또한 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 ( 즉 , 이온 성 관능기 밀도 가 10 ％ 초과 이 며 , pKa 가 3 이하 인 것 , 또는 그 의 바람직 한 양태 의 것 . 후술 하 는 습윤제 로 분류 되 는 것 을 제외 함 ) 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 에 포함 되 는 고분자 화합물 ( 폴리머 ) 의 총 질량 ( 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 와 , 그 밖 의 분자량 1000 이상 의 고분자 화합물 의 합계 질량 ) 에 대하 여 50 질량 ％ 이상 인 것 이 바람직 하 다 ( 상한 100 질량 ％). 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 이 이 범위 이 면 , 잔사 의 제거 효과 가 보다 향상 된다 . 이러 한 이유 는 , 표면 처리 공정 후 에 있 어서 의 잔사 의 원인 이 될 수 있 는 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 이외 의 폴리머 의 양 이 저감 되 기 때문 이 다 . 또한 , 이온 성 관능기 함유 고분자 가 표면 처리 대상물 및 양전하 대전 성 성분 을 피복 할 때 , 이온 성 관능기 함유 고분자 이외 의 고분자 화합물 에 의해 피복 이 방해 되 는 경우 가 저감 되 기 때문 이 라고 추측 된다 . 또한 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 에 의한 정전 적 인 흡착 효과 또는 반발 효과 의 발현 이 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 이외 의 고분자 화합물 에 의해 방해 되 는 일 이 저감 되 기 때문 이 라고 추측 된다 . 마찬가지 관점 에서 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 에 포함 되 는 고분자 화합물 의 총 질량 에 대하 여 80 질량 ％ 초과 인 것 이 보다 바람직 하 고 , 95 질량 ％ 초과 인 것 이 더욱 바람직 하 고 , 표면 처리 조성물 에 포함 되 는 고분자 화합물 의 총 질량 에 대하 여 100 질량 ％, 즉 표면 처리 조성물 에 포함 되 는 고분자 화합물 이 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 만 인 것 이 더욱 바람직 하 다 . 특히 , 필수 성분 인 이온 성 관능기 함유 고분자 의 함유량 은 , 표면 처리 조성물 에 포함 되 는 고분자 화합물 의 총 질량 에 대하 여 95 질량 ％ 초과 로 되 는 경우 에 , 잔사 의 제거 효과 는 현저 하 게 향상 된다 .