본 발명 에 따른 웨이퍼 세정 장치 에 따르 면 , 웨이퍼 ( 240 ) 들 을 다수 장착 하 고 동시 에 세정 을 진행 하 는 배치 ( batch ) 식 웨이퍼 세정 장치 에 있 어서 , 세정 공정 이 수행 되 는 처 리조 ( 200 ) 내 에 회전 팬 ( 211 ) 을 구비 한 지지대 ( 210 ) 를 배치 하 여 별도 의 구동 장비 없이 웨이퍼 ( 200 ) 를 회전 시켜 웨이퍼 ( 200 ) 전면 에 대한 세정 효과 의 균 일도 를 향상 시킬 수 있 다 .