이하 , 도 5 를 참조 한다 . 도 5 는 , 다른 예시 적 실시 형태 에 관한 플 라즈 마 처리 장치 를 개략 적 으로 나타내 는 도 이 다 . 이하 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 1 A ) 와 상이점 에 관하 여 , 도 5 에 나타내 는 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 B ) 를 설명 한다 . 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 B ) 는 , 전원 장치 ( 70 ) 를 갖 고 있 지 않 다 . 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 B ) 에서 는 , 바이어스 전원 ( 62 ) 이 에지 링 ( ER ) 에 전압 을 인가 하 는 전원 장치 를 겸하 고 있 다 . 플 라즈 마 처리 장치 ( 1 B ) 에서 는 , 바이어스 전원 ( 62 ) 은 고주파 바이어스 전력 을 하부 전극 ( 18 ) 에 공급 한다 . 하부 전극 ( 18 ) 은 , 가변 임피던스 회로 ( 72 ) 를 통하 여 에지 링 ( ER ) 에 접속 되 어 있 다 . 가변 임피던스 회로 ( 72 ) 는 , 예 를 들 면 가변 용량 콘덴서 를 포함 할 수 있 다 .