수지 ( A ) , 산 발생 제 ( B ) , 염기 성 화합물 ( C ) 및 용매 ( D ) 의 분 율 은 본 발명 의 레지스 트 조성물 의 제 조시 사용 되 는 각 성분 에 따라서 조정 가능 하 고 , 본 발명 의 레지스 트 조성물 을 제조 한 후 예 를 들 면 액체 크로마토그래피 및 가스 크로마토그래피 와 같 은 공지 된 분석 방법 으로 측정 할 수 있 다 .