마이크로파 플라스마 처리 장치 ( 100 ) 는 , 또한 챔버 ( 1 ) 의 측벽 을 통해서 챔버 ( 1 ) 내 에 가스 를 공급 하 는 가스 공급 기구 ( 60 ) 를 갖 고 있 다 . 가스 공급 기구 ( 60 ) 는 , 가스 공급원 ( 61 ) 과 , 가스 공급원 ( 61 ) 으로부터 연장 되 는 배관 ( 62 ) 과 , 챔버 ( 1 ) 의 측벽 을 따라 환상 으로 설치 된 버퍼 실 ( 63 ) 과 , 배관 ( 62 ) 과 버퍼 실 ( 63 ) 을 접속 하 는 가스 유로 ( 64 ) 와 , 버퍼 실 ( 63 ) 로부터 등 간격 으로 챔버 ( 1 ) 내 에 면하 도록 수평 으로 설치 된 복수 의 가스 토출구 ( 65 ) 를 갖 는다 .