도 3 은 본 발명 의 제 3 실시 예 에 관한 플렉서블 디스플레이 용 기판 ( 1000 b ) 을 도시 한 단면도 이 다 . 도 3 을 참조 하 면 , 본 발명 의 제 3 실시 예 에 관한 플렉서블 디스플레이 용 기판 ( 1000 b ) 은 플라스틱 기판 ( 50 ) 상 에 하나 이상 의 산화 실리콘 층 및 질화 실리콘 층 이 교대 로 적층 된 점 이 본 발명 의 제 1 실시 예 및 제 2 실시 예 와 유사 하 다 . 다만 , 제 1 실시 예 및 제 2 실시 예 와 달리 제 3 실시 예 에 의한 배리 어막 ( 100 b ) 은 제 1 산화 실리콘 층 ( 101 ) , 제 1 산화 실리콘 층 ( 101 ) 상 에 적층 된 제 1 질화 실리콘 층 ( 201 ) , 제 1 질화 실리콘 층 ( 201 ) 상 에 적층 된 제 2 산화 실리콘 층 ( 102 ) , 제 2 산화 실리콘 층 ( 102 ) 상 에 적층 된 제 2 질화 실리콘 층 ( 202 ) , 제 2 질화 실리콘 층 ( 202 ) 상 에 적층 된 제 3 산화 실리콘 층 ( 103 ) , 제 3 산화 실리콘 층 ( 103 ) 상 에 적층 된 제 3 질화 실리콘 층 ( 203 ) 및 제 3 질화 실리콘 층 ( 203 ) 상 에 적층 된 제 4 산화 실리콘 층 ( 104 ) 으로 이루어진 것 이 상이 하 다 . 그러나 , 배리 어막 ( 100 ) 의 특징 , 산화 실리콘 층 및 질화 실리콘 각각 의 두께 , 막 스트레스 형태 , 막내 수소 원자 함유량 , 막 밀도 , 형성 조건 등 의 특징 은 제 1 실시 예 와 모두 동일 하 므로 , 중복 되 는 설명 은 생략 한다 .