예전 의 통상 적 인 바이너리 ( binary ) 마스크 는 단순히 투광 영역 과 차광 영역 으로 구성 되 어 빛 을 영역 별 로 투과 및 차단 하 며 , 그러나 빛 의 간섭 에 의해 경 계부 가 불명확 해져 해상도 ( resolution ) 가 저하 되 므로 , 근래 의 고집 적 화 된 반도체 소자 에 필수 적 인 미세 패턴 을 형성 하 는 데 이용 할 수 없 었 다 .