본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 는 , 또한 레티 클 스테이지 ( RST ) 의 상방 에 X 축 방향 으로 소정 거리 떨어져 배치 된 1 쌍 의 레티 클 얼라이먼트 계 ( 13 A , 13 B ) ( 도 1 에서 는 도시 생략 , 도 4 참조 ) 를 구비 하 고 있 다 . 레티 클 얼라이먼트 계 ( 13 A , 13 B ) 로 는 , 투영 광학계 ( PL ) 를 통해 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 상의 1 쌍 의 기준 마크 와 이것 에 대응 하 는 레티 클 상의 1 쌍 의 레티 클 마크 를 동시 에 관찰 하 기 위한 노광 파장 의 광 을 사용 한 TTR ( Through The Reticle ) 얼라이먼트 계 가 사용 되 고 있 다 . 레티 클 얼라이먼트 계 의 상세 한 구성 은 , 예 를 들 어 미국 특허 제 5 , 646 , 413 호 명세서 등 에 개시 되 어 있 다 . 또한 레티 클 얼라이먼트 계 로서 , 예 를 들 어 슬릿 개구 를 갖 는 수 광면 이 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 에 배치 되 는 공간 이미지 계측 계 를 대용 또는 겸용 해도 된다 . 이 경우 , 전술 한 제 1 기준 마크 는 형성 하 지 않 아도 된다 .