" 용어 "" 히드록실 보호기 "" 는 마찬가지 로 일반 적 인 용어 로 공지 되 어 있 고 ", 화학 적 반응 에 대항 하 여 히드록실기 의 보호 를 위해 적합 하 지만 , 목적 하 는 화학 적 반응 이 분자 내 다른 곳 에서 수행 된 후 제거 하 기 용이 한 기 에 관한 것 이 다 . 통상 적 인 상기 와 같 은 기 는 상기 언급 된 미 치환 또는 치환 아릴 , 아르 알 킬 또는 아실기 , 나아가 또 한 알킬기 이 다 . 상기 히드록실 보호기 는 목적 하 는 화학 적 반응 또는 반응 의 연속 후 다시 제거 되 기 때문 에 , 이 의 성질 및 크기 는 중요 하 지 않 지만 ; 바람직 한 것 은 탄 소수 1 - 20 , 특히 는 1 - 10 인 기이 다 . 히드록실 보호기 의 예 는 , 특히 , tert - 부 톡 시 카르보닐 , 벤질 , p - 니트 로 벤조일 , p - 톨루엔 술포닐 , tert - 부틸 및 아세틸 이 고 , 이 중 벤질 및 tert - 부틸 이 특히 바람직 하 다 . 아스파르트산 및 글루탐산 내 COOH 기 는 바람직 하 게 는 이 의 tert - 부틸 에스테르 의 형태 로 보호 된다 ( 예 를 들 어 Asp ( OBut ) ) .