한편 , 상기 열처리 공정 동안 에 , 상기 제 1 도전 성 패턴 ( 110 a ) 내 의 임 플 런 트 된 원자 들 은 확산 ( diffusion ) 됨 과 아울러 전기 적 으로 활성 화 ( activation ) 될 수 있 다 . 그 결과 , 상기 제 1 도전 성 패턴 ( 110 a ) 내 의 임 플 런 트 된 원자 들 은 상기 제 1 도 전 성 패턴 ( 110 a ) 내 에서 균일 한 분포 특성 을 가질 수 있 다 .