[ 0023 ] 도 1 a 는 본원 에서 설명 되 는 실시 예 들 에 따른 포지셔닝 어 레인지 먼 트 ( 100 ) 의 개략 적 정면도 를 도시 한다 . 특히 , 본원 에서 설명 되 는 임의 의 다른 실시 예 와 조합 될 수 있 는 실시 예 들 에 따르 면 , 포지셔닝 어 레인지 먼 트 ( 100 ) 는 진공 챔버 내 의 , 예컨대 본원 에서 설명 되 는 바 와 같 은 프로세싱 시스템 의 진공 프로세싱 챔버 내 의 기판 캐리어 ( 150 ) 및 마스크 캐리어 ( 160 ) 의 포지셔닝 을 위해 구성 된다 . 통상 적 으로 , 포지셔닝 어 레인지 먼 트 ( 100 ) 는 제 1 방향 으로 연장 되 는 제 1 트랙 ( 110 ) 을 포함 한다 . 예컨대 , 도 1 a 에서 , 제 1 방향 은 x - 방향 에 대응 한다 . 또한 , 본원 에서 설명 되 는 실시 예 들 에 따르 면 , 제 1 트랙 ( 110 ) 은 기판 캐리어 ( 150 ) 의 비접 촉식 이송 을 위해 구성 될 수 있 다 . 통상 적 으로 , 기판 캐리어 ( 150 ) 는 기판 표면 ( 102 ) 을 갖 는 기판 ( 101 ) 을 홀딩 하 도록 구성 된다 . 또한 , 포지셔닝 어 레인지 먼 트 ( 100 ) 는 제 1 방향 , 예컨대 , 도 1 a 에 도시 된 바 와 같 은 x - 방향 으로 연장 되 는 제 2 트랙 ( 120 ) 을 포함 한다 . 예컨대 , 제 2 트랙 ( 120 ) 은 마스크 캐리어 ( 160 ) 의 비접 촉식 이송 을 위해 구성 될 수 있 다 . 도 1 a 에 예시 적 으로 도시 된 바 와 같이 , 제 1 트랙 ( 110 ) 및 제 2 트랙 ( 120 ) 은 기판 표면 과 동일 평면 상 의 평면 에서 오프셋 거리 ( D ) 만큼 오프셋 된다 . 특히 , 도 1 b 에 예시 적 으로 도시 된 바 와 같이 , 제 1 트랙 ( 110 ) 및 제 2 트랙 ( 120 ) 은 진공 프로세싱 챔버 ( 311 ) 의 벽 과 증착 소스 ( 325 ) 간 에 배열 될 수 있 다 .