구체 적 으로 상술 한 노광 방법 으로 형성 된 포토레지스트 패턴 은 상기 노광 공정 의 조건 및 외부 변수 들 에 의해 결함 이 존재 할 수 있 기 때문 에 형성 된 포토레지스트 패턴 의 균일 한 두께 와 , 균일 한 프로파일 , 균일 한 폭 에 결함 이 있 는지 여부 를 판단 한다 . 즉 , 상기 조건 들 이 만족 되 지 않 을 경우 결함 이 발생 된 포토레지스트 패턴 으로 형성 될 수 있 는 것 이 다 .