더 구체 적 으로 , 본 발명 은 , 액체 세정 을 위한 세정 노즐 들 , 및 건조 를 위해 기판 을 회전 시키 는 동안 배 출물 들 및 수분 을 진공 배기 ( evacuate ) 하 는 것 을 보조 하 기 위해 초 - 청정 가스 ( 예컨대 , 질소 ) 를 유동 시키 기 위한 수단 을 구비 하 는 단일 챔버 장치 에서 반도체 웨이퍼 및 다른 기판 들 을 세정 및 건조 시키 는 장치 및 관련 된 방법 에 관한 것 이 다 .