주 노광 장치 ( EX 1 ) 는 , 패턴 이 형성 된 마스크 ( M ) 를 지지 하 는 마스크 스테이지 ( MST ) 와 , 감광 기판 ( P ) 을 지지 하 는 기판 스테이지 ( PST ) 와 , 마스크 스테이지 ( MST ) 에 지지 된 마스크 ( M ) 를 노 광광 ( EL ) 으로 조명 하 는 조명계 ( IL ) 와 , 노 광광 ( EL ) 으로 조명 된 마스크 ( M ) 의 패턴 이미지 를 , 기판 스테이지 ( PST ) 에 지지 되 어 있 는 감광 기판 ( P ) 에 투영 하 는 투영 광학계 ( PL ) 와 , 투영 광학계 ( PL ) 를 정반 ( 1 ) 을 통하 여 지지 하 는 칼럼 ( 100 ) 을 구비 하 고 있 다 . 칼럼 ( 100 ) 은 , 상부 플레이트 부 ( 100 A ) 와 , 상부 플레이트 부 ( 100 A ) 의 4 구 석 각각 으로부터 하방 으로 연장 되 는 다리 부 ( 100 B ) 를 갖 고 있 으며 , 바닥 면 에 수평 으로 탑재 된 베이스 플레이트 ( 110 ) 상 에 설치 되 어 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 , 투영 광학계 ( PL ) 는 복수 ( 본 실시 형태 에서 는 7 개 ) 배열 된 투영 광학 모듈 ( PLa ∼ PLg ) 을 갖 고 있 으며 , 조명계 ( IL ) 도 투영 광학 모듈 의 수 및 배치 에 대응 하 여 복수 ( 7 개 ) 의 조명 광학 모듈 을 갖 고 있 다 . 감광 기판 ( P ) 은 , 유리 기판 에 감광제 ( 포토레지스트 ) 를 도포 한 것 인데 , 그 감광층 에 보호막 또는 반사 방지 막 등 의 막 이 형성 되 어 있 어도 된다 .