이러 한 바람직 한 구성 에 따르 면 , 증착 원 개 구 및 제어판 과 , 증착 마스크 의 상대 적 위치 관계 가 시시각각 변화 하 므로 , 당해 상대 적 위치 관계 에 기인 하 는 증착 입자 의 밀도 의 편차 가 평균 화 된다 . 또한 , 기판 의 어느 지점 에 도달 하 는 증착 입자 가 유래 하 는 증착 원 개 구 및 제어판 이 시시각각 변화 하 므로 , 증착 원 개 구 및 제어판 의 정밀도 편차 에 기인 하 는 증착 입자 의 밀도 의 편차 가 평균 화 된다 . 이 들 의 결과 , 기판 상 에 형성 되 는 피막 의 두께 불 균일 을 적 게 할 수 있 다 .