본 발명 은 이러 한 사정 을 감안 해서 이루어진 것 으로 , 진공 분위기 에서 복수 종류 의 반응 가스 를 기판 에 공급 하 는 사이클 을 복수 회 반복 하 여 박막 을 형성 함 에 있 어서 , 막 두께 방향 에 걸쳐 치밀 한 박막 을 얻 을 수 있 는 기술 을 제공 한다 . 또한 , 본 발명 은 , 양호 한 디바이스 구조 를 얻 을 수 있 는 기술 을 제공 한다 .