상술 한 것 과 같이 , 기판 의 부식 을 방지 하 기 위해서 , 불활성 가스 중 의 성막 조건 , 예컨대 300 ℃ 이상 에서 도 승화 물 이 발생 하 는 일 없이 , 기판 상 에 형성 된 패턴 의 매립 이나 평탄 화 특성 이 우수 할 뿐 만 아니 라 , 기판 가공 시 의 드라이 에칭 내성 도 양호 한 유기 막 을 형성 할 수 있 고 , 상기 유기 막 상 에 CVD 하드 마스크 를 형성 하 는 경우 에 도 열분해 에 의한 유기 막 의 막 두께 변동 이 없 는 유기 막 형성 재료 , 상기 재료 를 이용 한 패턴 형성 방법 에 유용 한 화합물 의 개발 이 요구 되 고 있 었 다 .