본 발명 은 제품 을 제조 하 는 방법 , 도가니 및 결정질 질화규소 층 의 사용 에 관한 것 으로서 , 상기 제품 은 주로 탄소 또는 세라믹 물질 로 구성 되 는 물질 로부터 형성 되 고 , 상기 제품 은 화학 기상 증착 ( CVD ) 에 의해 표면 층 으로 코팅 되 며 , 상기 제품 은 적어도 반 - 결정질 ( semi - crystalline ) , 바람직 하 게 는 결정질 질화규소 ( Si 3 N 4 ) 의 표면 층 으로 코팅 되 고 , 상기 표면층 은 1100 ° C 초과 내지 1700 ° C 의 처리 온도 에서 제품 상 에 형성 된다 .