한편 , 포토 마스크 의 투명 기판 측 에서 는 , 투명 기판 측 으로부터 입사 한 노광 광이 차광막 과 투명 기판 과 의 계면 에서 반사 되 고 , 추가 로 투명 기판 과 포토 마스크 주위 의 기체 와 의 계면 에서 재 반사 되 어 , 레지스 트 막 에 조사 되 는 것 에 의한 고스트 패턴 이 형성 될 위험 성 도 있 다 ( 이 와 같 은 차광막 과 투명 기판 과 의 계면 및 투명 기판 과 외기 와 의 계면 에서 의 반사 를 이 면 반사 라 칭함 ) . 특히 , 고해 상성 을 얻 기 위해서 , 노 광광 의 경사 입사 성분 을 강하 게 사용 하 는 조명 기술 , 예 를 들 면 액침 노광 법 에서 는 , 포토 마스크 에 이용 하 는 투명 기판 정도 의 두께 로 도 , 이면 반사 에 의한 반사광 이 , 차광 패턴 이 없 는 부분 을 제외 시켜 레지스 트 막 에 조사 될 위험 성 이 높 아 진다 . 따라서 , 차광막 의 막 두께 를 매우 얇 은 것 으로 하 기 위해서 , 차광막 에 금속 성 이 높 은 막 을 사용 하 는 경우 에 는 , 표면 측 뿐 만 아니 라 , 차광막 과 투명 기판 사이 의 계면 에서 의 반사 율 을 제어 하 는 어떠 한 방책 을 이용 하 는 것 이 바람직 하 다 .