포토레지스트 조성물 은 용매 , 예 를 들 어 2 - 메 톡 시 에틸 에테르 , 에틸렌 글리콜 모노 메틸 에테르 , 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 와 같 은 글리콜 에테르 ; 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트 ; 에틸 락 테이트 및 메틸 락 테이트 와 같 은 락 테이트 ; 메틸 프로 피오 네이트 , 에틸 프로 피오 네이트 , 에틸 에 톡 시 프로 피오 네이트 , 및 메틸 - 2 - 하이드 록 시 이소부 티 레이트 와 같 은 프로 피오 네이트 ; 메틸 셀 로 솔 브 아세테이트 ; 톨루엔 및 자일렌 과 같 은 방향 족 탄화수소 ; 아세톤 , 메틸 에틸 케톤 , 시클로헥산 온 , 및 2 - 헵탄 온과 같 은 케톤 을 포함 할 수 있 다 . 이러 한 용매 는 단독 으로 또는 2 종 이상 용매 의 조합 으로 사용 될 수 있 다 .