따라서 , 도 18 내지 21 d 는 제 1 표면 과 제 2 표면 사이 ( 예 를 들 어 , 금속 성 특징 부 ( 2506 ) 와 저 유전율 유전체 ( 2508 ) 사이 ) 의 인터페이스 에 대해 ( 예 를 들 어 , 유전체 제 2 표면 상 에 ) 선택 적 으로 증착 된 유전체 ( 2502 ) 의 위치 를 조정 하 기 위해 조정 될 수 있 는 변수 들 을 도시 한다 . 특히 , 도 18 은 패 시베이 션 층 에치 백 의 범위 또는 시간 이 상대 적 인 위치 에 어떻 게 영향 을 미치 는지 를 도시 하고 ; 도 19 는 선택 적 으로 증착 된 패 시베이 션 층 이 상대 적 인 위치 에 어떻 게 영향 을 미치 는지 를 도시 하고 ; 도 20 은 선택 적 으로 증착 된 유전체 층 의 두께 가 상대 적 인 위치 에 어떻 게 영향 을 미치 는지 를 도시 하 며 ; 도 21 a 내지 21 d 는 제 1 및 제 2 표면 의 토포 그래피 가 상대 적 인 위치 에 어떻 게 영향 을 미치 는지 를 도시 한다 . 따라서 , 이 들 변수 는 제 2 표면 상 에 선택 적 으로 증착 된 유전체 가 제 1 표면 과 정렬 되 거나 , 제 1 표면 에 대해 갭 을 갖 거나 , 제 1 표면 과 중첩 하 는지 여부 에 영향 을 미치 도록 조정 될 수 있 다 .