종래 의 저 항압력 식 터치 패널 의 제조 방법 에 있 어서 는 , 일반 적 으로 이온 빔 스퍼터링 ( ion - Beam Sputtering ) 혹은 증착 방법 으로 상 ? 하부 기판 의 표면 에 ITO 층 을 침적 하 여 투명 도전 층 을 형성 한다 . 상기 투명 도전 층 의 제조 공정 에 있 어서 는 , 진공 환경 이 필요 할 뿐 만 아니 라 200 ～ 300 ℃ 까지 의 가열 도 필요 하 여 ITO 층 의 제조 비용 이 비교 적 높 아 진다 . 또한 , 상기 ITO 층 은 투명 도전 층 으로서 기계 적 성능 이 떨어지 고 , 완 곡 이 어려우 며 , 저항 치 의 분포 가 균일 하 지 않 은 결점 이 있 다 . 또한 , ITO 는 습한 공기 중 에서 의 투명도 가 저하 된다 . 이 로 인해 , 종래 의 저 항압력 식 터치 패널 및 이 를 이용 한 표시 장치 는 , 내용 성 ( 耐用 性 ) 이 떨어지 고 , 민감 도 ( 敏感 度 ) 가 낮 으며 , 선형 성 ( 線形 性 : linearity ) 및 정확도 가 떨어진다 .