다음 에 , 제 1 도전 층 ( 103 ) 위 에 레지스 트 막 ( 403 ) 을 전면 에 도포 한 후 , 도 1 ( A ) 에 나타내 는 마스크 ( 400 ) 를 사용 하 여 노광 을 행한다 . 여기 에서 는 , 막 두께 1 . 5 ㎛ 의 레지스 트 막 을 도포 하 고 , 노광 은 해상도 가 1 . 5 ㎛ 의 노광기 를 사용 한다 . 노광 에 사용 하 는 광은 , i 선 ( 파장 365 nm ) 이 며 , 노광 에너지 는 , 70 ∼ 140 mJ / cm 2 의 범위 로부터 선택 한다 . 또한 , i 선 으로 한정 되 지 않 고 , i 선 과 g 선 ( 파장 436 nm ) 과 h 선 ( 파장 405 nm ) 을 혼합 시킨 광 을 노광 에 사용 해도 좋 다 .