포톤 수 의 변동 을 작 게 하 기 위해서 , 레지스 트 막 이 보다 흡수성 이 게 만들 어서 레지스 트 막 내 에 흡수 되 는 포톤 의 수 를 많 게 하 는 것 이 시도 되 었 다 . 예 를 들 어 , 할로겐 중 에서 도 요오드 는 , 파장 13 . 5 nm 의 EUV 에 높 은 흡수 를 갖 는다 . 특허 문헌 1 ∼ 3 은 EUV 레지스 트 재료 로서 요오드 치환 된 수지 를 이용 하 는 것 이 개시 되 어 있 다 . 이러 한 요오드 치환 된 폴리머 를 이용 한 경우 는 , EUV 의 흡수 증가 에 의해서 레지스 트 막 중 에 흡수 되 는 포톤 의 수 가 증가 된다 . 이후 , 발생 되 는 산 의 양 이 증가 되 어 , 감도 가 상승 하 고 , LWR 및 CDU 의 개선 을 야기 하 는 것 으로 예상 된다 . 그러나 , 실제 는 요오드 치환 된 폴리머 가 현상액 또는 알칼리 수용액 에 의 용해 성 이 매우 낮 기 때문 에 , 용해 콘트 라스트 가 저하 되 어 LWR 및 CDU 가 열화 된다 . 만족 스러운 빛 의 흡수 및 용해 콘트 라스트 를 갖 는 레지스 트 재료 가 요구 되 고 있 다 .