본 실시 형태 에 따른 기판 처리 장치 ( 이하 , 간단히 「 처리 장치 」 라고 함 ) ( 100 ) 는 , 웨이퍼 ( 200 ) 를 플라스마 처리 하 는 처리 로 ( 202 ) 를 구비 하 고 있 다 . 처리 로 ( 202 ) 에 는 , 처리 실 ( 201 ) 을 구성 하 는 처리 용기 ( 203 ) 가 마련 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 203 ) 는 , 제 1 용기 인 돔 형 의 상측 용기 ( 210 ) 와 , 제 2 용기 인 사발 형 의 하측 용기 ( 211 ) 를 구비 하 고 있 다 . 상측 용기 ( 210 ) 가 하측 용기 ( 211 ) 위 에 덮 임 으로써 , 처리 실 ( 201 ) 이 형성 된다 . 상측 용기 ( 210 ) 는 , 예 를 들 어 산화알루미늄 ( Al 2 O 3 ) 또는 석영 ( SiO 2 ) 등 의 비금속 재료 로 형성 되 어 있 다 . 하측 용기 ( 211 ) 는 , 예 를 들 어 알루미늄 ( Al ) 으로 형성 되 어 있 다 .