다음 으로 , 유전 시트 상 에 전기 전도도 가 우수 하 며 , 반사 율 이 90 % 이상 인 알루미늄 을 진공 증착 시켜 30 nm 의 두께 의 배면 전극 층 을 형성 하 고 , 배면 전극 층 상 에 배 면 전극 층 을 보호 하 기 위한 산화 보호 층 을 추가 적 으로 형성 하 였 다 . 그리고 형광 시트 상 에 가시 광 에 대한 투과율 과 전기전도도 가 우수 한 물질 인 ITO ( In 2 O 3 + Sn 2 O 4 ) 를 진공 증착 시켜 50 nm 의 두께 로 진공 증착 한 후 700 ℃ 내외 의 열처리 과정 을 통하 여 투명 전극 층 을 형성 함 으로써 도 1 과 같 은 전계 발광 패널 을 제작 하 였 다 .