또한 , 웨이퍼 보유 대 ( 8 ) 의 상방 에 는 가공 헤드 ( 10 ) 가 배치 되 고 , 이 가공 헤드 ( 10 ) 의 선 단부 에 는 , 도 3 에 나타내 는 바 와 같이 , 가공 전극 ( 11 ) 이 웨이퍼 ( W ) 상면 과 미소 갭 을 가지 고 대 면 하 도록 설치 되 어 있 다 . 또한 , 이 가공 헤드 ( 10 ) 는 웨이퍼 보유 대 ( 8 ) 의 일 측 근방 에 설치 된 암 또는 슬라이더 등 의 가동 부재 ( 12 ) , 도시 예 에서 는 더블 암 형 가동 부재 ( 12 ) 의 선 단부 에 부착 되 고 , 이 가동 부재 ( 12 ) 의 기단 부 는 , 높이 조정 가능 한 연직 축 ( 13 ) 의 상부 에 수평 선회 가능 하 게 연결 되 어 있 다 . 따라서 , 가공 헤드 ( 10 ) 를 웨이퍼 ( W ) 의 중심 으로부터 외주 부 를 향하 여 수평 선 회시 킴 으로써 , 가공 전극 ( 11 ) 은 웨이퍼 ( W ) 의 반경 방향 외측 으로 이동 한다 .