또 , 본 실시 형태 에 있 어서 , 기판 ( P ) 의 쇼트 영역 ( SH ) 의 노광 중 에 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 를 취득 하 고 있 으나 , 기판 ( P ) 의 노광 을 개시 하 기 전 에 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 를 취득 해도 된다 . 이 경우 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 기판 ( P ) 의 노광 을 개시 하 기 전 에 마스크 스테이지 ( 6 ) 의 제 1 스테이지 ( 61 ) 를 사용 하 고 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 와 제 2 마스크 ( M 2 ) 를 Y 축 방향 으로 이동하 여 , 제 3 조명 영역 ( IA 3 ) 내 에 순차 적 으로 배치 되 는 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 와 제 4 조명 영역 ( IA 4 ) 에 순차 적 으로 배치 되 는 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 와 의 위치 관계 ( 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 ) 를 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 취득 한다 . 또한 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 취득 한 정보 에 의거 하 여 기판 ( P ) 의 노광 을 개시 하 기 전 에 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 제 2 패턴 ( PA 2 ) 이 원 하 는 위치 관계 가 되 도록 , 마스크 스테이지 ( 6 ) 의 제 2 스테이지 ( 62 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 적어도 한쪽 의 위치 및 / 또는 회전 을 조정 한다 . 그리고 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 의 조정 을 행한 후 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 그 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 를 유지 하 면서 , 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 에 대하 는 기판 ( P ) 의 소정 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 의 이동과 , 제 1 조명 영역 ( IA 1 ) 에 대하 는 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 소정 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 의 이동과 , 제 2 조명 영역 ( IA 2 ) 에 대한 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 소정 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 에 의 이동 을 동기 하 여 행하 고 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 형성 되 는 제 1 패턴 ( PA 1 ) 의 상과 , 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 형성 되 는 제 2 패턴 ( PA 2 ) 의 상 으로 , 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 한다 . 이 와 같이 , 기판 ( P ) 의 노광 을 개시 하 기 전 에 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 를 취득 하 는 동시 에 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 를 조정 함 으로써 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 의 상 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 의 상 을 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 내 의 원 하 는 위치 에 형성 할 수 있 다 . 또한 , 검출 시스템 ( 80 ) 을 사용 하 여 기판 ( P ) 의 노광 을 개시 하 기 전 에 취득 된 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 에 관한 정보 에 의거 하 여 , 기판 ( P ) 의 각 쇼트 의 노광 중 에 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 의 위치 관계 를 조정 하 도록 해도 된다 . 물론 , 기판 ( P ) 의 노광 전 및 기판 ( P ) 의 노광 중 에 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 의 취득 과 , 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 의 조정 을 실행 하 도록 해도 된다 .