청구 항 3 또는 4 에 기재 된 레지스 트 재료 를 기판 상 에 도포 하 는 공정 과 , 가열 처리 후 , 물 에 불용 이 며 알칼리 현상액 에 가용 인 보호막 을 도포 하 는 공정 과 , 상기 기판 과 투영 렌즈 의 사이 에 물 을 삽입 하 고 포토 마스크 를 통해 고 에너지 선 으로 노광 하 는 공정 과 , 필요 에 따라서 가열 처리 한 후 , 현상액 을 이용 하 여 현상 하 는 공정 을 포함 하 는 것 을 특징 으로 하 는 패턴 형성 방법 .