[ 0018 ] 플라 즈 마 반응기 에서 의 튜닝 가능 한 워크 피스 바이어 싱 을 위한 방법 및 장치 의 실시 예 들 이 본원 에서 제공 된다 . 일부 실시 예 들 에서 , 플라 즈 마 반응기 에서 의 튜닝 가능 한 워크 피스 바이어 싱 을 위한 시스템 은 플 라즈 마 반응기 에 커플링 된 고 전압 펄스 형 DC 소스 ( 제 1 펄스 형 전압 소스 ) , 및 플 라즈 마 반응기 의 정전 척 에 매립 된 와이어 메시 를 통해 저 및 중간 전압 들 을 공급 하 는 제 2 펄스 형 전압 소스 를 포함 한다 . 고 전압 펄스 형 DC 소스 와 저 및 중간 전압 들 을 위한 제 2 전압 소스 를 조합 함 으로써 , 이온 에너지 분포 들 은 , 1 , 000 내지 10 , 000 eV 의 범위 에서 에너지 를 갖 는 이온 들 의 그룹 을 생성 하 도록 고 전압 펄스 형 DC 소스 를 시프팅 함 으로써 제어 가능 하 게 되 는 한편 , 더 낮 은 이온 에너지 들 은 0 내지 1 , 500 eV 의 범위 에서 이온 에너지 들 의 피크 들 또는 심지어 대역 들 을 형성 하 도록 튜닝 될 수 있 다 . 따라서 , 이온 에너지 분포 는 , 원 하 는 이온 에너지 분포 를 제공 하 기 위해 , 저 및 고 에너지 범위 들 에서 조정 된다 .