산 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 0 . 05 질량 ％ 이상 인 것 이 바람직 하 다 . 산 의 함유량 이 0 . 05 질량 ％ 이상 이 면 , 잔사 의 제거 효과 가 보다 향상 된다 . 이러 한 이유 는 , 질화규소 또는 산화 규소 를 포함 하 는 표면 처리 대상물 의 표면 및 양전하 대전 성 성분 의 표면 을 양전하 로 대전 시키 는 효과 가 보다 양호 해 지 기 때문 이 라고 추측 된다 . 마찬가지 관점 에서 , 산 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 0 . 1 질량 ％ 이상 인 것 이 보다 바람직 하 고 , 0 . 15 질량 ％ 이상 인 것 이 더욱 바람직 하 다 . 또한 , 산 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 10 질량 ％ 이하 인 것 이 바람직 하 다 . 산 의 함유량 이 10 질량 ％ 이하 이 면 , 저 pH 기인 의 장치 에 대한 손상 을 보다 저감 시킬 수 있 다 . 마찬가지 관점 에서 , 산 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 의 총 질량 에 대하 여 , 5 질량 ％ 이하 인 것 이 보다 바람직 하 고 , 3 질량 ％ 이하 인 것 이 더욱 바람직 하 다 .