먼저 ( a ) 는 일반 적 인 노광 에 의해 형성 한 포토레지스트 패턴 으로서 , 포토 마스크 ( M ) 의 차단 영역 ( NE ) 형상 대로 포토레지스트 패턴 이 형성 되 었 으며 그 단면 또한 스텝 형 임 을 알 수 있 다 . ( b ) 는 10 % 과잉 노광 한 것 이 다 . 포토레지스트 패턴 이 차단 영역 ( NE ) 형상 과 는 달라지 며 단면 에 높낮이 가 생기 는 것 을 확인 할 수 있 다 . ( c ) 는 30 % 과잉 노광 한 것 이 다 . 포토레지스트 패턴 이 차단 영역 ( NE ) 형상 과 는 확연히 다르 며 역시 단면 에 높낮이 가 생겨 있 는 것 을 확인 할 수 있 다 .