나프탈렌 포름알데히드 계 중합체 가 구성 단위 ( 3 ) 을 가짐 으로써 본 발명 의 리 소그라 피용 하층 막 형성 조성물 로부터 형성 되 는 하층 막 은 193 ㎚ 에서 의 광학 특성 및 드라이 에칭 내성 이 뛰어나 다 . 구성 단위 ( 3 ) 에 있 어서 , 트리시 클로 데칸 구조 및 α - 나프톨 ( 1 - 나프톨 ) 구조 를 포함 하 는 것 이 성능 과 원료 비용 의 밸런스 가 좋 기 때문 에 특히 바람직 하 다 .