스테이지 ( 420 ) 에 는 , 상면 의 외주 영역 및 측면 을 덮 도록 알루미나 등 의 세라믹스 에 의해 형성 된 커버 부재 ( 422 ) 가 마련 되 어 있 다 . 스테이지 ( 420 ) 의 저면 에 는 , 상부 전극 과 하부 전극 사이 의 갭 ( G ) 을 조정 하 는 조정 기구 ( 447 ) 가 마련 되 어 있 다 . 조정 기구 ( 447 ) 는 , 지지 부재 ( 423 ) 와 승강 기구 ( 424 ) 를 갖 는다 . 지지 부재 ( 423 ) 는 , 스테이지 ( 420 ) 의 저면 의 중앙 으로부터 스테이지 ( 420 ) 를 지지 한다 . 또한 , 지지 부재 ( 423 ) 는 , 처리 용기 ( 410 ) 의 저 벽 에 형성 된 구멍 부 를 관통 해서 처리 용기 ( 410 ) 의 하방 으로 연장 되 어 , 하단 이 승강 기구 ( 424 ) 에 접속 되 어 있 다 . 스테이지 ( 420 ) 는 , 승강 기구 ( 424 ) 에 의해 , 지지 부재 ( 423 ) 를 개재 하 여 승강 한다 . 조정 기구 ( 447 ) 는 , 도 4 의 실선 으로 나타내 는 처리 위치 와 , 그 하방 의 이점쇄선 으로 나타내 는 웨이퍼 ( W ) 의 반송 이 가능 한 전달 위치 의 사이 에서 승강 기구 ( 424 ) 를 승강 시켜 , 웨이퍼 ( W ) 의 반입 및 반출 을 가능 하 게 한다 .