도 1 을 참조 로 하 면 , 상기 노광 장비 는 저면 에 패턴 ( 미 도시 ) 이 형성 되 는 마스크 ( 100 ) 가 안착 되 는 마스크 스테이지 ( 150 ) 와 , 상기 마스크 스테이지 ( 150 ) 의 상부 로 소정 거리 이격 되 어 배치 되 며 , 광 을 상기 마스크 ( 100 ) 로 수직 으로 조사 시키 는 광원 ( 200 ) 과 , 상기 마스크 스테이지 ( 150 ) 의 하부 에 배치 되 되 , 상기 마스크 스테이지 ( 150 ) 로부터 탈착 되 도록 배치 되 고 , 상기 마스크 ( 100 ) 로부터 투과 된 상기 광 의 광량 값 을 검출 하 는 광 검출기 ( 300 ) 와 , 상기 광원 ( 200 ) 을 고정 시키 는 고정부 ( 400 ) 와 , 상기 마스크 스테이지 ( 150 ) 의 하부 에 위치 되 도록 가변 되 며 , 상부 에 웨이퍼 ( W ) 가 안착 되 는 웨이퍼 스테이지 ( 600 ) , 및 상기 마스크 스테이지 ( 100 ) 또는 광원 ( 200 ) 의 위치 를 이동 시켜 상기 마스크 ( 100 ) 로 입사 되 는 상기 광 의 입사각 을 가변 시키 는 입사각 가변 부 ( 500 ) 를 포함 한다 .