다시 말 하 면 , 제 1 열처리 공정 을 통해 보론 농도 는 초기 웨이퍼 ( 100 ) 의 제 1 표면 ( FS ) 에 인접 할수록 큰 값 을 가지 는 분포 를 가졌으나 , 제 2 열처리 공정 을 통해 제 1 표면 ( FS ) 에 인접 한 보론 이 외 확산 됨 에 따라 제 1 표면 ( FS ) 의 보론 농도 가 감소 하 였 다 . 즉 , 제 2 열처리 공정 을 통해 보론 농도 는 고농 도 보론 층 ( 120 ) 에서 피크 값 을 가지 게 된다 .