측정 결과 , 결정 화 된 GaP 나노 물질 층 ( 310 ) 은 굴절 률 n > 3 . 780 , 파장 455 nm 에서 소멸 계수 k < 0 . 052 이 다 . TEM ( transmission electron microscope ) 분석 결과 , 나노 물질 층 ( 310 ) 전체 가 결정 화 된 GaP 로 성장 되 어 있 음 이 확인 된다 . 표면 산화층 의 두께 는 1 nm 미만 으로서 2 nm 미만 의 산화층 을 갖 는 결정 화 된 GaP 나노 물질 층 ( 310 ) 이 확인 된다 . AFM ( atomic force microscope ) 및 SEM ( scanning electron microscope ) 분석 결과 , 표면 거칠 기 는 RMS ( Rq ) 0 . 424 ~ 0 . 669 nm 임이 확인 된다 . 450 ℃ 에서 열처리 한 경우 에 는 표면 거칠 기 는 RMS ( Rq ) 0 . 223 nm 임이 확인 된다 .