도 1 에 도시 한 바 와 같이 , 종래 기술 에 따른 화학 기상 증착 장치 는 , 외부 로부터 밀폐 된 공간 을 제공 하 는 반응 챔버 ( 10 ) 와 , 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내부 의 공기 를 소정 의 진공 압 으로 펌핑 하 는 진공 펌프 ( 20 ) 와 , 상기 진공 펌프 ( 20 ) 의 펌핑 에 의해 소정 의 진공 압 을 갖 는 상기 반응 챔버 ( 10 ) 의 하단 에서 웨이퍼 를 지지 하 면서 소정 의 온도 로 가열 시키 는 히터 블록 ( 30 ) 과 , 상기 히터 블록 ( 30 ) 에 대향 되 는 상기 반응 챔버 ( 10 ) 의 상단 에 형성 된 샤워 헤드 ( 40 ) 와 , 상기 샤워 헤드 ( 40 ) 를 통해 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에 소정 유량 의 이소프렌 가스 를 공급 하 는 반응 가스 공급 부 ( 50 ) 와 , 상기 반응 가스 공급 부 ( 50 ) 에서 공급 되 는 상기 이소프렌 가스 를 고주파 파워 를 이용 하 여 플 라즈 마 상태 로 여기 시키 도록 상기 샤워 헤드 ( 40 ) 의 상부 에 형성 된 플 라즈 마 전극 ( 60 ) 을 포함 하 여 구성 된다 .