투영 시스템 ( PS ) 은 복수 의 광학 요소 ( 예 를 들 어 , 렌즈 ) 를 포함 할 수 있 으며 , 수차 ( 필드 전체 의 퓨 필 평면 에 걸친 위상 변화 ) 를 보정 하 기 위하 여 하나 이상 의 광학 요소 를 조정 하 도록 구성 된 조정 메커니즘 ( AM ) 을 더 포함 할 수 있 다 . 이 를 달성 하 기 위해 , 조정 메커니즘 은 하나 이상 의 상이 한 방식 으로 투영 시스템 ( PS ) 내 의 하나 이상 의 광학 요소 ( 예 를 들 어 , 렌즈 ) 를 조작 하 도록 작동 가능 할 수 있 다 . 투영 시스템 은 그 의 광학 축선 이 z 방향 으로 연장 되 는 좌표계 를 가질 수 있 다 . 조정 메커니즘 은 다음 의 , 하나 이상 의 광학 요소 를 변위 시키 는 것 ; 하나 이상 의 광학 요소 를 기울이 는 것 ; 및 / 또는 하나 이상 의 광학 요소 를 변형 시키 는 것 의 임의 의 조합 을 수행 하 도록 작동 가능 할 수 있 다 . 광학 요소 의 변위 는 임의 의 방향 ( x , y , z 또는 이 들 의 조합 ) 일 수 있 다 . z 축 을 중심 으로 하 는 회전 이 비 - 회전 적 대칭 비 구면 광학 요소 에 대해 사용 될 수 있 지만 , 광학 요소 의 기울어짐 은 전형 적 으로 x 및 / 또는 y 방향 으로 축 을 중심 으로 회전 함 으로써 광학 축 에 수직 인 평면 을 벗어난다 . 광학 요소 의 변형 은 저 주파 형상 ( low frequency shape ) ( 예 를 들 어 , 비점 수차 ( astigmatic ) ) 및 / 또는 고주파 형상 ( high frequency shape ) ( 예 를 들 어 , 자유 형태 비 구면 ( free form aspheres ) ) 을 포함 할 수 있 다 . 광학 요소 의 변형 은 , 예 를 들 어 광학 요소 의 하나 이상 의 측 부 에 힘 을 가하 도록 하나 이상 의 액추에이터 를 이용 함 으로써 및 / 또는 광학 요소 의 하나 이상 의 선택 된 영역 을 가열 하 도록 하나 이상 의 가열 요소 를 이용 함 으로써 수행 될 수 있 다 . 일반 적 으로 , 아포 다 이제 이 션 ( 퓨 필 평면 에 걸친 투과 변화 ) 을 보정 하 기 위해 투영 시스템 ( PS ) 을 조정 하 는 것 이 가능 하 지 않 을 수 있 다 . 리소그래피 장치 ( LA ) 에 대한 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , 마스크 ) ( MA ) 를 설계 하 는 경우 에 투영 시스템 ( PS ) 의 투과 맵 이 사용 될 수 있 다 . 컴퓨터 리소그래피 기술 을 이용 하 여 , 패 터닝 디바이스 ( MA ) 는 아포 다 이제 이 션 을 적어도 부분 적 으로 보정 하 도록 설계 될 수 있 다 .