노광 공정 에서 는 조성물 층 을 패턴 상 으로 노광 한다 . 예 를 들 면 , 조성물 층 에 대하 여 , 스 테퍼 등 의 노광 장치 를 이용 하 여 , 소정 의 마스크 패턴 을 갖 는 마스크 를 통하 여 노광 함 으로써 , 조성물 층 을 패턴 노광 할 수 있 다 . 이 로써 , 노광 부분 을 경화 할 수 있 다 . 노광 시 에 이용 할 수 있 는 방사선 ( 광선 ) 으로서 는 , g 선 , i 선 등 의 자외선 이 바람직 하 고 , i 선 이 보다 바람직 하 다 . 조사량 ( 노광량 ) 은 , 예 를 들 면 0 . 03 ~ 2 . 5 J / cm 2 가 바람직 하 고 , 0 . 05 ~ 1 . 0 J / cm 2 가 보다 바람직 하 며 , 0 . 08 ~ 0 . 5 J / cm 2 가 가장 바람직 하 다 . 노광 시 에 있 어서 의 산소 농도 에 대해서 는 적절히 선택 할 수 있 으며 , 대 기하 에서 행하 는 것 외 에 , 예 를 들 면 산소 농도 가 19 체적 % 이하 인 저 산소 분위기 하 ( 예 를 들 면 , 15 체적 %, 5 체적 %, 실질 적 으로 무산소 ) 에서 노광 해도 되 고 , 산소 농도 가 21 체적 % 를 초과 하 는 고 산소 분위기 하 ( 예 를 들 면 , 22 체적 %, 30 체적 %, 50 체적 %) 에서 노광 해도 된다 . 또 , 노광 조도 는 적절히 설정 하 는 것 이 가능 하 며 , 통상 1000 W / m 2 ~ 100000 W / m 2 ( 예 를 들 면 , 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , 35000 W / m 2 ) 의 범위 로부터 선택 할 수 있 다 . 산소 농도 와 노광 조도 는 적절히 조건 을 조합 해도 되 며 , 예 를 들 면 산소 농도 10 체적 % 이 고 조도 10000 W / m 2 , 산소 농도 35 체적 % 이 고 조도 20000 W / m 2 등 으로 할 수 있 다 .