화학 적 안정 성 은 Fenton 테스트 에 의해 실시 하 였 다 . 구체 적 으로 는 상기 실시 예 1 및 비 교예 2 에 의해 제조 된 양성자 전도성 고분자 막 을 65 ℃, 3 % 의 H 2 O 2 및 FeSO 4 용액 에 침지 시킨 후 상기 전도 성 고분 자막 이 히드록시 라디칼 에 의해 산화 되 도록 하 면서 , 상기 고분 자막 이 어느 정도 의 시간 동안 화학 적 으로 안정 성 을 유지 할 수 있 는지 측정 하 고 그 결과 를 도 2 에 도시 하 였 다 . 도 2 를 참조 하 면 , 비 교예 2 의 경우 에 는 7 시간 이 경과 하 기 이전 에 거의 질량 손실 이 거의 100 % 에 달하 지만 실시 예 1 의 경우 에 는 20 시간 이상 까지 도 10 % 미만 의 질량 손실 률 을 보이 기 때문 에 화학 적 으로 매우 안정 하 다는 것 을 확인 할 수 있 다 . 이러 한 화학 적 인 안정 성 은 이미 언급 한 바 와 같이 , 고분자 주 쇄 주위 에 적절 한 함 습량 을 유지 하 도록 할 수 있 기 때문 이 다 .