한편 , 종래 BPSG , O 3 - TEOS USG , HDP 방법 으로 형성 된 산화 막 으로 소자 분리 막 이 형성 된 웨이퍼 에 대한 세정 ( Cleaning ) 공정 은 탈 이온 수 ( Deionized water ) 에 묽 은 불 산 ( HF ) 화학 용액 을 첨가 한 용액 이 담겨 있 는 세정 배스 내 에 웨이퍼 를 딥 핑 ( Dipping ) 하 여 세정 하 고 , 습식 세정 배스 로 웨이퍼 를 이동 시켜 탈 이온 수 에 의한 린스 를 거친 후 , 다시 건 조스 배스 로 이동 시켜 웨이퍼 의 세정 하 는 방법 으로 진행 된 다 .