도 16 c 를 참조 하 면 , 금속 입자 ( 125 , 도 16 b 참조 ) 와 버퍼 층 ( 200 ) 을 포함 한 기판 ( 100 ) 의 상면 에 예컨대 , 금속 입자 ( 125 ) 를 마스크 로 이용 한 화학 적 식각 공정 을 수행 함 으로써 , 버퍼 층 ( 200 ) 의 주기 ( 바람직 하 게 , 약 10 nm 내지 1000 nm 정도 ) 즉 , 광파 장 이하 ( Subwavelength ) 의 주기 를 갖 는 나노 구조 버퍼 층 ( 200 ') 을 형성 할 수 있 다 .