본 발명 에 따른 촉매 시스템 X 의 양 은 금속 착 물 또는 염 A 가 적용 조건 을 충족 하 기 에 충분 한 양 이 되 도록 당업자 에 의해 조절 된다 . 일반 적 으로 , 금속 착 물 또는 염 A 는 조성물 의 총 질량 에 대해 0 . 01 내지 15 중량 %, 바람직 하 게 는 0 . 05 내지 10 중량 % 의 양 으로 조성물 내 에 존재 할 것 이 다 .