전술 된 변경 사항 들 또는 다른 것 들 이 여기 에 설명 된 광학 측정 시스템 들 및 하위 시스템 들 내 에서 , 그것 들 의 범위 에서 벗어나 지 않 으면서 이루어질 수 있 다 . 예 를 들 어 , 어떤 예 들 은 반도체 웨이퍼 프로세싱 장비 에 연관 하 여 설명 되 었 지만 , 여기 에 설명 된 광학 측정 시스템 들 이 롤 - 대 - 롤 박막 프로세싱 , 태양 전지 제조 , 또는 높 은 정밀도 광학 측정 이 요구 되 는 임의 의 응용 과 같 은 다른 유형 의 프로세싱 장비 에 적용 될 수 있 다는 것 이 이해 될 수 있 다 . 더욱이 , " 당해 발명 의 양태 들 을 설명 할 때 "" 웨이퍼 "" 란 용어 가 사용 될 수 있 지만 ; 석영 판 ", 위상 편 이 마스크 들 , LED 기판 들 , 및 다른 비 - 반도체 프로세싱 관련 기판 들 및 고체 , 기체 , 및 액체 가공물 들 을 포함 하 는 가공물 들 과 같 은 다른 유형 들 의 가공물 들 이 사용 될 수 있 다는 것 이 이해 되 어야 한다 .