본 발명 은 상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 고 종래 의 요구사항 에 부응 하 기 위해 안출 된 것 으로서 , 본 발명 의 목적 은 프라이머 층 을 갖 는 광학 용 폴리에스테르 필름 과 후 가공 수지 의 접착력 을 향상 시킬 수 있 고 , 동시 에 고온 에서 발생 할 수 있 는 올리고머 석출 을 효과 적 으로 억제 하 여 광학 용 기재 로서 의 투명 성 을 유지 할 수 있 는 광학 용 폴리에스테르 필름 을 제공 하 고자 하 는 것 이 다 .