이때 , 비 교예 2 에 따른 포토 마스크 패턴 에 대한 단면 사진 을 도시 한 도 12 를 참조 하 면 , 포토 마스크 의 단층 위상 반 전막 패턴 의 단면 은 약 40 ° 미만 으로서 상대 적 으로 가장 나쁜 패턴 단면 형상 을 가지 고 있 음 을 확인 할 수 있 었 다 . 이 는 최상층 에 포함 된 질소 ( N ) 의 함유량 이 상대 적 으로 낮 고 , 최 하부 에 포함 된 질소 ( N ) 의 함유량 이 높 은 것 에 기인 한 것 으로 판단 된다 .