반도체 기판 또는 유리 기판 의 처리 공정 을 수행 하 는 장치 로부터 배출 되 는 고온 폐수 는 제 1 배관 , 열 교환기 및 제 2 배관 을 통하 여 온도 가 낮추 어 진다 . 상기 제 1 배관 을 통해 상기 열 교환기 내부 로 유입 된 고온 폐수 는 상기 열 교환기 내부 로 공급 되 는 냉각수 와 혼합 되 면서 그 온도 가 낮추 어 지 며 , 이어서 상기 제 2 배관 을 통해 배출 된다 . 상기 열 교환기 는 상기 고온 폐수 가 유입 되 는 열 교환 튜브 와 상기 냉각수 를 상기 열 교환 튜브 로 공급 하 는 냉각수 공급 부 를 포함 한다 . 따라서 , 상기 고온 폐수 의 안전 한 배출 이 이루어질 수 있 다 .