에칭 후 의 패턴 형상 에 있 어서 실시 예 4 - 1 ∼ 4 - 17 은 현상 후 의 레지스 트 형상 , 산소 에칭 후 , 기판 가공 에칭 후 의 유기 막 의 형상 모두 양호 하 였 다 . 노광 에 의해 만들 어 진 레지스 트 선폭 에 따라 , 기판 전사 후 의 패턴 치수 도 변화 되 고 , 비 교예 4 - 2 에 있 어서 는 40 nm 정도 , 비 교예 4 - 3 및 4 - 4 에 있 어서 는 35 nm 정도 의 선폭 에서 패턴 비틀림 이 발생 하 였 지만 , 본 발명 의 중합체 를 이용 한 실시 예 4 - 1 ∼ 4 - 17 은 패턴 치수 35 nm 보다 가 는 선폭 에 있 어서 도 비틀림 이 없 어 , 높 은 비틀림 내성 을 갖 는다는 것 이 밝혀졌 다 . 이 결과 는 , 본 발명 의 중합체 는 높 은 경도 를 갖 고 있 다는 사실 로부터 , 치밀 한 고강도 의 유기 막 이 형성 되 어 있 다는 사실 로부터 로 도 시사 된다 .