본 발명 은 상기 한 바 와 같 은 결점 을 해소 시키 기 위하 여 안출 된 것 으로서 , 제 1 도 전형 을 형성 하 기 위한 마스크 를 포토레지스트 대신 에 옥사이드 로 형성 하 고 , 이 옥사이드 에 BCl 3 ( 삼 염소 화 붕소 ) 의 확산 을 통하 여 형성 함 으로써 , 제 2 도전 형 형성 시 발생 하 는 포토레지스트 의 기울기 변화 로 문턱 전압 이 비대칭 되 는 것 을 방지 하 도록 한 엘 디 모스 채널 형성 방법 을 제공 하 는데 그 목적 이 있 다 .