1 회 째 의 포토 리소그래피 공정 은 , 막 두께 40 ㎚ 의 ITO 박막 을 소자 기판 ( 10 ) 상 의 전체 면 에 형성 한 후 , 제 2 콘택트 홀 ( 68 ) 의 근방 의 영역 및 장래 에 적색 화소 전극 ( 52 R ) 이 형성 되 는 영역 에 당해 박막 을 남기 고 , 다른 영역 으로부터 당해 박막 을 선택 적 으로 제거 하 는 공정 이 다 .