소스 레벨 절연 층 ( 117 ) 은 실리콘 산화물 과 같 은 유전체 재료 를 포함 한다 . 소스 레벨 절연 층 ( 117 ) 의 두께 는 20 nm 내지 400 nm , 예컨대 40 nm 내지 200 nm 범위 내 에 있 을 수 있 지만 , 더 작 은 두께 및 더 큰 두께 도 사용 될 수 있 다 . 선택 적 소스 선택 레벨 전도성 층 ( 118 ) 은 소스 선택 레벨 게이트 전극 으로서 사용 될 수 있 는 전도성 재료 를 포함 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 선택 적 소스 선택 레벨 전도성 층 ( 118 ) 은 , 어 닐 공정 에 의해 , 도핑 된 폴리 실리콘 으로 후속 적 으로 변환 될 수 있 는 , 도핑 된 폴리 실리콘 또는 도핑 된 비정질 실리콘 과 같 은 도핑 된 반도체 재료 를 포함 할 수 있 다 . 선택 적 소스 선택 레벨 전도성 층 ( 118 ) 의 두께 는 30 nm 내지 200 nm , 예컨대 60 nm 내지 100 nm 범위 내 에 있 을 수 있 지만 , 더 작 은 두께 및 더 큰 두께 도 사용 될 수 있 다 .