여기 서 , 이종의 폴리머 하드 마스크 층 은 감광막 패턴 의 식각 마진 을 확보 하 면서 통상 사용 되 는 비정질 카본 보다 생산 단가 를 낮추 기 위해 형성 한다 . 즉 , 비정질 카본 및 SiON 은 PE - CVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 방법 을 이용 하 여 증착 하 는 데 고가 의 장비 를 이용 하 여 형성 하 기 때문 에 생산 단가 가 매우 높 아 진다 . 그러나 , 이종의 폴리머 하드 마스크 는 SOC ( Spin On Coating ) 방법 으로 쉽 게 형성 할 수 있 기 때문 에 비정질 카본 을 적용 하 는 것 보다 매우 낮 은 생산 단가 로 형성 이 가능 하 다 .