본 발명 은 , 배선 및 전극 중 의 적어도 하나 를 갖 는 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 로서 , 상기 배선 및 상기 전극 이 , 코발트 또는 코발트 합금 을 함유 하 고 , 상기 세정제 조성물 이 , 성분 ( A ) : 특정 한 화합물 로 이루어지 는 군 에서 선택 되 는 적어도 1 종 의 화합물 및 성분 ( B ) : 물 을 함유 하 는 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 에 관한 것 이 다 .