도 9 에 도시 된 바 와 같이 , 크 로바 장치 는 제 1 표면 ( 182 ) 에 인접 하 게 배열 된 상부 N 도핑 영역 ( 187 ) , 중간 N 도핑 영역 ( 191 ) , 및 제 2 표면 ( 184 ) 에 인접 하 게 배열 된 하부 N 도핑 영역 ( 195 ) 을 포함 할 수 있 으며 , 여기 서 하부 N 도핑 영역 ( 195 ) 및 상부 N 도핑 영역 ( 187 ) 은 둘 모두 가 고농도 로 도핑 되 는데 , 즉 N + 영역 들 이 다 . 일부 실시 예 에서 , 상부 N 도핑 영역 ( 187 ) 및 하부 N 도핑 영역 ( 195 ) 은 1 × 1018 cm - 3 내지 1 . 0 × 1021 cm - 3 의 범위 그리고 특히 1 . 0 × 1020 cm - 3 의 도핑 농도 를 가질 수 있 고 , 제 1 P 도핑 영역 ( 188 ) 및 제 2 P 도핑 영역 ( 192 ) 은 1 × 1016 cm - 3 내지 5 . 0 × 1018 cm - 3 그리고 특히 2 . 0 × 1018 cm - 3 의 도핑 농도 를 가질 수 있 고 , N + 도핑 매립 영역 들 ( 202 ) 은 1 × 1015 cm - 3 내지 3 . 0 × 1018 cm - 3 그리고 특히 1 . 0 × 1018 cm - 3 의 도핑 농도 를 가질 수 있 다 .