성분 ( B ) 으로서 수지 를 KrF 엑 시머 레이저 광 , 전자 빔 , X 선 또는 파장 50 ㎚ 이하 의 고 에너지 빔 ( 예컨대 , EUV ) 으로 조사 하 는 포지티브 감광성 조성물 로서 사용 할 경우 에 는 , 성분 ( B ) 으로서 수지 는 바람직 하 게 는 일반식 ( I ') 의 반복 단위 와 히드록시 스티렌 구조 를 갖 는 반복 단위 를 더 함유 한다 . 히드록시 스티렌 구조 를 갖 는 반복 단위 로 는 o -, m - 또는 p - 히드록시 스티렌 및 / 또는 산분 해 성기 로 보호 된 히드록시 스티렌 을 들 수 있 다 . 산분 해 성기 로 보호 된 히드록시 스티렌 반복 단위 는 바람직 하 게 는 1 - 알 콕 시 에 톡 시 스티렌 또는 tert - 부틸 카르보닐 옥시 스티렌 이 다 . 일반식 ( I ') 으로 표시 되 는 반복 단위 및 히드록시 스티렌 구조 를 갖 는 반복 단위 이외 에 , 상기 수지 는 일반식 ( II ) 으로 표시 되 는 반복 단위 를 더 함유 해도 좋 다 .