본 명세서 에 기술 된 신규 한 방법 및 시스템 은 이러 한 문제점 들 을 해결 한다 . 상술 한 바 와 같이 피처 맵 을 구축 하 기 위해 포토 마스크 이미지 에 의존 하 는 것 대신 에 , 신규 한 방법 은 결과 적 인 IC 의 모델링 된 이미지 를 현상 ( develop ) 하 는 단계 로 진행 하 게 되 는데 , 모델링 된 이미지 는 리소그래피 시스템 에 의해 웨이퍼 에 투사 되 거나 포토레지스트 시스템 을 사용 하 여 현상 될 것 이 다 . 모델링 된 이미지 는 세선 을 포함 하 지 않 지 않 지만 , 세선 의 OPC 영향 을 설명 한다 . 이 모델링 된 이미지 는 따라서 세선 과 메인 피처 간 의 구별 을 하 기 위한 별도 의 규칙 의 필요 없이 , 모델 - 기반 피처 맵 을 구축 하 기 위해 사용 된다 .