또한 , 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 엔드 이펙터 측정 모듈 을 이용 한 모니터링 장치 는 엔드 이펙터 를 구비 한 EFEM ( Equipment Front End Module ) 과 웨이퍼 를 가공 처리 하 는 반도체 공정 장치 사이 에 형성 된 관 통구 에 설치 되 고 , 상기 관 통구 를 통과 하 는 엔드 이펙터 의 이동 경로 에 대응 하 여 전기 신호 를 출력 하 는 엔드 이펙터 측정 모듈 ; 및 상기 엔드 이펙터 측정 모듈 로부터 출력 되 는 전기 신호 를 미리 설정 된 기준 값 과 비교 하 고 , 상기 비교 결과 에 따라 상기 엔드 이펙터 의 이동 경로 가 변동 되 었 는지 여부 를 판단 하 는 콘트 롤러 를 포함 한다 .