본 발명 의 하드 마스크 조성물 에 사용 되 는 상기 ( d ) 산 촉매 로 는 p - 톨루엔 술폰산 모노 하이드 레이트 ( p - toluenesulfonic acid monohydrate ) 과 같 은 　 유기산 이 사용 될 수 있 고 , 또한 보관 안정 성 을 도모 한 TAG ( Thermal Acid Generater ) 계통 의 화합물 을 촉매 로 사용 할 수 도 있 다 . TAG 는 열 처리 시 산 을 방출 하 도록 되 어 있 는 산 발생 제 화합물 로서 예 를 들 어 피리 디 늄 P - 톨루엔 술포 네이트 ( Pyridinium P - toluene sulfonate ) , 2 , 4 , 4 , 6 - 테트라 브로모 시클 로 헥 사디 엔 온 , 벤조 인 토실 레이트 , 2 - 니트 로 벤질 토실 레이트 및 유기 술폰산 의 알킬 에스테르 등 을 사용 하 는 것 이 바람직 하 다 .