또한 , 도 11 에 도시 하 는 바 와 같이 , 최대 편심 점 F 가 오프셋 축 OS 상 에 있 는 상태 에서 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 에 보유 지지 된 웨이퍼 W 의 중심 이 , 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 상 에 위치 할 때 까지 센터 링 스테이지 ( 10 ) 를 오프셋 축 OS 를 따라 이동 기구 ( 41 ) ( 도 1 참조 ) 에 의해 이 동시 킨다 . 이때 의 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 이동 거리 ( 즉 , 이 동량 ) 는 , 웨이퍼 W 의 편심 량 에 상당 한다 . 이 와 같이 하 여 , 웨이퍼 W 의 중심 이 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 에 맞춰진다 . 본 실시 형태 에서 는 , 편심 검출 기구 ( 54 ) 에 의해 취득 된 웨이퍼 W 의 중심 의 , 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 축심 으로부터 의 편심 량 및 편심 방향 에 기초 하 여 , 웨이퍼 W 의 중심 을 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 에 맞추 는 센터 링 동작 을 실행 하 는 얼라 이너 는 , 센터 링 스테이지 회전 기구 ( 36 ) 와 , 이동 기구 ( 41 ) 와 , 동작 제 어부 ( 75 ) 로 구성 된다 .