이 열처리 장치 의 반응 용기 ( 11 ) 의 종단면 에 있 어서 , 매니폴드 ( 12 ) 의 한쪽 측벽 에 는 , 반응 용기 ( 11 ) 내 에 처리 용 가스 를 도입 하 기 위한 가스 공급 배관 ( 15 A ) 및 불활성 가스 를 도입 하 기 위한 가스 공급 배관 ( 15 B ) 이 , 상기 매니폴드 ( 12 ) 의 측벽 을 기밀 하 게 관통 하 여 , 내관 ( 11 A ) 내 를 상측 으로 신장 하 도록 설치 되 어 있 고 , 각각 의 가스 공급 배관 ( 15 A , 15 B ) 에 는 도시 하 지 않 은 가스 공급원 이 접속 되 어 있 다 .