본 실시 형태 에 따르 면 , 제 1 프로세스 챔버 ( 23 - 1 , 23 - 2 ) 가 대기 반 송실 ( 25 ) 의 길 이 방향 ( Y 방향 ) 에 평행 한 선 ( L 2 ) 에 대하 여 예각 ( 의 방향 ) 으로 배치 되 고 , 제 2 프로세스 챔버 ( 24 - 1 , 24 - 2 ) 가 대기 반 송실 ( 25 ) 의 길 이 방향 ( Y 방향 ) 에 평행 한 선 ( L 2 ) 에 대하 여 예각 ( 의 방향 ) 으로 배치 되 므로 , 제 1 프로세스 챔버 ( 23 - 1 , 23 - 2 ) 및 제 2 프로세스 챔버 ( 24 - 1 , 24 - 2 ) 를 대기 반 송실 ( 25 ) 의 길 이 방향 ( Y 방향 ) 에 평행 하 게 배치 할 경우 와 비교 하 여 , 기판 처리 시스템 의 횡폭 을 단축 할 수 있 다 . 2 개 의 제 1 프로세스 챔버 ( 23 - 1 , 23 - 2 ) 및 2 개 의 제 2 프로세스 챔버 ( 24 - 1 , 24 - 2 ) 를 각각 V 자형 형상 으로 배치 함 으로써 보다 , 기판 처리 시스템 의 횡폭 을 단축 할 수 있 다 .