또한 , 리소그래피 장치 는 하나 이상 의 매개변수 ( 예 를 들 어 , 초점 , 오버레이 등 ) 의 임의 의 전반 적 인 그리고 국부 적 인 핑거 프린트 를 제거 하 는 것 을 돕 기 위해 인 - 레지스 트 ( in - resist ) 측정 을 사용 함 으로써 설정 될 수 있 다 . 그러나 전반 적 인 핑거 프린팅 은 교정 이 수행 되 었 던 마지막 시간 으로부터 시간 이 지남 에 따라 드리프트 ( drift ) 할 수 있 다 . 이 설정 상태 의 모니터링 및 제어 를 위하 여 , 모니터 기판 ( monitor substrate ) 이 노광 되 고 측정 되 어 전반 적 인 핑거 프린팅 을 모니터링 할 수 있 다 . 모니터 기판 은 레지스 트 층 이 도포 된 기판 에서 명확 한 패턴 을 갖 는 기본 적 인 기판 일 수 있 으며 , 명확 한 패턴 과 관련 하 여 패턴 으로 노광 되 고 현상 되 며 이후 측정 된다 . 측정 되 면 , 모니터 기판 상 의 레지스 트 는 벗겨져 명확 한 패턴 이 남겨질 수 있 으며 따라서 새로운 레지스 트 층 이 도포 될 수 있 다 . 이 측정 에 기초 하 여 , 리소그래피 장치 에 대하 여 보정 이 이루어질 수 있 으며 따라서 이 보정 은 기여 도 를 결정 하 는데 있 어 고려 될 필요 가 있 다 . 실시 예 에서 , 모니터 기판 은 명확 한 패턴 을 사용 하 여 오버레이 를 결정 하 기 위해 및 / 또는 레지스 트 패턴 을 사용 하 여 초점 을 결정 하 기 위해 사용 될 수 있 다 .