전술 한 공간 정보 검출 장치 는 , 상기 반도체 기판 에 형성 된 전위 웰 ( potential well ) 의 개구 면적 ( aperture area ) 을 변화 시키 기 위해 상기 제어 전극 에 인가 되 는 제어 전압 을 제어 하 도록 구성 된 제어기 를 더 포함 하 며 , 상기 전위 웰 의 상기 개구 면적 은 , 상기 전위 웰 이 큰 개구 면적 을 가지 는 전하 수집 주기 와 상기 전위 웰 이 작 은 개구 면적 을 가지 는 전하 유지 주기 사이 에서 전환 된다 . 이 경우 , 본 발명 의 이미지 픽업 디바이스 를 사용 하 여 , 타 겟 공간 내 의 대상 까지 의 거리 를 결정 하 기 위한 거리 측정 장치 를 달성 할 수 있 다 . 상기 발 광원 은 , 상기 강도 가 변조 된 광 이 상기 타 겟 공간 에 방사 되 는 조광 기간 ( lighting period ) 과 , 상기 강도 가 변조 된 광 이 상기 타 겟 공간 에 방사 되 지 않 는 휴지 기간 ( rest period ) 을 교대 로 반복 하 도록 , 상기 강도 가 변조 된 광 을 상기 타 겟 공간 으로 방사 하 는 것 이 또한 바람직 하 다 . 이 경우 , 본 발명 의 이미지 픽업 디바이스 를 사용 하 여 , 타 겟 공간 내 의 대상 의 존재 유무 를 검사 하 기 위한 대상 검출 장치 를 달성 할 수 있 다 .