투명 전도성 층 상부 에 밀착 성 향상 층 ( 210 ) 을 형성 시키 며 ( 도 7 참조 ) , 이때 , 밀착 성 향상 층 은 산화 실리콘 의 경우 평균 두께 50 nm 이하 , 바람직 하 게 는 10 ~ 35 nm , 더 바람직 하 게 는 10 ~ 20 nm 인 것 이 좋 으며 , 밀착 성 향상 층 의 두께 가 20 nm 를 초과 하 면 단 방향 성장 특성 에 의해 최 상부 방오 기능 성 코팅 의 특성 이 발현 되 지 않 는 문제 가 있 을 수 있 다 .