다음 으로 , 투명 전도성 층 이 형성 된 포토 마스크 를 1 . 2 × 10 - 5 Torr 진공도 하 에서 아르곤 40 sccm , 산소 26 sccm 을 주입 하 고 2 . 88 kW 의 전력 으로 준비 예 2 의 밀착력 향상 제 로 건식 증착 공정 을 진행 하 여 포토 마스크 표면 에 고르 게 투명 밀착 성 향상 층 을 형성 시켰 다 . 이때 , Si 의 타 겟 의 길이 는 1 , 000 mm 이상 으로 하 여 1 회 공정 을 진행 하 는 것 으로 투명 밀착 성 향상 층 을 평균 두께 18 nm 로 형성 시켰 다 .