또 , " 실시 예 1 및 실시 예 2 와 마찬가지 로 No . 15 내지 No . 19 의 도전 성막 을 구비 한 샘플 에 대해서 "" 활성 화 "" 처리 "," "" 안정 화 "" 처리 를 행하 였 다 . 그 후 "," "" 안정 화 "" 처리 로 형성 한 진공도 를 유지 한 상태 로 ", 전자 방출 특성 을 측정 한 결과 , 실시 예 1 의 샘플 2 내지 4 및 실시 예 2 의 샘플 11 내지 13 에서 마찬가지 의 양호 한 전자 방출 특성 이 No . 15 내지 No . 18 의 샘플 에서 관측 되 었 다 . 그러나 , No . 19 의 샘플 에서 는 , 실시 예 1 및 실시 예 2 보다 전자 방출 특성 이 낮 았 다 . 이것 은 , 평균 입자 크기 와 표준 편차 에 기인 하 고 있 다고 추론 된다 .