본 발명 에 따르 면 , 도 4 , 도 6 및 도 10 에 도시 된 것 처럼 , 상기 전류 분산 홀 들 ( 200 ) 은 상기 활성 영역 ( 30 ) 의 전면 에서 실질 적 으로 균일 한 배치 밀도 를 갖 도록 형성 될 수 있 다 . 이때 , 상기 전류 분산 홀 들 ( 200 ) 각각 의 크기 는 다양 하 게 변형 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 도 4 및 도 6 에 도시 된 실시 예 들 의 전류 분산 홀 ( 200 ) 은 도 10 에 도시 된 실시 예의 전류 분산 홀 ( 200 ) 보다 큰 크기 를 가질 수 있 다 . 보다 구체 적 으로 , 상기 전류 분산 홀 ( 200 ) 의 일 변의 길이 ( 도 13 의 W ) 는 대략 3 um 내지 30 um 의 범위 에서 선택 된 적어도 한 가지 값 일 수 있 다 .