실시 예 1 ∼ 16 에 있 어서 , 40 ㎛/ 40 ㎛, 50 ㎛/ 50 ㎛ 의 레지스 트 패턴 을 해 상할 수 있 었 다 . 또 , 실시 예 1 ∼ 8 , 11 ∼ 16 에 있 어서 , 30 ㎛/ 30 ㎛ 의 레지스 트 패턴 도 해 상할 수 있 었 다 . 감광성 수지 조성물 에 대한 ( E ) 벤조페논 계 증감제 의 함유량 이 0 . 20 질량 ％ 미만 인 실시 예 9 및 감광성 수지 조성물 에 대한 ( E ) 벤조페논 계 증감제 의 함유량 이 0 . 40 질량 ％ 초과 인 실시 예 10 에 있 어서 , 30 ㎛/ 30 ㎛ 의 레지스 트 패턴 의 일부 가 박리 되 었 다 .