비정질 탄소 층 은 탄소 전구체 로서 , 탄화수소 화합물 또는 이러 한 화합물 의 혼합물 을 사용 하 여 화학 기상 증착 ( CVD ) 에 의해 형성 될 수 있 다 . 탄소 전구체 는 프로필렌 , 프로 핀 , 프로판 , 부탄 , 부틸렌 , 부타디엔 및 아세 텔 린 을 포함 할 수 있 다 . 비정질 탄소 층 을 형성 하 는 방법 은 2003 년 6 월 3 일자 로 Fairbairn 등 에게 허여 된 U . S . 특허 번호 6 , 573 , 030 B 1 에 개시 되 어 있 는데 , 그것 은 본원 에 참조 로 원용 된다 . 일부 실시 예 에서 , 비정질 탄소 는 광 에 매우 투명 한 비정질 탄소 의 형태 인데 , 이러 한 형태 는 광 정렬 ( photo alignment ) 을 위해 사용 된 광 의 파장 에 투명 하 게 됨 으로써 광 정렬 을 위한 추가 개선 을 제공 한다 . 이러 한 투명 탄소 를 형성 하 는 퇴적 기술 은 A . Helmbold , D . Meissner , Thin Solid Films , 283 ( 1996 ) , 196 - 203 에서 찾아볼 수 있 는데 , 그것 은 본원 에 참조 로 원용 된다 . 게다가 , 비정질 탄소 는 도핑 될 수 있 다 . 도핑 된 비정질 탄소 를 형성 하 기 적합 한 방법 은 Yin 등 의 U . S . 특허 출원 제 10 / 652 , 174 호 에 개시 되 어 있 는데 , 그것 은 본원 에 참조 로 원용 된다 .