본 발명 의 스퍼터링 보호 피막 을 구비 한 알루미늄 부재 는 , 무공 질 ( 無孔 質 ) 산화알루미늄 으로 이루어진 무공 질 양극 산화층 , 및 산화알루미늄 또는 질화알루미늄 으로 이루어진 보강 층 을 구비 한 스퍼터링 보호 피막 을 구비 한다 . 상기 무공 질 양극 산화층 은 소위 , 배리어 타입 ( barrier type ) 양극 산화층 으로서 다공질 양극 산화층 보다 두께 가 얇 고 조직 이 치밀 하 다 . 또한 , 상기 보강 층 은 스퍼터링 ( sputtering ) 에 의해 적층 되 어 조직 이 치밀 하 다 . 따라서 , 고온 , 고진공 , 강산 ( strong acid ) 노출 등 의 가혹 한 작업 환경 에서 도 알루미늄 부재 의 표면 부식 , 표면 갈라짐 , 표면 에서 파티클 ( particle ) 분리 등 과 같 은 표면 손상 이 억제 된다 .