이 와 함께 , 상기 팬 서포트 ( 4 ) 를 이용 하 여 상기 조리 팬 ( 10 ) 을 받침 본체 ( 1 ) 의 외측 으로 이동 배치 하 는 2 차 위치 조정 을 통해 , 조리 팬 ( 10 ) 의 주변 영역 에 까지 열원 이 조사 될 수 있 고 , 또한 상기 회동 장치 ( 5 ) 구 동시 상기 조리 팬 ( 10 ) 이 받침 본체 ( 1 ) 외곽 을 따르 는 도 는 편심 회전 을 이루 게 됨 으로써 , 결국 조리 팬 ( 10 ) 의 모든 주변 영역 까지 열원 이 충분히 조사 되 고 이 에 상기 조리 팬 ( 10 ) 에 올려둔 요리 재료 전체 를 고루 익히 고 굽 는 효율 적 인 가열 조리 가 가능 케 되 는 효과 를 거둘 수 있 다 .