따라서 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 반도체 제조 설비 의 밸브 리크 검출 방법 은 세정 가스 의 유동 을 단속 하 는 메인 세정 가스 밸브 ( 38 ) 의 리크 를 먼저 검출 및 조치 하 고 , 반응 가스 의 유동 을 단속 하 는 메인 반응 가스 밸브 ( 36 ) 의 리크 를 검출 토록 하 여 상기 메인 세정 가스 밸브 ( 38 ) 를 통해 상기 반응 가스 가 세정 가스 공 급단 으로 역류 되 는 것 을 막 음 으로서 상기 메인 세정 가스 밸브 ( 38 ) 자체 또는 상기 메인 세정 가스 밸브 ( 38 ) 전 후단 의 가스 공급 라인 ( 32 ) 에서 파우더 가 발생 되 는 것 을 방지 토록 하 고 , 상기 파우더 에 의한 웨이퍼 오염 을 방지 토록 할 수 있 기 때문 에 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 다 .