리소그래피 장치 의 기본 적 인 오버레이 기여 도 ( 및 선택 적 에칭 공정 오버레이 기여 도 ) 는 그 후 제품 상 오버레이 추정 에서 의 사용 을 위하 여 저장 된다 . 리소그래피 장치 의 기본 적 인 오버레이 기여 도 는 다수 의 리소그래피 장치 에 대해 결정 될 수 있 다 . 리소그래피 장치 의 기본 적 인 오버레이 기여 도 는 사용 된 리소그래피 장치 의 디바이스 들 의 특정 조합 에 대해 결정 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 리소그래피 장치 는 기판 이 노광 될 수 있 는 하나 이상 의 기판 테이블 을 가질 수 있 으며 , 따라서 리소그래피 장치 의 기본 적 인 오버레이 기여 도 는 사용 된 디바이스 들 의 특정 조합 및 / 또는 다수 의 조합 에 대해 결정 될 수 있 다 . 에칭 공정 오버레이 기여 도 는 특정 및 / 또는 다수 의 장치 구성 ( 예 를 들 어 , 하나 이상 의 특정 에칭 챔버 ) 에 대해 결정 될 수 있 다 .