도 18 은 , 본 실시 형태 에 관한 마스크 스테이지 ( 6 ) ( 도 6 참조 ) 에 유지 된 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 를 나타내 는 평면도 의 일례 이 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 는 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 1 패턴 형성 영역 ( SA 1 ) 내의 ＋ X 측 및 － X 측 의 에지 영역 의 각각 에 있 어서 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 따라서 복수 형성 되 어 있 다 . 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 는 , 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 내 에 배치 가능 하 며 , 제 1 조명계 ( IL 1 ) 로부터 의 노광 광 ( EL ) 으로 조명 된다 . 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 는 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 제 2 패턴 형성 영역 ( SA 2 ) 내의 ＋ X 측 및 － X 측 의 에지 영역 의 각각 에 있 어서 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 따라서 복수 형성 되 어 있 다 . 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 는 , 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 내 에 배치 가능 하 고 , 제 1 마스크 ( M 1 ) , 제 1 광학계 ( 31 ) 및 제 2 광학계 ( 32 ) 를 통한 제 1 조명계 ( IL 1 ) 로부터 의 노광 광 ( EL ) 으로 조명 된다 . 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 와 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 는 , 서로 대응 하 도록 제 1 마스크 ( M 1 ) 상 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 상 의 각각 에 형성 되 어 있 다 .