자기 조립 물질 은 또한 직사각 형 그리드 를 형성 하 도록 설계 될 수 있 다 . 자기 조립 물질 그 자체 는 아래 놓인 포토레지스트 를 노출 하 기 위한 마스크 로 사용 될 수 있 다 . 또한 , 워드 라인 ( 또는 , 첫 번 째 로 형성 된 비트 라인 과 같 은 어떠 한 전도체 층 ) 은 전류 를 가지 거나 워드 라인 을 갖 는 라인 에 홀 형성 을 증진 하 도록 부가 된 전하 를 가질 수 있 다 . 또한 , 워드 라인 과 비트 라인 은 자기 조립 물질 을 사용 하 여 형성 될 수 있 다 .