이 상태 에서 , 가스 도입 기구 ( 50 ) 를 통해서 , 처리 공간 ( S ) 에 , 퍼지 가스 인 N 2 가스 가 공급 됨 과 함께 TiCl 4 가스 와 NH 3 가스 가 교대 로 또한 간헐 적 으로 공급 되 어 , ALD 법 에 의해 웨이퍼 ( W ) 상 에 TiN 막 이 성막 된다 . 이 성막 시 , 웨이퍼 ( W ) 는 적재 대 본체 ( 21 ) 에 의해 가열 되 어 , 예 를 들 어 웨이퍼 ( W ) 의 온도 ( 구체 적 으로 는 적재 대 본체 ( 21 ) 의 온도 ) 는 300 ℃ 내지 600 ℃ 가 된다 .