성막 장치 는 , 챔버 로서 의 진공 챔버 ( 200 ) 를 가진다 . 진공 챔버 ( 200 ) 의 내부 는 , 진공 분위기 나 질소 가스 등 의 불활성 가스 분위기 로 유지 되 고 있 다 . 한편 , " 여기 서 말 하 는 "" 진공 분위기 "" 란 ", 통상 의 대기압 ( 전형 적 으로 는 1 기압 ) 보다 낮 은 압력 의 기체 로 채워진 분위기 를 가리킨다 . 진공 챔버 ( 200 ) 의 내부 에 는 , 개략 적 으로 , 기판 보유 지지 유닛 ( 210 ) 과 , 마스크 ( 220 ) 와 , 마스크 홀더 로서 의 마스크 대 ( 221 ) 와 , 백 플레이트 로서 의 냉 각판 ( 230 ) 과 , 성막 원 으로서 의 증발원 ( 240 ) 이 설치 된다 . 기판 보유 지지 유닛 ( 210 ) 은 , 반송 로봇 ( 119 ) 으로부터 수취 한 기판 ( 10 ) 을 보유 지지 하 면서 , 챔버 내 에서 이동 시키 는 기능 을 갖 고 있 고 , 기판 홀더 라고 도 불린다 . 이 기판 보유 지지 유닛 ( 210 ) 은 , 마스크 ( 220 ) 에 대해 상대 이동 가능 하 게 기판 ( 10 ) 을 지지 하 도록 구성 되 어 있 다 . 이 에 의해 , 진공 챔버 ( 200 ) 내 에서 마스크 ( 220 ) 와 기판 ( 10 ) 의 위치 맞춤 을 행하 는 것 이 가능 해진다 .