다음 으로 , " 포토레지스트 또는 하드 마스크 ( 45 ) 는 도 10 d 에 도시 되 는 바 와 같이 윈도우 ( 46 ) 와 일치 하 는 제 2 게이트 접촉 금속 ( 14 "" a ) 의 표면 의 일부 위 에 형성 된다 . 마스크 에 의해 노출 되 는 제 2 게이트 접촉 금속 ( 14 "" a ) 의 일부 는 도 10 e 에 도시 되 는 바 와 같이 건식 에칭 을 이용 하 여 제거 된다 . 다음 으로 ", 동일 한 마스크 ( 45 ) 를 이용 하 여 , 도 10 f 에 도시 되 는 바 와 같이 제 1 게이트 접촉 또는 쇼트 키 접촉 금속 ( 14 ' a ) 의 노출 된 부분 을 제거 하 는 데 건식 또는 습식 에칭 이 사용 된다 . 그 후 , 마스크 ( 45 ) 는 도 10 g 에 도시 되 는 바 와 같이 제거 된다 .