본 발명 의 실시 예 들 은 일반 적 으로 화학 적 기상 증착 ( CVD ) 프로세스 에 사용 되 는 챔버 부품 들 을 위한 방법 들 및 장치 를 제공 한다 . 일 실시 예 에 있 어서 , 상기 방법 및 장치 는 금속 유기 화학 적 기상 증착 ( MOCVD ) 및 / 또는 수소화물 증기 기상 에피택시 ( HVPE ) 하드웨어 를 사용 하 여 Ⅲ 족 - 질화물 막 들 의 증착 을 위해 사용 될 수 있 다 . 일 양태 ( aspect ) 에 있 어서 , 발광 다이오드 ( LED ) , 레이저 다이오드 ( LD ) , 또는 다른 디바이스 를 형성 하 기 위해 물질 들 을 증착 하 기 에 적합 한 프로세싱 챔버 가 제공 된다 .