아울러 , 상기 각질 제거 용 돌기 의 높이 를 60 ~ 70 ㎛ 로 낮추 어 줌 으로써 각질 제거 용 돌기 의 식각 형성 과정 에서 돌기 의 측면 이 깊 게 함입 되 도록 형성 되 는 현상 을 방지 할 수 있 으며 , 이 에 따라 각질 제거 시 발생 하 는 각질 조각 내지 가루 가 상기 각질 제거 용 돌기 의 측면 에 쌓임 에 따라 각질 제거 성능 이 떨어지 는 문제 를 해결 할 수 있 으며 , 아울러 각질 제거 과정 에서 응력 집중 으로 인한 각질 제거 용 돌기 의 파단 현상 을 방지 할 수 있 다 .