본 발명 은 상기 의 문제점 을 해결 하 기 위하 여 , 환경 과 인체 에 유해 하 지 않 은 용매 를 사용 하 는 데 목적 이 있 으며 , 이러 한 용매 를 사용 하 면서 도 저온 에서 짧 은 시간 내 에 포토레지스트 를 박리 할 수 있 어 박리 속도 를 더욱 향상 시킬 수 있 으며 , 세척 ( rinse ) 후 기판 상 에 포토레지스트 잔류물 을 남기 지 않 고 , 동시 에 유기 절 연막 및 금속 배선 에 대한 손상 없이 박리 가 가능 한 포토레지스트 제거 용 박리 액 조성물 을 제공 하 는 것 을 목적 으로 한다 .