본 발명 은 다수 의 그리드 전극 이 일정 거리 이격 되게 적층 되 는 형상 의 그리드 플레이트 를 플 라즈 마 등 을 이용 하 여 형성 되 는 빔 이 발생 된 하측 에 배치 하 고 , 그리드 전극 에 형성 된 각 전극 라인 으로 인가 되 는 전원 을 조절 하 여 그리드 플레이트 로 유입 되 는 영역 별 빔 의 상태 를 변경 시킴 으로써 , 장비 의 고유 공정 환경 에 상관없이 공정 완료 된 박막 이 항상 균일성 을 유지 할 수 있 도록 해 주 는 기술 에 관한 것 이 다 .