첫째 , 본 발명 에 의하 면 , 윙 스 페이서 ' 기술 을 적용 하 여 간섭 효과 를 개선 하 는 비휘발성 메모리 소자 의 제조 방법 에 있 어서 , 마스크 공정 을 통해 형성 된 감광막 패턴 을 식각 마스크 로 윙 스 페이서 를 형성 함 으로써 윙 스 페이서 를 형성 하 기 위한 별도 의 증착 공정 및 식각 공정 이 요구 되 지 않 아 소자 의 결함 을 최소 화 하 고 공정 TAT 를 감소 시킬 수 있 다 .