본 발명 의 하프톤 블랭크 마스크 의 포토 마스크 제조 방법 은 , a 2 ) 상기 a 1 ) ∼ e 1 ) 단계 의 제조 공정 을 통해 제조 된 블랭크 마스크 를 전자 빔 이나 단색광 의 레이저 로 노광 하 는 단계 ; b 2 ) 상기 a 2 ) 단계 에서 노광 된 부분 에 대해 현상액 을 이용 하 여 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 단계 ; c 2 ) 상기 b 2 ) 단계 에서 형성 된 레지스 트 패턴 을 마스킹 으로 이용 하 여 상기 반 투과막 , 차광막 과 반사 방지 막 을 습식 또는 건식 식각 공정 을 통해 식각 하 는 단계 ; d 2 ) 상기 c 2 ) 단계 에서 패턴 형성 에 사용 된 레지스 트 막 을 제거 하 는 단계 ; e 2 ) 상기 d 2 ) 단계 에서 1 차 패턴 이 형성 된 상태 의 포토 마스크 에 레지스 트 막 을 형성 하 는 단계 ; f 2 ) 상기 e 2 ) 단계 를 통한 마스크 에 전자 빔 이나 단색광 의 레이저 로 노광 하 는 단계 ; g 2 ) 상기 f 2 ) 단계 에서 노광 된 부분 에 대해 현상액 을 이용 하 여 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 단계 ; h 2 ) 상기 g 2 ) 단계 에서 형성 된 레지스 트 패턴 을 마스킹 으로 이용 하 여 차광막 과 반사 방지 막 을 습식 또는 건식 식각 공정 을 통해 식각 하 는 단계 ; i 2 ) 상기 h 2 ) 단계 에서 패턴 형성 에 사용 된 레지스 트 막 을 제거 하 고 세정 하 는 단계 를 포함 하 여 이루어진다 .