또한 본 실시 예 에 따른 화학 기상 증착 장치 ( 1 ) 는 , 증착 공정 이 완료 될 경우 , 챔버 ( 10 ) 의 내벽 과 챔버 ( 10 ) 내 에 갖춰진 다수 의 구조물 들 에 불 필요 하 게 증착 물질 이 증착 되 어 형성 된 잔류물 을 제거 하 기 위한 정화 물질 을 공급 하 는 2 개 의 제 1 및 제 2 원격 플 라즈 마 소스 ( 51 a , 51 b , Remote Plasma Source ) 와 , 제 1 및 제 2 원격 플 라즈 마 소스 ( 51 a , 51 b ) 사이 에 마련 되 고 제 1 및 제 2 원격 플 라즈 마 소스 ( 51 a , 51 b ) 각각 으로부터 제공 된 정화 물질 이 단일 의 경로 로 합쳐 지 는 복수 의 경로 라인 ( 70 ) 을 형성 하 는 매니폴드 ( 60 , Manifold ) 와 , 매니폴드 ( 60 ) 에 결합 되 고 정화 물질 을 챔버 ( 10 ) 로 제공 하 는 가스 피드 스루 관 ( 53 , Gas Feedthrough Pipe ) 을 더 구비 한다 .