그러나 , 이러 한 반도체 소자 의 미세화 에 적절 하 게 대응 할 수 있 는 노 광원 과 이러 한 노 광원 에 의한 해상력 을 완벽 하 게 재현 할 수 있 는 포토레지스트 물질 의 개발 은 이 에 부응 하 지 못하 고 있 는 상황 이 다 . 뿐 만 아니 라 , 식각 장비 등 식각 공정 상 의 발전 또한 미세화 를 지향 함 에 있 어 장애 요인 이 되 고 있 다 .