우선 , Mo : Si = 1 : 3 . 5 ( 원 자비 ) 이 고 , 질소 량 이 38 원자 ％ 가 되 는 조건 으로 두께 2 nm 의 층 을 형성 하 였 다 . 계속 해서 , Mo : Si = 1 : 2 . 2 ( 원 자비 ) 이 고 , 질소 량 이 0 원자 ％ 가 되 는 조건 으로 두께 35 nm 의 층 , 추가 로 Mo : Si = 1 : 3 . 5 ( 원 자비 ) 이 고 , 질소 량 이 38 원자 ％ 가 되 는 조건 으로 두께 5 nm 의 층 을 형성 하 여 바이너리 포토 마스크 블랭크 를 얻 었 다 .