웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 이동과 병렬 적 으로 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 를 구동 하 고 , 투영 광학계 ( PL ) 의 바로 아래 에 기준 마크 판 ( FM 2 ) 을 위치 결정 한다 . 이 에 앞서 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 에 탑재 된 Y 헤드 ( EY ) 와 XZ 간섭계 ( 126 ) 를 이용 하 는 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 XY 평면 내 의 위치 계측 으로부터 , Y 간섭계 ( 17 ) 와 XZ 간섭계 ( 116 및 126 ) 를 이용 하 는 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 XY 평면 내 의 위치 계측 으로 전환 한다 . 그 다음 , 레티 클 얼라인먼트 검출 계 ( 13 ) ( 도 7 참조 ) 를 이용 하 여 기준 마크 판 ( FM 2 ) 상 의 한 쌍 의 제 1 기준 마크 를 검출 하 고 , 제 1 기준 마크 와 대응 하 는 레티 클 ( R ) 상 의 레티 클 얼라인먼트 마크 의 웨이퍼 면 상 의 투영 이미지 의 상대 위치 를 검출 한다 . 또한 , 이 검출 은 , 투영 광학계 ( PL ) 및 액침 영역 ( 14 ) 을 형성 하 는 액체 ( Lq ) 를 통해 수행 된다 .