본 발명 의 실시 예 들 은 , 웨이퍼 공정 단계 중 에 증착 된 막 두께 균 일도 를 의미 있 게 감소 시키 지 않 고 , 높 은 챔버 - 세정 속도 에서 자기 세정 을 용이 하 게 하 는 개선 된 샤워 플레이트 를 가지 는 플 라즈 마 CVD 장치 를 제공 한다 . 본 발명 의 목적 중 의 하나 는 일부 실시 예 들 에 있 어서 , 종래 의 플 라즈 마 CVD 장치 의 모든 개선 들 은 산업 적 제조 의 균일성 기준 들 을 달성 한다 .