제 1 포토레지스트 패턴 ( 160 ) 은 채널 형성 영역 ( CR ) 이 다른 영역 에 비하 여 상대 적 으로 얇 은 두께 를 갖 도록 형성 된다 . 예 를 들 어 , 제 1 포토레지스트 패턴 ( 160 ) 의 채널 형성 영역 ( CR ) 은 약 5000 Å 내지 8000 Å 의 두께 로 형성 된다 . 상기 포토레지스트 조성물 은 채널 형성 영역 ( CR ) 의 경사각 을 증가 시켜 공정 신뢰도 를 높일 수 있 다 .