이 도포 · 현상 장치 ( 2 ) 에 의하 면 , 가 열부 ( 20 ) 에 의한 가열 의 초기 단계 에 있 어서 는 기류 가 작 게 억제 된다 . 이 때문 에 , 가열 의 초기 단계 에 있 어서 는 , 기류 에 기인 하 는 피막 의 막 두께 의 혼란 을 억제 하 면서 , 가열 에 의한 피막 의 경화 를 진행 시킬 수 있 다 . 한편 , 피막 의 경화 의 진행 에 의해 피막 으로부터 의 승화 물 이 쌓이 기 때문 에 , 그 배출 이 필요 해진다 . 이 에 대하 여 , 가열 시간 의 경과 에 따라 외주 배기 부 ( 40 ) 에 의한 가스 의 배출 량 이 늘어나 기 때문 에 , 쌓인 승화 물 을 확실히 배출 할 수 있 다 . 이때 , 가열 의 초기 단계 에 있 어서 의 피막 의 경화 의 진행 에 의해 막 두께 는 기류 의 영향 을 받 기 어렵 게 되 어 있 기 때문 에 , 배출 량 의 증대 에 기인 하 는 막 두께 의 불 균일 은 억제 된다 . 따라서 , 이 도포 · 현상 장치 ( 2 ) 는 , 피막 의 막 두께 균일성 과 , 승화 물 의 회수 의 확실 성 의 양립 에 유효 하 다 .