액티브 매트릭스 형 액정 표시 장치 에서 는 , 스위칭 소자 로서 주로 박막 트랜지스터 가 이용 되 고 있 다 . 박막 트랜지스터 의 제작 에 있 어서 , 포토 리소그래피 에 이용 하 는 포토 마스크 의 장수 를 삭감 하 는 것 은 , 공정 의 간략 화 를 위해 중요 하 다 . 예 를 들 면 포토 마스크 가 1 장 증가 하 면 , 레지스 트 도포 , 프리 베 이크 , 노광 , 현상 , 포스트 베 이크 등 의 공정 과 , 그 전후 의 공정 에 있 어서 , 피막 의 형성 및 에칭 공정 , 또한 , 레지스 트 박리 , 세정 및 건조 공정 등 이 필요 하 게 된다 . 그 때문 에 , 제작 공정 에 사용 하 는 포토 마스크 가 1 장 증가 하 는 것 만 으로 , 공 정수 가 큰 폭 으로 증가 한다 . 따라서 , 제작 공정 에 있 어서 의 포토 마스크 를 저감 하 기 위해서 , 수많 은 기술 개발 이 이루어지 고 있 다 .