특히 , 본 발명 은 복수 의 피처 들 을 갖 는 타 겟 디자인 을 이미 징하 는데 이용 되 는 리소그래피 공정 의 이미 징 성능 을 시뮬레이션 하 는 방법 에 관한 것 이 다 . 상기 방법 은 시뮬레이션 된 이미지 를 생성 하 는 함수 를 결정 하 는 단계 - 상기 함수 는 리소그래피 공정 과 연계 된 공정 변동 들 을 설명 함 -; 및 함수 를 이용 하 여 시뮬레이션 된 이미지 를 생성 하 는 단계 - 상기 시뮬레이션 된 이미지 는 리소그래피 공정 에 대한 타 겟 디자인 의 이미 징 결과 를 나타냄 - 를 포함 한다 . 주어진 일 실시 예 에서 , 상기 함수 는 다음 과 같이 정의 된다 :