도 8 을 참조 하 면 , 실리콘 결정화 를 위해 사용 되 는 결정 화 장치 ( 50 ) 는 , 레이저 빔 ( 53 ) 을 생성 하 는 레이저 발생 장치 ( 55 ) 와 , 상기 레이저 장치 ( 55 ) 를 통해 방출 된 레이저 빔 ( 53 ) 을 집속 시키 는 집속 렌즈 ( 55 ) 와 , 레이저 빔 ( 53 ) 을 슬릿 , 즉 마스크 패턴 을 통해 나누 는 마스크 ( 100 ) 와 , 상기 마스크 ( 100 ) 의 하부 에 위치 하 여 상기 마스크 ( 100 ) 를 통과 한 레이저 빔 ( 53 ) 의 크기 를 소정 의 비율 로 축소 하 는 축소 렌즈 ( 57 ) 를 포함 하 여 구성 된다 .