본 발명 의 등온 제어 냉각 공정 추가 에 의한 조직 개선 현상 을 상세히 설명 하 면 다음 과 같 다 . 종래 와 같 은 공정 으로 노멀 라이징 ( Normalizing ) 또는 ISO 어닐링 ( Annealing ) 처리 를 하 는 경우 , 즉 940 ℃ 에서 700 ℃ 로 바로 냉각 시키 는 경우 , 입계 를 중심 으로 초석 페라이트 가 생성 되 어 조직 변태 의 방해물 로 작용 할 뿐 아니 라 국부 적 응력 집중 영역 으로 작용 하 는 단점 이 있 다 .