상기 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 하 는 단계 ( S 200 ) 에서 는 기체 분사기 가 기체 분사 부 를 통해 상기 작물 의 위치 별 로 계산 된 광합성 속도 분포 를 이용 하 여 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 할 수 있 다 . 상기 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 하 는 단계 ( S 200 ) 에서 는 상기 특정 위치 를 결정 하 는 데 상기 실제 광합성 속도 또는 상기 일반 적 인 광합성 속도 를 이용 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 상기 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 하 는 단계 ( S 200 ) 에서 는 상기 일반 적 인 광합성 속도 로부터 상기 기체 가 분사 되 는 상기 특정 위치 를 결정 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 상기 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 하 는 단계 ( S 200 ) 에서 는 상기 실제 광합성 속도 로부터 상기 기체 가 분사 되 는 상기 특정 위치 를 결정 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 예 를 들 면 , 상기 작물 의 특정 위치 에 기체 를 공급 하 는 단계 ( S 200 ) 에서 는 상기 일반 적 인 광합성 속도 로부터 상기 기체 가 분사 되 는 상기 특정 위치 를 1 차 적 으로 결정 하 고 , 상기 실제 광합성 속도 로부터 상기 기체 가 분사 되 는 상기 특정 위치 를 2 차 적 으로 결정 할 수 있 다 .