도 14 및 도 15 를 참조 하 면 , 제 13 실시 예 에 따른 조리 장치 는 기체 분사 형 의 조리 장치 일 수 있 다 . 즉 , 본 실시 예 에 따른 조리 장치 에서 고온 기체 는 조리 용기 ( 10 ) 의 미세 구멍 ( 13 ) 을 통해 수 용부 ( 11 ) 내 로 침투 하 는 것 이 아니 라 별도 의 고온 기체 분 사관 ( 30 ) 을 통해 고온 기체 가 수 용부 ( 11 ) 내 로 분사 될 수 있 다 .