최근 , LSI 의 고집 적 화 에 수반 하 여 , 반도체 디바이스 의 회로 선 폭 은 더 미세 화 되 고 있 다 . 이러 한 반도체 디바이스 에 회로 패턴 을 형성 하 기 위한 노광용 마스크 ( 레티 클 이 라고 도 함 ) 를 형성 하 는 방법 으로서 , 우수 한 해상 성 을 가지 는 전자 빔 ( EB ： Electron 　 beam ) 묘화 기술 이 이용 된다 .