도 5 에 도시 되 는 처리 장치 ( 500 ) 는 , CVD ( Chemical Vapor Deposition ) 장치 이 며 , 예 를 들 어 루테늄 막 을 성막 하 는 공정 을 행하 는 장치 이 다 . 처리 장치 ( 500 ) 에서 는 , 예 를 들 어 루테늄 함유 전구체 를 공급 하 여 , 웨이퍼 ( W ) 에 루테늄 막 을 성막 하 는 처리 를 행한다 . 이하 , 처리 실 ( 13 ) 에 사용 되 는 처리 장치 ( 500 ) 를 예 로 들 어 설명 한다 .