도 1 에 도시 된 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 는 , 보유 지지 아암 ( 600 ) 을 가로 방향 ( 도 1 에 있 어서 는 y 방향 ) 으로 이동 시키 기 위한 가로 구동 기구 ( 620 ) 를 구비 한다 . 가로 구동 기구 ( 620 ) 에 의해 , 아암 ( 600 ) 과 함께 연마 헤드 ( 500 ) 및 연마 패드 ( 502 ) 가 가로 방향 으로 이동 가능 하 다 . 또한 , 이러 한 가로 방향 ( y 방향 ) 은 , 전술 한 제 1 운동 방향 으로 수직 이 며 또 한 기판 의 표면 에 평행 한 제 2 운동 방향 이 다 . 그 로 인해 , 부분 연마 장치 ( 1000 ) 는 , 제 1 운동 방향 ( x 방향 ) 으로 연마 패드 ( 502 ) 를 이동 시켜 기판 Wf 를 연마 하 면서 , 동시 에 직교 하 는 제 2 운동 방향 ( y 방향 ) 으로 연마 패드 ( 502 ) 를 운동 시킴 으로써 , 기판 Wf 의 가공 흔 형상 을 보다 균일화 시키 는 것 이 가능 해진다 . 전술 한 바 와 같이 , 도 1 에 도시 된 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 는 , 연마 패드 ( 502 ) 의 기판 Wf 와 의 접촉 영역 에서 는 , 선속도 는 일정 하 다 . 그러나 , 연마 패드 ( 502 ) 의 형상 이나 재질 에 불 균일 이 있 거나 함 으로써 , 연마 패드 ( 502 ) 의 기판 과 의 접촉 상태 가 불 균일 하 거나 하 면 , 기판 Wf 의 가공 흔 형상 , 특히 연마 패드 ( 502 ) 의 기판 Wf 와 의 접촉면 에 있 어서 제 1 운동 방향 과 수직 인 방향 으로 연마 속도 의 변동 이 발생 한다 . 그러나 , 연마 중 에 연마 패드 ( 502 ) 를 제 1 운동 방향 과 수직 인 방향 으로 운동 시킴 으로써 , 연마 변동 을 완화 하 는 것 이 가능 하 며 , 따라서 가공 흔 형상 을 보다 균일 하 게 할 수 있 다 . 또한 , 도 1 에 도시 된 실시 형태 에 있 어서 는 , 수직 구동 기구 ( 602 ) 는 , 모터 및 볼 나사 를 이용 한 기구 이 다 . 또한 , 도 1 에 도시 된 실시 형태 에 있 어서 는 , 가로 구동 기구 ( 620 ) 는 보유 지지 아암 ( 600 ) 을 수직 구동 기구 ( 602 ) 마다 이동 시키 는 구성 이 다 . 또한 , 제 2 운동 방향 은 , 제 1 운동 방향 에 대하 여 엄밀 하 게 수직 이 아니 더라도 , 제 1 운동 방향 으로 수직 인 성분 을 갖 는 방향 이 면 , 가공 흔 형상 을 균일 하 게 하 는 효과 를 발휘 할 수 있 다 .