상기 감광제 는 특정 파장 의 빛 을 받 아 현상액 ( developing solution ) 에서 의 용해도 가 변하 는 특성 을 이용 해 후속 현상 ( develop ) 처리 과정 중 빛 을 받 은 부분 과 그렇 지 않 은 부분 을 선택 적 으로 제거 할 수 있 는 물질 을 말 한다 . 일반 적 으로 많이 사용 되 는 감광제 는 현상액 ( developing solution ) 을 이용 하 여 빛 에 의하 여 선택 적 으로 변화 된 부분 을 제거 하 게 되 는데 , 빛 을 받 은 부위 가 현상액 ( developing solution ) 에 의해 잘 녹 는 경우 를 positive resist , 그 반대 를 negative resist 라고 한다