본 발명 의 중합법 으로 얻 어 진 중합체 의 분산도 ( 분자량 분포 ) 는 일반 적 인 라디칼 중합물 보다 낮 다 . 이것 에 의해서 , 해상도 와 레지스 트 프로 파일 이 우수 하 고 , 레지스 트 패턴 의 측벽 이 매끄럽 고 , 러프 니스 성 이 향상 된다 . 본 발명 에 사용 하 는 중합체 의 분산도 는 1 . 5 이하 이 지만 , 바람직 하 게 는 1 . 0 ~ 1 . 40 미만 이 고 , 더욱 바람직 하 게 는 1 . 0 ~ 1 . 30 미만 이 다 . 분자량 분포 가 작 을수록 레지스 트 패턴 의 측벽 이 매끄러워 지 고 , 러프 니스 성 이 더욱 향상 된다 .