노광 에 의해 산 을 발생 하 고 , 또한 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 레지스 트 조성물 로서 , 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 기재 성분 ( A ) 를 함유 하 고 , 상기 기재 성분 ( A ) 는 , 하 기 일반식 ( a 0 - 1 ) 로 나타내 는 구성 단위 ( a 01 ) 과 , 하 기 일반식 ( a 0 - 2 ) 로 나타내 는 구성 단위 ( a 02 ) 와 , 하 기 일반식 ( a 0 - 3 ) 으로 나타내 고 , 또한 구성 단위 ( a 02 ) 와 는 상이 한 구조 를 갖 는 구성 단위 ( a 03 ) 을 갖 는 고분자 화합물 ( A 1 ) 을 함유 하 는 것 을 특징 으로 하 는 레지스 트 조성물 .