본 발명 의 일 양태 에 따르 면 , 상기 염기 성 오염 물질 제거 용 비드 는 과립 형 입자 로 중화 처리 작업 에 투입 시 분말 에 비하 여 분사 거리 가 길 어 작업자 가 오염 물질 이 있 는 곳 에 접근 이 어려운 경우 에 효과 적 이 다 . 또한 , 처리 대상 오염 물질 이 있 는 곳 에 투입 이 정확 하 게 이루어져 중화 처리 효율 을 보다 향상 시킬 수 있 는 측면 에서 더욱 효과 적 이 다 . 나아가 , 중화 반응 을 안정 적 으로 진행 할 수 있 도록 함 으로써 중화 처리 작업 과정 에서 급격 한 반응 또는 높 은 중화열 등 으로 인한 위험 을 방지 할 수 있 는 면 에서 보다 더 효과 적 이 다 .