상기 상부 플레이트 ( 11 ) 의 내부 에 는 원료 가스 주 입관 ( 14 ) 으로부터 주입 되 는 가스 를 균일 하 게 분포 시키 기 위해 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 가 형성 되 며 상기 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 내 에 분포 된 원료 가스 를 일정 유속 으로 분사 하 기 위해 그 저 면판 ( 15 b ) 에 다수 의 원료 가스 분사 홀 ( 15 c ) 이 형성 된 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 가 설치 된다 . 여기 서 , 상기 저 면판 ( 15 b ) 은 전 극판 으로 형성 되 어 후술 할 RF 전원 부 ( 19 ) 로부터 인가 되 는 RF 전력 에 의해 플 라즈 마가 발생 되 도록 한다 . 또한 , 상기 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 에 는 그 의 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 를 상하 층 으로 구획 하 되 상층 공간 부 에 분포 된 원료 가스 를 하층 공간 부 로 균일 하 게 분포 시키 기 위해 다수 의 배출 홀 ( 16 a ) 이 형성 된 중 간판 ( 16 ) 과 , 상기 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 의 저 면판 ( 15 b ) 외주 면 에 직립 되 게 설치 되 며 그 와 중간 판 ( 16 ) 사이 의 하층 공간 부 를 형성 하 기 위하 여 상기 중 간판 ( 16 ) 을 지지 하 는 지지 핀 ( 17 ) 이 구비 되 어 있 다 .