[ 0061 ] 도 8 을 예시 적 으로 참조 하 여 , 본 개시 내용 의 다른 양상 에 따른 진공 프로세싱 시스템 이 설명 된다 . 특히 , 본원 에서 설명 되 는 임의 의 다른 실시 예 들 과 조합 될 수 있 는 실시 예 들 에 따르 면 , 진공 프로세싱 시스템 ( 300 ) 은 본원 에서 설명 되 는 임의 의 실시 예 들 에 따른 포지셔닝 어 레인지 먼 트 ( 100 ) 를 갖 는 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 를 포함 한다 . 또한 , 진공 프로세싱 시스템 ( 300 ) 은 본원 에서 설명 되 는 임의 의 실시 예 들 에 따른 이송 시스템 ( 200 ) 을 갖 는 적어도 하나 의 추가 의 챔버 ( 320 ) 를 포함 한다 . 특히 , 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 는 유기 재료 를 증착 하 도록 구성 될 수 있 다 . 통상 적 으로 , 증착 소스 ( 325 ) , 특히 증발 소스 가 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 내 에 제공 된다 . 특히 , 증착 소스 ( 325 ) 는 도 8 에 예시 적 으로 도시 된 바 와 같이 , 트랙 또는 선형 가이드 ( 322 ) 상 에 제공 될 수 있 다 . 선형 가이드 ( 322 ) 는 증착 소스 ( 325 ) 의 병진 이동 을 위해 구성 될 수 있 다 . 또한 , 증착 소스 ( 325 ) 의 병진 이동 을 제공 하 기 위한 구동 부 ( drive ) 가 제공 될 수 있 다 . 특히 , 증착 소스 의 비접 촉식 이송 을 위한 이송 장치 가 제공 될 수 있 다 . 도 8 에 예시 적 으로 도시 된 바 와 같이 , 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 는 게이트 밸브 들 ( 315 ) 을 가질 수 있 으며 , 진공 프로세스 챔버 는 게이트 밸브 들 ( 315 ) 을 통해 근처 의 추가 의 챔버 ( 320 ) , 예컨대 , 라우팅 모듈 또는 근처 의 서비스 모듈 에 연결 될 수 있 다 . 특히 , 게이트 밸브 들 은 , 근처 의 추가 의 챔버 에 대한 진공 밀봉 을 가능 하 게 하 며 , 기판 및 / 또는 마스크 를 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 내 로 또는 진공 프로세싱 챔버 ( 310 ) 밖 으로 이동 시키 기 위해 개방 및 폐쇄 될 수 있 다 .