전도체 가 상감 ( Damascene ) 제조 를 사용 하 여 형성 되 는 유사 한 어레이 를 형성 하 는 다른 방법 이 2006 년 5 월 31 일 에 출원 되 고 여기 참조 로 포함 되 는 Radigan 등 의 미국 특허 출원 번호 제 11 / 444 , 936 호 , " "" Conductive Hard Mask to Protect Patterned Features During Trench Etch ” 에 설명 된다 . Radigan 등 의 방법 은 본 발명 에 따른 어레이 를 형성 하 기 위해 대신 사용 될 수 있 다 . "