상기 의 ＜ 레지스 트 패턴 의 형성 ＞ 에 의해 형성 된 CH 패턴 에 대해 , 측장 SEM ( 주사 형 전자 현미경 , 가속 전압 500 V , 상품명 : CG 5000 , 주식회사 히타치 하이테크 놀 로 지즈 제조 ) 에 의해 , 그 CH 패턴 을 상공 으로부터 관찰 하 고 , 그 CH 패턴 중 의 100 개 의 홀 의 홀 직경 ( ㎚) 을 측정 하 였 다 . 그 측정 결과 로부터 산출 한 표준 편차 ( σ ) 의 3 배 값 ( 3 σ ) 을 구하 였 다 . 이것 을 「 CDU ( ㎚)」 로서 표 3 에 나타냈 다 .