도 2 g 를 참조 하 면 , 통상 적 인 포토 리소그래피 공정 을 이용 하 여 제 5 패턴 ( 160 ) 상 에 지지 부 ( 180 ) 가 형성 될 영역 ( 172 ) 을 정의 하 는 제 6 패턴 ( 170 ) 을 형성 한다 . 제 6 패턴 ( 170 ) 에 의해 프로브 ( 200 ) 의 팁 과 포스트 가 형성 될 영역 ( 174 ) 및 제 1 시드 패턴 ( 140 a ) 용 배선 ( 142 a ) 의 일부 가 식각 될 영역 ( 176 ) 도 같이 정의 된다 . 제 6 패턴 ( 170 ) 은 포토 레지스 트 를 포함 할 수 있 다 .