본 개시 의 일 양태 는 , 플라스마 를 사용 해서 기판 을 처리 하 는 플라스마 처리 장치 이 며 , 감압 가능 하 게 구성 되 고 , 기판 을 수용 하 는 처리 용기 와 , 처리 용기 내 에 마련 되 어 , 기판 이 적재 되 는 적 재 대 와 , 상기 처리 용기 의 상부 측 에 , 상기 적 재 대 와 대향 하 게 마련 되 어 , 당해 처리 용기 내 에 처리 가스 를 도입 하 는 가스 도입부 와 , 상기 처리 용기 의 측벽 에서 의 상부 에 환상 으로 마련 되 고 , 상기 처리 용기 의 중심 측 에 개구 되 는 개구 가 내주 측 에 형성 된 배 기로 를 갖 고 , 상기 적 재 대 및 상기 가스 도입부 는 , 상기 처리 용기 내 에서 처리 가스 의 플라스마 를 생성 하 기 위한 고주파 전원 에 접속 되 고 , 상기 배기 로 는 , 접지 되 고 , 당해 플라스마 처리 장치 는 , 또한 상기 배기 로 의 상기 개구 를 덮 도록 마련 됨 과 함께 접지 되 는 플라스마 분포 조정 부재 를 갖 고 , 상기 플라스마 분포 조정 부재 는 , 복수 의 관통 구멍 이 형성 되 어 있 다 .