가스 분리 형 샤워 헤드 ( 140 ) 는 제 1 가스 및 제 2 가스 가 분리 공급 되 고 , 또 한 분 리 분산 되 며 , 반응 챔버 ( 160 ) 내부 로 공통 으로 분사 된다 . 분사 된 제 1 가스 및 제 2 가스 에 의해 반응 챔버 ( 160 ) 내부 에서 비정질 탄소막 증착 후 에 반응 챔버 ( 160 ) 내부 벽면 등 에 부착 된 유기 불순물 의 세정 이 이루어진다 .