노즐 ( 249 a 내지 249 c ) 은 , 도 2 에 도시 한 바 와 같이 , 반응 관 ( 203 ) 의 내벽 과 웨이퍼 ( 200 ) 와 의 사이 에서 의 평면 에서 보 아 원환 형상 의 공간 에 , 반응 관 ( 203 ) 의 내벽 하부 로부터 상부 를 따라 , 웨이퍼 ( 200 ) 의 적재 방향 상방 을 향해서 상승 되 도록 각각 설치 되 어 있 다 . 즉 , 노즐 ( 249 a 내지 249 c ) 은 , 웨이퍼 ( 200 ) 가 배열 되 는 웨이퍼 배열 영역 의 측방 의 , 웨이퍼 배열 영역 을 수평 으로 둘러싸 는 영역 에 , 웨이퍼 배열 영역 을 따르 도록 각각 설치 되 어 있 다 . 노즐 ( 249 a 내지 249 c ) 의 측면 에 는 , 가스 를 공급 하 는 가스 공급 구멍 ( 250 a 내지 250 c ) 이 각각 형성 되 어 있 다 . 가스 공급 구멍 ( 250 a 내지 250 c ) 은 , 반응 관 ( 203 ) 의 중심 을 향하 도록 각각 개구 되 어 있 어 , 웨이퍼 ( 200 ) 를 향해서 가스 를 공급 하 는 것 이 가능 하 게 되 어 있 다 . 가스 공급 구멍 ( 250 a 내지 250 c ) 은 , 반응 관 ( 203 ) 의 하부 로부터 상부 에 걸쳐 복수 형성 되 어 있 다 .