타 겟 챔버 ( 60 ) 의 자기 구성 에서 , 자기장 은 이온 들 을 타 겟 챔버 내 에 한정 시킨다 . 타 겟 챔버 ( 70 ) 의 선형 구성 에서 는 , 타 겟 가스 에 의해 주입 된 이온 들 이 한정 된다 . 양성자 또는 중성자 소스 로서 사용 되 는 경우 , 타 겟 챔버 는 방사선 으로부터 디바이스 의 조작자 를 보호 하 는 차폐 를 필요 로 할 수 있 으며 , 차폐 는 적절 하 게 는 적어도 1 피트 이상 인 두께 의 콘크리트 벽 들 에 의해 제공 될 수 있 다 . 대안 적 으로 , 디바이스 는 사용 자 들 로부터 떨어진 지하 또는 벙커 에 저장 될 수 있 으며 , 물 또는 다른 유체 , 또는 그 조합 들 이 차폐물 로서 사용 될 수 있 다 .