제 2 상부 도전 성 비아 패턴 ( 433 ) 및 제 2 상부 도전 성 라인 패턴 ( 431 ) 은 제 2 상부 씨드 층 ( 435 ) 상 에 배치 될 수 있 다 . 제 2 상부 도전 성 비아 패턴 ( 433 ) 과 제 2 상부 도전 성 라인 패턴 ( 431 ) 은 도금 공정 을 통해 형성 되 며 , 서로 일체 를 이룰 수 있 다 . 제 2 상부 도전 성 라인 패턴 ( 431 ) 은 제 2 상부 절연 층 ( 413 ) 의 상면 상 의 제 2 상부 씨드 층 ( 435 ) 의 일부분 및 제 2 상부 도전 성 비아 패턴 ( 433 ) 상 에 배치 될 수 있 다 . 제 2 상부 도전 성 비아 패턴 ( 433 ) 은 제 2 상부 절연 층 ( 413 ) 의 상기 비아 오프닝 내 의 제 2 상부 씨드 층 ( 435 ) 의 일부분 을 덮 으며 , 제 2 상부 절연 층 ( 413 ) 의 상기 비아 오프닝 을 채울 수 있 다 . 제 2 상부 도전 성 비아 패턴 ( 433 ) 은 제 2 상부 절연 층 ( 413 ) 을 관통 하 여 수직 방향 으로 연장 되 고 , 제 2 상부 도전 성 라인 패턴 ( 431 ) 을 제 1 상부 도전 성 라인 패턴 ( 421 ) 에 전기 적 으로 연결 할 수 있 다 .