LTO 플 라즈 마 공정 은 고주파 및 저 주파 RF 파워 를 사용 할 수 있 다 . 이때 , 고주파 RF 파워 는 전자 를 가속 화 함 으로써 플 라즈 마 를 타격 하 는 데 이용 하 고 , 더 많 은 이온 을 더 긴 시간 동안 이동 하 도록 유지 할 수 있 는 저주파 RF 파워 는 형성 하 고자 하 는 층 의 고 밀도 화 에 이용 하 는 것 이 바람직 하 다 . 특히 , 상기 RF 파워 는 100 내지 400 watt 인 것 이 바람직 하 다 . 상기 RF 파워 가 400 watt 이하 인 경우 에 는 단위 면적 당 웨이퍼 가 받 는 스트레스 가 적 다는 장점 이 있 고 , 400 watt 이상 인 경우 에 는 반대 로 휨 문제 가 발생 할 확률 이 높 다 .