도 6 의 ( a ) 에 는 , 상기 특허 문헌 1 에 기재 된 , TFT 의 채널 ㆍ S / D 레이어 ( 이하 , 간단히 「 S / D 레이어 」 라고 도 함 ) 를 제조 하 기 위한 포토 마스크 에 형성 된 전 사용 패턴 ( 채널 폭 5 . 0 ㎛) 을 예시 한다 . 이 포토 마스크 는 , 차 광부 ( 120 ) , 반투 광부 ( 130 ) 및 투 광부 ( 110 ) 를 구비 한 다 계조 포토 마스크 이 다 . 반투 광부 ( 130 ) 에 는 , 투과율 Tr 이 40 ％ 인 반 투광 막 이 사용 되 고 있 다 . 또한 , 이것 을 노광 장치 ( NA = 0 . 08 , 코 히 런 스 팩터 σ = 0 . 8 , i 선 : h 선 : g 선 = 1 : 1 : 1 ) 에서 노광 하 였을 때 , 피전 사체 상 에 형성 되 는 광학 상 ( 전 사상 ) 이 , 도 6 의 ( b ) 이 다 . 도 6 의 ( b ) 에서 는 , 도달 하 는 광량 이 많 은 부분 이 밝 은 색 ( 백색 내지 회색 ) 으로 , 적 은 부분 이 어두운 색 ( 흑색 ) 으로 , 각각 표시 되 고 있 다 .