일반 적 으로 펠리 클 은 포토 마스크 표면 을 대기 중 분자 나 다른 형태 의 오염 으로부터 보호 해 주 는 장치 이 다 . 즉 포토 마스크 패턴 에 파티클 ( particle ) 이 있 을 경우 이 파티클 이 웨이퍼 에 포 커싱 되 지만 , 펠리 클 이 포토 마스크 에 장착 되 게 되 면 , 펠 리 클 표면 에 파티클 이 부착 되 더라도 웨이퍼 표면 에 패턴 으로 포 커싱 되 지 않 는다 . 이 를 위해 펠리 클 은 대략 1 ㎛ 내외 의 투명 한 막 으로 이루어진다 .