제 2 반응물 증기 공급 라인 ( 9 ) 은 반응물 증기 를 반응기 ( 21 ) 의 유입 구 매니폴드 ( 18 ) 에 공급 할 수 있 다 . 유입 구 매니폴드 ( 18 ) 는 , 반응물 증기 를 반응기 ( 21 ) 의 반응 챔버 ( 30 ) 에 공급 할 수 있 다 . 나타낸 바 와 같 은 샤워 헤드 또는 다른 구 현예 에서 수평 주입 장치 를 포함 하 는 분산 장치 ( 35 ) 는 , 복수 의 개구 ( 19 ) 와 유체 연통 하 는 플레 넘 ( 32 ) 을 포함 할 수 있 다 . 반응물 증기 는 개구 ( 19 ) 를 통과 하 여 반응 챔버 ( 30 ) 내 로 공급 될 수 있 다 . 기판 지지 부 ( 22 ) 는 , 반응 챔버 ( 30 ) 내 에서 웨이퍼 와 같 은 기판 ( 36 ) 을 지지 하 도록 구성 되 거나 크기 를 갖 거나 형상 화 될 수 있 다 . 분산 된 반응물 증기 는 기판 과 접촉 하 고 반응 하 여 기판 상 에 층 ( 예 , 단층 ) 을 형성 할 수 있 다 . 분산 장치 ( 35 ) 는 , 기판 상 에 균일 한 층 을 형성 하 기 위한 방식 으로 반응물 증기 를 분산 시킬 수 있 다 .