이러 한 도 6 의 결과 를 이용 하 여 본 발명 의 실시 예 에서 는 , 실제 액침 리소그래피 에서 노광 될 주 된 레지스 트 층 을 형성 한 후 , 웨이퍼 의 후면 또는 후면 과 전면 상 에 소수성 레지스 트 의 표면 층 을 도입 하 여 잔류 수분 에 의한 오버레이 불량 을 억제 하 는 방법 을 제시 한다 . 이 와 같이 도입 되 는 소수성 의 표면층 은 노광 전 에 수행 되 는 웨이퍼 사전 린스 ( pre - rinse ) 과정 에서 린스 액 으로 도입 되 는 초 순수 ( UPW : Ultra Purified Water ) 가 웨이퍼 후면 에 잔류 하 는 것 을 억제 하 게 된다 . 이 에 따라 , 액침 리소그래피 장비 의 웨이퍼 척 에 웨이퍼 가 장착 될 때 , 잔류 하 는 수분 이 웨이퍼 척 상 으로 전이 되 는 것 을 억제 할 수 있 다 . 따라서 , 웨이퍼 척 상 에 수분 이 잔류 하 여 웨이퍼 의 노광 시 웨이퍼 온도 가 변화 되 고 , 이 에 따라 , 침윤 매질 의 온도 가 변동 되 어 오버레이 불량 이 발생 되 는 것 을 억제 할 수 있 다 .