실리콘 나이트 라이드 표면 에 상대 적 인 실리콘 옥사이드 표면 상 에 실리콘 옥사이드 를 선택 적 으로 증착 하 기 위한 방법 들 및 장치 들 이 본 명세서 에 기술 된다 . 방법 들 은 암모니아 및 / 또는 질소 플 라즈 마 를 사용 하 여 기판 표면 을 전처리 하 는 단계 및 노출 된 실리콘 나이트 라이드 표면 상 에 실리콘 옥사이드 를 증착 하 지 않 고 열적 ALD ( atomic layer deposition ) 반응 에서 아미노 실란 실리콘 전구체 및 산화제 의 교번 하 는 펄스 들 을 사용 하 여 실리콘 옥사이드 표면 상 에 실리콘 옥사이드 를 선택 적 으로 증착 하 는 단계 를 수반 한다 .