절연 물질 층 은 예 를 들 어 , 실리콘 산화 막 , 실리콘 질화 막 또는 실리콘 산질 화 막 등 일 수 있 다 . 절연 물질 층 은 예 를 들 어 , 열 산화 공정 , 화학 기상 증착 ( Chemical Vapor Deposition ; CVD ) 법 , 저압 화학 기상 증착 ( Low Pressure Chemical Vapor Deposition ; LPCVD ) 법 , 또는 플 라즈 마 강화 화학 기상 증착 ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ; PECVD ) 법 등 으로 형성 할 수 있 다 .