본 발명 의 보강 층 , 베이스 층 및 패턴 층 에서 사용 하 는 소포제 는 폴리비닐 알콜 이나 변성 아크릴 내 의 연행 공기 의 발생 으로 인한 거대 기공 을 제거 하 여 공기 량 의 증가 를 감소 시키 기 위하 여 사용 된다 . 양 이온 성 이나 음 이온 성 , 비 이온 성 모두 가 좋 다 . 음 이온 성 기 로 는 카 복실 레이트 , 포스 페이트 , 설 포 네이트 , 설 페이트 등 의 기능기 를 가지 는 것 이 좋 으며 상기 음 이온 으로서 는 알 카리 금속 이온 이나 알 카리 토금속 이온 등 이 좋 다 . 양 이온 성 기 로 는 암모니아 , 아민 , 아미드 등 의 기 를 포함 하 고 , 상기 양 이온 으로 는 할 라이드 , 설 페이트 , 카보 네이트 , 포스 페이트 등 의 통상 이온 은 모두 사용 할 수 있 다 . 특히 바람직 하 게 는 실리콘 오일 계 로서 액상 제제 의 표면 에 형성 되 는 기포 를 방지 하 거나 기포 의 양 을 감소 시키 는 화합물 또는 화합물 들 을 의미 하 는 것 으로 는 디 메틸 실리콘유 , 실리콘 페이스 , 실리콘 에 멀 젼 , 폴 리디 메틸 실록 산 ( polydimethylsiloxane ) 오일 , 폴리 메틸 실록 산 ( polymethylsiloxane ) 오일 , 사이클 로 메치 콘 ( cyclomethicone ) 오일 . 플 루 오로 실리콘유 등 과 같 은 실리콘 계 소포제 로 이루어진 군 에서 선택 되 는 어느 하나 이상 이 사용 될 수 있 으나 , 이 에 제한 되 는 것 은 아니 며 , 당업 계 에서 통상 적 으로 사용 되 는 종류 가 사용 될 수 있 다 . 본 발명 에서 는 일반 적 으로 확산 력 이 큰 기름 상 의 물질 로서 비 이온 계면 활성제 등 을 사용 할 수 있 고 , 그 밖 에 실리콘 소포제 는 화학 적 으로 안정 하 여 뛰어나 효과 가 있 는 시판 용 실리콘 소포제 를 사용 할 수 있 다 . 바람직 한 소포제 는 Xiameter 사이클 로 메치 콘 을 사용 하 였 다 .