식각 공정 은 기판 상 에서 제거 하 고자 하 는 막 질 의 종류 에 따라 불 산 ( HF ) 이나 황산 ( H 2 SO 4 ) 과 같 은 식각 액 을 사용 하 고 , 세정 공정 은 암모니아 또는 염산 과 이 들 에 과산화수소 와 물 을 혼합 한 세정액 을 사용 하 고 있 으며 , 통상 적 으로 기판 의 식각 또는 세정 처리 는 60 ~ 70 ℃ 이상 의 고온 에서 진행 되 고 있 다 .