본 개시 의 플 라즈 마 처리 장치 는 , Atomic Layer Deposition ( ALD ) 장치 , Capacitively Cou pled Plasma ( CCP ) , Inductively Coupled Plasma ( ICP ) , Radial Line Slot Antenna ( RLSA ) , Electron Cyclotron Resonance Plasma ( ECR ) , Helicon Wave Plasma ( HWP ) 중 어떤 타입 의 장치 에서 도 적용 가능 하 다 .