데이터 로부터 직접 적 으로 반도체 디자인 내 에 특정 한 레이어 를 기록 하 기 위한 직접 - 기록 패턴 발생기 ( direct - writing pattern generator ) 가 산업 상 높 은 가치 를 가진다 . 그러나 , 현대 적 인 칩 의 복잡 성 이 매우 높 고 , 매 새로운 기술 세대 별 로 점점 더 높 아 진다 . 직접 - 기록 장치 는 복합 패턴 을 300 mm 웨이퍼 에 한 번 이 아닌 수 백만 번 기록 해야 한다 .