즉 , 선 슬라이딩 의 경우 라면 반사 다층막 ( 12 ) 을 형성 했 을 때 에 , 후 슬라이딩 의 경우 라면 슬라이딩 면 ( 13 ) 을 형성 했 을 때 에 , 반사 다층막 ( 12 ) 의 막 응력 이 아직 클 때 에 는 보다 거친 입도 로 다시 슬라이딩 면 ( 13 ) 을 문지르 고 , 트 와 이먼 효과 에 의한 응력 이 반사 다층막 ( 12 ) 의 막 응력 보다 클 때 에 는 보다 세밀 한 입도 로 다시 슬라이딩 면 ( 13 ) 을 문지름 으로써 평면 화 의 미세 조정 을 행할 수 있 다 ( 미세 조정 공정 ) . 이 미세 조정 공정 을 행함 으로써 반사 다층막 ( 12 ) 의 평면 화 를 도모 할 수 있 다 . 이 미세 조정 공정 은 반사 다층막 ( 12 ) 의 막 응력 을 슬라이딩 면 ( 13 ) 의 형성 에 의한 응력 으로 완화 시킬 때 에 , 과 부족 이 발생 한 경우 에 는 이 과 부족분 을 조정 하 는 공정 으로 된다 .