추가 적 인 수지 가 본 발명 의 막 형성 물질 에 포함 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 적합 한 추가 적 수지 는 에폭시 올리고머 및 폴리머 , 예컨대 , 폴 리히 드릭 산 페놀 의 폴리 글 리시 딜 에테르 의 폴리머 및 올리고머 , 예컨대 , 비스 페놀 A 를 포함 한다 . 이 는 폴리 페놀 을 알칼리 의 존재 하 에 에 피할 로히 드린 또는 디 할 로히 드린 , 예컨대 , 에피 클로로히드린 또는 디 클로로히드린 으로 에스테르 화 시킴 으로써 생성 될 수 있 다 . 적합 한 폴 리히 드릭 페놀 은 비스 - 2 , 2 -( 4 - 히드록시 페닐 ) 프로판 , 비스 - 1 , 1 -( 4 - 히드록시 페닐 ) 에 탄 , 비스 ( 2 - 히드록시 나프 틸 ) 메탄 등 을 포함 한다 . 폴리 글 리시 딜 에테르 및 폴 리히 드릭 페놀 은 함께 축합 되 어 올리 고 머 또는 폴리머 를 형성 할 수 있 다 . 기타 유용 한 다 작용 성 에폭시 드 화합물 은 노볼락 수지 또는 유사 한 폴리 히드록시 페놀 수지 로부터 제조 된 것 이 다 . 또한 , 폴 리히 드릭 알코올 의 폴리 글 리시 딜 에테르 예컨대 , 에틸렌 글리콜 , 프로필렌 글리콜 , 디 에틸렌 글리콜 및 트리 에틸렌 글리콜 이 적합 하 다 . 또한 , 에피 클로로히드린 또는 유사 한 에폭시 화합물 과 지방족 또는 방향 족 폴리 카르복실 산 예컨대 , 숙신산 또는 테레프탈산 의 반응 에 의해 생성 되 는 폴리 카르복실 산 의 폴리 글 리시 딜 에스테르 가 유용 하 다 .