이후 , 400 ℃~ 600 ℃ 의 온도 로 예열 된 유리 기판 ( 110 ) 을 도 2 d 에 도시 된 바 와 같이 , 방전 공간 을 형성 시키 기 위한 패턴 ( 140 ) 이 형성 된 히팅 프레스 ( 130 ) 사이 에 위치 시키 고 , 히팅 프레스 ( 130 ) 로 유리 기판 ( 110 ) 에 압력 을 가한다 . 여기 서 , 히팅 프레스 ( 130 ) 는 철 ( Fe ) 과 니켈 ( Ni ) 합금 , 철 ( Fe ) 과 주석 ( Sn ) 합금 또는 니켈 ( Ni ) 과 주석 ( Sn ) 합금 등 의 금속 으로 형성 되 며 , 700 ℃~ 800 ℃ 의 온도 로 가열 되 어 유리 기판 ( 110 ) 에 고온 과 압력 을 동시 에 가한다 .