여기 서 , 상기 엑 시머 레이저 ( 230 ) 는 상기 비정질 실리콘 층 ( 220 a ) 의 일 측 에서부터 화살표 방향 으로 0 . 18 mm / sec 내지 2 . 5 mm / sec 범위 의 스캔 속도 로 엑 시머 레이저 ( eximer laser : 230 ) 를 이용 하 여 스캐닝 하 며 , 가장 바람직 하 게 0 . 54 mm / sec 의 스캔 속도 를 갖 는다 . 또한 , 상기 레이저 ( 230 ) 로부터 발생 되 는 레이 져 빔 은 10 Hz 내지 150 Hz 의 주사 주파수 및 360 mJ / cm 2 내지 400 mJ / cm 2 의 에너지 밀도 로 이루어지 며 , 가장 바람직 하 게 30 Hz 의 주사 주파수 및 380 mJ / cm 2 의 에너지 밀도 로 이루어진다 . 이 와 같 은 상기 레이저 ( 230 ) 의 주사 주파수 가 높 을수록 해상도 나 동시 발색 수 ( 同時 發色 數 ) 가 높 아 져 , 고해상도 의 화상 을 얻 을 수 있 다 . 또한 , 상기 레이저 ( 230 ) 로부터 발생 되 는 레이저 빔 이 조사 된 후 다시 조사 되 는 레이저 빔 이 중첩 되 는 영역 즉 , 오버랩 ( overlap ) 이 90 % 내지 97 . 5 % 으로 이루어지 며 , 가장 바람직 하 게 95 . 9 % 로 이루어진다 . 이 와 같이 상기 레이저 ( 230 ) 의 오버랩 을 95 . 9 % 로 중첩 하 여 조사 함 으로써 결정 립 의 입자 를 고르 게 분포 할 수 있 다 . 또한 , 상기 레이저 ( 230 ) 로부터 발생 되 는 레이저 빔 이 조사 된 후 다음 레이저 빔 이 조사 되 는 동안 기판 이 움직인 거리 즉 , 피치 폭 ( pitch width ) 은 5 μ m 내지 30 μ m 으로 이루어지 며 , 가장 바람직 하 게 18 μ m 의 피치 폭 으로 이루어진다 . 이 와 같이 피치 폭 을 18 μ m 로 형성 함 으로써 , 기판 한 매 에 대한 조사 시간 을 종래 의 레이저 조사 시간 보다 줄일 수 있 다 .