본 발명 에서 는 격벽 ( 4 ) 의 측면 뿐 아니 라 격벽 의 저면 부도 모두 동일 한 재질 로 구성 할 수 있 다 . 종래 는 도 22 에 나타낸 바 와 같이 격벽 의 저 면부 에 유전체 막 등 이 형성 되 어 있 지만 , 본 발명 에서 는 유전체 층 ( 20 ) 을 격벽 ( 4 ) 와 일체 로 하 는 것 이 가능 하 다 . 이 때문 에 , 유전체 층 ( 20 ) 형성 의 1 공정 을 생략 할 수 있 을 뿐 아니 라 , 격벽 에 축적 되 는 전하 의 제거 에 도 효과 적 이 다 .