도 4 를 참조 하 면 , 마스크 기판 ( 100 ) 및 광차 단막 패턴 ( 111 ) 상 에 보호막 ( 130 ) 을 형성 한다 . 보호막 ( 130 ) 은 질화 막 을 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 을 이용 하 여 형성 할 수 있 다 . 보호막 ( 130 ) 은 광이 투과 되 는 마스크 기판 에 도 형성 되 므로 광 투과율 에 영향 을 미치 지 않 을 정도 예컨대 , 수 내지 수백 Å 의 두께 정도 로 형성 하 는 것 이 바람직 하 다 . 보호막 ( 130 ) 에 의해 마스크 기판 ( 100 ) 및 광차 단막 패턴 ( 111 ) 표면 은 대기 중 에 노출 되 지 않 는다 . 따라서 , 보호막 ( 130 ) 은 후속 단계 에서 에어 홀 을 통해 공기 가 유입 되 더라도 광차 단막 패턴 ( 111 ) 을 보호 하 여 , 마스크 표면 에 잔류 하 는 이온 들 과 의 반응 을 억제 한다 .