[ 0003 ] 따라서 , 본 발명자 들 은 , 최대 이온 에너지 , 및 저 및 중간 이온 에너지 들 의 분포 를 독립 적 으로 제어 하 도록 이온 에너지 를 조정 ( tailor ) 하 기 위해 프로세싱 챔버 들 이 튜닝 가능 하 게 될 수 있 게 하 는 시스템 , 또는 다시 말 해서 , 플라 즈 마 반응기 에서 의 튜닝 가능 한 워크 피스 바이어 싱 을 위한 시스템 을 제공 하 였 다 .