합체 토록 하 는 합체 부 ( 112 ) 로 진행 하 여 대기 한다 .