본 발명 은 상기 의 문제점 을 해결 하 고자 안출 된 것 으로서 , 본 발명 의 목적 은 충분 한 흡수율 을 가지 면서 도 흡수 막 의 두께 가 얇 도록 하 여 Shadowing Effect 가 최소 화 되 고 , 이 에 따라 미세 한 회로 패턴 을 정밀 하 게 형성 할 수 있 는 포토 마스크 의 제작 이 가능 한 블랭크 마스크 를 제공 하 는 것 이 다 .