본 발명 의 실시 형태 에 따른 물품 의 제조 방법 은 , 예 를 들 면 , 반도체 디바이스 등 의 마이크 로 디바이스 나 미세 구조 를 갖 는 소자 , 플랫 패널 디스플레이 등 의 물품 을 제조 하 는데 적합 하 다 . 본 실시 형태 의 물품 의 제조 방법 은 , 기판 W 에 도포 된 감광제 에 상기 한 노광 장치 ( 1 ) 를 사용 해서 잠상 패턴 을 형성 하 는 공정 ( 기판 W 를 노광 하 는 공정 ) 과 , 이러 한 공정 에서 잠상 패턴 이 형성 된 기판 W 를 현상 ( 가공 ) 하 는 공정 을 포함 한다 . 또한 , 이러 한 제조 방법 은 , 다른 주지 의 공정 ( 산화 , 성막 , 증착 , 도핑 , 평탄 화 , 에칭 , 레지스 트 박리 , 다 이싱 , 본딩 , 패 키 징 등 ) 을 포함 한다 . 본 실시 형태 의 물품 의 제조 방법 은 , 종래 의 방법 과 비교 하 여 , 물품 의 성능 · 품질 · 생산 성 · 생산 코스트 의 적어도 1 개 에 있 어서 유리 하 다 .