도 4 에 나타나 는 바 와 같이 , 광 빔 ( 38 ) 을 90 ° 편향 된 부분 광 빔 ( 42 ) 으로 분할 하 고 후속 해서 부분 광 빔 ( 42 ) 을 재차 90 ° 만큼 편향 시킴 으로써 , 부분 광 빔 ( 46 ) 의 빔 프로파일 ( 48 ) 이 부분 광 빔 ( 46 ) 의 전파 방향 에 대해 재 배향 된다 . 따라서 , 입사 광 빔 ( 38 ) 의 빔 프로파일 ( 50 ) 의 원래 장축 은 이제 부분 광 빔 들 ( 46 ) 로 형성 된 광 빔 의 단축 방향 으로 배치 되 고 , 입사 광 빔 ( 38 ) 의 빔 프로파일 ( 50 ) 의 원래 단축 은 부분 광 빔 ( 46 ) 으로부터 형성 된 광 빔 의 장축 방향 으로 배치 된다 . 도 4 를 참조 하 면 , 개별 계단 미러 요소 ( 40 ) 에 할당 된 빔 프로파일 섹션 ( 50 ) 의 측면 날카로운 에지 ( 52 ) 는 각각 회전 된 빔 프로파일 섹션 ( 48 ) 의 수직 방향 으로 , 즉 x - 축 을 따라 , 즉 부분 광 빔 ( 46 ) 의 단축 을 따라 배치 된다 . 날카로운 에지 들 ( 52 ) 이 붕괴 되 도록 부분 광 빔 들 ( 46 ) 의 이후 중첩 , 및 이미지 평면 ( 61 ) 상 에 이미 징 장치 ( 36 ) 에 의한 날카로운 에지 ( 52 ) 의 이미 징 에 의해 , 이하 에서 더 상세히 설명 되 는 바 와 같이 , 단축 을 따라 가파른 플랭크 를 가진 평평 하 고 균일 한 강도 프로 파일 을 갖 는 조명 라인 ( 14 ) 이 생성 된다 .