최종 적 인 리드 프레임 형상 을 가공 하 는 2 차 에칭 처리 에서 , 원소 재 기판 ( S ) 의 식각 될 부분 을 정의 하 는 식각 마스크 로서 , 상기 금속 피막 ( M ) 이 사용 된다는 점 은 본 발명 의 일 특징 을 구성 하 게 된다 . 즉 , 상기 금속 피막 ( M ) 과 원소 재 기판 ( S ) 간 의 높 은 접합 강도 는 그 사이 의 경 계면 ( Bs , 도 4 e ) 에 에칭 액 이 침투 하 는 것 을 방지 하 고 그 에 따라 , 정의 된 식각 범위 를 넘 어 원소 재 기판 ( S ) 이 과 에칭 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 이것 은 유기 소재 의 감광성 물질 과 금속 기반 의 원소 재 기판 사이 의 경계 면 에서 서로 상이 한 물성 만큼 이나 취약 한 접착 강도 에 기인 하 는 에칭 액 의 침투 로 인하 여 , 예정 된 식각 영역 이외 에 다른 부분 까지 도 함께 식각 되 어 버리 는 종래 의 과 에칭 문제 를 해소 하 는 것 이 다 .