현재 주로 사용 되 는 파인 패턴 마스크 세정 방식 은 습식 공정 으로 , 별도 의 세정 라인 을 구성 해 설비 투자 비 가 높 고 , 세정 시간 이 오래 걸리 는 단점 이 있 다 . 특히 OLED 공정 에 사용 되 는 파인 패턴 마스크 는 제작비 가 많이 들 고 , 세정 품질 이 제품 의 품질 에 직접 적 으로 영향 을 미치 는 단점 이 있 다 . 이 에 따라 업계 에서 는 패턴 마스크 손상 이 적 고 불순물 유입 이 거의 없 는 건식 세정 공정 과 장비 개발 에 대한 요구 가 높 았 다 .