이상 의 구성 에 의해 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 1 ) 는 , 중심 버퍼 실 ( 35 ) 과 주변 버퍼 실 ( 36 ) 에 도입 하 는 처리 가스 의 유량 비 를 조정 하 는 것 에 의해 , 중심 샤워 헤드 로부터 분출 되 는 가스 유량 ( FC ) 과 주변 샤워 헤드 로부터 분출 되 는 가스 유량 ( FE ) 의 비율 ( FC / FE ) 을 임의 로 조정 한다 . 또한 , 중심 샤워 헤드 및 주변 샤워 헤드 로부터 각각 분출 시키 는 처리 가스 의 단위 면적 당 의 유량 을 개별 적 으로 조정 하 는 것 도 가능 하 다 . 또한 , 분기 관 ( 39 a , 39 b ) 의 각각 에 대응 하 는 2 개 의 처리 가스 공급원 을 배치 하 는 것 에 의해 중심 샤워 헤드 및 주변 샤워 헤드 로부터 각각 분출 시키 는 처리 가스 의 가스 종 또는 가스 혼합비 를 독립 또는 별개 로 설정 하 는 것 도 가능 하 다 . 단 , 이것 으로 한정 되 는 것 이 아니 며 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 1 ) 는 , 중심 샤워 헤드 로부터 분출 되 는 가스 유량 ( FC ) 과 주변 샤워 헤드 로부터 분출 되 는 가스 유량 ( FE ) 의 비율 을 조정 할 수 없 는 것 이 어도 좋 다 .