이 때 , RF 전원 부 ( 50 ) 를 이용 해 RF 전력 을 변조 함 으로써 , 반응 가스 의 유입 단계 ( s 2 ) 에 만 다른 단계 에 비하 여 큰 변조 RF 전력 을 짧 은 시간 동안 인가 해 줄 수 있 다 . 이 에 따라 분해 가 어려운 반응 가스 의 라디칼 을 이용 하 여 막 증착 을 도모 할 수 가 있 는 것 이 다 . 그러나 , 종래 의 라디칼 증착 장치 는 범용 의 고정 주파수 RF 전원 부를 채 용 함 에 따라 RF 온 / 오프 시간 이 길 어 , 이렇게 RA - 싸이클 릭 CVD 공정 의 반응 가스 유입 단계 ( s 2 ) , 또는 원료 가스 유입 단계 ( s 1 ) 에 만 RF 전력 을 인가 하 는 것 이 어렵 다 . 본 발명 은 변조 방식 을 이용 함 에 따라 라디칼 증착 장치 를 RA - 싸이클 릭 CVD 에 적용 할 수 가 있 는 것 이 다 .