최근 반도체 관련 산업 이 급속도 로 발전함 에 따라 반도체 제조 장치 는 고용량 및 고 기능 화 를 추구 하 게 되 어 , 한정 된 영역 에 보다 많 은 소자 의 집적 이 필요 하 게 되 었 다 . 이러 한 소자 의 극 미세화 및 고 집적화 를 위한 반도체 제조 기술 로써 , 0 . 15 ㎛ 이하 의 디자인 룰 ( design rule ) 을 요구 하 는 반도체 장치 의 제조 에서 는 플 라즈 마 를 이용 하 는 식각 공정 이 이루어지 는 플 라즈 마 형성 장치 를 주로 사용 한다 .