따라서 , 챔버 ( 311 ) 에 질소 가스 가 공급 되 면 , 이 공급 된 질소 가스 는 제 1 분사 홀 들 ( 351 ) 을 거쳐 돌출부 ( 120 ) 의 외면 에 공급 되 고 , 제 2 분사 홀 들 ( 352 ) 을 거쳐 회전축 ( 110 ) 의 외면 에 공급 된다 . 이 와 같이 제 1 , 2 분사 홀 들 ( 351 , 352 ) 을 통하 여 분사 되 는 질소 가스 는 일정 분사 압 으로 분사 되 기 때문 에 상기 돌출부 ( 120 ) 의 외면 및 회전축 ( 110 ) 의 외면 을 크 리닝 할 수 있 다 . 또한 , 상기 질소 가스 로 인하 여 상기 돌출부 ( 120 ) 의 외면 및 회전축 ( 110 ) 의 외면 에 유막 을 형성 할 수 있 다 .