그러나 , 통상 의 레지스 트 조성물 로 는 , 레지스 트 패턴 의 제 조시 포커스 마진 ( DOF ) 이 항상 만족 할 만 한 것 은 아니 고 , 얻 어 지 는 레지스 트 패턴 의 마스크 결함 지수 ( MEF ) 가 항상 만족 할 만 한 것 은 아니 며 , 레지스 트 조성물 로부터 제조 된 레지스 트 패턴 의 결함 수 가 상당히 증가 하 는 경우 가 있 다 .