본 에칭 장치 에서 는 , 웨트 에칭 되 는 웨이퍼 가 , 간극 을 갖 는 웨이퍼 지지 구 에 지지 되 어 있 다 . 그리고 , 세정 유닛 은 , 웨이퍼 지 지구 에 지지 된 웨이퍼 를 세 정수 에 의해 세정 할 때 , 웨이퍼 의 상면 으로부터 흘러넘쳐 웨이퍼 지 지구 의 간극 으로부터 흘러 떨어지 는 세 정수 를 회수 하 도록 구성 되 어 있 다 . 따라서 , 본 에칭 장치 에서 는 , 웨이퍼 지 지구 의 하방 에 회수 용기 를 배치 해 둠 으로써 , 세 정수 를 웨이퍼 의 주위 에 비산 시키 는 것 을 억제 하 면서 , 양호 하 게 회수 할 수 있 다 .