대한민국 특허 공개 제 2004 - 54346 호 는 실리카 입자 를 템플 릿 ( template ) 으로 이용 하 여 나노 기공 의 전도성 고분자 입자 를 제조 하 는 방법 을 개시 하 고 있 다 . 구체 적 으로 , 템플 릿 으로 소수성 실리카 입자 를 사용 하 고 , 이 와 전도성 고분자 단량체 를 혼합 후 중합 단계 를 거쳐 나노 수준 의 전도성 고분자 를 제조 한 다음 , 상기 템플 릿 을 제거 하 는 방법 을 언급 하 고 있 다 .