재 표면 화 기법 은 분자 모델링 , 통계 적 분석 및 돌연변이 유발 을 조합 사용 하 여 , 표적 숙주 의 공지 항체 들 의 표면 과 비슷 하 도록 항체 가변 영역 의 비 - CDR 표면 을 변형 시킨다 . 항체 재 표면 화 전략 및 방법 들 과 , 그 외 여러 가지 숙주 에서 의 항체 면역원 성 을 낮추 기 위한 방법 들 이 , 예컨대 미국 특허 5 , 639 , 641 에 기술 되 어 있 다 . 인간 항체 는 , 파지 디스플레이 방법 등 의 당해 기술 분야 에 공지 된 다양 한 방법 들 로 제조 할 수 있 다 . 또한 , 미국 특허 4 , 444 , 887 , 4 , 716 , 111 , 5 , 545 , 806 , 및 5 , 814 , 318 ; 국제 특허 출원 공개 번호 WO 98 / 46645 , WO 98 / 50433 , WO 98 / 24893 , WO 98 / 16654 , WO 96 / 34096 , WO 96 / 33735 , 및 WO 91 / 10741 을 참조 한다 .