상술 한 바 와 같이 본 발명 의 반도체 공정 용 기화기 에 따르 면 , 캐리어 가 액체 원료 와 마주 보 는 방향 을 따라 기화 챔버 보다 더 높 은 온도 로 분사 되 고 , 상기 분사 방향 의 차이 에 의하 여 와류 유동 이 형성 되 며 , 이러 한 와류 유동 에 의하 여 캐리어 로부터 액체 원료 로 열전달 효과 를 얻 을 수 있 고 , 액체 원료 의 고착화 에 의한 기화 챔버 의 오염 을 방지 하 며 , 기화 효율 성 을 떨어뜨리 지 않 으면서 기화 챔버 및 히터 의 발열량 을 일정 수준 만큼 감소 시킬 수 있 다 .