그 후 , 도 2 e 에 나타낸 바 와 같이 , W 막 ( 111 ) 및 TiN 막 ( 110 ) 을 층간 절연 막 ( 108 ) 의 표면 이 노출 될 때 까지 , CMP ( chemical mechanical Polishing ) 법 등 에 의해 연마 한다 . 이 결과 , 콘택트 홀 ( 109 ) 내 에 , TiN 막 ( 110 ) 및 W 막 ( 111 ) 으로 이루어진 콘택트 플러그 가 남 는다 .