도 2 를 참조 하 면 , 무공 질 양극 산화층 적층 단계 ( S 20 ) 는 상기 베 어 알루미늄 합금 으로 이루어진 모재 ( 11 ) 의 표면 에 , 무공 질 산화알루미늄 ( Al 2 O 3 ) 으로 이루어지 며 두께 ( TH 1 ) 가 200 내지 700 nm 인 무공 질 ( 無孔 質 ) 양극 산화층 ( 20 ) 을 적층 하 는 단계 이 다 . 무공 질 양극 산화층 적층 단계 ( S 20 ) 는 , 중성 전해액 전기 분해 단계 를 구비 하 며 , 상기 중성 전해액 전기 분해 단계 에 앞선 전처리 단계 로서 , 탈지 단계 , 세정 단계 , 및 중화 단계 를 구비 할 수 있 다 . 상기 탈지 단계 는 모재 ( 11 ) 의 표면 에서 유분 을 제거 하 는 단계 이 고 , 상기 세정 단계 는 산 또는 염기 성 수용액 에 침잠 시켜 모재 ( 11 ) 표면 에서 산화알루미늄 및 이 물질 을 제거 하 는 단계 이 며 , 중화 단계 는 상기 세정 단계 을 통해 모재 ( 11 ) 표면 에 잔존 하 는 산 또는 염기 를 중화 하 는 단계 이 다 .