XUV 방사선 용 방사선 소스 는 방전 플 라즈 마 방사선 소스 일 수 있 으며 , 상기 소스 에서 애노드 와 캐소드 사이 의 물질 ( 예 를 들 어 , 가스 또는 증기 ) 내 의 방전 에 의해 플 라즈 마가 생성 되 고 또 한 플 라즈 마 를 통해 흐르 는 ( 펄스 화 된 ) 전류 에 의한 옴 가열 ( Ohmic heating ) 에 의해 고온 의 방전 플 라즈 마가 생성 될 수 있 다 . 상기 플 라즈 마 를 통해 흐르 는 전류 에 의해 생성 된 자기장 으로 인한 플 라즈 마의 압축 은 방전 축 ( discharge axis ) 상 에 고온 , 고밀 도 플 라즈 마 를 생성 하 는 데 사용 될 수 있 다 [ 핀치 효과 ( pinch effect ) ] . 저장 된 전기 에너지 는 바로 플 라즈 마 온도 로 , 또한 이 에 따라 단파장 방사선 으로 전이 된다 . 핀치 는 방전 축 상 에 상당히 더 높 은 온도 및 밀도 를 갖 는 플 라즈 마 를 허용 할 수 있 음 에 따라 , 저장 된 전기 에너지 를 매우 높 은 변환 효율 성 ( conversion efficiency ) 으로 열 적 플 라즈 마 에너지 로 또한 이 에 따라 XUV 방사선 으로 변환 시킬 수 있 다 . 플 라즈 마 포커스 , Z - 핀치 , 중공 - 캐소드 ( hollow - cathode ) 및 모세관 방전 소스 ( capillary discharge source ) 와 같 은 플 라즈 마 방전 디바이스 들 의 구성 및 작동 은 다양 할 수 있 지만 , 이러 한 타입 들 중 거의 모두 에서 , 방전 전류 에 의해 생성 된 자기장 은 압축 을 유도 ( drive ) 한다 .