상기 광원 부 ( 100 ) 는 작업 물 의 작업 영역 , 또는 패턴 형태 에 따라 적절 한 개수 로 사용 하 되 , 레이저 광 을 주사 하 는 광원 ( 110 ) 은 405 nm 레이저 다이오드 를 사용 하 여 실시 함 이 타당 하 다 . 상기 광원 ( 110 ) 은 반도체 소자 로 , 온도 상 승시 광 출력 이 감소 하 여 광원 ( 110 ) 의 온도 상승 을 방지 하 는 열전 냉각 콘트 롤러 ( TEC ; thermoelectric cooling controller ) 타입 의 쿨러 ( 130 ) 를 장착 함 과 동시 에 , 온도 변화 에 따른 레이저 출력 의 변동 과 구동 전류 를 지속 적 으로 감시 하 여 고 효율 의 레이저 출력 이 유지 되 도록 제어 하 는 광원 드라이버 ( 161 ) 를 제 어부 ( 60 ) 에 장착 하 여 실시 함 이 타당 하 다 .