도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 기판 처리 시스템 ( 100 ) 은 기판 이송 장치 ( 105 ) 를 포함 하 며 , 다수 의 처리 챔버 들 ( 110 ) , 기판 카세트 승강기 ( cassette elevator ) 들 또는 로드 락 ( load lock ) 들 ( 115 ) 및 중앙 이송 챔버 ( 120 ) 를 포함 할 수 있 다 . 기판 처리 시스템 ( 100 ) 은 오로지 예시 적 인 목적 으로 도면 들 에서 클러스터 형 처리 시스템 ( clustered processing system ) 으로 도시 된다 . 기판 처리 시스템 ( 100 ) 은 오직 기판 처리 시스템 의 한 예 이 며 , 상기 예시 적 인 실시 예 들 이 , 이 들 로 한정 되 는 것 은 아니 지만 , 선형 처리 시스템 들 을 포함 하 는 임의 의 다른 적절 한 종류 의 기판 처리 시스템 에 동등 하 게 잘 적용 될 수 있 음 을 이해 해야 한다 . 상기 예시 적 인 실시 예 들 이 포함 될 수 있 는 적절 한 처리 시스템 들 의 예 들 은 , 이 들 로 한정 되 는 것 은 아니 지 만 , " "" Linearly distributed Semiconductor Workpiece Processing Tool "" 이 란 제목 으로 2006 년 5 월 26 일 에 출원 된 미국 특허 출원 제 11 / 442 ", 411 호 를 포함 하 며 , 이 의 개시 사항 들 은 전부 본 명세서 에 참조 로서 포함 된다 . 기판 이송 장치 ( 105 ) 는 적어도 부분 적 으로 이송 챔버 ( 120 ) 내 에 위치 할 수 있 다 . 기판 이송 장치 ( 105 ) 는 , 예컨대 , 상기 로드 락 들 ( 115 ) 중 어느 하나 로부터 , 예컨대 , 처리 를 위한 처리 챔버 ( 110 ) 로 기판 을 이동 시키 도록 적응 된다 . 처리 챔버 ( 110 ) 가 기판 처리 를 끝내 면 , 기판 이송 장치 ( 105 ) 는 상기 기판 을 다른 처리 챔버 ( 110 ) 로 이동 시키 거나 상기 로드 락 들 ( 115 ) 중 하나 로 반송 하 는 데 이용 될 수 있 다 .