화소 ( PX ) 의 포토 레지스 트 ( PR 1 , PR 2 ) 가 식각 되 는 동안 , 보상 부 ( CP ) 의 제 3 포토 레지스 트 ( PR 3 ) 및 무기 막 ( 160 ') 이 식각 되 어 , 제 3 포토 레지스 트 ( PR 3 ') 의 두께 가 감소 할 수 있 다 . 또한 , 제 3 포토 레지스 트 ( PR 3 ) 에 의해 노출 된 무기 막 ( 160 ') 이 제거 되 고 , 제 3 절연 층 ( IL 3 ) 의 상면 이 노출 될 수 있 다 . 제 3 포토 레지스 트 ( PR 3 ') 가 도포 된 제 2 무기 막 ( 163 ') 은 보호 되 어 식각 이 진행 되 지 않 을 수 있 다 .