포커스 링 ( 214 ) 은 링 형상 으로 제공 되 며 , 유전 판 ( 211 ) 의 상부 영역 둘레 를 따라 배치 된다 . 포커스 링 ( 214 ) 의 상면 은 유전 판 ( 211 ) 에 인접 한 내측 부가 외측 부 보다 낮 도록 단차 질 수 있 다 . 포커스 링 ( 214 ) 의 상면 내측 부 는 유전 판 ( 211 ) 의 상면 과 동일 높 에 에 위치 할 수 있 다 . 포커스 링 ( 214 ) 은 플 라즈 마가 형성 되 는 영역 의 중심 에 기판 ( W ) 이 위치 하 도록 전자기장 형성 영역 을 확장 시킨다 . 이 에 의해 기판 ( W ) 전체 영역 에 걸쳐 플 라즈 마 가 균일 하 게 형성 될 수 있 다 .