특허 문헌 2 에 는 , 광경 화성 의 현상 가능 한 액상 솔 더 레지스 트 용 잉크 조성물 로서 , 특정 구조 의 활성 에너지 선 경화 성 수지 , 광중합 개시제 , 유기 용제 등 을 포함 하 는 조성물 이 개시 되 어 있 다 . 이 와 같 은 , 포트 리소그래피 공정 에서 패턴 형성 가능 한 액상 솔 더 레지스 트 용 잉크 조성물 은 미세 한 패턴 을 형성 할 수 있 고 , 패턴 의 위치 정밀도 도 높 게 하 는 것 이 가능 하 지만 , 투명 성 이 높 기 때문 에 검사 장치 에 의한 정확 한 검사 가 어렵 다 .