도 5 는 본 발명 에 따른 반도체 소자 에서 실제 구동 셀 이 형성 되 는 영역 과 모니터링 패턴 들 이 형성 되 는 영역 을 나타낸 평면도 로 , 실제 구동 셀 인 액티브 라인 ( 10 A ) 과 콘 택 홀 ( 13 ) 은 메인 칩 영역 ( 100 ) 내 에 형성 되 고 , 모니터링 패턴 들 , 즉 하부 모터 링 패턴 ( 20 ) 과 상부 모니터링 패턴 ( 30 ) 은 메인 칩 영역 ( 100 ) 들 을 분할 하 는 스 크 라 이브 라인 영역 ( 200 ) 내 에 형성 된다 . 도 5 의 스 크 라 이브 라인 영역 ( 200 ) 내부 에 빗금 으로 표시 한 부분 이 모니터링 패턴 들 ( 20 , 30 ) 이 위치 되 는 부분 이 다 .