비 한정 적 으로 , 예시 적 인 시스템 들 은 플 라즈 마 에칭 챔버 또는 모듈 , 증착 챔버 또는 모듈 , 스핀 - 린스 챔버 또는 모듈 , 금속 도금 챔버 또는 모듈 , 세정 챔버 또는 모듈 , 베벨 에지 에칭 챔버 또는 모듈 , PVD ( physical vapor deposition ) 챔버 또는 모듈 , CVD ( chemical vapor deposition ) 챔버 또는 모듈 , ALD ( atomic layer deposition ) 챔버 또는 모듈 , ALE ( atomic layer etching ) 챔버 또는 모듈 , 이온 주입 챔버 또는 모듈 , 트랙 ( track ) 챔버 또는 모듈 , 및 반도체 웨이퍼 들 의 제조 및 / 또는 제작 시 에 사용 되 거나 연관 될 수 도 있 는 임의 의 다른 반도체 프로세싱 시스템 들 을 포함 할 수 도 있 다 .