도 11 을 참조 하 면 , 횡 전계 방식 표시 장치 를 제조 하 기 위해서 는 하부 구조물 을 형성 하 는 과정 ( 단계 S 10 ) , 하부 구조물 상 에 밑면 의 폭 보다 좁 은 폭 을 갖 는 상면 을 갖 는 보조 패턴 을 형성 하 는 과정 ( 단계 S 20 ) , 하부 구조물 상 에 도전 막 을 증착 하 여 보조 패턴 을 덮 는 과정 ( 단계 S 30 ) , 보조 패턴 을 덮 는 포토레지스트 패턴 을 형성 하 는 과정 ( 단계 S 40 ) 및 도전 막 을 포토레지스트 패턴 을 식각 마스크 로 이용 하 여 패 터닝 하 여 제 1 폭 을 갖 는 하부 면 및 제 1 폭 보다 좁 은 제 2 폭 을 갖 는 상부 면 을 갖 는 전극 들 을 형성 하 는 과정 ( 단계 S 50 ) 을 포함 한다 .