도 3 은 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 프로세싱 챔버 ( 100 ) 의 단면도 를 개략 적 으로 도시 한다 . 이러 한 실시 예 에서 , 프로세싱 챔버 ( 100 ) 는 챔버 바디 ( 112 ) 의 상단 부 에 배치 되 는 리드 조립 체 ( 200 ) , 및 챔버 바디 ( 112 ) 내 에 적어도 부분 적 으로 배치 되 는 지지 조립 체 ( 300 ) 를 포함 한다 . 프로세싱 챔버 는 U 형 단면 을 갖 는 원거리 전극 을 가지 는 원거리 플 라즈 마 발생기 ( 140 ) 를 또한 포함 한다 . 프로세싱 챔버 ( 100 ) 및 관련 하드웨어 는 하나 또는 그 이상 의 프로세스 - 호환 재료 ( process - compatible material ) 들 , 예 를 들 어 , 알루미늄 , 양극 화 알루미늄 , 니켈 도금 된 알루미늄 , 니켈 도금 된 알루미늄 6061 - T 6 , 스테인 레스 스틸 뿐 만 아니 라 이 의 조합 및 이 의 합금 으로부터 형성 되 는 것 이 바람직 하 다 .