또한 , 상기 각 실시 형태 에서 는 , 스캐닝 · 스텝 퍼 에 본 발명 이 적용 된 경우 에 대해 설명 했 지만 , 이것 에 한정 되 지 않 고 , 스텝 퍼 등 의 정지형 노광 장치 에 본 발명 을 적용 해도 된다 . 스텝 퍼 등 이 라도 , 노광 대상 의 물체 가 탑재 된 스테이지 의 위치 를 인코더 로 계측 함 으로써 , 간섭계 를 사용 하 여 그 스테이지 의 위치 를 계측 하 는 경우 와 달리 , 공기 요동 에서 기인 하 는 위치 계측 오차 의 발생 을 거의 영 으로 할 수 있 고 , 인코더 의 계측 값 에 기초 하 여 , 스테이지 를 고정 밀도 로 위치 결정 하 는 것 이 가능 해져 , 결과 적 으로 고정 밀도 한 레티 클 패턴 의 물체 상 으로 의 전사 가 가능 해진다 . 또 , 쇼트 영역 과 쇼트 영역 을 합성 하 는 스텝 · 앤드 · 스티치 방식 의 축소 투영 노광 장치 에 도 본 발명 은 적용 할 수 있 다 .