상기 금속 증발원 ( 61 ) 은 공지 의 PVD ( Physical Vapor Deposition ) 원리 를 따른 장치 로서 , 특히 스퍼터링 ( sputtering ) 과정 을 통해 금속 소스 를 증발 시킨다 . 상기 금속 증발원 ( 61 ) 을 구동 하 기 위해서 특히 금속 증발원 ( 61 ) 의 주변 에 는 가스 이온 이 존재 해야 하 며 , 이 를 위해 가스 공급 관 ( 61 d ) 을 통해 공급 된 아르곤가스 를 이온 화 시키 고 전기장 과 자기장 의 세기 를 적절히 조절 하 여 금속 증착 정도 를 제어 한다 .