한편 , 사용 하 는 원료 분체 는 , 타 겟 의 단재 ( 端 材 ) 나 사용 이 끝 난 타 겟 등 의 고순 도 산화 인듐 함유 스크랩 으로부터 회수 하 여 제작 한 것 이 더라도 좋 다 . 특히 , ITO 타 겟 으로부터 회수 한 것 은 , 불순물 로서 Sn ( 주석 ) 을 적절히 포함 하 고 있 어 바람직 하 다 . 산화 인듐 의 회수 는 일본 특허 공개 2002 - 069544 호 에 기재 된 방법 등 , 공지 된 방법 을 이용 할 수 있 다 .