상기 박형 편광 막 으로서 는 , 적층 체 의 상태 로 연신 되 는 공정 과 염색 하 는 공정 을 포함 하 는 제법 중 에서 도 , 고배 율 로 연신 할 수 있 어 편광 성능 을 향상 시킬 수 있 는 점 에서 , WO 2010 / 100917 호 팸플릿 , PCT / JP 2010 / 001460 의 명세서 , 또는 일본 특허 출원 제 2010 - 269002 호 명세서 나 일본 특허 출원 제 2010 - 263692 호 명세서 에 기재 된 바 와 같 은 붕산 수용액 중 에서 연신 하 는 공정 을 포함 하 는 제법 으로 얻 어 지 는 것 이 바람직 하 고 , 특히 일본 특허 출원 제 2010 - 269002 호 명세서 나 일본 특허 출원 제 2010 - 263692 호 명세서 에 기재 된 붕산 수용액 중 에서 연신 하 기 전 에 보조 적 으로 공중 연신 하 는 공정 을 포함 하 는 제법 에 의해 얻 어 지 는 것 이 바람직 하 다 .