기판 지 지체 구조물 ( 214 ) 은 프로세싱 중 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 와 접촉 및 지지 하 는 지지 핀 들 을 갖 는 복수 의 지지 아 암 들 을 포함 할 수 있 다 . 일부 실시 예 들 에 있 어서 , 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 를 지지 하 기 위해 환형 ( annular ) 지지 링 ( 216 ) 이 사용 된다 . 다른 실시 예 들 에 있 어서 , 환형 지지 링 ( 216 ) 은 환형 지지 링 ( 216 ) 사이 의 지역 에서 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 의 후방 측 ( backside ) 과 접촉 하 는 플레이트 ( 218 ) 에 커플링 되 거나 또는 이 와 함께 사용 될 수 있 다 . 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) 은 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) 의 수직 및 / 또는 회전 운동 을 제공 하 는 작 동기 ( 288 ) 에 커플링 된다 . 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) , 환형 지지 링 ( 216 ) , 및 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 는 실리콘 탄화물 , 그래 파이트 , 석영 , 알루미나 , 알루미늄 질화물 , 및 그 조합 들 로부터 제조 될 수 있 다 . 일부 실시 예 들 에 있 어서 , 플레이트 ( 218 ) 는 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 와 상기 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 상 에 위치 된 기판 들 ( 240 ) 의 온도 를 도전 가능 하 게 가열 및 제어 하 기 위해 가열 요소 ( 223 ) ( 예 를 들 어 , 저항 가열 요소 ) 를 포함 한다 . 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 의 온도 및 / 또는 기판 들 ( 240 ) 의 온도 를 모니터링 하 기 위해 , 열전쌍 ( thermocouple ) 또는 파이로미터 ( pyrometer ) 와 같 은 하나 또는 둘 이상 의 센서 들 ( 도시 되 지 않 음 ) 이 사용 될 수 있 다 . 환형 지지 링 ( 216 ) 이 사용 되 는 실시 예 들 에 있 어서 , 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 의 후방 측 의 온도 를 감지 하 기 위해 하나 또는 둘 이상 의 파이로미터 들 이 위치 될 수 있 다 . 플레이트 ( 218 ) 가 사용 되 는 실시 예 들 에 있 어서 , 프로세싱 중 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) 의 온도 , 플레이트 ( 218 ) 의 온도 , 및 / 또는 기판 캐리어 플레이트 ( 112 ) 의 후방 측 의 온도 를 모니터링 하 기 위해 , 하나 또는 둘 이상 의 열전쌍 들 이 기판 지 지체 구조물 ( 214 ) 및 / 또는 플레이트 ( 218 ) 에 커플링 될 수 있 다 .