도 6 을 참조 하 면 , 예비 제 1 도 전막 패턴 ( 106 a ) 으로부터 연마 저지 막 패턴 ( 108 a ) 을 제거 하 여 예비 제 1 도 전막 패턴 ( 106 a ) 을 노출 시킨다 . 평탄 화 공정 이 수행 될 때 연마 저지 막 패턴 ( 108 a ) 이 예비 제 1 도 전막 패턴 ( 106 a ) 을 보호 하 기 때문 에 평탄 화 공정 에 의해서 예비 제 1 도 전막 패턴 ( 106 a ) 이 손상 을 입 지 않 는다 . 여기 서 소자 분리 막 패턴 ( 112 a ) 의 상면 은 예비 제 1 도 전막 패턴 ( 106 a ) 의 상면 보다 실질 적 으로 높 을 수 있 다 .