포토 리소그래피 법 에서 , 노광 에 사용 되 는 광 으로서 는 예 를 들 어 i 선 ( 파장 365 ㎚), g 선 ( 파장 436 ㎚), h 선 ( 파장 405 ㎚), 또는 이 들 을 혼합 시킨 광 을 사용 할 수 있 다 . 이 외 에 , 자외선 이나 KrF 레이 저광 , 또는 ArF 레이 저광 등 을 사용 할 수 도 있 다 . 또한 액침 노광 기술 에 의하 여 노광 을 수행 하 여도 좋 다 . 또한 노광 에 사용 되 는 광 으로서 , 극단 자 외 ( EUV : Extreme Ultra - violet ) 광 이나 X 선 을 사용 하 여도 좋 다 . 또한 노광 에 사용 되 는 광 대신 에 전자 빔 을 사용 할 수 도 있 다 . 극단 자 외광 , X 선 , 또는 전자 빔 을 사용 하 면 , 매우 미세 하 게 가공 할 수 있 기 때문 에 바람직 하 다 . 또한 전자 빔 등 의 빔 을 주사 하 여 노광 을 수행 하 는 경우 에 는 , 포토 마스크 는 불 필요 하 다 .