이러 한 감광액 의 도포 , 현상 , 세정 공정 등 에서 는 액체 상태 의 약액 또는 순수 를 기판 위 로 분사 시켜 공정 이 이루어진다 . 예 를 들 어 , 일반 적 인 세정 건조 장치 는 한 장 의 기판 을 처리 할 수 있 는 기판 척 ( Wafer chuck ) 으로 기판 을 고정 시킨 후 모터 에 의해 기판 을 회전 시키 면서 , 기판 의 상부 에서 분사 노즐 을 통해 약액 또는 순수 를 분사 하 여 , 기판 의 회전력 에 의해 약액 또는 순수 가 기판 의 전면 으로 퍼지 게 하 여 공정 이 이루어지 도록 하 고 있 다 .