또한 , 도 2 에 나타내 는 바 와 같이 , 제 1 가스 공급 공 ( 248 a ) 의 위치 로부터 , 반응 관 ( 203 ) 의 내주 를 120 ˚ 정도 돈 내벽 에 , 버퍼 실 ( 237 ) 과 는 다른 가스 분산 공간 으로서 의 가스 공급 부 ( 249 ) 가 설치 된다 . 가스 공급 부 ( 249 ) 는 반응 관 ( 203 ) 내벽 의 하부 로부터 상부 에 걸친 부분 에 , 웨이퍼 ( 200 ) 의 적층 방향 을 따라서 설치 된다 . 이 가스 공급 부 ( 249 ) 는 , 후술 하 는 성막 공정 에 있 어서 , 웨이퍼 ( 200 ) 에 복수 종류 의 가스 를 1 종류 씩 교대 로 공급 할 때 , 버퍼 실 ( 237 ) 과 가스 공급 종 을 분담 하 는 공급 부 이 다 .