이어서 , 도 2 b 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 제 2 평탄 화 층 ( 206 ) 에 대한 플 라즈 마 표면 처리 를 수행 함 으로써 표면 처리 된 제 2 평탄 화 층 ( 206 ') 을 형성 한다 . 본 발명 의 바람직 한 실시 예 에 따르 면 , 상기 플 라즈 마 표면 처리 는 CDE ( Chemical Downstream Etch ) 라는 기법 을 이용 하 는 것 이 바람직 하 다 .