상기 프로세스 챔버 유닛 은 사용 되 는 프로세스 공정 에 따라 스퍼터링 챔버 유닛 , 에칭 챔버 유닛 , 어닐링 챔버 유닛 등 으로 불리 어 진다 . 스퍼터링 챔버 유닛 은 기판 상 에 소정 의 물질 을 증착 시키 고 , 에칭 챔버 유닛 은 소정 기판 상 에서 소정 의 물질 을 식각 하 고 , 상기 어닐링 챔버 유닛 은 소정 의 기판 상 의 소정 의 물질 을 어닐링 ( annealing ) 하 여 물질 특성 을 안정 화 한다 .