다른 실시 예 에서 , 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 과 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 의 두께 가 실질 적 으로 동일 할 경우 , 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 이 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 에 대해 식각 선택 비 를 갖 는 물질 로 형성 됨 으로써 , 제 1 마스크 패턴 들 ( 42 ) 이 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 사이 의 제 1 희생 막 ( 30 ) 상 에 잔류 할 수 있 다 . 즉 , 제 2 마스크 패턴 들 ( 72 ) 에 의해 제 1 희생 막 ( 30 ) 이 노출 되 지 않 는다 .