상기 에서 언급 되 는 HHG 및 ICS 타입 과 같 은 현대 의 레이저 펌핑 된 소스 를 사용 하 면 , 종래 의 소스 와 비교 하 여 , 하나 이상 의 소망 되 는 파장 에서 높 은 전력 이 제공 될 수 있 다 . 따라서 , EUV 방사선 에서 의 단일 의 파장 에서 도 , 스택 안 으로 의 적절 한 침투 가 획득 될 수 있 다 . 물론 , 제 2 방사선 은 EUV 방사선 보다 파장 이 더 길 수 도 있 다 . 더 긴 파장 으로 이동 하 는 것 에 의해 침투 및 콘트 라스트 는 증가 될 수 도 있 지만 , 공간 해상도 는 , 타협 으로서 , 상실 될 수 도 있 다 . 본원 에서 개시 되 는 원리 및 설명 되 는 소스 및 광학 시스템 을 사용 하 면 , 숙련 된 자 는 두 개 의 타 겟 의 동시 측정 을 위한 효과 적 인 검사 장치 를 설계 함 에 있 어서 선택 할 전체 범위 의 옵션 을 갖 는다 .