상기 이미지 층 은 상기 기판 상 에 화학 결합 에 의해 자기 조립 된 단분자층 ( self - assembled monolayer ) 일 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 이미지 층 을 형성 하 기 전 에 , 상기 기판 상 에 베이스 층 을 형성 할 수 있 다 . 상기 베이스 층 은 Si 함유 물질 층 일 수 있 고 , 상기 이미지 층 을 형성 하 기 전 에 상기 베이스 층 을 표면 처리 하 여 상기 베이스 층 의 표면 에 Si - OH 기 를 형성 할 수 있 다 . 상기 베이스 층 은 반사 방지 막 일 수 있 다 .