상술 한 다른 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 플 라즈 마 장치 에 따르 면 , 플라 즈 마를 이용 하 여 기판 에 형성 된 막 을 식각 하 는 공정 이 수행 되 는 공간 을 제공 하 는 챔버 를 포함 한다 . 상기 챔버 내 에 설치 되 고 , 상기 기판 이 놓여 지 는 기판 스테이지 를 포함 한다 . 상기 플 라즈 마 를 형성 하 기 위한 반응 가스 를 상기 기판 상 으로 제공 하 는 가스 제 공부 를 포함 한다 . RF 파워 제 공부 로부터 RF 파워 를 인가 받 아 전계 를 형성 함 으로써 제공 되 는 반응 가스 를 플 라즈 마로 상태 로 형성 하 는 플 라즈 마 발생 부 를 포함 한다 . 상기 챔버 의 일 측 에 형성 된 창 에 구비 되 고 , 상기 플 라즈 마로 부터 방출 되 는 광 의 파장 별 의 세기 를 실시간 으로 검출 하 여 상기 파장 별 세기 를 전압 신호 로 감지 하 는 플 라즈 마 감도 측 정부 를 포함 한다 . 상기 전압 신호 를 제공 받 아 상기 플 라즈 마의 상태 에 따른 상기 플 라즈 마 형성 인자 들 의 변화 를 모니터링 하 는 동시 에 상기 인자 들 의 제어 함 으로써 상기 안정 화 된 상태 를 갖 는 플 라즈 마 를 형성 하 는 제 어부 를 포함 하 는 구조 를 갖 는다 .