본 발명 의 규소 함유 레지스 트 하층 막 형성 용 조성물 은 , 상기 일반식 ( Sx - 1 ) 로 표시 되 는 반복 단위 , 일반식 ( Sx - 2 ) 로 표시 되 는 반복 단위 , 및 일반식 ( Sx - 3 ) 으로 표시 되 는 부분 구조 중 어느 하나 이상 을 함유 하 는 열경화성 규소 함유 재료 와 일반식 ( P - 0 ) 으로 표시 되 는 화합물 을 필수 성분 으로서 포함 하 는 규소 함유 레지스 트 하층 막 형성 용 조성물 이 다 . 상기 조성물 은 , 필요 에 따라 , 가교 촉매 , 산분 해성 치환기 를 갖 는 함 질소 화합물 등 의 그 밖 의 성분 을 포함 할 수 있 다 . 이하 , 이 들 성분 에 대해서 설명 한다 .