본 발명 의 개념 은 극 자외선 EUVL 장치 에 사용 하 기 위한 종래 의 펠리 클 디자인 이 펠리 클 을 통해 투과 되 는 광 의 무시 할 수 없 는 방향 성 - 선택 적 산란 ( directionally - preferential scattering ) 을 야기 할 수 있 다는 인식 에 기초 한다 . 펠리 클 에 의해 산란 된 광이 EUVL 장치 의 이미 징 시스템 에 의해 수집 되 는 경우 , 이 는 타 겟 웨이퍼 로 전달 되 는 패턴 의 충실 도 ( fidelity of the pattern ) 를 감소 시킬 수 있 다 . 예 를 들 어 , 펠리 클 에 의해 산란 된 광은 EUVL 장치 에서 이미 징 에러 와 같 은 광학 적 문제 를 야기 할 수 있 다 .