여기 서 , 상기 반응 챔버 ( 110 ) 는 상기 이소프렌 가스 와 질소 가스 를 이용 하 여 일정 수준 의 굴절 율 과 흡수율 을 갖 는 비정질 탄소막 을 형성 토록 하 기 위해 외부 로부터 독립 된 공간 을 제공 토록 형성 되 어 있 다 . 예컨대 , 상기 반응 챔버 ( 110 ) 는 약 4 × 10 - 3 torr 정도 의 진공 압 을 유지 토록 상기 진공 펌프 ( 120 ) 에 의해 펌핑 된다 .