이러 한 펠리 클 은 이미 종래 에 널리 사용 되 었 다 . 즉 , 종래 의 펠리 클 은 사진 식각 공정 에 사용 된 레티 클 에 먼지 들 의 입자 가 묻 어 설계 된 패턴 을 웨이퍼 상 에 전사 하 는 과정 에서 상기 입자 를 패턴 으로 잘못 파악 하 여 설계 오류 가 발생 되 는 것 을 막 기 위하 여 상기 레티 클 을 먼지 등 의 오염 으로부터 보호 하 기 위한 막 의 형태 로 구비 되 어 , 상기 레티 클 의 패턴 이 형성 된 면상 에 배치 된다 .