제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 는 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 하 면 ( K 1 ) 가운데 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 이 형성 된 제 1 패턴 형성 영역 ( SA 1 ) 의 외측 에 복수 형성 되 어 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 13 개 의 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) ( RM 11 ~ RM 113 ) 는 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 1 패턴 형성 영역 ( SA 1 ) 의 + X 측 및 - X 측 의 외측 의 영역 의 각각 에 있 어서 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 을 따라 형성 되 어 있 다 . 또 , 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 는 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 내 에 배치 할 수 있 고 , 조사 장치 ( 81 ) 는 검 출광 ( Ls ) 으로 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 를 조명 할 수 있 다 . 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 는 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 하 면 ( K 2 ) 가운데 , 제 2 패턴 ( PA 2 ) 이 형성 된 제 2 패턴 형성 영역 ( SA 2 ) 의 외측 에 복수 형성 되 어 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 13 개 의 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) ( RM 21 ~ RM 213 ) 는 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 제 2 패턴 형성 영 역 ( SA 2 ) 의 + X 측 및 - X 측 의 외측 의 영역 의 각각 에 있 어서 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 을 따라 형성 되 어 있 다 . 또 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 는 , 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 내 에 배치 할 수 있 고 , 조사 장치 ( 81 ) 는 제 1 마스크 ( M 1 ) , 제 1 광학계 ( 31 ) 및 제 2 광학계 ( 32 ) 를 통하 여 , 검 출광 ( Ls ) 으로 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 를 조명 할 수 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) ( RM 11 ~ RM 113 ) 와 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) ( RM 21 ~ RM 213 ) 와 는 서로 대응 하 도록 제 1 마스크 ( M 1 ) 상 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 상 의 각각 에 형성 되 어 있 다 . 마스크 스테이지 ( 6 ) 를 제어 하 여 , 마스크 ( M 1 ) 와 마스크 ( M 2 ) 를 Y 축 방향 으로 이동 하 는 것 에 의해 , 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 에 는 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 가 순차 적 으로 배치 되 고 , 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 에 배치 된 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 에 대응 하 는 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 가 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 에 순차 적 으로 배치 된다 . 도 14 에 있 어서 는 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 얼라이먼트 ( RM 17 ) 가 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 내 에 배치 되 고 얼라이먼트 ( RM 17 ) 에 대응 하 는 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 얼라이먼트 마크 ( RM 27 ) 가 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 내 에 배치 되 어 있 다 .