전술 한 바 와 같이 , 본 발명 의 냉연 강판 은 , 어닐링 시 에 강판 표층 에 형성 되 는 SiO 2 나 Si - Mn 계 복합 산화물 등 의 Si 함유 산화물 층 을 제거 한 강판 표면 을 갖 는 것 인 것 일 필요 가 있 다 . 그러 기 위해서 는 , 질산 등 의 산 을 사용 하 여 강 산세 하 여 , 강판 표면 이나 표면 근방 의 입계 부분 에 형성 된 Si 함유 산화물 을 지철 마다 용해 , 제거 한 것 인 것 일 필요 가 있 다 .