상기 캐소드 전극 ( 22 ) 은 알루미늄 ( Al ) 이나 마그네슘 ( Mg ) , 기타 금속 물질 이나 투명 전극 을 제 2 기판 ( 20 ) 의 일면 에 증착 함 으로써 형성 된다 . 여기 서 , 상기 캐소드 전극 ( 22 ) 은 스퍼터링 , 물리 적 기상 증착 ( PVD : Physical Vapor Deposition ) , 원자 층 단위 증착 ( ALD : Atomic Layer Deposition ) , 화학 기상 증착 ( CVD : Chemical Vapor Deposition ) , 또는 열 증착 ( thermal evaporation ) 등 과 같 은 증착 방식 을 이용 하 여 형성 될 수 있 다 .