도 4 a - 4 c 는 본 발명 의 일부 실시 예 에 따라 , 평행 한 에지 ( 97 ) 를 갖 는 주기 적 구조 를 갖 는 계측 타 겟 ( 95 ) 의 SEM 이미지 에 대한 비 제한 적 인 예 를 도시 한다 . 도 4 a 는 본 발명 의 일부 실시 예 에 따라 , CDSEM 이미지 상 의 라인 에지 거칠 기 와 리소그래피 라인 - 스페이스 패턴 의 상이 한 세그먼트 화 를 도시 한다 . 도 4 b 는 본 발명 의 일부 실시 예 에 따라 , 라인 에지 ( 에지 윤곽 곡선 ) 에 대한 에지 함수