상기 차 광부 패턴 이 형성 된 기판 을 CF 4 기체 를 이용 한 조건 하 에서 플라 즈 마 처리 를 실시 하 여 소수 화 표면 처리 를 해 준다 . CF 4 기체 를 이용 한 조건 하 에서 플라 즈 마 처리 하 기 전 에 , O 2 기체 를 이용 한 조건 하 에서 플라 즈 마 처리 하 여 화소 부 내부 표면 에 차 광부 로부터 유입 된 일부 성분 을 제거 할 수 있 다 . 일반 적 으로 진공 상태 에서 전위차 가 다른 두 개 의 전극 에 전압 을 증가 시켜 플 라즈 마 를 발생 시키 는데 , 이때 플 라즈 마 형성 을 위해 사용 되 는 가스 의 종류 에 따라 표면 크리 닝 , 표면 개질 , 표면 에칭 또는 표면 증착 등 의 분야 에 응용 될 수 있 다 . 본 발명 에서 는 활성 가스 로 CF 4 를 이용 하 여 플 라즈 마 표면 에칭 및 소수성 층 의 표면 증착 의 방법 을 통하 여 차 광부 패턴 을 소수 화 처리 하 여 차 광부 패턴 이 발 잉크 성 을 가질 수 있 도록 할 수 있 다 . 이 는 추후 공정 인 용매 코팅 시 토출 된 용매 가 차 광부 패턴 상 에 남 아 있 지 않 으면서 화소 부 에 만 용매 를 코팅 할 수 있 게 한다 . 상기 차 광부 패턴 은 플 라즈 마 처리 후 잉크 에 대하 여 20 ° 이상 의 접촉각 을 갖 는 것 이 바람직 하 다 . 상기 접촉각 이 20 ° 미만 인 경우 에 는 화소 부 내부 에 만 선택 적 으로 용매 가 코팅 되 지 않 을 수 있 다 .