그리고 , 승강 기구 에 의해 덮개 체 ( 20 ) 가 상 방향 으로 구동 되 어 웨이퍼 보 우트 ( 80 ) 가 하 단 개구 ( 11 C ) 로부터 반응 용기 ( 11 ) 내 에 반입 됨 과 더불 어 , 덮개 체 ( 20 ) 에 의해 반응 용기 ( 11 ) 의 하단 개구 ( 11 C ) 가 기밀 하 게 폐색 된 상태 가 된 후 , 배기 수단 이 작동 되 어 반응 용기 ( 11 ) 내 가 미리 정해진 압력 으로 감압 됨 과 더불 어 , 통형 히터 ( 25 ) 가 작동 되 어 , 반응 용기 ( 11 ) 에서 의 각각 의 가열 영역 ( Z 1 ∼ Z 5 ) 이 웨이퍼 ( W ) 가 처리 되 어야 할 목표 온도 로 가열 되 고 , 이 상태 에 있 어서 , 가스 공급 배관 ( 15 A ) 으로부터 반응 용기 ( 11 ) 내 에 적절 한 성막 용 가스 가 도입 되 는 것 에 의해 , 웨이퍼 ( W ) 에 대하 여 성막 처리 가 행해진다 . 제 어부 ( 140 ) 는 , 열처리 장치 전체 의 동작 을 제어 하 기 위한 연산 처리 부이 며 , 예컨대 컴퓨터 로 구성 되 어도 좋 다 .