적합 한 장치 들 의 예 들 은 특정 한 실시 예 들 에서 , 또한 ALE ( atomic layer etching ) 동작 들 및 ALD ( atomic layer deposition ) 동작 들 을 포함 하 는 , 순환 적 인 증착 및 활성 화 프로세스 들 에 적합 할 수 도 있 는 , ICP ( inductively coupled plasma ) 반응기 들 을 포함 한다 . ICP 반응기 들 이 본 명세서 에 상세히 기술 되 지만 , CCP ( capacitively coupled plasma ) 반응기 들 이 또한 사용 될 수 도 있 다는 것 이 이해 되 어야 한다 .