상기 공정 물질 공급 시스템 ( 20 a ) 은 상기 전자 공여 화합물 ( 14 ) , 제 1 소스 물질 ( 16 ) , 제 2 소스 물질 ( 17 ) , 퍼지 가스 ( 19 ) , 및 산화제 ( 18 ) 를 독립 적 으로 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에 공급 할 수 있 는 시스템 일 수 있 다 . 상기 공정 물질 공급 시스템 ( 20 a ) 은 상기 전자 공여 화합물 ( 14 ) , 제 1 소스 물질 ( 16 ) , 제 2 소스 물질 ( 17 ) , 퍼지 가스 ( 19 ) , 및 산화제 ( 18 ) 을 서로 다른 시간 대 에 또는 동시 에 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 로 공급 하 도록 구성 될 수 있 다 .