다음 에 , 도 14 의 ( b ) 에 나타낸 바 와 같이 , 평탄 화 막 ( 14 ) 의 돌출 부분 ( 14 A ) 에 대향 하 는 부분 과 , 오 목부 ( 7 ) 를 형성 하 기 위한 부위 에 대향 하 는 부분 에 각각 개구 ( 28 A , 28 B ) 가 설치 된 노광 마스크 ( 29 ) 를 사용 하 여 , 평탄 화 막 ( 14 ) 의 상면 에 광 을 조사 함 으로써 , 평탄 화 막 ( 14 ) 을 노광 한다 . 이 로써 , 평탄 화 막 ( 14 ) 의 상면 에서 , 돌출 부분 ( 14 A ) 및 오 목부 ( 7 ) 를 형성 하 기 위한 부위 가 선택 적 으로 노광 처리 된다 . 평탄 화 막 ( 14 ) 의 돌출 부분 ( 14 A ) 에 대한 노광 은 , 평탄 화 를 위해 그 부분 을 현상 으로 제거 함 으로써 행해진다 . 이 경우 에 는 , 노광 부분 이 현상액 에 대하 여 용해 되 는 포지티브 형 의 감광 재료 를 사용 하 여 평탄 화 막 ( 14 ) 을 형성 하 고 있 다 .