본 발명 이 이루 고자 하 는 기술 적 과제 는 비정질 탄소막 증착 후 반응 챔버 내부 를 세정 할 때 에 가스 분리 형 샤워 헤드 를 이용 하 여 가스 분사 모듈 에 세정 가스 의 플 라즈 마 화 를 위한 파워 를 인가 하 여 1 차 세 정시 세정 가스 의 에너지 를 높여 세정 효율 을 높일 수 있 으며 , 추가 적 으로 도파관 을 통한 별도 의 경로 로 2 차 세정 을 통하 여 더욱 세정 효율 을 높일 수 있 는 비정질 탄소막 증착 공정 에서 의 챔버 세정 장치 및 이 를 이용 한 챔버 세정 방법 을 제공 하 는 데 있 다 .