본 발명 에 있 어서 의 제 3 형태 는 , 제 1 형태 또는 제 2 형태 의 광학 소자 성형 용 금형 제작 방법 이 며 , 상기 중간 금속 층 의 표면 가공 층 이 적층 되 는 측 의 면 의 표면적 이 50 ㎠ 이하 이 고 , 상기 중간 금속 층 의 표면 의 전체 면적 의 10 ％ 이상 에 있 어서 0 . 1 ㎟ 당 단열층 의 노출 이 0 . 0001 내지 0 . 01 ㎟ 이 고 , 상기 전체 면적 의 남 은 부분 에 있 어서 0 . 1 ㎟ 당 상기 단열층 의 노출 이 0 . 0001 ㎟ 이하 인 것 을 특징 으로 하 는 것 이 다 .