이후 , 상기 실시 예 와 동일 하 게 크롬 타 겟 을 이용 하 여 차광막 을 형성 한 다음 , 레지스 트 막 을 동일 하 게 500 nm 두께 로 코팅 하 여 위상 반전 블랭크 마스크 제조 를 완료 하 였 다 . 그리고 , 상기 실시 예 와 동일 하 게 포토 마스크 제조 공정 을 진행 한 후 , 포토 마스크 의 패턴 단면 형상 을 FE - SEM 으로 측정 하 여 , 단면 형상 의 각도 ( Sidewall angle ) 를 측정 하 였 다 .