[ 0166 ] 나선 형 피치 의 구배 를 갖 는 CLC 층 ( 1404 ) 은 CLC 층 의 상이 한 깊이 들 에서 액정 분자 들 의 HTP ( helical twisting power ) 를 변동 , 예컨대 증가 또는 감소 시킴 으로써 제조 될 수 있 다 . HTP 는 차례 로 , 키 랄 화합물 의 상대 적 인 양 을 변화 시킴 으로써 공간 적 으로 변동 될 수 있 다 . 다양 한 실시 예 들 에서 , 상이 한 수직 깊이 들 에서 키 랄 화합물 을 비 - 키 랄 화합물 , 예컨대 네마 틱 화합물 과 화학 적 으로 및 / 또는 기계 적 으로 혼합 함 으로써 , 수직 구역 들 ( 1404 A , 1404 B , 1404 C 및 1404 D ) 의 나선 형 피치 들 은 , 키 랄 화합물 의 상대 적 프랙션 과 나선 형 피치 사이 의 역관 계 에 기초 하 여 , 각각 상이 한 입사각 들 ( θ incA , θ incB , θ incC 및 θ incD ) 에서 최적 의 회절 효율 을 위해 구성 될 수 있 다 . 예컨대 , UV 조사 하 에서 상이 한 반응 레이트 들 로 중합 프로세스 를 거치 는 상이 한 화학 컴포넌트 들 ( 예컨대 , 키 랄 다이 - 아크릴 레이트 단량체 들 및 네 마 틱 / 비 - 키 랄 모노 - 아크릴 레이트 단량체 들 ) 의 혼합물 이 사용 될 수 있 다 . 부가 적 으로 또는 대안 적 으로 , HTP 는 CLC 층 의 상이 한 깊이 들 에서 UV 조사 의 조사 조건 들 ( 노출 세기 및 / 또는 노출 시간 을 포함 함 ) 을 변화 시킴 으로써 공간 적 으로 변동 될 수 있 다 . HTP 는 또한 UV 조사 이전 , 이후 그리고 / 또는 그 중간 의 열 처리 를 포함 하 는 UV 중합 프로세싱 의 사전 / 사후 프로세싱 을 변동 시킴 으로써 공간 적 으로 변동 될 수 있 다 . 예컨대 , UV 흡수 염료 가 혼합물 에 첨가 될 때 , CLC 층 의 상이 한 깊이 에서 UV 광 의 세기 구배 가 생성 될 수 있 다 . 예컨대 , UV 세기 구배 로 인해 , 표면 근처 의 중합 은 CLC 층 의 하부 구역 에 비해 더 빠른 레이트 로 진행 될 수 있 다 . 예컨대 , 콜레스테릭 컴포넌트 들 이 디 - 아크릴 레이트 일 때 , 결과 적 인 중합체 에 통합 될 확률 은 , 네마 틱 모노 - 아크릴 레이트 가 중합체 에 통합 될 확률 보다 훨씬 더 높 을 수 있 는 데 , 예컨대 2 배 만큼 높 을 수 있 다 . 일부 상황 들 하 에서 , 전반 적 인 중합 레이트 는 , CLC 층 의 표면 구역 근처 의 키 랄 다이아 크릴 레이트 의 고갈 이 CLC 층 의 깊이 방향 에서 디 - 아크릴 레이트 농도 구배 를 생성 하 도록 제어 된다 . 이 는 차례 로 , CLC 층 의 표면 구역 을 향한 디 - 아크릴 레이트 의 확산 을 개시 한다 . 완전 한 광 - 중합 후 의 결과 는 , CLC 층 의 표면 구역 이 보다 많 은 키 랄 재료 를 함유 하 고 이 에 따라 비교적 더 많 은 양 의 비 - 키 랄 화합물 을 함유 하 는 CLC 층 의 하부 구역 에 비해 더 짧 은 나선 형 피치 를 갖 는다는 것 일 수 있 다 . 일부 다른 상황 들 하 에서 , 나선 형 피치 구배 를 제어 하 기 위해 중합 프로세스 에서 UV 조사 이전 / 이후 또는 그 중간 에 열처리 가 부가 될 수 있 다 . 따라서 , 열처리 유무 에 관계없이 , 2 개 의 상이 한 액정 단량체 들 간 의 비 및 / 또는 UV 조사량 을 제어 함 으로써 , CLC 층 의 깊이 방향 을 따른 나선 형 피치 구배 를 획득 될 수 있 다 .