즉 , 도 3 내지 도 5 에 나타난 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 정화 처리 장치 를 거친 원 수 는 오존 처 리부 ( 1 ) ; 자 화처 리부 ( 2 ) ; 정밀 ( MF ) 여 과부 ( 3 ) ; 광촉매 처 리부 ( 4 ) ; 및 한외 ( UF ) 여 과부 ( 5 ) ; 를 거치 고 , 최종 적 으로 여과 된 맑 은 처리 수 는 상기 한외 ( UF ) 여 과부 ( 5 ) 의 처리 수배 출구 ( 12 ) 를 통하 여 외부 로 배출 되 는 것 이 다 . 그리고 , 상기 한외 ( UF ) 여 과부 ( 5 ) 를 통과 하 지 못한 슬러 지 는 슬러 지처 리부 ( 6 ) 로 모이 게 되 어 상기 슬러리 처 리부 ( 6 ) 하단 에 있 는 배출구 를 통하 여 UF 슬러 지 ( 16 ) 가 배출 되게 되 는 것 이 다 .