도 1 b 는 , 초점 보상 막 ( 3 ) 을 형성 하 기 위한 종래 예 를 도시 한다 . 종래 예 에 따르 면 , 프로세스 웨이퍼 ( W ) 상 의 포토레지스트 층 ( 1 ) 의 표면 은 , 후속 하 는 패턴 노광 단계 에서 의 투영 광학계 의 상면 형상 을 고려 하 지 않 고 , " "" 평면 "" 에 근접 하 도록 초점 보상 막 ( 3 ) 이 형성 된다 . 한편 ", 노광 단계 에서 의 노광 장치 의 베스트 포커스 면 을 완전히 평면 화 하 는 것 이 곤란 하 며 , 이 는 노광 장치 의 투영 광학계 의 DOF 를 소비 하 는 요인 중 하나 가 되 어 왔 다 . 종래 의 전통 적 인 접근 법 에서 는 , 프로세스 웨이퍼 ( W ) 에 배분 ( 허용 ) 해야 할 디 포커스 량 과 노광 장치 에 배분 ( 허용 ) 해야 할 디 포커스 량 이 개별 적 으로 설정 되 지만 , 이러 한 접근 법 에 는 한계 가 있 다 .