상기 한 바 와 같이 , 무기 하드 마스크 상 에 레지스 트 상 층막 으로서 포토레지스트 막 을 형성 하 여도 좋 지만 , 무기 하드 마스크 상 에 BARC 를 스핀 코트 에 의해 형성 하 고 , 그 위 에 레지스 트 상 층막 을 형성 하 여도 좋 다 . 특히 , 무기 하드 마스크 로서 SiON 막 을 이용 한 경우 , SiON 막 과 BARC 의 2 층 의 반사 방지 막 에 의해 1 . 0 을 초과 하 는 고 NA 의 액침 노광 에 있 어서 도 반사 를 억제 할 수 있 게 된다 . BARC 를 형성 하 는 또 하나 의 메리트 로서 는 , SiON 막 바로 위 에서 의 포토레지스트 패턴 의 트레일 링 을 저감 시키 는 효과 가 있 는 것 이 다 .