이러 한 형상 을 가지 는 포토레지스트 를 형성 하 기 위해서 , 포토 리소그래피 공정 이 행해진다 . 포토 리소그래피 공정 에서 는 , 예 를 들 면 , 감광성 수지 의 레지스 트 막 을 기판 상 의 피 가 공막 으로서 의 도전 막 의 표면 에 균일 하 게 배치 하 고 , 노광 을 행 한 후 에 현상 함 으로써 , 원 하 는 형상 의 부분 에 레지스 트 를 남길 수 있 다 . 또한 , 남 은 레지스 트 를 마스크 로 하 여 , 피 가 공막 을 에칭 함 으로써 피 가 공막 을 원하 는 형상 으로 패 터닝 할 수 있 다 .