다음 으로 , 예 를 들 어 CVD 법 에 의해 , 배리어 메탈 로서 의 질화 티 탄막 및 텅스텐 막 을 퇴적 한 후 , 이 들 도전 막 을 에치 백 또는 폴리 시백 하 고 , 콘택트 홀 ( 56 ) 에 매립 되 어 소스 / 드레 인 영역 ( 18 ) 에 전기 적 으로 접속 된 콘택트 플러그 ( 58 ) 를 형성 한다 ( 도 22 의 ( d ) , 도 24 의 ( d ) ) .