본 발명 의 일 양태 에 따른 상기 TEM 용 시편 제조 방법 은 분석 포인트 를 형성 하 는 단계 와 , 상기 분석 포인트 가 중앙 에 위치 하 도록 소정 의 크기 로 커팅 하 여 제 1 시편 을 형성 하 는 단계 와 , 상기 제 1 시편 의 일면 을 그라인딩 하 여 소정 의 크기 를 갖 는 제 2 시편 을 형성 하 는 단계 와 , 상기 제 2 시편 의 분석 포인트 의 영역 상 에 보호막 을 증 착하 여 제 3 시편 을 형성 하 는 단계 및 상기 제 3 시편 의 소정 의 면 을 FIB 의 전압 을 조절 하 여 순차 적 으로 밀링 하 는 단계 를 포함 한다 .