상기 방법 에 의해 형성 한 탄성 층 상 의 도막 에 , 활성 에너지 선 을 조사 하 고 , 광중합 개시제 ( G ) 의 라디칼 을 발생 시켜 , 이 에 의해 에폭시 기 를 개열 , 중합 시켜서 가교 를 형성 할 수 있 다 . 사용 하 는 활성 에너지 선 으로서 는 , 자외선 이 , 저온 에서 광중합 개시제 ( G ) 의 라디칼 을 발생 시켜 , 가교 반응 을 진행 시킬 수 있 는 점 에서 , 바람직 하 다 . 저온 에서 가교 반응 을 진행 시킴 으로써 , 도막 으로부터 용제 가 급속 하 게 휘발 되 는 것 을 억제 하 고 , 도막 에 상 분리 , 주름 이 발생 하 는 것 을 억제 하 여 , 탄성 층 과 의 밀착 강도 가 높 은 표면 층 을 형성 할 수 있 다 . 탄성 층 과 의 밀착 강력 이 높 은 표면층 은 , 대전 부재 가 온습도 의 변화 가 급격 한 환경 하 에서 사용 되 어 , 온습도 의 변화 에 따라 탄성 층 의 체적 이 변동 해도 , 주름 이나 균열 의 발생 을 억제 할 수 있 다 . 게다가 , 가교 반응 의 진행 시 에 탄성 층 의 열 열화 를 억제 할 수 있 기 때문 에 , 제조 공정 에서 의 탄성 층 의 전기 적 특성 의 저하 를 억제 할 수 도 있 다 .