한편 , 제 1 식각 공정 은 습식 식각 공정 또는 건식 식각 공정 으로 실시 할 수 있 으나 , 이방성 을 갖 는 건 식식 각 공정 으로 실시 하 는 것 이 바람직 하 다 . 예컨대 , 습식 식각 공정 은 BHF ( Buffered HF ) 또는 BOE ( Buffered Oxide etch ) 용액 - 탈 이온 수 ( deionized water ) 에 HF 가 혼합 된 용액 - 을 사용 한다 . 또한 , 건식 식각 공정 은 고밀도 플라 즈 마 식각 장비 를 이용 하 여 실시 하 며 , CF 4 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 과 같 은 불화 탄소 화합물 들 을 사용 한다 . 이 에 더 하 여 , Ar , O 2 또는 이 들 가스 모두 를 더 첨가 하 여 식각 속도 및 선택 비 를 조절 할 수 도 있 다 .