본 발명 의 구체 예 는 열 적 산화 공정 에 의해서 금속 표면 상 에 형성 된 이트륨 옥사이드 - 함유 코팅 을 지니 는 특수 한 이트륨 금속 및 이트륨 금속 합금 기판 에 관한 것 이 다 . 그러 한 재료 는 반도체 및 MEMS 장치 의 생산 에서 직면 하 는 유형 의 처리 환경 에서 사용 될 수 있 다 . 한 가지 관점 에서 , 열 적 산화 에 의해서 생성 된 금속 이트륨 및 이트륨 옥사이드 는 기재 기판 금속 과 비교 할 때 유사 한 열 팽창 계수 를 지니 며 , 이 는 코팅 과 하부 기판 사이 의 개선 된 계면 을 제공 한다 . 그 결과 , 금속 이트륨 과 이트륨 옥사이드 코팅 사이 에 더 적 은 응력 이 발생 되 고 , 부품 의 성능 수명 이 증가 된다 . 한 가지 관점 에서 , 열 적 산화 에 의해서 생성 된 금속 이트륨 과 이트륨 옥사이드 는 또한 유사 한 열 전도도 를 나타내 며 , 이 는 반도체 및 MEMS 처리 작업 동안 전체 부품 의 온도 균일성 을 개선 시킨다 .