한편 , 반도체 제조 공정 의 포토 공정 중 에서 배선공 정 이 진행 되 는 후 공정 에서 는 얼라인먼트 트리 ( alignment tree ) 가 서브 레이어 ( sub layer ) - 커런트 레이어 ( current layer ) - 포스트 레이어 ( post layer ) 의 구조 를 가지 고 있 다 . 즉 , 커런트 레이어 는 서브 레이어 에 얼라인먼트 ( alignment ) 를 실시 하 고 , 포스트 레이어 는 커런트 레이어 에 얼 라인 시키 는 구조 이 다 . 이렇게 진행 되 는 배선 공정 의 패턴 형성 시 에 는 커런트 의 오버레이 가 서브 레이어 의 영향 을 받 게 된다 .