본 발명 의 실시 예 는 다음 과 같 은 문제 에 대한 효율 적 이 고 경제 적 인 방법 및 메커니즘 을 제공 함 으로써 , 계측 기술 분야 에 대한 개선 을 제공 하 는데 , 상이 한 오버레이 모델 및 샘플 계획 에 대한 확률 적 노이즈 의 영향 의 예측 및 비교 를 가능 하 게 하 고 ; 단일 타 겟 으로부터 의 오버레이 계측 결과 에 대한 LER , LWR 및 / 또는 PPR 의 영향 을 추정 할 수 있 게 하 고 ; 특정 오버레이 모델 및 샘플 계획 이 주어지 면 오버레이 계측 보정 가능 물 에 대한 LER , LWR 또는 패턴 배치 거칠 기 의 영향 을 추정 할 수 있 게 하 고 ; 및 / 또는 테스트 구조 , 타 겟 또는 디바이스 구조 의 광학 이미지 로부터 LER , LWR , PPR 또는 전력 스펙트럼 밀도 ( PSD ) 의 추정 을 가능 하 게 한다 .