상기 또 다른 기술 적 과제 를 달성 하 기 위하 여 , 본 발명 에 따른 포토 마스크 의 제조 방법 은 , 평탄 화 된 기판 상 에 펠리 클 막 을 형성 하 는 단계 ; 상기 펠리 클 막 에 홀 패턴 들 을 형성 하 기 위한 틀 을 이용 해 테두리 에 홀 패턴 들 의 배열 을 임프 린트 ( imprint ) 하 는 단계 ; 상기 테두리 에 홀 패턴 들 이 배열 된 펠리 클 막 을 기판 으로부터 분리 하 는 단계 ; 및 상기 분리 된 펠리 클 막 을 패턴 이 형성 된 마스크 기판 상 에 부착 하 는 단계 를 포함 한다 .