도 1 은 전형 적 인 DC 마그네트론 회전 스퍼터링 시스템 ( 일반 적 으로 20 으로 표시 ) 을 도시 한다 . 장치 ( 20 ) 는 챔버 ( 22 ) 를 포함 하 고 , 챔버 ( 22 ) 의 내부 에 는 반도체 웨이퍼 와 같 은 워크 피스 ( 26 ) 가 로딩 될 수 있 는 플 래 튼 ( 또는 기판 지 지체 ) ( 24 ) 이 수용 된다 . 장치 는 마그네트론 ( 28 ) 및 타 겟 ( 30 ) 을 더 포함 한다 .