본 실시 예 에 따른 마이크로웨이브 를 이용한 나노 분말 제조 장치 는 도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 마이크로웨이브 를 발진 하 는 마그네트론 ( 20 ) , 마그네트론 에 전원 을 공급 하 는 전원 공급 장치 ( 10 ) , 상기 마그네트론 에서 발진 된 로웨 이브 를 전달 하 는 도파관 ( 60 ) , 전달 된 마이크로웨이브 를 이용 해 플 라즈 마 를 발생 시키 는 반응기 ( 100 ) 를 포함 할 수 있 다 . 상기 반응기 ( 100 ) 는 전달 받 은 마이크로웨이브 로서 금속 화합물 전구체 가 가열 되 어 기화 되 는 기화 영역 및 기화 된 금속 화합물 전구체 를 플 라즈 마 반응 시켜 금속분 말 을 석출 하 는 플 라즈 마 반응 영역 이 형성 될 수 있 다 .