본 발명 의 실시 예 는 열처리 동안 가스 분포 를 향상 시키 기 위한 장치 및 방법 을 제공 한다 . 본 발명 의 일 실시 예 는 기판 을 처리 하 기 위한 장치 를 제공 하 고 , 이 장치 는 처리 볼륨 을 형성 하 는 챔버 몸체 ; 처리 볼륨 에 배치 되 며 기판 을 지지 하 고 회전 시키 도록 구성 된 기판 지지대 ; 처리 볼륨 으로 제 1 가스 유동 을 제공 하 도록 구성 되 며 챔버 몸체 의 입구 에 커플링 된 가스 입 구 어셈블리 ; 및 챔버 몸체 의 출구 에 커플링 된 배출 어셈블리 를 포함 하 고 , 가스 입 구 어셈블리 및 배출 어셈블리 는 챔버 몸체 의 대향 측면 상 에 배치 되 며 , 배출 어셈블리 는 처리 볼륨 을 확장 하 도록 구성 된 배출 볼륨 을 형성 한다 .