특정 구 현예 에서 , 하나 이상 의 가스 는 이 에 한정 되 지 않 는 수소 , 일산 화 탄소 , 메탄 , 황화수소 또는 신 가스 중 하나 이상 과 같 은 가스 성 전자 공 여체 ; 이 에 한정 되 지 않 지만 CO 2 , CO , CH 4 중 하나 이상 과 같 은 가스 성 탄 소원 ; 및 공기 ( 예 로 , 20 . 9 % 산소 ) 내 에 또는 순수 한 O 2 로서 또는 O 2 가 풍부 한 가스 로서 , 산소 와 같 은 전자 수용체 를 포함 하나 이 에 한정 되 지 않 으며 , 배양액 에 용해 된다 . 일부 구 현예 에서 , 이 들 및 다른 가스 의 용액 내 의 용해 는 발효 공학 의 기술 분야 에서 당업자 에게 공지 된 압축기 , 유량계 및 유동 밸브 의 시스템 을 사용 하 여 달성 되 며 , 이 시스템 은 가스 를 용액 내 에 분산 하 기 위한 다음 의 널리 사용 되 는 시스템 , 살포 장비 ; 돔 형 , 관형 , 디스크 형 또는 도넛 형 기하학 구조 를 포함 하나 이 에 한정 되 지 않 는 디 퓨저 ; 거칠 거나 미세 한 기포 통풍기 ; 벤츄리 장비 중 하나 이상 에 급식 한다 . 특정 구 현예 에서 , 표면 통기 및 / 또는 가스 매스 전달 은 또한 패들 통풍기 등 을 사용 하 여 수행 될 수 있 다 . 특정 구 현예 에서 , 가스 용해 는 기포 크기 를 감소 시키 기 위한 수력 전단 장치 뿐 만 아니 라 임펠러 또는 터빈 과 의 기계 적 혼합 에 의해 증진 된다 . 특정 구 현예 에서 , 가스 를 흡수 하 는 미생물 을 보유 하 는 반응기 시스템 을 통과 한 이후 에 , 잔류 가스 는 생물 반응기 로 다시 재순환 되 거나 , 공정 열 을 위해 연소 되 거나 , 발염 되 거나 , 지하 로 주입 되 거나 , 대기 내 로 방출 될 수 있 다 . 본원 에서 H 2 를 전자 공 여체 로서 이용 하 는 특정 구 현예 에서 , H 2 는 배양 배지 를 통한 버블 링 에 의해 또는 액체 배양 배지 와 접촉 하 는 당해 기술 분야 에 공지 된 수소 투과성 - 물 불 투과성 막 을 통하 여 확산 시킴 으로써 배양 용기 에 급식 될 수 있 다 .