상기 3 가 크롬 도금 층 을 형성 하 는 단계 는 통상 의 3 가 크롬 도 금욕 에서 5 ∼ 20 Ａ / ｄ ㎡ 의 전류 밀도 로 도금 하 여 두께 0 . 1 ㎛ 이상 의 3 가 크롬 도금 층 을 형성 한다 . 이때 , 상기 3 가 크롬 도금 층 의 두께 는 특별히 한정 할 필요 는 없 으나 , 경제 성 을 고려 할 경우 , 두께 0 . 1 ∼ 3 ㎛ 의 3 가 크롬 도금 층 을 형성 한다 .