구조 4 b 의 화합물 은 , THF 과 같 은 용매 중 염산 과 같 은 수성 산 을 이용 해 케 탈 탈보 호화 에 의해 구조 4 의 각 화합물 ( 식 중 , R 1 은 히드록시 메틸 - 페닐 또는 히드록시 에틸 - 페닐 임 ) 로부터 출발 해 제조 될 수 있 다 ; 구조 4 의 출발 물질 에서 , 히드록시 메틸 - 페닐 또는 히드록시 에틸 - 페닐 기 의 히드록시 작용기 는 예 를 들 어 실릴 에테르 ( 특히 TBDMS 에테르 ) 로서 보호 될 수 있 으며 , 보호기 는 표준 조건 을 이용 해 추가 탈보 호화 또는 케 탈 탈보 호화 동안 제거 될 수 있 다 .