본 발명 은 반도체 제조 설비 에서 의 다중 제어 방식 을 이용 한 기판 의 온도 조절 장치 및 그 방법 에 관한 것 이 다 . 온도 조절 장치 는 기판 이 안착 되 는 플 래 이 트 의 복수 개 의 영역 에 각각 구비 되 는 복수 개 의 센서 들 로부터 온도 를 감지 하 고 , 센서 들 에 대응 하 여 플 래 이트 의 복수 영역 에 배치 되 는 복수 개 의 히터 들 을 다중 제어 하 여 기판 의 전 영역 에 대한 온도 를 균일 하 게 제어 한다 . 이러 한 온도 조절 장치 는 제어 알고리즘 으로서 비례 - 적분 - 미분 ( PID ) 제어기 를 포함 한다 . 따라서 본 발명 에 의하 면 , 복수 개 의 센서 와 복수 개 의 히터 를 다중 제어 함 으로써 , 기판 전 영역 에 대한 균일 한 온도 조절 이 가능 하 다 .