디바이스 ( 14 ) 는 , 하나 이상 의 메인 펄스 및 , 일부 경우 에 , 하나 이상 의 프리 - 펄스 를 제공 하 는 하나 이상 의 레이저 및 / 또는 램프 를 포함 한다 . 도 1 에 도시 된 디바이스 ( 14 ) 에 사용 하 기 위한 적절 한 레이저 는 예 를 들 면 50 kHz 이상 의 고 펄스 반복 률 , 예 를 들 면 10 kW 이상 의 상대 적 으로 고 파워 에서 동작 하 는 예 를 들 면 , DC 또는 RF 여기 로 , 예 를 들 면 , 9 . 3 ㎛ 또는 10 . 6 ㎛ 에서 방사선 을 산출 하 는 펄 싱 된 가스 - 방출 CO 2 레이저 디바이스 와 같 은 , 펄 싱 된 레이저 디바이스 를 포함 한다 . 하나 의 특정 한 실시 예 에서 , 레이저 는 다중 증폭 스테이지 를 가진 MOPA 구성 을 구비 하 고 예 를 들 면 100 kHz 동작 을 할 수 있 는 , 저 에너지 고 반복 률 을 가진 Q - 스위칭 된 마스터 오실 레이터 ( MO ) 에 의해 개시 되 는 시드 펄스 를 구비 하 는 RF - 펌핑 된 CO 2 레이저 이 다 . MO 로부터 의 , 레이저 펄스 는 증폭 되 고 , 성형 되 고 , 스티어링 되 고 및 / 또는 LPP 챔버 로 입사 하 기 전 에 초점 이 맞추 어 진다 . 연속 하 여 RF 펌핑 된 , 고속 축 방향 흐름 의 , CO 2 증폭기 가 시스템 ( 12 ) 에 사용 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 오실 레이터 와 3 개 의 증폭기 ( O - PA 1 - PA 2 - PA 3 구성 ) 를 구비 한 적절 한 CO 2 레이저 디바이스 가 본문 에 그 전체 내용 이 참조 에 의해 통합 된 , Attorney Docket 번호 2005 - 0044 - 01 , " "" LPP EUV 광원 구동 레이저 시스템 "" 이 라는 제하 에 ", 2005 년 6 월 29 일 출원 된 , 공동 계류 중 인 미국 특허 출원 번호 제 11 / 174 , 299 에 개시 된다 . 대안 으로 , 상기 레이저 는 , " 액적 이 광학 캐비 티 의 하나 의 미러 로서 기능 하 는 소위 "" 자가 - 타 겟 팅 "" 레이저 시스템 으로서 구성 될 수 있 다 . 일부 "" 자가 - 타 겟 팅 "" 배치 에서 ", 마스터 오실 레이터 는 필요 하 지 않 다 . 자 가 타 겟 팅 레이저 시스템 은 그 전체 내용 이 참조 에 의해 본문 에 통합 된 , Attorney Docket 번호 2006 - 0025 - 01 , " "" EUV 광원 용 구동 레이저 전달 시스템 "" 이 라는 제하 의 ", 2006 년 10 월 13 일 출원 된 , 공동 계류 중 인 미국 특허 출원 번호 제 11 / 580 , 414 에서 개시 되 고 주장 된다 . 대안 으로 , 하 기 에 기술 되 고 , 도 4 , 5 , 6 , 또는 9 에 도시 된 레이저 아키텍처 중 하나 가 도 1 에 도시 된 EUV 광원 ( 10 ) 에 사용 될 수 있 다 .