본 발명 은 증착 챔버 에서 증착 시 마스크 쉐 도우 현상 을 최대한 방지 하 기 위해 소정 의 분사 각도 를 갖 도록 구성 되 는 증착 챔버 에 관한 것 으로 , 보다 상세 하 게 는 기판 에 분사 되 는 증착 물질 의 각도 가 소정 의 각도 범위 내 에서 만 이루어짐 으로써 , 마스크 쉐 도우 현상 을 최소 화 하 고 증착 균 일도 를 확보 할 수 있 는 증착 챔버 에 관한 것 이 다 .