서브 빔 A 와 서브 빔 B 의 형상 을 도 22 에 나타낸 바 와 같이 바꾸 면 , 나이프 에 지법 에 의한 포커스 에러 를 검출 할 수 있 다 . 상기 나이프 에 지법 으로 는 , 기록 매체 의 기록 면 에서 반사 된 광 빔 의 광 스폿 이 , 예 를 들 면 , 광검 출 유닛 ( 127 ) 의 수 광부 에서 2 개 로 분할 된 소 영역 중 , 한 쪽 소영 역 에서 수광 되 는 형상 이 되 는 광 빔 으로서 , 수 광부 에서 초점 이 맞 도록 한 광 빔 을 생성 하 고 , 수광 된 광 스폿 의 형상 차이 신호 를 얻 음 으로써 포커스 에러 가 검출 된다 .