산화 인듐 계층 이나 , 산화 인듐 계층 과 금속 계층 의 적층 체 를 일괄 적 으로 에칭 하 는 방법 은 특별히 한정 되 지 않 고 일반 적 인 에칭 방법 을 채용 하 면 된다 . 예 를 들 어 , 딥 식 , 스프레이 식 , 스핀 식 등 에 의한 에칭 방법 을 들 수 있 다 . 예 를 들 어 , 딥 식 의 에칭 방법 에 의해 , PET 기판 상 에 Cu / ITO 층 이 성막 된 기재 를 에칭 하 는 경우 , 이 기재 를 적절 한 에칭 조건 에서 에칭 액 조성물 에 침지 한 후 , 끌 어 올림 으로써 PET 기판 상의 Cu / ITO 층 을 일괄 하 여 에칭 할 수 있 다 .