상기 제 1 라인 패턴 ( 214 a ) 은 1 개 가 구비 된다 . 상기 제 1 라인 패턴 ( 214 a ) 은 상기 제 1 희생 마스크 패턴 ( 204 a ) 이 형성 되 어 있 던 부위 에 위치 하 게 된다 . 상기 제 2 라인 패턴 ( 214 b ) 들 은 각각 제 1 라인 패턴 ( 214 a ) 과 동일 한 방향 으로 연장 되 고 끊겨 진 부위 가 없 는 연장 라인 ( L 3 ) 과 , 상기 연장 라인 ( L 3 ) 으로부터 제 1 라인 패턴 ( 214 a ) 으로 향하 는 방향 으로 측방 돌출 되 는 돌출 패턴 ( L 4 ) 을 포함 한다 . 상기 마스크 패턴 ( 210 ) 이 정 얼라인 되 었 을 경우 에 는 서로 마주 하 는 제 2 라인 패턴 ( 214 b ) 이 서로 대칭 적 인 형상 을 갖 는다 . 그러나 , 상기 마스크 패턴 ( 210 ) 이 좌 , 우 1 . 5 F 범위 내 에서 미스 얼라인 되 었 을 경우 에 는 서로 마주 하 는 제 2 라인 패턴 ( 214 b ) 의 돌출 패턴 ( L 4 ) 의 너비 가 서로 다르 게 된다 . 상기 제 3 라인 패턴 ( 214 c ) 은 라인 및 스페이스 가 반복 되 는 형상 을 갖 는다 .