게이트 라인 ( GL ) 은 라인 컷 영역 ( CT ) 에 의해 분리 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 제 1 활성 영역 ( RX 1 ) 과 교차 하 는 게이트 라인 ( GL ) 이 제 2 활성 영역 ( RX 2 ) 과 교차 하 는 게이트 라인 ( GL ) 과 라인 컷 영역 ( CT ) 을 사이 에 두 고 일직선 상 에 배치 될 수 있 다 . 이러 한 구조 는 제 1 활성 영역 ( RX 1 ) 및 제 2 활성 영역 ( RX 2 ) 모두 와 교차 하 는 게이트 라인 ( GL ) 을 우선 형성 한 후 , 라인 컷 영역 ( CT ) 만 을 노출 하 는 하드 마스크 패턴 ( 230 ) ( 도 12 참조 ) 을 형성 하 고 , 하드 마스크 패턴 ( 230 ) 을 식각 마스크 로 사용 하 여 라인 컷 영역 ( CT ) 과 오버랩 되 도록 배치 되 는 게이트 라인 ( GL ) 을 제거 함 에 의해 얻 어 질 수 있 다 . 도 4 에서 는 5 개 의 게이트 라인 ( GL ) 이 모두 라인 컷 영역 ( CT ) 과 오버랩 되 도록 배치 되 었 지만 , 이 와 는 달리 적어도 하나 의 게이트 라인 ( GL ) 이 라인 컷 영역 ( CT ) 과 오버랩 되 지 않 고 상기 적어도 하나 의 게이트 라인 ( GL ) 이 제 1 활성 영역 ( RX 1 ) 및 제 2 활성 영역 ( RX 2 ) 모두 와 교차 하 도록 제 2 방향 ( Y 방향 ) 을 따라 연장 될 수 도 있 다 .