도 4 의 ( a ) 및 ( b ) 는 객체 ( O ) 의 특정 지점 의 미세 움직임 에 의한 광 입사 방향 변화 로 인해 두 수 광소자 ( 200 x 1 , 200 x 2 ) 의 광 검출 량 이 달라지 는 것 을 보여 주 며 , 도 5 의 ( a ) 및 ( b ) 는 객체 ( O ) 의 특정 지점 의 미세 움직임 에 의한 광 입사각 변화 로 인해 , 특정 수 광소자 ( 200 y 1 ) 의 광 검출 량 이 감소 하 여 0 이 되 고 , 인접 수 광소자 ( 200 y 2 ) 의 광 검출 량 이 0 으로부터 증가 된 것 을 보여준다 . 도 6 은 객체 ( O ) 의 특정 지점 이 함몰 형태 로 변형 되 어 광 이 두 수 광소자 ( 200 x 1 , 200 x 2 ) 로 나뉘 어 수광 되 는 경우 를 보여준다 . 도 6 에 도시 된 것 과 같 은 경우 , 발광 소자 ( O ) 의 직하 에 수 광소자 가 없 어 중심 축선 을 통과 하 는 방향 으로 진행 하 는 광이 수 광소자 들 에 의해 수광 되 지 않 지만 , 이 경우 는 , 각 수 광소자 에 수광 되 는 광 의 배 분량 에 따라 특정 지점 의 움직임 을 예측 하 는 데 큰 무리 가 없 다 . 그러 함 에 도 불구 하 고 , 발광 소자 의 중심 축선 ( C ) 이 통과 하 는 위치 에 중심 수 광소자 를 추가 로 두 어 더 정확 한 측정 이 가능 하 다 .