상기 포토 리소그래피 공정 은 기판 상 에 포토레지스트 막 을 형성 하 기 위한 포토레지스트 코팅 공정 , 상기 포토레지스트 막 을 경화 시키 기 위한 베 이크 공정 , 상기 경화 된 포토레지스트 막 상 에 레티 클 패턴 들 을 전사 하 기 위한 노광 공정 , 상기 전사 된 레티 클 패턴 들 을 형성 화 하 기 위한 현상 공정 , 상기 형상 화 된 포토레지스트 패턴 들 을 세정 하 기 위한 세정 공정 등 을 포함 할 수 있 다 .