상술 한 바 와 같이 , 본 발명 의 실시 예 들 에 따른 상기 피복제 ( 10 ) 는 종래 에 비하 여 우수 한 용해도 를 보일 수 있 다 . 이 에 따라 , 상기 피복제 ( 10 ) 의 찌꺼기 들 은 상기 제 2 개 구부 ( 31 H ) 로부터 완전 하 게 제거 될 수 있 다 . 또한 , 상기 기판 ( 21 ) 의 전면 에 걸쳐서 상기 피복 패턴 들 ( 10 B ) 은 균일 한 두께 로 제어 될 수 있 다 . 결과 적 으로 , 상기 제 3 개 구부 ( 25 H ) 및 상기 제 4 개 구부 ( 21 H ) 를 원하 는 크기 및 형태 로 형성 할 수 있 다 . 즉 , 사진 공정 의 한계 해상도 보다 작 은 크기 의 미세 패턴 들 을 형성 할 수 있 다 .