한편 , 상기 공기 분사 유닛 ( 120 ) 에서 분사 되 는 가열 된 공기 ( A ) 의 온도 는 처리 공간 ( 112 ) 에서 기판 ( S ) 을 처리 하 는 온도 보다 5 도 내지 15 도 낮 은 온도 의 범위 에 포함 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 처리 공간 ( 112 ) 의 온도 가 130 도 인 경우 , 공기 분사 유닛 ( 120 ) 에서 분사 되 는 가열 된 공기 ( A ) 의 온도 는 115 도 내지 125 도 일 수 있 다 .