도 8 a 및 도 8 b 는 근접 패 터닝 차폐물 의 2 개 의 대안 적 인 형태 , 즉 도 7 에 도시 된 바 와 같 은 주기 적 으로 반복 되 는 CPS 부분 ( 220 ) 들 을 각각 포함 하 는 직사각 형 및 원형 차폐물 을 위 로부터 각각 개략 적 으로 도시 한다 . 각각 의 경우 에 , 차폐물 은 그 안 에 형성 된 개구 들 의 패턴 을 가지 며 , 패턴 은 차폐물 플레이트 의 평면 의 평면 범위 를 가로질러 주기 적 으로 반복 되 는 복수 의 서브 패턴 ( 즉 , 부분 ( 220 ) 에 포함 된 개구 의 배열 ) 을 포함 한다 . 주기 는 예 를 들 어 차폐물 의 주 방향 , 즉 도 8 a 및 도 8 b 에 도시 된 바 와 같이 상하 좌우 로 5 내지 100 ㎜ 의 범위 일 수 있 다 . 도 8 a 에 도시 된 직사각 형 차폐물 ( 200 R ) 은 직사각 형 가공물 들 을 도금 하 는데 적합 한 반면 에 , 도 8 b 에 도시 된 원형 차폐물 ( 200 C ) 은 원형 가공물 을 도금 하 는데 적합 하 다 . 각각 의 부분 ( 220 ) 또는 서브 패턴 은 대응 하 는 기판 ( 101 ) 상 의 하나 의 다이 에 대응 한다 . 이 들 도면 에 예시 된 바 와 같이 , 근접 위치 결정 차폐물 들 은 직사각 형 , 정사각형 , 또는 원형 을 포함 하 는 임의 의 형상 일 수 있 다 . 이 들 실시 예 에 도시 된 개구 ( 221 및 222 ) 들 이 직사각 형 및 정사각형 일지라도 , 다른 실시 예 에서 , CPS 개구 들 예 를 들 어 원형 , 타원 형 및 직사각형 을 포함 하 는 임의 의 형상 일 수 있 다 .