반도체 기판 ( 110 ) 은 일반 적 인 반도체 소자 용 기판 이 이용 될 수 있 으며 , 소스 영역 ( 112 ) 과 드레 인 영역 ( 114 ) 은 반도체 기판 ( 110 ) 의 소정 부분 을 도핑 처리 함 으로써 형성 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 반도체 기판 ( 110 ) 으로서 P 형 실리콘 기판 이 사용 되 는 경우 에 는 반도체 기판 ( 110 ) 의 양측 의 각각 의 일 영역 을 5 족 원소 ( 예 를 들 어 , 인 ( P ) 등 ) 를 이용 하 여 도핑 처리 함 으로써 N 형 의 소스 영역 ( 112 ) 및 드레 인 영역 ( 114 ) 을 형성 할 수 있 다 .