종래 의 아모르 퍼스 실리콘 TFT 가 일반 적 으로 6 매 마스크 로 제조 되 고 있 는 것 에 대하 여 , 본 발명 에서 는 4 매 마스크 로 TFT 를 제조 하 는 것 이 가능 하 다 . 본 발명 에 의한 마스크 수 삭감 프로세스 를 채용 함 으로써 , 제조 공정 을 종래 보다 줄일 수 있 기 때문 에 , 제조 에 걸리 는 시간 및 반도체 장치 의 제조 비용 를 삭감 하 는 것 이 가능 하 게 된다 .