이때 , 기판 은 리프팅 부 ( 300 ) 에 의해 스테이지 ( 100 ) 로부터 일변 이 리프팅 된 상태 에서 언 로딩 된다 . 또한 , 기판 ( 10 ) 이 리프팅 부 ( 300 ) 에 의해 스테이지 ( 100 ) 로부터 일변 이 리프팅 되 는 동안 에 는 , 기판 과 스테이지 ( 100 ) 의 사이 에 배치 되 는 유체 분사 노즐 ( 410 ) 로부터 유체 가 분사 된다 .