샤워 헤드 는 지지 플레이트 ( 220 ) 에 놓여진 웨이퍼 ( W ) 를 향하 여 소스 가스 를 분사 한다 . 샤워 헤드 는 복수 의 분사 홀 들 ( 622 a ) 이 형성 된 분 사판 ( 622 ) 및 분사 판 ( 622 ) 을 고정 하 는 고정 홀더 ( 620 ) 를 포함 한다 . 고정 홀더 ( 620 ) 는 하부 가 개방 된 형상 이 며 , 하부 에 는 분사 판 ( 622 ) 이 고정 된다 . 고정 홀더 ( 620 ) 와 분사 판 ( 622 ) 사이 에 는 버퍼 공간 ( 624 ) 이 형성 된다 . 가스 공급 라인 ( 660 ) 을 통해 유입 된 소스 가스 는 버퍼 공간 ( 624 ) 에 머무르 며 , 분사 판 ( 622 ) 에 형성 된 복수 의 분사 홀 들 ( 622 a ) 을 통해 외부 로 배출 된 다 . 지지 축 ( 640 ) 은 고정 홀더 ( 620 ) 의 상부 면 에 연결 된다 .