대안 적 으로 , 얇 은 금속 층 이 우선 실린더 표면 상 에 직접 침작 될 수 있 고 , 이후 얇 은 ( 예 , 100 nm 미만 ) 엘라스토머 층 은 금속 층 의 정상부 상 에 침착 되 고 본 발명 에 기술 된 방법 중 임의 의 것 에 따라 패턴 화 될 수 있 다 . 생성 된 마스크 는 엘라스토머 마스크 패턴 가장자리 가 패턴 을 생성 하 는 데 사용 되 는 포토레지스트 에서 광학계 의 조절 을 제공 하 는 플라스몬 마스크 로서 작용 할 수 있 다 .