반도체 층 ( 328 ) 은 p 형 또는 n 형 의 불순물 을 포함 하 는 소스 영역 ( Source Region ) , 드레 인 영역 ( Drain Region ) 및 소스 영역 및 드레 인 영역 사이 에 채널 ( Channel ) 을 포함 할 수 있 고 , 채널 과 인접 한 소스 영역 및 드레 인 영역 사이 에 는 저 농도 도핑 영역 을 포함 할 수 있 다 .