즉 , 상기 패턴 층 ( 710 ) 의 피치 간격 ( d 1 , d 2 ) 및 두께 ( h 1 ) 는 후술 할 상기 리세 스 ( 250 ) 를 형성 하 는 단계 에서 사용 되 는 식각 액 을 상기 제 1 오픈 영역 ( 715 ) 에 효과 적 으로 공급 하 고 , 공급 시 상기 패턴 층 ( 710 ) 의 이온 을 이용 하 여 식각 특성 을 제어 하 기 위해 상술 한 범위 를 만족 하 는 것 이 바람직 하 다 .