본 발명 은 상술 한 문제점 을 해결 하 기 위한 것 으로서 , 목표 선폭 과 소정 의 차이 를 갖 도록 제작 된 복수 개 의 테스트 마스크 를 이용 하 여 웨이퍼 를 패 터닝 하 고 각 테스트 마스크 별로 목표 선폭 과 실제 선폭 의 차이 를 산출 함 으로써 마스크 패턴 상 의 에러 와 웨이퍼 패턴 상 의 에러 와 의 관계 를 정의 하 여 마스크 레이아웃 을 보정 하 는 방법 을 제공 하 는 것 을 기 기술 적 과제 로 한다 .