도 1 에 나타내 는 도금 장치 에 있 어서 , 도금 조 ( 10 ) 내 의 기판 ( W ) , 애노드 ( 26 ) , 조정 판 ( 34 ) , 패들 ( 32 ) 의 위치 관계 는 , 기판 ( W ) 에 형성 되 는 도금 막 의 균일성 에 영향 을 미친다 . 이 예 에서 는 , 기판 ( W ) 의 중심 , 애노드 ( 26 ) 의 중심 및 조정 판 ( 34 ) 의 통형 상부 ( 50 ) 의 축심 이 대략 일직선 으로 늘어서 도록 기판 ( W ) , 애노드 ( 26 ) 및 조정 판 ( 34 ) 이 배치 되 어 있 다 . 애노드 ( 26 ) 와 기판 ( W ) 의 극간 거리 는 , 이 예 에서 는 90 mm 이나 , 애노드 ( 26 ) 는 , 극간 거리 60 내지 95 mm 의 범위 에서 설치 할 수 있 다 . 조정 판 ( 34 ) 의 통형 상부 ( 50 ) 의 기판 ( W ) 측 선단 과 기판 ( W ) 과 의 거리 는 , 이 예 에서 는 15 mm 이 고 , 통형 상부 ( 50 ) 의 길이 가 20 mm 이 기 때문 에 , 조정 판 ( 34 ) 의 플랜 지부 ( 52 ) 와 기판 ( W ) 과 의 사이 의 거리 는 35 mm 이 다 .