플 루오 라이드 이온 을 치아 에나멜 에 도포 하 면 치아 가 부식 되 는 것 을 방지 한다 . 다양 한 플 루오 라이드 이온 - 생성 물질 을 본 전기 화학 적 조성물 의 가용성 플 루오 라이드 의 공급원 으로서 사용 할 수 있 다 . 적합 한 플 루오 라이드 이온 - 생성 물질 의 예 는 1970 년 10 월 20 일자 로 허여 된 브리너 ( Briner ) 등 의 미국 특허 제 3 , 535 , 421 호 ; 및 1972 년 7 월 18 일자 로 허여 된 위더 ( Widder ) 의 미국 특허 제 3 , 678 , 154 호 에서 볼 수 있 으며 , 이 두 특허 는 본원 에 참고 로 인용 된다 . 본원 에 사용 하 기 바람직 한 플 루오 라이드 이온 공급원 은 플루오르화 주석 , 모노 플 루 오 로 포스 페이트 , 플루오르화 나트륨 , 플루오르화 칼륨 및 플루오르화 암모늄 을 포함 한다 . 플루오르화 나트륨 이 특히 바람직 하 다 . 바람직 하 게 는 , 본 전기 화학 적 조성물 은 구강 에 사용 되 는 물질 스트립 과 함께 사용 될 때 치아 표면 과 접촉 하 는 수용액 에 약 50 ppm 내지 10 , 000 ppm , 보다 바람직 하 게 는 약 100 내지 3000 ppm 의 플 루오 라이드 이온 을 제공 한다 . 다른 항 카리에스 활성 성분 은 자일리톨 을 포함 한다 .