공정 근접 보정 ( PPC ; Process Proximity Correction ) 기술 은 이 두 가지 효과 를 예측 분석 하 여 미리 마스크 레이아웃 을 보정 하 는 기술 인데 , 현재 의 공정 근접 보정 기술 은 주로 포토 리소그래피 공정 에서 기인 한 광 근접 에러 의 보정 을 중심 으로 이루어지 고 있 다 . 공정 근접 보정 을 효과 적 으로 적용 하 기 위하 여 에칭 공정 요인 과 포토 리소그래피 공정 요인 을 분리 하 여 분석 후 보정 해 주 는 다단계 근접 보정 방법 과 , 두 가지 요인 을 동시 에 처리 하 는 일괄 근접 보정 방법 이 있 는데 , 두 가지 방법 모두 광 근접 보정 ( Optical Proximity Correction ) 적용 방법 , 즉 광 근접 보정 룰 , 광 근접 보정 모델 , 광 근접 보정 파라미터 등 에 제한 받 는다 .