예 를 들 면 , 마스크 스테이지 ( 103 ) 가 이동 함 으로써 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 에 흐트러짐 이 생기 면 , 그 영향 에 의해 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 고 있 는 높 은 청 정도 를 갖 는 기체 ( 204 ) 의 흐름 ( 기류 ) 이 흐트러진다 . 이 에 따라 , 광학 부품 ( 201 ) ( 의 표면 ( 201 A ) ) 이 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 낮 은 청 정도 를 갖 는 기체 ( 205 ) 에 노출 될 가능 성 이 높 아 진다 . 또한 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 오염 물질 의 농도 가 높 을 경우 에 는 , 얼마 안 된 기체 ( 205 ) 에 도 많 은 오염 물질 이 포함 되 어 있 기 때문 에 , 광학 부품 ( 201 ) 이 동일 량 의 기체 ( 205 ) 에 노출 되 어도 , 광학 부품 ( 201 ) 에 접하 는 오염 물질 의 양 은 많 아 진다 .