먼저 도 9 a 에 도시 된 바 와 같이 상기 서브 스트레이트 제공 단계 ( S 1 ) 에서 는 절연체 ( 111 ) 를 중심 으로 상면 에 는 제 1 도전 성 패턴 ( 112 ) 이 형성 되 고 , 하면 에 는 제 2 도전 성 패턴 ( 113 ) 이 형성 된 서브 스트레이트 ( 110 ) 를 제공 한다 . 물론 , 상기 제 1 도전 성 패턴 ( 112 ) 과 제 2 도전 성 패턴 ( 113 ) 은 도전 성 비아 ( 114 ) 에 의해 상호 전기 적 으로 연결 된다 . 더욱이 , 상기 제 1 도전 성 패턴 ( 112 ) 의 외 주연 에 는 제 1 커버 코트 ( 115 ) 가 코팅 되 고 , 상기 제 2 도전 성 패턴 ( 113 ) 의 외 주연 에 는 제 2 커버 코트 ( 116 ) 가 코팅 될 수 있 다 .