본 발명 의 일 실시 형태 에 따르 면 , 전자기 방사선 을 생성 하 도록 구성 되 고 배치 된 방사선 소스 를 포함 하 는 리소그래피 장치 가 제공 된다 . 상기 방사선 소스 는 애노드 , 캐소드 및 방전 공간 을 포함 한다 . 상기 애노드 및 캐소드 는 방전 공간 내 의 물질 에서 방전 을 생성 하 고 플 라즈 마 를 형성 하 여 전자기 방사선 을 생성 하 도록 구성 된다 . 또한 , 상기 방사선 소스 는 상기 방전 공간 근처 의 일 위치 에 상기 물질 의 적어도 1 이상 의 성분 을 공급 하 도록 구성 되 고 배치 된 연료 공급 부 를 포함 한다 . 상기 연료 공급 부 는 애노드 및 캐소드 로부터 소정 거리 에 위치 된다 . 또한 , 상기 방사선 소스 는 상기 애노드 및 / 또는 캐소드 상 에 또는 그 근처 에 냉각 및 / 또는 보호 층 을 생 성 및 / 또는 유지 하 도록 구성 되 고 배치 된 추가 공급 부 를 포함 한다 . 또한 , 리소그래피 장치 는 전자기 방사선 을 컨 디셔 닝 ( condition ) 하 도록 구성 된 조명 시스템 , 및 패 터닝 디바이스 를 지지 하 도록 구성 된 지 지체 를 포함 한다 . 상기 패 터닝 디바이스 는 컨 디셔 닝 된 전자기 방사선 의 단면 에 패턴 을 부여 하 여 , 패 터닝 된 방사선 빔 을 형성 하 도록 구성 되 고 배치 된다 . 또한 , 상기 장치 는 기판 을 유지 하 도록 구성 된 기판 테이블 , 및 상기 기판 의 타 겟 부 상 으로 상기 패 터닝 된 방사선 빔 을 투영 하 도록 구성 된 투영 시스템 을 포함 한다 .