하프 미러 ( 37 ) 및 측광 소자 ( 38 ) 는 , 하프 미러 ( 33 ) 가 혼합 한 피크 파장 λ p 의 광 을 모니터 하 는 모니터 수단 이 다 . 하프 미러 ( 37 ) 는 , 혼합 피크 파장 λ p 의 광 의 절반 을 반응 용기 ( 5 ) 가 유지 한 액체 시료 에 입사 시키 고 , 남 은 절반 을 반사 시켜 측광 소자 ( 38 ) 에 입사 시킨다 . 측광 소자 ( 38 ) 는 , 입사 한 광 의 스펙트럼 성분 으로부터 혼합 피크 파장 을 계측 함 과 함께 , 혼합 피크 파장 의 광 의 방사 강도 를 계측 하 고 , 계측 신호 를 마이크로컴퓨터 ( 35 ) 에 출력 한다 .