일부 실시 예 들 에서 , 도 1 a 내지 도 1 f 및 도 2 를 참조 하 여 본 명세서 에 기술 된 방법 들 은 수정 되 고 맨드릴 들 의 측벽 들 에서 주석 옥사이드 층 위 에서 패 시베이 션 층 의 사용 을 수반 한다 . 패 시베이 션 층 의 목적 은 수평 표면 들 로부터 의 주석 옥사이드 제거 단계 동안 측벽 들 에서 주석 옥사이드 의 에칭 을 최소 화 하 는 것 이 다 . 패 시베이 션 층 의 부 재시 , 측벽 들 의 주석 옥사이드 는 스 페이서 CD ( critical dimension ) 변동 을 야기 할 수 도 있 는 , 측 방향 으로 일관 되 지 않 게 에칭 될 수 도 있 다 . 패 시베이 션 층 의 사용 은 이 측 방향 에칭 을 방지 하 거나 최소 화 할 수 있 고 스 페이서 들 사이 에서 보다 일관 된 거리 를 발생 시킬 수 있 다 . 이 에 더 하 여 , 패 시베이 션 층 의 사용 은 스 페이서 들 의 상단 코너 부 들 의 부식 을 방지 할 수 있 어서 , 보다 직사각 형 형상 들 을 갖 는 스 페이서 들 을 야기 한다 . 또한 , 측벽 들 에서 패 시베이 션 층 의 사용 은 기판 에서 바이어스 에 의해 하향 구동 되 는 보다 많 은 가용 에칭 종 ( 예 를 들 어 , 플 라즈 마의 이온 들 ) 이 있 기 때문 에 , 주석 옥사이드 층 의 하단 경사부 또는 푸팅 의 보다 손쉬운 에칭 을 가능 하 게 한다 . 패 시베이 션 층 은 결국 스 페이서 CD 가 유지 될 수 있 도록 , 수혹 하 는 에칭 단계 들 에서 부분 적 으로 또는 완전히 소모 될 수 도 있 다 .