이어서 도 1 , 도 2 , 도 4 및 도 5 를 참조 하 여 , 처리 유체 공급 부 ( 7 ) 에 대하 여 설명 한다 . 도 2 에 나타내 는 바 와 같이 , 처리 유체 공급 부 ( 7 ) 는 웨이퍼 ( W ) 의 표면 의 주연 부 에 처리 유체 를 공급 하 기 위한 3 개 의 표면 노즐 ( 71 , 72 , 73 ) 을 가지 고 있 다 . 상세 하 게 는 , 처리 유체 공급 부 ( 7 ) 는 약액 ( 여기 서 는 에칭 액 으로서 의 HF ( 불 산 ) ) 을 토출 하 는 약액 노즐 ( 71 ) 과 , 린스 액 ( 본 예 에서 는 DIW ( 순수 ) ) 을 토출 하 는 린스 노즐 ( 72 ) 과 , 건조 용 가스 ( 도시 예 에서 는 N 2 가스 ) 를 토출 하 는 가스 노즐 ( 73 ) 을 가지 고 있 다 . 약액 노즐 ( 71 ) , 린스 노즐 ( 72 ) 및 가스 노즐 ( 73 ) 은 공통 의 노즐 홀더 ( 74 ) 에 장착 되 어 있 다 . 노즐 홀더 ( 74 ) 는 커버 부재 ( 5 ) 를 지지 하 는 지 지체 ( 58 ) 에 장착 된 리니어 액 츄 에 이터 예 를 들 면 실린더 모터 ( 75 ) 의 로드 ( 751 ) 에 장착 되 어 있 다 . 실린더 모터 ( 75 ) 를 구동 함 으로써 , 표면 노즐 ( 71 ~ 73 ) 로부터 웨이퍼 ( W ) 상 으로 의 처리 유체 의 공급 위치 를 웨이퍼 ( W ) 의 반경 방향 으로 이동 시킬 수 있 다 .