또한 , 빔 어레이 를 분할 한 영역 ( 서브 어레이 ) 의 빔 위치 이탈 량 을 , 그 영역 의 빔 이 묘화 하 는 묘화 데이터 에 기재 되 는 패턴 의 위치 를 시프트 함 으로써 보정 한다 . 즉 , 묘화 데이터 상 의 패턴 위치 를 , 빔 의 위치 이탈 량 과 역방향 으로 같 은 양 의 위치 보정 량 으로 시프트 한 후 , 이러 한 묘화 데이터 를 이용 하 여 , 위치 이탈 된 빔 으로 묘화 하 면 , 묘화 패턴 의 위치 가 설계 값 에 가까워 지 도록 보정 할 수 있 다 . 혹은 , 묘화 데이터 로부터 조사량 을 산출 하 는 처리 의 기준 위치 를 위치 보정 량 으로 역방향 으로 시프트 해도 된다 .