반도체 소자 , 액정 표시 소자 또는 박막 자기 헤드 등 의 미세 패턴 을 가지 는 디바이스 는 포토 리소그래피 기술 을 사용 해서 제조 된다 . 예 를 들 면 , 디바이스 등 의 제조 에 투영 노광 장치 가 종래 부터 사용 되 고 있 다 . 상기 투영 노광 장치 는 레티 클 또는 포토 마스크 등 의 원판 에 형성 된 패턴 을 투영 광학계 에 의해 웨이퍼 등 의 기판 에 전사 하 기 위해 사용 된다 . 투영 노광 장치 는 기판 상 에 미리 형성 된 패턴 에 대해서 , 투영 광학계 에 의해 형성 되 는 원판 의 패턴 의 투 영상 을 해당 장치 에 탑재 된 얼라인먼트 검출 계 에 의해 위치 맞춤 을 실시 한 후 에 , 웨이퍼 등 의 기판 의 노광 을 실시 한다 . 위치 맞춤 으로서 는 , 원판 의 패턴 과 기판 의 패턴 의 얼라인먼트 뿐 만 아니 라 패턴 의 포 커싱 이 있 다 .