그 후 , 포토 마스크 를 거쳐 , 방사선 을 조사 하 여 , 포스트 익스포져 베이 킹 처리 ( PEB ) 를 행하 고 , 계속 해서 , 알칼리 현상액 을 사용 한 현상 처리 를 행하 고 , 또한 , 포스트 베이 킹 처리 를 행함 으로써 , 격벽 을 형성 했 다 . PEB 는 가열 온도 : 110 ℃, 가열 시간 : 120 초 , 방사선 조사 강도 : 150 mJ / cm 2 의 조건 에서 행했 다 . 또한 , 현상 처리 는 예 를 들 면 , 진동 침 지법 에 의해 행했 다 . 현상 처리 시간 은 60 초 로 했 다 . 또한 , 포스트 베이 킹 처리 는 가열 온도 : 150 ℃, 가열 시간 : 5 분 의 조건 에서 행했 다 . 형성 된 격벽 의 두께 는 2 . 1 ㎛ 이 었 다 .