선택 적 으로 , 반도체 처리 장치 ( 30 ) 는 , 기판 , 제 1 반응물 , 제 2 반응물 , 및 제 3 반응물 중 하나 이상 의 온도 를 증가 시킴 으로써 , 반응 을 활성 화 하 는 히터 를 구비 한다 . 주기 적 또는 ALD 공정 을 수행 하 기 위해 특별히 설계 된 예시 적 인 단일 웨이퍼 반응기 는 상표명 Pulsar ®, Emerald ®, Dragon ®, 및 Eagle ® 인 네덜란드 Almere 의 ASM International NV 사 로부터 상업 적 으로 이용 가능 하 다 . ALD 공정 을 수행 하 기 위해 특별히 고안 된 예시 적 배 치식 ALD 반응기 는 상표명 A 400 TM 및 A 412 TM 로 ASM International NV 사 로부터 상업 적 으로 또한 이용 가능 하 다 .