본 발명자 들 은 상기 목적 을 달성 하 기 위해 열심히 검토 를 실시 한 결과 , 적어도 나프탈렌 및 / 또는 알킬 나프탈렌 과 포름알데히드 를 반응 시켜 얻 어 지 는 나프탈렌 포름알데히드 계 중합체 및 유기 용매 를 포함 하 고 , 또한 이 중합체 가 특정 한 단위 를 포함 하 는 리 소그라 피용 하층 막 형성 조성물 이 광학 특성 및 에칭 내성 이 뛰어나 다층 레지스 트 프로세스 용 하층 막 으로서 유망 한 재료 인 것 을 알아내 어 본 발명 에 도달 했 다 .