이러 한 마스크 가공 을 위해 사용 되 던 플 라즈 마 장치 는 그 형태 에 따라 크 게 유도 결합 형 ( Inductively Coupled Plasma ) , 용량 결합 형 ( Capacitively Coupled Plasma ) , ECR ( Electron Cyclotron Resonance ) 등 으로 나뉘 는데 , 이 중 유도 결합 형 은 내부 의 기밀 ( Gas tight ) 이 유지 되 고 감압 의 분위기 가 형성 된 반응 챔버 내 로 처리 가스 를 도입 하 고 상부 의 유전체 벽체 에 근접 배치 된 원형 의 고주파 안테나 ( 10 ) 에 플 라즈 마 생성 용 고주파 전력 ( P ) 을 인가 하 면 유전체 벽체 를 매개 로 하 여 반응 챔버 의 내부 에 전계 가 형성 된다 .