상기 에서 , 절연성 베리 어막 ( 520 ) 이 고 유전 절 연막 ( Al 2 O 3 막 또는 HfO 2 막 ) 으로 형성 되 면 절연성 베리 어막 ( 520 ) 을 블로킹 절 연막 으로 사용 할 수 있 다 . 따라서 , 다층막 ( 528 ) 에서 첫 번 째 산화 막 ( 522 ) 은 생략 할 수 있 다 . 이 경우 , 전하 저 장막 으로 사용 되 는 질화 막 ( 524 ) 은 절 연막 ( 526 ) 및 절연성 베리 어막 ( 520 ) 의 사이 에 위치 하 게 된다 .