제 1 방사선 소스 ( 310 ) 로부터 , 필터링 된 빔 ( 342 ) 은 검사 챔버 ( 350 ) 에 진입 하 는데 , 검사 챔버 ( 350 ) 에서 , 주목 하 는 구조 체 를 포함 하 는 기판 ( W ) 은 , 검사 를 위해 , 기판 지지 부 ( 316 ) 에 의해 유지 된다 . 주목 하 는 구조 체 는 T 로 라벨 링 된다 . 검사 챔버 ( 350 ) 내 의 대기 는 진공 펌프 ( 352 ) 에 의해 진공 근처 에서 유지 되 며 , 그 결과 , EUV 방사선 은 대기 를 통한 과도 한 감쇠 없이 통과 할 수 있 다 . 조명 시스템 ( 312 ) 은 방사선 을 포 커싱 된 빔 ( 356 ) 으로 포커 싱하 는 기능 을 가지 며 , 상기 에서 언급 되 는 국제 출원 번호 PCT / EP 2016 / 080058 에 설명 되 는 바 와 같이 , 예 를 들 면 , 이 차원 곡면 미러 , 또는 일련 의 일차원 곡면 미러 를 포함 할 수 도 있 다 . 포 커싱 은 , 주목 하 는 구조 체 상 으로 투영 될 때 , 직경 이 10 ㎛ 미만 인 원형 또는 타원 형 스팟 을 달성 하 기 위해 수행 된다 . 기판 지지 부 ( 316 ) 는 , 예 를 들 면 , XY 병진 스테이지 ( translation stage ) 및 회전 스테이지 를 포함 하 는데 , 이 들 에 의해 , 기판 ( W ) 의 임의 의 부분 을 소망 되 는 방위 에서 빔 의 초점 에 가져갈 수 있 다 . 따라서 , 방사선 스팟 ( S ) 은 주목 하 는 구조 체 상 에 형성 된다 .