도 3 내지 도 5 에 나타낸 바 와 같이 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 엔드 이펙터 측정 모듈 을 이용 한 모니터링 장치 는 엔드 이펙터 ( 21 a ) 를 구비 한 EFEM ( Equipment Front End Module : 20 ) 과 웨이퍼 ( 12 ) 를 가공 처리 하 는 반도체 공정 장치 ( 30 ) 사이 에 형성 된 관 통구 ( 22 , 22 ') 에 설치 되 고 , 상기 관 통구 ( 22 , 22 ') 를 통과 하 는 엔드 이펙터 ( 21 a ) 의 이동 경로 에 따른 위치 를 측정 하 여 전기 신호 로 출력 하 는 엔드 이펙터 측정 모듈 ( 100 , 100 ') 과 , 콘트 롤러 ( 200 를 포함 하 여 구성 된다 .