본 발명 은 반도체 제조 공정 에 사용 되 는 마스크 의 수평 조절 방법 에 관한 것 으로서 , 더욱 상세 하 게 는 반도체 제조 공정 에 사용 되 는 마스크 상 에 광도 파로 를 형성 하 고 레이저 광선 을 투사 하 여 감지 되 는 광 신호 의 위치 에 따라 마스크 와 웨이퍼 간 에 수평 정렬 여부 를 확인 하 고 보정 할 수 있 는 광도 파로 를 이용 한 마스크 의 수평 조절 방법 에 관한 것 이 다 .