다음 으로 , 상기 반 투광 성막 위 에 , 탄탈 을 함유 하 는 재료 로 이루어지 는 차광성 막 의 성막 을 행하 였 다 . 구체 적 으로 는 , Ta 타 겟 을 이용 하 고 , 우선 Ar 가스 를 스퍼터링 가스 로 하 여 , Ta 막 을 막 두께 70 ㎚ 로 형성 하 고 , 다음 으로 Ar 과 O 2 가스 를 스퍼터링 가스 로 하 여 , TaO 막 을 막 두께 25 ㎚ 로 연속 성막 하 여 , 차광성 막 을 형성 하 였 다 .