다음 에 , 상기 패 시베이 션 층 ( 130 ) 위 에 , 상기 패 시베이 션 층 을 선택 적 으로 노출 하 여 퓨즈 박스 가 형성 될 영역 을 정의 하 는 포토레지스트 패턴 ( 도시 되 지 않 음 ) 을 형성 한다 . 계속 해서 , 포토레지스트 패턴 을 식각 마스크 로 하 여 퓨즈 구조 상부 의 소정 두께 만 을 남겨 두 고 패 시베이 션 층 ( 130 ) 을 제거 하 여 퓨즈 박스 ( 132 ) 를 형성 한다 . 퓨즈 박스 ( 132 ) 는 이후 리페 어 작업 을 진행 하 는 과정 에서 레이저 가 조사 될 때 안정 적 으로 퓨즈 를 블로 잉 ( blowing ) 시키 는 역할 을 한다 .