도 9 를 참조 하 면 , 실시 예 1 의 적층 체 에서 는 열처리 전 과 후 에 유전체 파괴 전압 ( dielectric breakdown voltage ) 의 변화 가 없 는 것 을 확인 할 수 있 고 , C - V 특성 또 한 구리 확산 에 의해 나타나 는 히스테리시스 곡선 이 전혀 나타나 지 않 는 것 으로 확인 되 었 다 . 이러 한 결과 에 비추 어 실시 예 1 의 Ta 1 - xMnxOy 박막 은 우수 하 고 신뢰 성 있 는 구리 확산 방지 층 임 을 알 수 있 다 .