본 발명 에 따른 접근 방법 은 , 예 를 들 어 시야 조리개 또는 슬릿 과 같 은 공간 선택 장치 와 는 반대 로 , 입사 빔 의 발산 을 감소 시키 기 위하 여 각도 선택 장치 를 이용 하 는 것 을 기초 로 한다 . 본 발명 에 따른 방법 은 물리 적 으로 날카로운 에지 가 높 은 에너지 밀도 에서 노출 되 지 않 는다는 이점 을 갖 는다 . 따라서 , 고출력 레이저 빔 을 견딜 수 있 는 광학 소자 에 대한 필요 성 이 상당히 감소 한다 .