박막 형성 장치 ( 410 ) 는 기판 의 일면 에 박막 을 형성 한다 . 예 를 들 면 , 박막 형성 장치 는 화학 적 기상 증착 공정 및 물리 적 기상 증착 공정 과 같 은 증착 공정 을 수행 할 수 있 다 . 이 와 다르 게 박막 형성 공정 ( 410 ) 은 기판 상 에 형성 된 막 을 전기 적 특성 을 갖 는 패턴 으로 형성 하 기 위한 식각 공정 등 을 수행 할 수 있 다 . 박막 형성 장치 ( 410 ) 는 상기 공정 을 수행 하 기 위한 공정 공간 을 제공 하 는 제 1 공정 챔버 ( 415 ) 를 포함 한다 .