본 발명 의 구체 예 에서 , 약 5 중량 % 내지 약 40 . 0 중량 % 의 화합물 ( I ) 의 옥살 레이트 염 및 이 의 용매화물 , 약 15 중량 % 내지 약 95 중량 % 의 희석제 , 약 0 . 1 중량 % 내지 약 10 중량 % 의 결합제 , 약 0 . 1 중량 % 내지 약 20 . 0 중량 % 의 윤활제 , 약 0 . 1 중량 % 내지 약 30 중량 % 의 붕해제 및 약 0 . 1 중량 % 내지 약 20 중량 % 의 안정 화제 를 포함 하 는 약학 적 조성물 이 제공 된다 . 한 양태 에서 , 화합물 ( I ) 의 옥살 레이트 염 및 이 의 용매화물 은 테 넬 리글 립 틴 2 . 5 옥살 레이트 또는 테 넬 리글 립 틴 3 . 0 옥살 레이트 및 이 의 용매화물 이 다 . 본 구체 예의 추가 의 양태 에서 , 용매화물 은 n . 수화물 이 다 . 본 구체 예의 추가 의 또 다른 양태 에서 , 화합물 ( I ) 의 옥살 레이트 염 및 이 의 용매화물 이 테 넬 리글 립 틴 2 . 5 옥살 레이트 n . 수화물 또는 테 넬 리글 립 틴 3 . 0 옥살 레이트 n . 수화물 이 며 , 여기 에서 , n 은 1 . 0 내지 4 . 0 이 다 .