제 1 , 제 2 및 제 3 노광 이 순차 적 으로 이루어져 십자 형상 ( 100 ) 의 콘 택 홀 형상 에 대한 레지스 트 층 ( 도 4 의 430 ) 에 의 노광 이 완료 되 며 , 이 는 도 6 에 제시 된 바 와 같이 다수 개 의 분할 된 다각형 폴리곤 들 ( 11 , 12 , 13 , 14 , 15 , 16 , 17 ) 에 대해 노광 을 수행 하 는 경우 에 비해 노광 스텝 ( step ) 들 이 단축 된 것 이 므로 , 전체 전자 빔 노광 과정 에 소요 되 는 시간 을 크 게 단축 할 수 있 다 . 도 6 에 제시 된 바 와 같이 노광 할 경우 대략 28 시간 의 노광 시간 이 소요 되 는 데 비해 , 도 2 에 제시 된 바 와 같이 노광 을 수행 할 경우 9 시간 정도 의 노광 시간 이 소요 되 는 것 으로 확인 된다 . 따라서 , 전자 빔 노광 에 소요 되 는 시간 을 크 게 단축 할 수 있 어 , 포토 마스크 생산 성 을 개선 할 수 있 으며 , 전자 빔 노광 시간 의 단축 에 따라 전자 빔 에 의해 레지스 트 층 ( 430 ) 이 열화 되 는 현상 을 유효 하 게 억제 할 수 있 다 .