상기 파장 을 더 감소 시킴 으로써 향상 된 해상도 를 달성 하 기 위해서 , 광원 으로서 157 nm 의 파장 을 갖 는 F 2 엑 시머 레이저 를 사용 하 는 노광 장치 가 연구 중 에 있 다 . 그러나 , 상기 노광 장치 에 사용 되 는 렌즈 용 재료 및 레지스 트 용 재료 는 엄격 하 게 제한 되 므로 , 상기 장치 또는 재료 의 제조 비용 을 안정 화 하 거나 그 들 의 품질 을 안정 화 하 기 가 매우 어렵 다 . 따라서 , 충분 한 성능 및 안정 성 을 갖 는 노광 장치 및 레지스 트 가 요구 기간 내 에 제공 될 수 없 을 가능 성 이 있 다 .