예 를 들 면 , 2 개 이상 의 오버레이 타 겟 을 이용 한 측정 에 있 어서 , 오버레이 타 겟 은 제 1 웨이퍼 층 과 제 2 웨이퍼 층 의 특정 위치 에 인쇄 될 수 있 고 , 제 1 및 제 2 층 이 적절히 정렬 된 때 오버레이 타 겟 의 제 1 구조물 및 제 2 구조물 의 패턴 요소 들 이 또한 정렬 된다 . 그러나 , 제 1 층 과 제 2 층 이 ' 불 일치 '( misregister ) 된 때 , 주어진 얇 은 오버레이 마크 ( 100 ) 의 제 1 구조물 ( 102 ) 과 제 2 구조물 ( 104 ) 의 패턴 요소 들 간 에 상대 적 인 쉬프 트 ( shift ) 가 존재 하 고 , 쉬프 트 는 각종 기술 을 통해 측정 될 수 있 다 .