300 ℃ 내지 500 ℃ 범위 의 공작물 ( workpiece ) 온도 에서 바이어스 전압 에 의해 가속 화 된 고도 로 이온 화 된 N 이온 의 형태 로 플 라즈 마 질화 를 수행 하 는 것 이 유리 하 다 . 이 경우 적합 한 방법 중 하나 는 아크 보조 글 로우 방전 ( arc - assisted glow discharge ) 방법 일 수 있 다 . 이 작업 에서 아크 증발기 는 추가 로 냉각 된 애노드 의 방향 으로 전자 를 생성 하 고 가속 시키 고 , 형성 되 는 이온 은 차폐 될 수 있 습니다 . 전자 의 흐름 에 의해 여기 되 는 질소 는 10 - 1 mbar ~ 10 - 3 mbar 범위 의 압력 에서 처리 될 표면 위 로 이온 화 되 고 , 이 이온 화 된 질소 는 지 면 전위 ( 지구 ) 또는 기판 약 200 V - 5000 V 의 음 의 바이어스 전압 을 갖 는다 . 패 시베이 션 층 , 바람직 하 게 는 오스테나이트 ( austenitic ) 스틸 의 경우 크롬 산화물 층 에 충돌 하 는 N 이온 은 표면 근처 주입 / 서브 플레이트 화 및 / 또는 내부 확산 을 겪 을 수 있 다 . 　 이 경우 표면 은 동시 에 청소 된다 . 이후 에 또는 동시 에 수행 되 는 탄소 임 플랜트 또는 서브 플랜트 와 함께 , 높 은 탄소 및 질소 함량 을 갖 는 에지 층 이 여기 에서 형성 될 수 있 다 . 여기 서 탄소 는 광 아크 증발기 및 > 500 V 의 높 은 가속 전압 을 사용 하 여 바람직 하 게 주입 된다 .