" 리소그래피 장치 는 2 개 ( 듀얼 스테이지 ) 이상 의 기판 테이블 또는 "" 기판 지 지체 ""( 및 / 또는 2 이상 의 마스크 테이블 또는 "" 마스크 지 지체 "") 를 갖 는 형태 로 구성 될 수 있 다 . 이러 한 "" 다수 스테이지 "" 기계 에서 는 추가 테이블 또는 지 지체 가 병행 하 여 사용 될 수 있 으며 ", 또는 1 이상 의 테이블 또는 지 지체 가 노광 에 사용 되 고 있 는 동안 1 이상 의 다른 테이블 또는 지 지체 에서 는 준비 작업 단계 가 수행 될 수 있 다 .