전처리 장치 부 ( 2 ) 의 각 제 1 전처 리조 ( 10 ) 와 제 2 전처 리조 ( 20 ) 에 설치 된 펌프 ( P 1 ) ( P 2 ) 가 작동 하 게 되 면 제 1 전처리 순환 조 ( 11 ) 와 제 2 전처리 순환 조 ( 21 ) 에 각각 충 진 된 전처리 액 이 펌핑 되 어 각 순환 공급 관 ( 12 ) ( 22 ) 을 통해 제 1 전처 리조 ( 10 ) 와 제 2 전처 리조 ( 20 ) 에 공급 되 고 , 제 1 전처 리조 ( 10 ) 와 제 2 전처 리조 ( 20 ) 에 이미 충 진 되 어 있 던 전처리 액 은 배출 순환 ( 13 ) ( 23 ) 을 통해 낙하 하 여 제 1 전처리 순환 조 ( 11 ) 와 제 2 전처리 순환 조 ( 21 ) 에 공급 되 며 , 따라서 제 1 전처 리조 ( 11 ) 와 제 2 전처 리조 ( 22 ) 및 제 1 전처리 순환 조 ( 11 ) 와 제 2 전처리 순환 조 ( 21 ) 에 충 진 된 전처리 액 은 펌프 ( P 1 ) ( P 2 ) 의 작동 에 의해 순환 하 게 된다 .