이 와 같이 , 본 실시 형태 에 따르 면 , 변조 율 이 큰 빔 과 변조 율 이 작 은 빔 이 상이 한 영역 에 속하 도록 빔 어레이 를 분할 한다 . 예 를 들 면 , 제 1 영역 의 빔 의 최대 변조 율 이 , 제 2 영역 의 빔 의 최대 변조 율 보다 커진다 . 제 1 영역 의 빔 의 변조 율 을 내리 도록 가중치 부여 를 행함 과 동시 에 , 제 2 영역 의 빔 의 변조 율 을 올리 도록 가중치 부여 를 행한다 . 그리고 , 제 1 영역 의 빔 으로 묘화 하 는 패턴 과 제 2 영역 의 빔 으로 묘화 하 는 패턴 을 중첩 시키 도록 다중 묘화 를 행한다 .