레티 클 라이터 는 회로 패턴 데이터 를 사용 하 여 나중 에 특정 IC 설계 를 제조 하 는 데 사용 될 복수 의 레티 클 에 기록 한다 . 예 를 들 어 , 전자 빔 라이터 또는 레이저 스캐너 가 레티 클 패턴 을 노출 시키 는 데 사용 될 수 있 다 . 완성 된 레티 클 또는 포토 마스크 는 전형 적 으로 적어도 투명 및 불 투명 영역 , 및 때로 는 반투명 및 위상 시프 팅 영역 을 가지 며 , 이 들 은 함께 집 적 회로 와 같 은 전자 디바이스 에서 공면 ( coplanar ) 피처 의 패턴 을 정의 한다 . 레티 클 은 포토 리소그래피 동안 에칭 , 이온 주입 또는 다른 제조 공정 을 위한 반도체 웨이퍼 의 특정 영역 을 정의 하 기 위하 여 사용 된다 .