본 발명 의 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 ( 이하 , 「 본 발명 의 세정제 조성물 」 이 라고 칭하 는 경우 가 있 다 ) 은 , 코발트 또는 코발트 합금 을 함유 하 는 배선 및 전극 중 의 적어도 하나 를 갖 는 반도체 디바이스 용 기판 의 세정제 조성물 이 다 . 이것 은 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정 , 바람직 하 게 는 , 반도체 디바이스 제조 에 있 어서 의 화학 적 기계 적 연마 ( CMP ) 공정 후 에 실시 되 는 , 반도체 디바이스 용 기판 의 세정 공정 의 세정제 조성물 로서 , 상기 반도체 디바이스 용 기판 의 배선 부분 및 전극 부분 중 의 적어도 하나 가 코발트 또는 코발트 합금 을 함유 하 는 것 에 사용 된다 . 이 세정제 조성물 은 , 이하 의 성분 ( A ) 및 ( B ) 를 함유 한다 .