본 발명 은 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 는 페러 데이 시스템 및 그 가 채용 되 는 이온 주입 설비 를 개시 한다 . 그 의 시스템 은 , 제 1 방향 으로 진행 되 는 이온 빔 을 수집 하 여 전류 를 발생 시키 는 페러 데이 컵 ; 상기 페러 데이 컵 에 수집 되 는 상기 이온 빔 에 의해 유발 되 는 2 차 전자 의 방출 을 방지 하 기 위해 상기 페러 데이 컵 의 입구 주변 에서 소정 크기 의 전기장 을 형성 하 는 억제 전극 ; 상기 이온 빔 을 상기 페러 데이 컵 으로 통과 시키 는 개방 구 를 구비 하 고 , 상기 억제 전극 및 페러 데이 컵 의 둘레 를 감싸 도록 형성 하우징 ; 및 상기 개방 구 에 통과 되 는 상기 이온 빔 이 진행 되 는 상기 제 1 방향 에 수직 하 는 제 2 방향 으로 상기 하우징 을 이동 시키 고 , 상기 제 1 및 제 2 방향 에 각각 수직 하 는 제 3 방향 으로 상기 개방 구가 이동 되 도록 상기 하우징 을 회전 시키 는 구동 부를 포함 하 여 이루어진다 .