이 경우 , 상기 블랙 레진 이 감광 성 특성 을 갖 는 경우 , 상기 블랙 레진 재질 의 광 차단 층 ( 미 도시 ) 에 대응 해서 는 노광 마스크 를 이용 한 노광 과 노광 된 상기 블랙 레진 재질 의 광차 단층 을 현상 하 는 비교 적 간단 한 마스크 공정 을 통해 상기 블랙 레진 재질 의 광 차단 패턴 ( 103 ) 을 형성 할 수 있 다 . 또한 , 크롬 ( Cr ) 재질 의 광 차단 패턴 의 경우 , 상기 크롬 ( Cr ) 재질 의 광차 단층 위 로 포토레지스트 를 전면 에 코팅 하 여 포토레지스트 층 ( 미 도시 ) 을 형성 하 고 , 이 에 대해 노광 마스크 를 이용 한 노광 및 상기 노광 된 포토레지스트 층 ( 미 도시 ) 을 현상 하 여 포토레지스트 패턴 ( 미 도시 ) 을 형성 한 후 , 상기 포토레지스트 패턴 ( 미 도시 ) 을 이용 하 여 상기 포토레지스트 패턴 ( 미 도시 ) 외부 로 노출 된 상기 크롬 ( Cr ) 재질 의 광 차단 층 ( 미 도시 ) 을 식각 하 고 , 상기 포토레지스트 패턴 ( 미 도시 ) 을 스트립 ( strip ) 또는 애 싱 ( ashing ) 하 여 제거 함 으로써 크롬 ( Cr ) 재질 의 광 차단 패턴 ( 103 ) 을 형성 할 수 있 다 .