또 , 노광 결과 에 근거 해 보정 값 을 설정 하 고 있 기 때문 에 , 계측 할 수 있 는 노광 범위 내 , 즉 샷 사이즈 에 대응 하 는 영역 내 에서 만 정확 한 보 정량 을 결정 할 수 가 있 다 . 노광 범위 밖 에 위치 된 얼라인먼트 마크 를 이용 해 TTL 방식 에 의거 하 여 레티 클 스테이지 와 웨이퍼 스테이지 에 대해 주사 얼라인먼트 를 행하 는 경우 에 는 , 얼라인먼트 마크 가 보정 범위 밖 에 있 기 때문 에 보정 을 행할 수 없 다고 하 는 문제점 이 있 다 . 일 본국 공개 특허 공보 특개 2003 － 273007 호 에 는 , 노광 범위 밖 의 보정 값 도 근사 함수 를 이용해 외 삽 하 는 유닛 도 제안 되 어 있 지만 , 그러 한 유닛 은 노광 범위 내 의 보정 값 의 추종 성 을 향상 시키 는 것 이 목적 이 며 , 노광 범위 밖 의 위치 보정 을 적극 적 으로 정확 하 게 행하 기 위한 충분 한 기능 을 가지 고 있 지 않 다 .