종래 , 서로 다른 크기 의 샷 을 이용 하 는 경우 , 형성 되 는 패턴 의 에지 부분 의 도즈 량 변동 이 커서 패턴 형상 의 변동 이 커지 는 문제 가 있 었 다 . 따라서 , 본 발명 은 면적 이 일정 하 고 샷 형상 이 다른 전자 빔 을 조사 하 여 보정 을 행하 여 , 전자 빔 묘화 장치 에 있 어서 묘화 정밀도 를 향상 시키 는 것 을 목적 으로 한다 .