본 발명 은 비정질 탄소막 증착 공정 에 관한 것 으로 , 더욱 상세 하 게 는 비정질 탄소막 증착 공정 에서 비정질 탄소막 증착 후 에 , 가스 분리 형 샤워 헤드 를 이용 하 여 1 차 적 으로 세정 하 고 , 별도 의 경로 로 2 차 적 으로 세정 할 수 있 는 비정질 탄소막 증착 공정 에서 의 챔버 세정 장치 및 이 를 이용 한 챔버 세정 방법 에 관한 것 이 다 .