노광 장치 ( EX ) 는 , 제 1 스테이지 ( 61 ) , 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 위치 정보 를 각각 계측 가능 한 계측 시스템 ( 70 ) 을 구비 하 고 있 다 . 계측 시스템 ( 70 ) 은 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 에 설치 된 반사 부재 ( 72 ) , 제 3 스테이지 ( 63 ) 에 설치 된 반사 부재 ( 73 ) 및 , 제 1 스테이지 ( 61 ) 에 설치 된 반사 부재 ( 74 ) 와 , 반사 부재 ( 72 , 73 , 74 ) 의 반사면 에 계측 빔 을 투사 함 과 동시 에 , 그 반사광 을 수광 ( 受 光 ) 하 여 제 1 스테이지 ( 61 ) , 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 각각 의 위치 정보 를 취득 하 는 레이저 간섭계 ( 71 ) 를 포함 한다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 레이저 간섭계 ( 71 ) 는 마스크 스테이지 ( 6 ) 의 + Y 측 에 배치 되 고 , 반사 부재 ( 74 ) 는 예 를 들 면 코너 큐브 미러 ( 레트로 리플렉터 ) 를 포함 하 여 레이저 간섭계 ( 71 ) 로부터 의 계측 빔 이 조사 가능 한 제 1 스테이지 ( 61 ) 위 의 소정 위치 에 2 개 설치 되 며 , 반사 부재 ( 72 ) 는 예 를 들 면 코너 큐브 미러 ( 레트로 리플렉터 ) 를 포함 하 여 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 위 에 있 어서 의 레이저 간섭계 ( 71 ) 로부터 의 계측 빔 이 조사 가능 한 소정 위치 에 2 개 설치 되 어 있 다 . 반사 부재 ( 73 ) 도 , 예 를 들 면 코너 큐브 미러 ( 레트로 리플렉터 ) 를 포함 하 여 제 3 스테이지 ( 63 ) 위 에 있 어서 의 레이저 간섭계 ( 71 ) 로부터 의 계측 빔 이 조사 가능 한 소정 위치 에 2 개 설치 되 어 있 다 . 또 , 도시 하 지 않 았 지만 , 계측 시스템 ( 70 ) 은 , 제 1 , 제 2 , 제 3 스테이지 ( 61 , 62 , ( 62 , 63 ) ) 의 X 축 방향 의 위치 정보 를 계측 하 기 위한 반사 부재 ( 반사면 ) 및 레이저 간섭계 도 구비 하 고 있 다 . 이하 에서 는 , 이 X 축 용 의 레이저 간섭계 와 Y 축 용 의 레이저 간섭계 ( 71 ) 를 정리 하 여 레이저 간섭계 ( 71 ) 로 부르 는 것 으로 한다 .