따라서 , 유기 발광 다이오드 의 대형 화 를 위하 여서는 DC 마그네트론 스퍼터링 과 같 은 저 가 및 범용 의 성막 장치 가 요구 되 어 진다 . 이 에 본 발명 에서 는 저 가 및 범용 의 DC - 마그네트론 스퍼터링 법 으로서 의 멀티 레이어 공정 방법 이 라는 새로운 공정 을 통하 여 유기 발광 다이오드 용 으로 사용 가능 한 평탄 한 표면 을 갖 는 투명 도 전막 을 제조 하 는 방법 을 제공 한다 .