도 2 의 광 위상 간섭계 가 포토 마스크 ( 19 ) 표면 의 헤이즈 를 검출 하 는 원리 는 백색 광원 ( 31 ) 으로부터 색소 필터 ( 32 ) 를 거쳐 단색광 원 ( 201 ) 을 만든 후 제 2 임 스프리 터 ( 33 b ) 로 측정 광 ( 206 ) 과 기준 광 ( 207 ) 으로 나누 고 , 이 들 광 을 각각 측정 물 에 해당 하 는 포토 마스크 ( 19 ) 표면 과 기준 미러 ( 34 ) 에 입사 시켜 반사 되 는 광 을 다시 제 2 빔 스프 리터 ( 33 b ) 로 합성 하 여 생성 되 는 포토 마스크 ( 19 ) 표면 의 높이 정보 를 포함 하 는 광 위상차 간섭 무늬 를 그 간섭 광 ( 208 ) 의 광 강도 에 대응 하 는 디지털 값 형태 로 간섭 검출기 ( 36 ) 에 입력 하 고 , 광 위상차 간섭 무늬 측정 알고리즘 을 통하 여 입력 된 디지털 값 으로부터 포토 마스크 ( 19 ) 표면 의 높이 정보 를 추출 한다 . 광 위상 간섭계 는 간섭 검출기 ( 36 ) 를 통하 여 보이 는 영역 의 높이 분포 를 한 번 에 측정 할 수 있 고 높이 측정 분해능 은 0 . 1 nm 수준 이 므로 포토 마스크 ( 19 ) 표면 에 헤이즈 ( 210 ) 가 생성 되 어 있 으면 포토 마스크 ( 19 ) 표면 의 높이 정보 로부터 헤이즈 ( 210 ) 를 검출 할 수 있 다 .