기판 지지 부 ( 120 ) 는 공정 챔버 ( 110 ) 내부 에 회전 가능 하 게 설치 되 어 전기 적 으로 플로팅 ( Floating ) 된다 . 이러 한 기판 지지 부 ( 120 ) 는 공정 챔버 ( 110 ) 의 중앙 바닥 면 을 관통 하 는 회전축 ( 미 도시 ) 에 의해 지지 된다 . 상기 회전축 은 축 구동 부재 ( 미 도시 ) 의 구동 에 따라 회전 됨 으로써 기판 지지 부 ( 120 ) 를 소정 방향 으로 회전 시킨다 . 그리고 , 공정 챔버 ( 110 ) 의 하 면 외부 로 노출 되 는 상기 의 회전축 은 공정 챔버 ( 110 ) 의 하면 에 설치 되 는 벨로우즈 ( 미 도시 ) 에 의해 밀폐 된다 .