상기 목적 들 을 달성 하 기 위한 , 본 발명 의 포 매 용 포 셉 가열 거치대 는 포 매 작업 시 , 복수 개 의 포 매 용 포 셉 을 일정 한 온도 로 가열 하 도록 구비 하 고 , 포 매 용 포 셉 에 잔존 하 는 이 물질 을 제거 하 도록 하 는데 그 한 특징 이 있 다 . 이 와 같 은 포 매 용 포 셉 가열 거치대 는 포 매 과정 에서 포 셉 의 온도 에 의한 검체 손상 을 방지 하 고 , 청결 을 유지 하 게 하 여 , 빠른 시간 에 이전 검체 를 취급 하 면서 잔존 해 있 을 수 있 는 이 물질 을 완벽 하 게 제거 할 수 있 도록 하 여 검체 간 의 오염 을 방지 할 수 있 다 .