일반 적 으로 반도체 제조 장치 는 증착 , 포토 리소그래피 , 식각 , 화학 적 기계 적 연마 , 세정 , 건조 등 과 같 은 단위 공정 들 의 반복 적 인 수행 에 의해 제조 된다 . 이러 한 단위 공정 들 중 세정 공정 은 각각 의 단위 공정 들 을 수행 하 는 동안 반도체 기판 표면 에 잔류 하 는 이 물질 또는 불 필요 한 막 을 제거 하 는 공정 이 다 .