그러나 , 본 발명 의 방법 을 따르 면 , 폭 이 좁 은 제 1 트렌치 ( T 1 ) 는 HARP 막 에 의해 매립 되 고 폭 이 큰 제 2 트렌치 ( T 2 ) 는 HDP - CVD 막 에 의해 매립 되 므로 , 도 5 d 에 도시 된 바 와 같 은 , 보이드 ( void ) 가 발생 하 거나 및 심 ( seam ) 잔류 되 는 현상 없이 소자 분리 막 ( ISO ') 을 형성 할 수 있 다 .