또한 , 노광 공정 은 미세 한 선폭 의 패턴 들 을 정의 하 는 것 에 비하 여 미세 한 선폭 의 패턴 들 간 의 간격 ( space ) 을 정의 하 는 것 이 더욱 어려울 수 있 다 . 이러 한 문제점 을 해결 하 기 위하 여 이중 노광 공정 이 제안 된 바 있 다 . 이중 노광 공정 을 간략히 설명 하 면 , 제 1 노광 공정 으로 넓 은 간격 의 제 1 마스크 패턴 들 을 형성 하 고 , 제 2 노광 공정 으로 제 1 마스크 패턴 들 사이 에 넓 은 간격 의 제 2 마스크 패턴 들 을 형성 한다 . 하지만 , 이러 한 이중 노광 공정 도 제 1 및 제 2 마스크 패턴 들 간 의 오 정렬 등 의 문제점 들 이 발생 될 수 있 다 .