또 , 상기 각 실시 형태 에 있 어서 , 매핑 센서 ( 20 ~ 20 E ) 의 발광 부 ( 50 ) 는 , 도어 부 ( 14 ) 의 하강 에 수반 해 촬상용 광 ( La ) 을 상시 조사 ( 소위 스 태 틱 점 등 방식 ) 해도 무방 하 고 , 반도체 웨이퍼 ( W ) 의 위치 에 대응 하 여 촬상용 광 ( La ) 을 간 헐 조사 ( 소위 펄스 점 등 방식 ) 해도 무방 하 다 . 펄스 점 등 방식 으로 한 경우 에 는 , 간 헐 조사 에 대응 하 여 촬상부 ( 52 ) 가 촬상 화상 ( 51 ) 을 취득 하 면 된다 .