한편 상기 샤워 헤드 부 ( 200 ) 는 처리 공간 ( S ) 에서 혼합 되 어 반응 함 으로써 기판 ( 10 ) 에 대한 기판 처리 를 수행 할 수 있 도록 처리 공간 ( S ) 으로 2 종류 이상 의 가스 들 을 분사 하 기 위한 구성 으로서 , 2 종류 이상 의 가스 들 이 혼합 되 지 않 고 처리 공간 ( S ) 으로 원활 하 게 분사 되 도록 구성 될 필요 가 있 다 .