비 접촉 , 고온 벽 ( hot - walled ) , 금속 반응기 . 일부 실시 형태 에서 , 고온 벽 의 금속 반응기 ( 예 를 들 어 , 스테인리스 스틸 ) 가 사용 된다 . 이러 한 타입 의 반응기 의 사용 은 금속 , 및 특히 스테인리스 스틸 이 카본 증착 ( 즉 , 그을음 ( soot ) 및 부산물 형성 ) 에 더 취약 함 으로 직관 에 반하 는 것 으로 보일 수 있 다 . 따라서 , 대부분 의 카본 나노 튜브 합성 반응기 는 석영 으로 제조 된다 . 이 는 이러 한 경우 에 카본 디 포지션 이 덜하 고 , 석영 이 세척 하 기 에 용이 하 며 , 석영 이 시료 관찰 을 용이 하 게 하 기 때문 이 다 . 그러나 , 출원인 은 , 스테인리스 스틸 에서 증가 된 그을음 및 카본 디 포지션 이 더 균일 하 고 , 더 효율 적 이 고 , 더 빠르 고 , 그리고 더 안 정한 카본 나노 튜브 성장 을 야기 하 는 것 을 관찰 하 였 다 . 이론 에 근거 한 것 은 아니 지만 , 대기 오퍼레이션 ( atmospheric operation ) 과 함께 , 반응기 에서 일어나 는 CVD 공정 은 확산 이 제한 됨 을 나타내 었 다 . 즉 , " 카본 나노 튜브 형성 촉매 가 "" 과잉 공급 ( overfed ) "" 되 고 ", 과다 한 카본 은 반응기 의 상대 적 으로 높 은 분압 으로 ( 반응기 가 부분 진 공하 에서 작동 되 는 것 보다 ) 인해 반응기 시스템 에서 이용 가능 하 다 . 결과 적 으로 , 개방 시스템 에서 , 특히 클린 ( clean ) 시스템 에서 , 과다 한 카본 은 카본 나노 튜브 - 형성 촉매 의 입자 에 부착 할 수 있 으며 , 이 는 이 들 의 카본 나노 튜브 합성 능력 을 떨어뜨린다 . 일부 실시 형태 에서 , " 반응기 가 금속 반응기 벽 에 디포 지트 된 그을음 을 갖 는 "" 더티 ( dirty ) "" 상태 일 경우 ", 장방형 반응기 를 의도 적 으로 실행 한다 . 반응기 의 벽 에 카본 이 단층 으로 디포 지트 되 면 , " 카본 은 그 자체 위 에 쉽 게 디포 지트 될 것 이 다 . 일부 이용 가능 한 카본 이 이러 한 메카 니즘 으로 인하 여 "" 회수 ( withdrawn ) "" 되 기 때문 에 ", 라디칼 형태 로 남 아 있 는 카본 원료 공급 재료 는 촉매 가 피 독 되 지 않 는 속도 로 카본 나노 튜브 - 형성 촉매 와 반응 한다 . 기존 시스템 이 연속 공정 에서 개방 ( open ) 이 면 , " "" 깨끗 하 게 ( cleanly ) "" 작동 하 지만 ", 감속 된 성장 속도 로 인하 여 카본 나노 튜브 가 크 게 감소 된 수 율 로 제조 된다 .