단결정 반도체 기판 ( 510 ) 의 표면 에 는 산화 막 ( 512 ) 을 형성 한다 ( 도 18 의 ( c ) 참조 ) . 오염물 제 거의 관점 에서 , 산화 막 ( 512 ) 의 형성 전 에 , 염산 과산화수소수 혼합 용액 ( HPM ) , 황산 과산화수소수 혼합 용액 ( SPM ) , 암모니아 과산화수소수 혼합 용액 ( APM ) , 희 불 산 ( DHF ) , FPM ( 불 산 , 과산화수소수 , 순수 의 혼합액 ) 등 을 이용 해서 단결정 반도체 기판 ( 510 ) 의 표면 을 세정 해 두 는 것 이 바람직 하 다 . 대안 적 으로 , 희 불 산 과 오존 수 를 교대 로 토출 해서 세정 해도 된다 .