이 단계 의 목적 은 기판 상 에 성막 된 제 1 층 의 접착성 을 향상 시키 기 위해 기판 상 에 마이크 로 러프 니스 ( roughness ) 를 생성 하 는 것 이 다 . 층 이 그 의 본래 의 러프 니스 로 인해 기판 에 대해 충분 한 접착성 을 갖 는다면 , 또는 그러 한 마이크 로 에칭 처리 가 유리 표면 상 의 해로운 반응 들 을 야기 할 수 있 다면 이 단계 를 스킵 할 수 있 다 . 이 단계 는 , 전형 적 으로 10 초 에서 5 분 동안 부피 당 0 . 1 % 에서 5 % 의 HF 를 포함 하 는 수용액 ( 그것 은 10 g / L 에서 100 g / L 의 NH 4 F 을 포함 할 수 도 있 음 ) , 또는 보다 전형 적 으로 30 초 에서 3 분 동안 , 부피 당 0 . 3 % 에서 3 % 의 HF 및 30 g / L 에서 60 g / L 의 NH 4 F 를 포함 하 는 수용액 에 기판 을 담금 으로써 행해진다 . 그 후 , 기판 은 DI 순수 로 씻겨 진다 .