도 2 c 를 다시 참조 하 면 , 스 페이서 ( 212 ) 의 치수 들 ( 예 를 들 어 , 높이 , 폭 , 내측 직경 , 외측 직경 , 등 ) 은 프로세싱 영역 ( 234 ) 내 에서 최적 의 플 라즈 마 프로세싱 을 제공 하 기 위한 중요 한 양태 들 로 간주 된다 . 예 를 들 어 , 스 페이서 ( 212 ) 의 수직 컴포넌트 에 의해 형성 된 측벽 ( 212 a ) 은 , 프로세스 가스 로 하여금 프로세싱 영역 ( 234 ) 으 로부터 흐르 게 하 도록 , 프로세싱 영역 ( 234 ) 의 길이 를 실질 적 으로 커버 하 도록 높이 ' h 1 ' 로 연장 하 고 그리고 페데 스탈 ( 204 ) 의 지지 표면 과 수직 컴포넌트 의 하단 표면 ( 212 d ) 사이 의 갭 을 규정 하 도록 두께 ' d 1 ' 로 연장 한다 . 일 실시 예 에서 , 스 페이서 ( 212 ) 의 높이 h 1 은 , 페데 스탈 ( 204 ) 이 프로세스 위치 에 있 을 때 , 스 페이서 ( 212 ) 의 수직 컴포넌트 의 하단 표면 이 페데 스탈 ( 204 ) 의 상단 표면 아래 로 연장 하 도록 형성 된다 .