상기 한 점 에 대해 , 열처리 유닛 ( U 8 ) 에서 는 , 웨이퍼 ( W ) 의 외주 에 배기 구멍 ( 71 ) 을 형성 하 고 , 또한 , 웨이퍼 ( W ) 표면 을 향해 가스 가 공급 되 는 가스 토출 부 ( 50 ) 외 에 웨이퍼 ( W ) 의 외주 에 있 어서 도 기체 유로 ( 81 ) 를 형성 하 고 있 다 . 이 에 의해 , 웨이퍼 ( W ) 의 외주 단부 근방 으로부터 배기 구멍 ( 71 ) 으로 향하 는 상승류 가 형성 된다 . 이때 , 가스 토출 부 ( 50 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 의 표면 에 공급 되 어 웨이퍼 ( W ) 표면 을 따라 이동하 는 승화 물 을 포함 할 수 있 는 기체 도 , 상승류 와 함께 배기 구멍 ( 71 ) 으로 이동 한다 . 따라서 , 상승류 보다 외주 측 의 주변 부재 등에 의 승화 물 의 부착 을 방지 할 수 있 다 . 한편 , 배기 구멍 ( 71 ) 은 , 상방 에서 보 았 을 때 에 웨이퍼 ( W ) 에 가까운 위치 이 며 또 한 웨이퍼 ( W ) 의 둘레 가장자리 보다 외측 에 배치 된 영역 을 포함 하 고 있 는 구성 으로 한 경우 쪽 이 , 승화 물 의 비산 을 억제 할 수 있 다 . 상방 에서 보 았 을 때 에 배기 구멍 ( 71 ) 이 웨이퍼 ( W ) 의 외주 에 형성 되 어 있 는 경우 여도 , 배기 구멍 ( 71 ) 이 챔버 의 측벽 [ 상부 챔버 ( 43 ) 의 측벽 ( 43 b ) ] 에 가까운 위치 에 있 으면 , 상승류 가 챔버 의 측벽 근방 에 형성 되 게 된다 . 이러 한 경우 에 는 , 승화 물 의 비산 가능 성 이 높 아 진다고 생각 된다 . 즉 , 배기 구멍 ( 71 ) 은 , 상방 에서 보 았 을 때 에 웨이퍼 ( W ) 와 근접 하 는 위치 에 형성 하 는 구성 으로 함 으로써 , 승화 물 의 비산 을 더욱 억제 할 수 있 다 .