상기 목적 은 , 본 발명 에 따라 , 지그 본체 ; 상기 지그 본체 의 상부 양측 에 마련 되 며 , 상부 챔버 의 양측 에 마련 된 한 쌍 의 회전축 이 지지 되 는 한 쌍 의 지지 부 ; 및 상기 한 쌍 의 지지 부 중 어느 한 지지 부 에 인접 하 게 마련 되 고 , 해당 지지 부 에 지지 된 회전축 을 회전 시켜 상기 상부 챔버 를 회전 시키 는 챔버 회전 부를 포함 하 는 것 을 특징 으로 하 는 화학 기상 증착 장치 의 상부 챔버 회전 지그 에 의해 달성 된다 .