상기 회절 마스크 ( 129 ) 는 투과 영역 ( 129 c ) , 차단 영역 ( 129 a ) 및 회절 영역 ( 129 b ) 의 3 가지 영역 을 가지 는 포토 마스크 로서 , 상기 회절 영역 에 ( 129 b ) 는 슬릿 이 형성 되 어 있 어 포토 마스크 를 투과 하 는 빛 의 양 이 투과 영역 ( 129 c ) 보다 작 다 . 따라서 상기 회절 마스크 ( 129 ) 를 사용 한 노광 및 현상 공정 후 에 는 일정 한 단차 를 가지 는 포 토리 지스 트 가 형성 되 게 된다 .