본 제 2 실시 형태 의 노광 장치 ( 500 ) 에서 는 , 전술 한 웨이퍼 테이블 ( WTB ') 상 의 이동 스케일 의 배치 및 전술 한 헤드 의 배치 를 채용 하 였 기 때문 에 , 도 33 등 에 예시 된 바 와 같이 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 유효 스트로크 범위 ( 즉 , 얼라이먼트 및 노광 동작 을 위해서 이동하 는 범위 ) 에서 는 , 반드시 이동 스케일 ( 39 A , 39 B ) 과 헤드 ( 165 , 164 ) ( 헤드 유닛 ( 62 A ', 62 B ')) 또는 헤드 ( 168 , 167 ) ( 헤드 유닛 ( 62 D ', 62 C ')) 가 각각 대향 하 도록 되 어 있 다 . 또한 도 33 중 에서 는 , 대응 하 는 이동 스케일 에 대향 한 헤드 로서 위치 계측 에 사용 되 고 있 는 헤드 가 실선 의 원 으로 둘러싸여 도시 되 어 있 다 .