이온 교환 된 유리 물품 은 연마 되 어 이 의 표면 으로부터 7 ㎛ 를 제거 한다 . 연마 된 이온 교환 된 유리 물품 은 그 다음 , 원 하 는 표면 압축 응력 ( CS ) 및 압축 의 깊이 ( DOC ) 를 복구 하 기 위해 9 wt % 의 NaNO 3 및 91 wt % 의 KNO 3 를 포함 하 는 이온 교환 욕조 에서 이온 교환 된다 . 이온 교환 된 유리 물품 및 연마 되 고 이온 교환 된 유리 물품 의 응력 프로파일 은 , 도 8 에 나타낸다 . 응력 프로파일 의 니 ( knee ) ( CSk ) 에서 압축 응력 은 , 연마 되 지 않 은 이온 교환 된 유리 물품 과 비교 하 여 연마 되 고 이온 교환 된 유리 물품 에서 약 50 MPa 만큼 감소 된다 . 도 8 에서 응력 프로파일 은 , 굴절 된 근접 - 장 ( Refracted near - field : RNF ) 방법 에 의해 측정 된다 . RNF 방법 을 활용 하 여 응력 프로 파일 을 측정 하 는 경우 , SCALP 에서 제공 된 최대 CT 값 은 RNF 방법 에 활용 된다 . 특히 , RNF 에 의해 측정 된 응력 프로파일 은 , 힘 의 균형 을 이루 고 , SCALP 측정 에 의해 제공 된 최대 CT 값 으로 보정 된다 . RNF 방법 은 , " 발명 의 명칭 "" Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample "" 인 ", 미국 특허 제 8 , 854 , 623 호 에 기재 되 어 있 으며 , 이 의 전체 적 인 내용 은 여기 에 참조 로서 병합 된다 . 특히 , RNF 방법 은 , 유리 물품 을 기준 블록 ( reference block ) 에 인접 하 게 배치 하 는 단계 , 직교 편광 사이 에서 1 Hz 내지 50 Hz 의 속도 로 스위칭 되 는 편광 - 스위칭 된 광 빔 ( polarization - switched light beam ) 을 발생 시키 는 단계 , 편광 - 스위칭 된 광 빔 에서 전력량 을 측정 하 는 단계 및 편광 - 스위칭 된 기준 신호 를 발생 시키 는 단계 를 포함 하 고 , 여기 서 , 각각 의 직교 편광 에서 측정 된 전력량 은 서로 50 % 이내 이 다 . 상기 방법 은 , 유리 샘플 내 로 다른 깊이 에 대한 기준 블록 및 유리 샘플 을 통해 편광 - 스위칭 된 광 빔 을 투과 시키 는 단계 , 그 다음 투과 된 편광 - 스위칭 된 광 빔 을 릴레이 광학 시스템 ( relay optical system ) 을 사용 하 여 신호 광 검출기 로 릴레이 하 고 , 상기 신호 광 검출기 는 편광 - 스위칭 된 검출기 신호 를 발생 시키 는 , 릴레이 단계 를 더욱 포함 한다 . 상기 방법 은 또한 정규 화 된 검출기 신호 를 형성 하 기 위해 검출기 신호 를 기준 신호 로 나누 는 단계 및 상기 정규 화 된 검출기 신호 로부터 유리 샘플 의 프로파일 특징 을 결정 하 는 단계 를 포함 한다 .