본 발명 은 정렬 마크 가 그 들 의 형태 및 / 또는 위치 및 / 또는 정렬 과 관련 하 여 이상 적 으로 생성 되 지 않 은 경우 에 도 높 은 정밀도 로 2 개 의 기판 의 정렬 을 유리 하 게 허용 한다 . 달성 될 수 있 는 정렬 정확도 는 주로 정렬 공정 에 사용 되 는 정렬 마크 의 수 에 의존 한다 . 복수 의 정렬 마크 , 특히 품질 이 낮 은 정렬 마크 를 사용 한 결과 , 품질 결점 은 최종 결과 로부터 평균 화 된다 . 복수 의 정렬 마크 의 평균 을 취하 는 것 에 의존 하 는 정렬 공정 의 경우 , 일 측면 의 모든 마크 가 렌즈 시스템 의 시야 내 에 동시 에 위치 하 는 것 이 특히 유리 하 다 .