특정 실시 예 에서 , 모델 - 기반 피처 맵 은 각각 대응 하 는 마스크 에러 증강 요소 ( Mask Error Enhancement Factor ; MEEF ) 를 갖 는 다수 의 이미지 부분 들 을 포함 한다 . 방법 은 테스트 이미지 분석 동안 대응 하 는 MEEF 를 기반 으로 각 이미지 부분 에 대해 감도 레벨 을 자동 으로 조정 하 는 것 을 수반 할 수 있 다 . 특정 실시 예 에서 , 방법 은 테스트 이미지 분석 을 위해 사용자 - 정의 된 감도 레벨 의 제공 을 수반 한다 . 특정 실시 예 에서 , 하나 이상 의 프린터 블 피처 에 대응 하 는 영역 들 의 부분 집합 은 하나 이상 의 비 - 프린터 블 피처 에 대응 하 는 이 영역 들 의 또 다른 부분 집합 ( subset ) 보다 높 은 감도 로 분석 된다 . 동일 또는 다른 실시 예 에서 , 밴드 제한 마스크 패턴 은 선형 항만 을 포함 한다 . 다른 실시 예 에서 밴드 제한 마스크 패턴 은 하나 이상 의 이 차 항 을 포함 한다 .