도 26 을 참조 하 면 , 제 2 마스크 ( 404 ) 를 식각 마스크 로 사용 하 는 식각 공정 을 통해 , 희생 막 ( 180 ) 상부 및 제 1 절 연막 ( 170 ) 상부 를 제거 한다 . 이 에 따라 , 제 1 영역 ( A ) 상 의 희생 막 ( 180 ) 상부 및 제 1 절 연막 ( 170 ) 상부 가 제거 되 어 각각 제 1 희생 막 패턴 ( 182 ) 및 제 1 절 연막 패턴 ( 172 ) 을 형성 하 며 , 제 1 내지 제 3 게이트 마스크 들 ( 152 , 154 , 156 ) 도 함께 제거 된다 . 이 에 따라 제 1 내지 제 3 예비 컨트롤 게이트 들 ( 142 , 144 , 146 ) 의 상부 가 노출 된다 .