이 와 같 은 본 발명 에 따르 면 , 제 1 패턴 부 와 제 3 패턴 부 가 서로 반대 되 는 패턴 을 가지 며 , 서로 오버랩 되 어 좌측 및 우측 을 왕복 하 여 이동 함 에 따라 , 실리콘 결정 화 마스크 를 투과 한 레이저 빔 이 기판 상 에 중복 으로 조사 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 그 결과 , 레이저 빔 의 조사량 의 차이 에 의해 경계선 이 발생 되 는 것 을 방지 하 여 , 다 결정 실리콘 ( poly - Si ) 의 전기 적 인 특성 이 보다 향상 될 수 있 다 .