본 실시 예 에 관한 반사 층 ( 30 ) 은 , 반도체 소자 로서 의 발광 소자 가 발산 하 는 빛 의 파장 에 대하 여 양호 한 반사 율 을 나타내 는 재료 로 형성 된다 . 예 를 들 면 반사 층 ( 30 ) 은 , 자외선 및 청색 영역 의 파장 의 빛 에 대하 여 높 은 반사 율 을 나타내 는 금속 재료 로 형성 된다 . 구체 적 으로 반사 층 ( 30 ) 은 , 파장 400 nm 에서 800 nm 의 빛 에 대하 여 대략 95 % 이상 의 반사 율 을 나타내 는 Ag 을 포함 하 여 형성 된다 . 더 구체 적 으로 반사 층 ( 30 ) 은 , 밀착 층 ( 24 ) 상 의 일부 에 도금 에 의하 여 형성 되 는 Ag 도금 층 이 며 , 예 를 들 면 0 . 5 μ m 에서 20 μ m 의 두께 로 형성 된다 . 또한 반사 층 ( 30 ) 으로서 형성 되 는 Ag 도금 층 은 , 광택 Ag 도금 층 또는 무 광택 Ag 도금 층 또는 소정 의 치밀도 ( 緻密 度 ) 를 구비 하 는 Ag 층 으로서 형성 할 수 있 다 .