따라서 , 본 발명 의 목적 은 , 종래 기술 에 의해서 는 실현 하 지 못했 던 , 드럼 에 양호 하 게 감 는 것 이 가능 한 , 작업 성 이나 수율 이 우수 한 , 실용 상 매우 유용 한 전해 구리 박 을 제공 하 는 기술 을 개발 하 는 것 이 다 . 구체 적 으로 는 , 전기 도전 율 이 99 % 이상 이 고 , 두께 가 10 ㎛ 이 하인 얇 은 전해 구리 박 으로서 , 「 휨 ( 컬 ) 」 의 문제 가 억제 되 고 있 고 , 표리 의 표면 조도 가 어느 것 이나 2 . 5 ㎛ 이하 로 평활 하 고 , 인장 강도 가 500 Mpa 이상 이 고 , 또한 , 신장 률 이 5 . 5 % 이상인 , 전해 구리 박 을 제공 하 는 기술 을 개발 하 는 것 이 다 . 본 발명 의 목적 은 , 별도 로 , 중금속 을 이용 해서 , 전해 구리 박 의 결정 조직 에 다른 중금속 을 넣 는다고 하 는 일 이 없 고 , 단지 전해액 에 있 어서 의 첨가제 를 연구 ( 궁리 ) 한다고 하 는 간편 한 방법 으로 , 상기 한 우수 한 성능 의 , 순 구리 ( 純銅 ) 로 이루어지 는 전해 구리 박 을 제조 하 는 것 에 있 다 .