또한 , 최근 에 는 , 노출 의 해상도 를 현재 의 하한 보다 더 낮추 려는 요구 가 점차 증가 하 고 있 다 . 한편 , 이러 한 요구 를 충족 시키 려는 종래 의 방안 으로서 , 예 를 들 어 일본 특허 출원 제 2002 - 280388 호 에서 는 , 노출 기법 에서 달성 가능 한 해상도 의 하한 보다 미세 한 피치 를 갖 는 라인 - 스페이스 패턴 을 형성 하 기 위한 방법 이 제안 되 었 다 .