기판 처리 장치 ( 100 A ) 는 , 반도체 웨이퍼 등 의 원판 상 의 기판 ( W ) 을 1 장 씩 처리 하 는 매 엽 식 의 처리 장치 이 다 . 기판 처리 장치 ( 100 A ) 는 , 기판 ( W ) 에 대하 여 , 처리 용 의 액체 ( 즉 , 약액 , 세정액 또는 린스 액 을 포함 하 는 처리 액 ) 또는 가스 를 사용 하 는 유체 처리 , 자외선 등 의 전자파 를 사용 하 는 처리 , 또는 , 물리 세정 처리 ( 예 를 들 어 , 브러시 세정 또는 스프레이 노즐 세정 등 ) 등 의 각종 처리 ( 세정 처리 또는 에칭 처리 등 ) 를 실시 한다 .