365 nm 와 3 nm 의 파장 을 갖 는 광원 은 마이크 로 리소그래피 용 투사 노광 장치 용 광원 , 특히 고압 수은 증기 램프 , 레이저 , 예 를 들 면 엑 시머 레이저 , 예 를 들 면 ArF 2 , KrF 2 레이저 또는 EUV 광원 으로서 예상 될 수 있 다 . 이 애플리케이션 의 범위 에서 248 nm , 193 nm , 157 nm 및 126 nm 의 일반 적 인 파장 을 갖 는 광원 으로서 엑 시머 레이저 의 경우 에 , 그 중 에서 광원 의 레이저 펄스 의 레이저 모드 의 모드 수 및 모드 조합 의 변화 도 또한 광원 의 시간 적 및 / 또는 공간 적 변동 으로서 이해 된다 .