하나 의 구 현예 에서 , 단계 ( a ) 및 ( b ) 후 에 얻 은 원료 생성물 을 일반 적 인 고체 - 액체 분리 기술 을 사용 함 으로써 반응 혼합물 로부터 분리 한 후 , 고체 원료 생성물 을 사용 된 불활성 용매 시스템 으로 세척 하 고 이어서 희석 된 염산 수용액 으로 세척 한다 . 염산 의 농도 는 약 0 . 05 M 내지 약 2 . 0 M , 바람직 하 게 는 약 0 . 1 M 내지 약 1 . 0 M , 보다 바람직 하 게 는 약 0 . 1 M 내지 약 0 . 4 M 의 범위 이 다 . 세 척 후 에 , 공정 에서 생성 된 디메틸아민 하이드로 브로마이드 또는 하이드로 클로라이드 는 원 하 는 생성물 로부터 제거 된다 .