이 와 같이 하 여 , 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 에 대한 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 축심 C 1 의 초기 상대 위치 를 나타내 는 요소 a , b , θ 가 결정 된다 . 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 에 대한 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 축심 C 1 의 초기 상대 위치 는 , 연마 장치 의 구조 에서 유래 한 위치 어긋남 이 다 . 본 실시 형태 에서 는 , 도 20 의 스텝 1 에서 , 프로세스 스테이지 ( 20 ) 의 축심 C 2 에 대한 센터 링 스테이지 ( 10 ) 의 축심 C 1 의 초기 상대 위치 를 결정 하 고 , 이어서 , 동작 제 어부 ( 75 ) 는 , 후술 하 는 센터 링 동작 의 반복수 를 나타내 는 N 을 0 으로 설정 한다 ( 도 20 의 스텝 2 참조 ) . 이어서 , 동작 제 어부 ( 75 ) 는 , 도 4 에 도시 하 는 바 와 같이 , 웨이퍼 W 를 센터 링 스테이지 ( 10 ) 로 반송 하 고 ( 도 20 의 스텝 3 참조 ) , 또한 , 도 5 에 도시 하 는 바 와 같이 , 해당 웨이퍼 W 를 센터 링 스테이지 에 보유 지지 한다 ( 도 20 의 스텝 4 참조 ) .