상기 한 본 발명 의 목적 을 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 의 또 다른 측면 에 따르 면 , 반도체 제조 설비 의 공정 챔버 에서 발생 한 배기가스 가 배출 되 는 배기 라인 내 에서 파우더 의 퇴적 상태 를 모니터링 하 는 장치 로서 , 상기 배기 라인 상 에서 퇴적 되 는 파우더 의 높이 방향 어느 한 위치 에 설치 되 는 광센서 를 포함 하 는 배기 라인 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치 가 제공 된다 .