이 경우 에 , 부상 부재 ( 10 ) 의 기준면 ( 10 a ) 에 는 전면 에 복수 의 시너 토출구 ( 11 ) 및 흡 인구 ( 12 ) 가 형성 되 고 있 기 때문 에 유리 기판 ( G ) 는 휘어진 상태 가 없 는 평탄 한 상태 로서 부상 량 을 제어 가능 하 다 . 이 때문 에 , 유리 기판 ( G ) 를 기준면 ( 10 a ) 에 매우 가까이 근접 시킬 수 가 있 어 50 ~ 100 μ m 라고 하 는 매우 작 은 부상 량 으로 할 수 가 있 다 . 따라서 , 시너 토출구 ( 11 ) 과 유리 기판 ( G ) 의 거리 를 매우 작 게 해 , 고농도 의 시너 에 의해 지극히 효율 적 으로 단시간 에 균일 한 리플 로우 처리 를 실시 할 수 가 있 다 .