다른 실시 예 에서 , 가스 처리 장치 는 일반 적 으로 내부 공간 을 형성 하 는 하우징 을 포함 한다 . 상기 하우징 은 상기 하우징 의 내부 공간 내 로 가스 를 수용 하 는 하나 이상 의 가스 입 구 포트 와 , 상기 하우징 의 내부 공간 으로부터 가스 를 배출 하 는 하나 이상 의 가스 출구 포트 를 포함 한다 . 상기 가스 출구 포트 는 , 가스 가 상기 가스 입 구 포트 로부터 상기 가스 출구 포트 로 상기 하우징 의 내부 공간 을 통과 하 도록 상기 가스 입 구 포트 로부터 이격 된다 . 하나 이상 의 액체 입 구 포트 는 상기 하우징 의 내부 공간 내 로 가스 를 수용 하 기 위한 것 이 고 , 하나 이상 의 액체 출구 포트 는 상기 하우징 의 내부 공간 으로부터 가스 를 배출 하 기 위한 것 이 다 . 상기 액체 출구 포트 는 , 액체 가 상기 액체 입 구 포트 로부터 상기 액체 출구 포트 로 상기 하우징 의 내부 공간 을 흐르 도록 상기 액체 입 구 포트 로부터 이격 된다 . 혼합 영역 은 가스 - 액체 용액 을 형성 하 도록 상기 하우징 의 내부 공간 내 에서 상기 가스 와 액체 를 혼합 하 기 위해 상기 하우징 내 에 있 다 . 초음파 혼 은 상기 하우징 의 내부 공간 내 에 배치 된다 . 상기 초음파 혼 은 상기 하우징 내 의 상기 가스 - 액체 용액 을 초음파 처리 하 도록 초음파 주파수 로 작동 가능 하 다 . 자외선 광원 은 상기 초음파 혼 에 의해 상기 액체 가 초음파 처리 되 는 동안 에 상기 액체 상 에 자외선 을 방출 한다 .