일부 실시 예 들 에서 , 주석 옥사이드 가 패 터닝 프로세스 에 사용 되 고 , 주석 옥사이드 막 은 스 페이서 , 또는 하드 마스크 ( 예 를 들 어 , 포토레지스트 아래 그리고 타깃 층 위 에 위치 된 중간 층 ) 이 다 . 예 를 들 어 , 주석 옥사이드 는 자가 - 정렬 스 페이서 - 보조 된 패 터닝 ( self - aligned spacer - assisted patterning ) 에서 스 페이서 , SADP ( self - aligned double patterning ) 또는 SAQP ( self - aligned quadruple patterning ) , 콘택트 홀 하드 마스크 , EUV ( extreme UV ) 하드 마스크 , 톤 반전 마스크 ( reverse tone mask ) , 또는 BEOL ( back end of line ) 하드 마스크 의 중간층 일 수 있 다 . 선택 적 인 에칭 프로세스 들 과 함께 , 주석 옥사이드 는 엄격 한 CD ( critical dimension ) / 프로파일 및 이 들 애플리케이션 들 에 의해 부과 되 는 선택 도 요건 들 을 만족 한다 . 에칭 프로세스 들 은 플 라즈 마 에칭 을 가능 하 게 하 는 다양 한 툴 들 , 예컨대 Lam Research Corporation 에 의해 제공 된 Kiyo ® 툴 및 FlexTM 에칭 툴 에서 구현 될 수 있 다 .