본 발명 은 상기 와 같 은 종래 기술 의 문제점 을 해결 하 기 위한 것 으로 , 에칭 선택 성 이 높 고 , 다중 에칭 에 대한 내성 이 충분 하 며 , 레지스 트 와 이면 층 간 의 반사 성 을 최소 화 하 는 반사 방지 특성 을 갖 는 조성물 을 사용 하 여 리 쏘 그래픽 기술 을 수행 하 는 데 사용 될 수 있 는 신규 한 하드 마스크 조성물 을 제공 하 는 것 을 그 목적 으로 한다 .