또한 , 본 발명 에 따른 기판 처리 장치 에 있 어서 , 상기 반송 장치 는 상기 처 리조 에서 처리 된 기판 을 상기 린스 장치 로 반송 하 도록 이루어져 있 으며 , 또한 , 상기 린스 장치 에서 린스 처리 된 기판 을 상기 처리 유닛 에 반송 하 도록 이루어져 있 도록 해도 좋 다 . 이러 한 기판 처리 장치 에 있 어서 , 상기 수 용부 가 동시 에 수용 할 수 있 는 기판 의 수 는 상기 반송 장치 가 동시 에 반송 가능 한 기판 의 수 이상 이 도록 해도 좋 다 . 이러 한 기판 처리 장치 에 따르 면 , 처 리조 내 에서 동시 에 반송 되 어 오 는 기판 을 , 동일 한 수 용부 내 에 수용 할 수 있 게 된다 . 이 방법 에 따르 면 , 파티클 의 전사 를 보다 확실 하 게 방지 할 수 있 다 .