미 다 공막 의 기공 률 은 , 바람직 하 게 는 20 % 이상 이 고 , 보다 바람직 하 게 는 30 % 이상 이 고 , 더욱 바람직 하 게 는 39 % 이상 또는 42 % 이상 이 다 . 미 다 공막 의 기공 률 이 20 % 이상 인 것 에 의해 , 리튬 이온 축전 디바이스 의 세 퍼 레이터 로서 사용 될 때 , 리튬 이온 의 급속 한 이동 에 대한 추종 성 이 보다 향상 되 는 경향 이 있 다 . 한편 , 미 다 공막 의 기공 률 은 , 바람직 하 게 는 90 % 이하 , 보다 바람직 하 게 는 80 % 이하 , 더욱 바람직 하 게 는 50 % 이하 이 다 . 미 다 공막 의 기공 률 이 90 % 이하 인 것 에 의해 , 막 강도 가 보다 향상 되 고 , 자기 방전 이 보다 억제 되 는 경향 이 있 다 .