분말 층 의 단부 위치 와 벽부 층 ( 4 ) 의 단부 위치 의 관계 에 대해서 설명 하 면 , 상기 기본 구성 [ 1 ] , [ 2 ] , [ 3 ] , [ 4 ] , [ 5 ] , [ 6 ] , [ 7 ] , [ 8 ] 에 있 어서 는 , 프로세스 < 3 > 에 의해서 형성 된 분말 층 중 에서 , 분말 공급 부 ( 5 ) 와 는 반대 측 단부 의 위치 가 , 프로세스 < 4 > 에 의해서 형성 된 벽부 층 ( 4 ) 중 에서 분말 공급 부 ( 5 ) 와 가장 떨어진 위치 에 있 는 단부 의 위치 근방 인 것 을 특징 으로 하 는 실시 형태 를 채용 할 수 있 다 ( 또한 , 도 1 b , 도 2 b 는 , 상기 실시 형태 를 채용 한 경우 를 도시 한다 . ) .