또한 , 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 검 출광 ( Ls ) 은 제 1 마스크 ( M 1 ) 에 먼저 조사 되 어 제 1 마스크 ( M 1 ) , 제 1 광학계 ( 31 ) , 제 2 광학계 ( 32 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 를 통하 여 수광 장치 ( 82 ) 로 검 출광 ( Ls ) 을 수 광 하 고 있 으나 , 검출 시스템 ( 80 ) 은 , 검 출광 ( Ls ) 을 제 2 마스크 ( M 2 ) 에 먼저 조사 하 여도 된다 . 제 1 광학계 ( 31 ) 와 제 2 광학계 ( 32 ) 와 는 거의 같 은 구성 이 며 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 에 조사 된 검 출광 ( Ls ) 은 , 제 2 광학계 ( 32 ) 및 제 1 광학계 ( 31 ) 를 통하 여 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 에 조사 된다 . 검출 시스템 ( 80 ) 은 , 그 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 으로부터 의 검 출광 ( Ls ) 을 수광 장치 ( 82 ) 를 사용 하 여 수 광 함 으로써 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 를 취득 할 수 있 다 .