상기 기판 처리 장치 는 , 상기 기판 유지 유닛 을 수용 하 는 챔버 와 , 상기 챔버 의 측방 에 배치 된 유체 박스 와 , 상기 제 1 노즐 에 공급 되 는 처리 액 의 온도 를 가열 및 냉각 중 적어도 한쪽 에 의해 상기 제 1 공급 배관 의 상류 에서 변경 하 는 온도 조절기 를 더 구비 하 고 , 상기 제 1 분기 부 는 , 상기 챔버 또는 유체 박스 내 에 배치 되 어 있 다 .