또한 , 한국 공개 특허 제 2006 - 0052171 호 및 일본 공개 특허 제 2004 - 341121 호 에서 는 고밀도 의 픽셀 을 제조 하 기 위해 염료 를 사용 하 여 2 . 0 x 2 . 0 ㎛ 정도 의 미세 패턴 을 제조 하 는 것 을 제시 하 고 있 다 . 그러나 이 방법 은 색소 로서 안료 대신 에 염료 를 사용 하 는 방법 으로서 , 염료 는 내광성 , 또는 내열성 등 이 약하 기 때문 에 장기 적 인 신뢰 성 에 있 어서 문제 가 있 다 .