도 2 를 참조 하 면 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 서로 다른 편광 성질 이 적용 된 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 의 패턴 마스크 와 , 편광 방향 을 적용 하 는 편광 필터 를 이용 하 여 피사체 에 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 을 프로 젝 션 한다 .