본 실시 형태 에서 는 2 개 의 용탕 노즐 ( 11 A , 11 B ) 을 구성 하 는 구멍 의 최소 내경 으로서 종전 ( 예 를 들 어 , 5 ㎜ 정도 ) 보다 도 작 은 값 ( 예 를 들 어 , 1 내지 2 ㎜) 을 선택 하 고 있 기 때문 에 , 예 를 들 어 제 1 가스 분사 노즐 ( 71 A , 71 B ) 로부터 종전 과 동일 한 압력 으로 가스 를 분사 해도 종전 보다 도 직경 이 미세 한 금속 입자 를 용이 하 게 얻 을 수 있 다 . 또한 , 종전 과 동일 한 압력 으로 가스 를 분사 한 경우 에 는 분 무조 ( 4 ) 내 에서 의 금속 입자 의 비거리 도 억제 되 므로 , 금속 입자 의 변형 방지 의 관점 에서 직경 이 큰 분 무조 ( 4 ) 로 치환 할 필요 나 분 무조 ( 4 ) 의 설치 스페이스 를 확대 할 필요 도 없 다 . 한편 , 종전 보다 도 최소 내경 을 축소 하 고 있 기 때문 에 , 용탕 노즐 ( 11 A , 11 B ) 마다 보 면 시간 당 의 용탕 류 ( 8 ) 의 유량 이 종전 보다 저하 되 어 수율 이 저하 되 지만 , 본 실시 형태 에서 는 1 개 의 분무 조 ( 4 ) 에 대하 여 2 개 의 용탕 노즐 ( 11 A , 11 B ) ( 즉 , 2 개 의 분무 노즐 ( 20 A , 20 B ) ) 을 갖 기 때문 에 , 시간 당 의 수율 을 2 배 로 할 수 있 다 .