유리 기판 ( 170 ) 에 액적 을 토출 한 후 , 기능 액 ( 40 ) 의 분산매 제거 및 막 두께 확보 를 위해 , 필요 에 따라 건조 처리 를 행한다 . 건조 처리 는 예 를 들 어 유리 기판 ( 170 ) 을 가열 하 는 통상 의 핫플레이트 , 전기로 등 에 의한 처리 이외 에 , 램프 어닐링 에 의해 행할 수 도 있 다 . 램프 어닐링 에 사용 하 는 광 의 광원 으로서 는 , 특별히 한정 되 지 않 지만 , 적외선 램프 , 크세논 램프 , YAG 레이저 , 아르곤 레이저 , 탄산 가스 레이저 , XeF , XeCl , XeBr , KrF , KrCl , ArF , ArCl 등 의 엑 시머 레이저 등 을 광원 으로서 사용 할 수 있 다 . 이 들 광원 은 일반 적 으로 출력 10 W 이상 5000 W 이하 의 범위 의 것 이 사용 되 지만 , 본 실시 예 에서 는 100 W 이상 1000 W 이하 의 범위 로 충분 하 다 .