반도체 제조 공정 에 있 어서 는 각각 의 단계 마다 사진 공정 이 필수 적 으로 쓰여 지 고 있 는데 , 이 사진 공정 은 감광막 을 웨이퍼 상 에 균일 하 게 도포 하 고 , 스텝 퍼 ( stepper ) 와 같 은 노광 ( exposing ) 장비 를 사용 하 여 , 마스크 혹은 레티 클 ( reticle ) 상 의 패턴 을 축소 투영 노광 시킨 후 , 현상 ( developing ) 과정 을 거쳐 원 하 는 2 차원 패턴 의 감광막 을 형성 시키 기 까지 의 모든 공정 을 말 한다 .