최신 의 EUVL 에서 , 비대칭 조명 분포 는 전형 적 으로 레티 클로 부터 타 겟 웨이퍼 로 의 개선 된 패턴 전달 을 위해 사용 되 는데 , 소스 - 동공 평면 ( source - pupil plane ) 의 일부 는 다른 것 보다 조명 하 는 것 이 더 중요 하 기 때문 이 다 . 전형 적 으로 , 펠리 클 멤 브레인 을 통해 투과 된 광 의 비 - 산란 분획 ( non - scattered fraction ) 은 산란 분획 ( scattered fraction ) 보다 더 크 거나 훨씬 더 크 다 . 예 를 들 어 , 비 - 산란 분획 은 펠리 클 멤 브레인 을 통해 투과 된 광의 90 % 내지 95 % 일 수 있 고 , 산란 분획 은 펠리 클 멤 브레인 을 통해 투과 된 광의 5 % 내지 10 % 일 수 있 다 . 산란 된 광 분획 은 레티 클로 부터 타 겟 웨이퍼 로 의 패턴 전달 를 위해 일반 적 으로 사용 되 지 않 거나 심지어 해 가 될 수 있 다 . 그러나 , 우선 적 인 산란 축 을 갖 는 펠리 클 멤 브레인 의 사용 은 이미 징 시스템 의 수용 콘 에 의해 실제로 캡 처 된 산란 된 광 의 총량 이 의도 적 으로 펠리 클 멤 브레인 의 배향 에 의해 ( 우선 적 산란 축 의 의도 적 인 배향 의 결과 로서 ) 감소 될 수 있 게 한다 . 즉 , 비 - 산란 된 광 에 대한 산란 된 광 의 비율 이 감소 될 수 있 다 . 바람직 하 게 는 , 조명 분포 에 대한 우선 적 산란 축 의 배향 은 비율 이 최소 화 되 도록 되 어 있 다 .