한편 기판 처리 를 수행 하 기 위해서 는 기판 처리 장치 에 전원 이 인가 되 도록 구성 될 수 있 는데 이 경우 그 전원 인가 방식 에 따라서 다양 한 구성 이 가능 하 며 , 일예 로서 , 샤워 헤드 부 ( 200 ) 에 하나 이상 의 RF 전원 , 하나 이상 의 LF 전원 등 을 인가 하 여 상부 전원 을 구성 하 고 , 기판 지지 부 ( 130 ) 를 접지 시킴 으로써 하부 전원 을 구성 할 수 있 다 .