상술 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 에 따른 기판 처리 장치 는 로드 락 챔버 , 제 1 처리 유닛 , 그리고 제 2 처리 유닛 을 포함 하 되 , 상기 로드 락 챔버 는 상기 제 1 처리 유닛 의 일 측 에 배치 되 고 , 상기 제 2 처리 유닛 은 상기 제 1 처리 유닛 의 타 측 에 배치 되 며 , 상기 제 1 처리 유닛 은 제 1 공정 챔버 , 상기 로드 락 챔버 와 상기 제 1 공정 챔버 상호 간 에 , 그리고 상기 로드 락 챔버 와 상기 제 2 처리 유닛 상호 간 에 기판 을 이송 하 는 제 1 이송 모듈 을 가지 는 제 1 트랜스퍼 챔버 를 포함 하 고 , 상기 제 2 처리 유닛 은 제 2 공정 챔버 , 상기 제 1 이송 모듈 로부터 기판 을 이송 받 아 상기 제 2 공정 챔버 로 이송 시키 는 제 2 이송 모듈 을 가지 는 제 2 트랜스퍼 챔버 를 포함 하 고 , 상기 제 1 이송 모듈 은 상기 로드 락 챔버 와 상기 제 1 공정 챔버 상호 간 에 기판 을 이송 하 는 제 1 로봇 과 상기 로드 락 챔버 와 상기 제 2 처리 유닛 상호 간 에 기판 을 이송 하 는 제 2 로봇 을 포함 한다 .