또한 , 복수 의 패치 안테나 패턴 ( 110 a , 110 b ) 사이 의 RF 신호 의 위상차 는 IC 에서 빔포밍 ( beam - forming ) 제어 에 따라 제어 되 거나 복수 의 패치 안테나 패턴 ( 110 a , 110 b ) 과 IC 사이 의 전기 적 경로 의 전기 적 길이 ( electrical length ) 에 의해 결정 될 수 있 다 . 복수 의 패치 안테나 패턴 ( 110 a , 110 b ) 의 이득 및 / 또는 지향 성 은 상기 위상차 가 설계 된 위상차 에 가까울수록 높 아 질 수 있 다 . 복수 의 패치 안테나 패턴 ( 110 a , 110 b ) 과 IC 사이 의 전기 적 경로 의 복잡도 는 상기 위상차 가 설계 된 위상차 를 벗어나 도록 하 는 요인 이 될 수 있 다 .