본 발명 의 실시 양태 의 추가 양태 는 세라믹 대응 물 에 비하 여 금속 성 표적 의 전체 적 으로 보다 높 은 전도도 를 포함 한다 . 이 는 보다 두꺼운 금속 성 스퍼터 표적 의 이용 을 허용 하 며 , 이 는 주어진 스퍼터 표적 두께 의 경우 , 냉각 된 표적 배 킹 플레이트 로부터 스퍼터 표적 의 전체 벌크 를 통해 냉각 되 는 표적 이 금속 성 표적 에 보다 효율 적 이 고 동시 에 부가 적 으로 그 열 적 구배 가 전형 적 으로 훨씬 더 작아지 기 때문 이 다 . 보다 두꺼운 금속 성 표적 을 사용 하 는 유리 한 선택 은 , 보다 덜 빈번 한 유지 보수 일정 ( maintenance schedule ) , 제조 장비 의 감소 된 다운 시간 , 및 따라서 박막 전기 화학 저장 및 전환 장치 의 보다 낮 은 제조 비용 과 관련 되 어 있 으며 , 이 는 보다 두꺼운 스퍼터 표적 이 교체 되 어야 하 기 전 에 보다 긴 기간 동안 작용 될 수 있 기 때문 이 다 . 표적 두께 와 그 스퍼터 표적 표면 에서 의 마그네트론 작용 간 의 절충 은 제조 스퍼터 장비 의 성능 을 최적 화 시키 기 위해서 이루어질 필요 가 있 을 수 있 다 .