따라서 , 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 기판 지지대 ( 100 ) 는 , 여유 공간 형성 부 ( 20 ) 에 의해 포켓 홈 부 ( 30 ) 내부 에 전체 적 으로 도넛 형상 으로 형성 되 는 여유 공간 ( V ) 이 형성 되 고 , 공정 챔버 ( 600 ) 의 내부 에 진공 분위기 를 형성 시 여유 공간 ( V ) 에 진공 압 이 발생 됨 으로써 , 기판 ( S ) 의 처리 공정 중 에 공정 챔버 ( 600 ) 내 의 순간 적 인 가스 흐름 변화 나 급격 한 압력 변화 등 과 같 은 다양 한 공정 조건 변화 에 의해 기판 ( S ) 이 포켓 홈 부 ( 30 ) 로부터 이탈 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 .