" 피치 더 블링 ( pitch doubling ) 또는 "" 피치 배가 ( pitch multiplication ) "" 는 포 토리 소 그래픽 기술 의 능력 을 그 최소 피치 를 넘 게 확장 하 는 한 가지 제안 방법 이 다 . 피치 배 가 방법 은 도 1 A - 1 F 에 도시 되 고 ", Lowrey 등 에게 허여 된 U . S . 특허 제 5 , 328 , 810 호 에 기재 되 어 있 는데 , 그것 은 본원 에 참조 로 원용 된다 . 도 1 A 를 참조 하 면 , 라인 ( 10 ) 의 패턴 은 기판 ( 30 ) 위 에 놓인 확장 가능 재료 층 ( 20 ) 위 에 놓인 포토레지스트 층 내 에 포토 리소그래피 기술 로 형성 된다 . 도 1 B 에 도시 된 바 와 같이 , 포토레지스트 층 내 의 패턴 은 층 ( 20 ) 에 전사 됨 으로써 , 플레이스 홀더 ( placeholder ) 또는 맨드릴 ( mandrel ) ( 40 ) 을 형성 한다 . 도 1 C 에 도시 된 바 와 같이 , 포토레지스트 라인 ( 10 ) 은 제거 되 고 , 맨드릴 ( 40 ) 은 이웃 하 는 맨드릴 ( 40 ) 사이 의 거리 를 증가 시키 기 위해 에칭 된다 . 도 1 D 에 도시 된 바 와 같이 , 그 후 스 페이서 재료 층 ( 50 ) 이 맨드릴 ( 40 ) 위 에 퇴적 된다 . 그 다음 , 스 페이서 ( 60 ) 가 맨드릴 ( 40 ) 의 측면 에 형성 된다 . 스 페이서 형성 은 도 1 E 에 도시 된 바 와 같이 , 수평 표면 ( 70 및 80 ) 으로부터 스 페이서 재료 를 우선 적 으로 에칭 함 으로써 달성 된다 . 그 다음 , 도 1 F 에 도시 된 바 와 같이 , 나머지 맨드릴 ( 40 ) 이 제거 되 고 , 스 페이서 ( 60 ) 만 남 게 되 는데 , 이 들 스 페이서 는 함께 패 터닝 을 위한 마스크 로서 작용 한다 . 그러므로 , 주어진 피치 가 이전 에 하나 의 피처 및 하나 의 공간 을 정의 하 는 패턴 을 포함 한 경우 에 , 이 와 동일 한 폭 은 이제 는 2 개 의 피처 및 2 개 의 공간 을 포함 하 는데 , 그 공간 은 스 페이서 ( 60 ) 에 의해 정의 된다 .