상기 과제 를 달성 하 기 위한 본 발명 의 기판 처리 장치 의 일 면 ( aspect ) 은 , 기판 을 지지 하 는 기판 지지 부 와 , 상기 기판 의 상부 면 을 따라 이동 하 면서 상기 기판 으로 세정 유체 를 분사 하 는 유체 분사 부 , 및 상기 유체 분사 부 의 이동 경로 를 제공 하 는 경로 제 공부 를 포함 하 되 , 상기 유체 분 사 부 는 서로 다른 방향 으로 세정 유체 를 분사 하 는 복수 의 분사 노즐 을 구비 하 고 , 상기 복수 의 분사 노즐 은 , 상기 기판 의 표면 에 수직 방향 으로 세정 유체 를 분사 하 는 수직 분사 노즐 , 및 상기 기판 의 표면 에 경사진 방향 으로 세정 유체 를 분사 하 는 경사 분사 노즐 을 포함 한다 .