예컨대 , 세정 및 건조 공정 을 처리 하 는 기판 처리 장치 는 다수 의 기판 을 동시 에 세정 하 는 배 치식 과 낱장 단위 로 기판 을 세정 하 는 매 엽 식 으로 구분 된다 . 이 중 매 엽 식 세정 장치 즉 , 기판 처리 장치 는 낱장 의 기판 을 지지 하 는 스핀 척 과 기판 처리 면 에 세정액 들 을 공급 하 는 적어도 하나 의 노즐 을 포함 한다 . 기판 처리 장치 는 스핀 척 에 기판 이 안착 되 면 , 스핀 척 상부 에 구비 되 는 복수 개 의 지지 핀 들 을 이용 하 여 기판 을 지지 하 고 , 복수 개 의 척 킹 핀 ( chucking pin ) 들 을 이용 하 여 기판 의 가장자리 부위 를 척 킹 ( chucking ) 하 여 공정 진행 시 기판 이 스핀 척 으로부터 이탈 되 는 것 을 방지 한다 . 이어서 기판 처리 장치 는 노즐 을 통해 기판 으로 세정액 , 린스 액 및 건조 가스 를 순차 적 으로 분사 하 여 기판 을 세정 및 건조 시킨다 .