상기 기판 ( 300 ) 은 예 를 들 면 실리콘 기판 과 같 은 통상 의 반도체 기판 으로 이루어질 수 있 다 . 상기 기판 ( 300 ) 의 저밀 도 패턴 영역 ( A ) 은 단위 면적 당 패턴 밀도 가 비교 적 낮 은 영역 으로서 , 예 를 들 면 주변 회로 영역 또는 코어 영역 일 수 있 다 . 또는 , 상기 저밀 도 패턴 영역 ( A ) 은 셀 어레이 영역 중 형성 하 고자 하 는 패턴 의 밀도 가 비교 적 낮 은 영역 일 수 있 다 . 상기 고밀도 패턴 영역 ( B ) 은 상기 저밀 도 패턴 영역 ( A ) 에 비해 단위 면적 당 패턴 밀도 가 높 은 영역 으로서 , 예 를 들 면 셀 어레이 영역 의 일부 일 수 있 다 .