도 2 에 도시 된 바 와 같이 , 수소 화 규소 ( Si : H ) 는 각각 2 . 28 및 2 . 12 의 오산 화 니오븀 ( Nb 2 O 5 ) 및 / 또는 오산 화탄 탈륨 ( Ta 2 O 5 ) 의 굴절률 에 비해 상대 적 으로 높 은 3 . 65 의 굴절률 과 관련 되 어 있 다 . 층 의 세트 의 저 굴절 률 물질 에 대한 고 굴절 률 물질 의 비율 은 광학 필터 용 편광 빔 분할 을 일으키 기 위해 사용 되 는 층 의 양 에 대응 한다 . 예 를 들 어 , 비교 적 높 은 굴절률 과 관련 된 수소 화 규소 에 기초 하 여 , 1 . 47 의 굴절 률 을 갖 는 저 굴절 률 물질 로서 이산화규소 와 고 굴절 률 물질 로서 수소 화 규소 의 사용 은 , 고 굴절 률 물질 로서 오산 화탄 탈륨 또는 오산 화 니오븀 과 같 은 다른 물질 을 사용 하 는 것 에 비해 비교 적 높 은 굴절 률 비 를 가져온다 . 이 경우 , 수소 화 규소 와 이산화규소 의 교번 하 는 층 을 이용 한 광학 필터 는 고 굴절 률 물질 로서 오산 화탄 탈륨 또는 오산 화 니오븀 을 사용 하 는 것 에 비해 감소 된 층 의 양 으로 편광 빔 분할 을 수행 할 수 있 어 , 비용 및 / 또는 광학 필터 의 크기 를 줄일 수 있 고 , 광학 필터 의 내구 성 및 / 또는 광학 필터 의 광학 적 특성 세트 를 향상 시킬 수 있 다 .