또한 , FPD 용 대형 마스크 를 제조 하 기 위한 대형 마스크 블랭크 에서 는 , LSI 용 마스크 와 같이 높 은 에칭 정밀도 를 중시 하 는 것 보다 도 , 오히려 코스 트 면 및 스루풋 을 중시 하 는 경우 에 는 , 에칭 액 을 이용 한 웨트 에칭 에 의해 마스크 블랭크 위 에 형성 된 박막 의 패 터닝 이 실시 된다 . 또한 , FPD 용 대형 마스크 의 경우 , 마스크 패턴 형성 시 에 드라이 에칭 을 행하 고자 하 면 , 드라이 에칭 장치 가 매우 대 규모 로 되 어 , 매우 고가 의 장치 를 도입 해야 만 한다 . 또한 , FPD 용 대형 마스크 에서 의 웨트 프로세스 ( 웨트 에칭 ) 에 적합 한 마스크 블랭크 및 포토 마스크 에 관해서 는 , 그다지 연구 되 어 있 지 않 다 .