이후 , 술폰화 반응 을 통해 고분자 에 설포닐 그룹 ( - SO 3 -) 을 도입 한다 . 술폰화 반응 을 위해 디 클로로에탄 ( DCE ; dichloroethane ) 으로 희석 된 2 % 의 클로로술폰산 ( Chlorosulfonic acid ) 용액 을 제조 한다 . 그리고 상기 공정 에서 제조 된 유무 기 복합 막 을 이 용액 에 침지 시키 고 상온 에서 40 ~ 60 분 에 걸쳐 술폰 화 한다 . 술폰화 반응 공정 에서 발생 한 부 생산물 을 제거 하 기 위해 아세톤 으로 세척 한 후 자연 건조 시키 고 막 에 잔존 해 있 는 술폰 클로라이드 ( sulfonic chloride ) 를 완전히 술폰산 나트륨 ( sodium sulfonic ) 형태 로 전환 시키 기 위해 2 . 5 N NaOH 수용액 에서 2 시간 동안 반응 을 행한다 . 이 를 초 순수 로 1 시간 세척 한 후 보관 한다 .