본 실시 형태 에 있 어서 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 주사 노광 ( 다중 노광 ) 하 는 동작 과 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 한 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 를 취득 하 는 동작 을 병행 하 여 행한다 . 즉 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 의 노광 중 에 , 제 1 , 제 2 마스크 ( M 1 , M 2 ) 를 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 이동 하 면서 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 를 취득 할 수 있 다 .