반도체 소자 제조 용 로드 락 챔버 가 제공 된다 . 본 발명 의 일실 시예 에 따른 반도체 소자 제조 용 로드 락 챔버 는 , 기판 을 로딩 하 고 펌핑 작업 과 벤 팅 작업 이 이루어지 는 챔버 와 , 챔버 의 프런트 엔드 모듈 과 인접 한 측면 에 설치 되 며 기판 을 프런트 엔드 모듈 로 또는 프런트 엔드 모듈 로부터 이송 하 는 경로 인 제 1 이송 도어 와 , 챔버 의 전달 챔버 와 인접 한 측면 에 설치 되 며 기판 을 공정 챔버 로 또는 공정 챔버 로부터 이송 하 는 경로 인 제 2 이송 도어 와 , 챔버 내 에 설치 되 며 기판 을 지지 하 는 기판 척 과 , 챔버 내 에 설치 되 며 기판 척 을 포함 하 는 사각형 공간 을 형성 하 기 위해 챔버 내부 를 제 1 및 2 공간 으로 분할 하 는 슬릿 도어 와 , 챔버 내부 를 진공 상태 로 형성 하 기 위해 챔버 내부 의 공기 를 배출 시키 는 제 1 및 2 펌핑 라인 및 챔버 내부 의 압력 을 조절 하 기 위해 챔버 내부 로 벤 팅 용 가스 를 공급 하 는 제 1 및 2 벤 팅 라인 을 포함 한다 .