본 발명 은 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정 방법 , 반도체 디바이스 용 기판 의 제조 방법 및 반도체 디바이스 용 기판 에 관한 것 으로 , 상세 하 게 는 , 표면 에 코발트 또는 코발트 합금 을 함유 하 는 배선 및 전극 중 의 적어도 하나 를 갖 는 반도체 디바이스 용 기판 표면 을 효과 적 으로 세정 하 기 위한 세정제 조성물 , 이 세정제 조성물 을 사용 한 세정 방법 , 반도체 디바이스 용 기판 의 제조 방법 및 반도체 디바이스 용 기판 에 관한 것 이 다 .