스퍼터링 에 의해 내부 전극 ( 26 ) 과 절 연막 ( 22 ) 상 에 금속 시드 층 을 형성 한다 ( 단계 S 13 ) . 이 스퍼터링 프로세스 에서 는 , 내부 전극 ( 26 ) 의 표면 상 에 있 는 산화층 을 역 스퍼터링 에 의해 먼저 제거 하 는 것 이 바람직 하 다 . 후속 하 여 , Ti 나 Cu 와 같 은 금속 시드 를 스퍼터링 한다 . 내부 전극 ( 26 ) 의 표면 상 의 부식 을 방지 하 기 위 해 , 절 연막 ( 22 ) 의 RIE 와 금속 시드 의 스퍼터링 사이 의 시간 은 3 시간 이하 가 바람직 하 며 길 어도 24 시간 이하 라는 점 에 주목 한다 .