도 1 e 를 참조 하 면 , 유전체 막 을 형성 하 기 전 에 세정 공정 을 실시 한다 . 이 로써 , EFH 가 더 낮 아 져 소자 분리 막 ( 116 ) 내 의 보이드 가 일부 노출 된다 . 이때 , 세정 공정 은 O 2 및 N 2 가스 를 혼합 한 혼합 가스 분위기 에서 건식 ( dry ) 식각 공정 으로 실시 한다 . 그런 다음 , 도전 막 ( 104 ) 상부 에 형성 된 제 1 절 연막 ( 106 ) 을 제거 한다 .