상기 공통 소스 라인 ( 200 ) 은 도전 성 물질 을 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 상기 공통 소스 라인 ( 200 ) 은 텅스텐 ( W ) , 알루미늄 ( Al ) 또는 구리 ( Cu ) 로부터 선택 되 는 적어도 하나 의 금속 물질 을 포함 할 수 있 다 . 도 5 에 도시 되 지 는 않 았 지만 , 상기 불순물 영역 ( 102 ) 과 공통 소스 라인 ( 200 ) 사이 에 는 접촉 저항 을 낮추 기 위한 실리사이드 ( silicide ) 층 이 개재 될 수 있 다 . 상기 실리사이드 층 ( 미 도시 ) 은 메탈 실리사이드 층 , 예컨대 코발트 실리사이드 층 을 포함 할 수 있 다 .