실시 예 에 따른 수지 부재 ( 450 ) 는 출사 면 ( 440 ) 을 포함 한다 . 상기 출사 면 ( 440 ) 은 수지 부재 ( 450 ) 의 상면 으로서 , 적어도 일부 영역 에 광 추출 구조 ( 또는 광학 패턴 또는 요철 패턴 ) 을 포함 할 수 있 다 . 상기 광 추출 구조 는 요철 패턴 을 포함 할 수 있 으며 , 입사 되 는 광 을 반사 또는 투과 시키 거나 임계각 을 변화 시켜 줄 수 있 다 . 상기 광 추출 구조 는 수지 부재 ( 450 ) 의 출사 면 ( 440 ) 에 일체 로 형성 될 수 있 다 . 상기 수지 부재 ( 450 ) 와 상기 광 추출 구조 는 동일 한 재질 로 형성 될 수 있 다 . 상기 광 추출 구조 는 일정 한 간격 또는 불 규칙 한 간격 의 패턴 을 가질 수 있 다 . 상기 출사 면 ( 440 ) 은 상기 발광 소자 ( 100 ) 로부터 멀 어 질수록 상기 기판 ( 401 ) 에 점차 인접 할 수 있 다 . 상기 출사 면 ( 440 ) 은 상기 반사 부재 ( 410 ) 에 의해 반사 된 광 이나 상기 발광 소자 ( 100 ) 로부터 방출 된 광 을 상 방향 으로 추출 시켜 줄 수 있 다 . 상기 출사 면 ( 440 ) 은 상기 발광 소자 ( 100 ) 로부터 멀 어 질수록 기판 ( 401 ) 에 인접 하 게 배치 됨 으로써 , 출사 영역 ( 101 ) 에 따라 출사 되 는 광량 의 차이 를 줄여줄 수 있 다 . 이 에 따라 출사 면 ( 440 ) 을 통해 추출 된 광 의 균일 도 는 개선 될 수 있 다 .