종래 기술 에 있 어서 , 검출 장치 에 대하 여 웨이퍼 의 자세 를 변화 시켜서 기판 위 의 복수 의 마크 를 동시 에 계측 할 때 에 , 웨이퍼 의 자세 변화 에 의해 계측 값 의 시프트 가 생긴다 . 이 시프트 의 상세 한 설명 을 여기 에서 제공 한다 . 검출 장치 를 구성 하 는 복수 의 검출기 의 초점면 과 기판 위 의 마크 의 Z 방향 에 있 어서 의 위치 사이 의 상대 적 인 시프트 를 일으키 는 2 개 의 요인 은 , 검출 장치 에 있 어서 의 오차 와 기판 의 왜곡 이 다 . 도 4 a 는 , 검출 장치 ( 500 ) 의 구성 을 나타낸 도면 이 고 , 복수 의 검출기 91 a , 91 b , 91 c 각각 의 초점면 94 a , 94 b , 94 c 가 Z 방향 으로 시프트 한다 . 다음 의 요인 들 은 초점면 94 a , 94 b , 94 c 의 Z 방향 의 시프트 를 일으킬 수 있 다 .