그런 다음 , 전술 한 제 1 가스 분사 모듈 ( 130 a ) 의 제 1 가스 분사 공간 ( S 1 ) 을 통한 제 1 가스 ( G 1 ) 의 분사 공정 을 중단 하 고 , 제 1 가스 분사 모듈 ( 130 a ) 의 제 2 가스 분사 공간 ( S 2 ) 에 제 2 가스 ( G 2 ) 를 공급 함 과 아울러 제 1 가스 분사 모듈 ( 130 a ) 의 제 2 가스 분사 플레이트 ( 134 ) 에 플 라즈 마 전원 을 공급 하 여 제 1 가스 분사 모듈 ( 130 a ) 의 제 2 가스 분사 공간 ( S 2 ) 에 플 라즈 마 를 형성 해 활성 화 된 제 2 가스 ( PG 2 ) 를 제 1 분 할 공간 ( DS 1 ) 각각 의 타 측 영역 에 하향 분사 한다 . 이 와 동시 에 , 제 2 가스 분사 모듈 ( 130 b ) 의 제 1 가스 분사 공간 ( S 1 ) 에 제 1 가스 ( G 1 ) 를 공급 하 여 상기 제 2 분 할 공간 ( DS 2 ) 의 일 측 영역 에 제 1 가스 ( G 1 ) 를 하향 분사 한다 .