상기 에 있 어서 , CrN 과 인접 한 하부 층 은 CrSiN 층 과 AlTiSiN 층 의 각각 의 두께 를 100 nm 이하 로 형성 하 면서 1 내지 3 μ m 를 형성 하 고 , 그 위 에 CrSiN 층 과 AlTiSiN 층 의 각각 의 두께 를 50 nm 이하 로 형성 하 면서 1 내지 2 μ m 를 형성 하 는 것 을 특징 으로 하 는 나노 복합 코팅 재의 제조 방법 을 제공 한다 .