여기 에서 , ITO 박막 의 패 터닝 은 웨트 에칭 으로 행해 지 기 때문 에 , 화소 전극 ( 52 ) 의 외연 부 는 층 두께 가 서서히 얇 아 진다 . 또한 , 적색 화소 ( 46 R ) 및 녹색 화소 ( 46 G ) 의 화소 전극 ( 52 ( R , G ) ) 에서 는 , 먼저 형성 된 ITO 박막 의 단부 ( 端部 ) 에 의해 단차 가 생겨 버려 , 전술 한 공진 길이 를 적합 한 거리 로 형성 할 수 없 다 . 그래서 유기 EL 장치 ( 1 ) 에서 는 , 이러 한 외연 부를 화소 영역 ( 42 ) 에 는 포함 하 지 않 고 차광 영역 ( 43 ) 에 포함 하 고 있 다 . 그리고 , 이러 한 외연 부 에 , 평면 에서 보 았 을 때 겹치 도록 격벽 ( 44 ) 을 형성 하 고 , 적합 하 지 않 은 파장 범위 의 빛 이 사출 되 는 것 을 저감 하 고 있 다 . 전술 한 바 와 같이 , 격벽 ( 44 ) 은 컬러 필터 ( 90 ) 중 차광 영역 ( 43 ) 에 형성 되 어 있 는 부분 이 다 .