본 발명 은 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 는 웨이퍼 가이드 및 그 를 구비 한 웨이퍼 세정 장치 에 관한 것 이 다 . 그 의 웨이퍼 가이드 는 , 하부 판넬 부 ; 상기 하부 판넬 부 의 양측 면 에서 돌출 형성 되 어 웨이퍼 를 지지 하 는 웨이퍼 지지 판넬 부 ; 상기 웨이퍼 지지 판넬 부 의 상단 부 에서 웨이퍼 의 가장자리 영역 을 홀딩 하 는 슬롯 부 ; 상기 슬롯 부 의 측벽 에 형성 되 어 웨이퍼 표면 에 근접 하 여 유동 되 는 세정액 을 흡입 하 는 세정액 흡입 홀 ; 및 상기 세정액 흡입 홀 을 통해 흡입 된 세정액 을 외부 로 배출 시키 는 세정액 배수 라인 을 포함 함 에 의해 상기 웨이퍼 가이드 에 탑재 되 는 상기 웨이퍼 에 근접 하 여 유동 되 는 세정액 을 순환 토록 하 여 웨이퍼 오염 을 방지 토록 할 수 있 기 때문 에 생산 수율 을 향상 시킬 수 있 다 .