도 1 은 , 열처리 장치 의 일례 에서 의 구성 의 개략 을 나타내 는 설명 용 단면도 이 다 . 이 열처리 장치 에 있 어서 는 , 높이 방향 ( 도 1 에서 상하 방향 ) 으로 신장 하 도록 배치 된 , 상단 이 개방 되 어 있 는 직관 형 의 내관 ( 11 A ) 과 , 이 내관 ( 11 A ) 의 주위 에 통형 공간 ( 11 C ) 이 형성 되 도록 미리 정해진 간격 을 두 고 동심 형 으로 배치 된 , 상단 이 폐색 되 어 있 는 외관 ( 11 B ) 으로 이루어진 이중관 구조 를 갖 는 반응 용기 ( 프로세스 튜브 ) ( 11 ) 를 구비 하 고 있 고 , 반응 용기 ( 11 ) 의 하측 공간 은 , 후술 하 는 피 처리 체 유지 구 로서 의 웨이퍼 보 우트 ( 80 ) 에 대하 여 , 피 처리 체인 웨이퍼 ( W ) 의 이재 등 이 행해 지 는 로딩 영역 으로 되 어 있 다 . 그리고 , 내관 ( 11 A ) 및 외관 ( 11 B ) 은 모두 , 내열 성 및 내 식성 이 우수 한 재료 , 예컨대 고 순도 의 석영 유리 에 의해 형성 되 어 있 다 .