예 를 들 면 , 패턴 마스크 는 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 이 형성 된 것 이 며 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 방법 에 의해 피사체 로 투영 되 는 패턴 마스크 의 단일 패턴 은 세로 방향 으로 상이 한 폭 을 가지 는 다양 한 스트라이프 ( stripe ) 패턴 , 가로 방향 으로 상이 한 폭 을 가지 는 다양 한 스트라이프 패턴 , 격자 패턴 , 체크 패턴 , 십자가 패턴 및 X 자 패턴 중 어느 하나 의 패턴 형태 일 수 있 다 .