다음 으로 , 제 어 장치 ( 100 ) 의 제 어부 ( 102 ) 는 , 챔버 구동 부 ( 45 ) 를 구동 함 으로써 상부 챔버 ( 43 ) 를 하강 시킨다 . 제 어부 ( 102 ) 의 제어 에 의해 , 웨이퍼 승강 제 어부 ( 112 ) 가 승강 구동 부 ( 32 ) 를 구동 함 으로써 지지 핀 ( 31 ) 을 하강 시켜 , 지지 핀 ( 31 ) 에 지지 되 어 있 는 웨이퍼 ( W ) 를 열 판 ( 21 ) 에 배치 시킨다 . 이 와 같이 챔버 ( 41 ) 내 에 있 어서 처리 공간 ( S ) 이 형성 되 고 , 웨이퍼 ( W ) 가 배치 면 ( 21 a ) 에 배치 됨 으로써 , 처리 대상 의 웨이퍼 ( W ) 의 열처리 가 개시 된다 .