구체 적 으로 , 산화 적 스트레스 에 의한 DNA 손상 억제 작용 을 평가 하 기 위해서 초 나선형 DNA 를 이용 하 여 산화 적 DNA 손상 억제 작용 을 Fiorda et al . ( 2016 ) 의 방법 에 의해 검증 하 였 다 . Escherichia coli DH 5 α 로부터 플라스미드 pPICZalpha C 와 형질 전환 하 여 , 암피실린 ( 50 mg / mL ) 을 포함 하 는 LB 배지 및 37 ℃ 에서 배양 하 였 다 . 플라스미드 DNA 는 QIAGEN Plasmid Kit ( Macherey - Nagel , Duren , Germany ) 을 사용 하 여 분리 정제 하 였 다 . DNA 손상 용액 ( 1 mM OH ) 은 1 mM 황산 ( FeSO 4 ) 용액 100 mL 에 3 . 1 μ L 의 30 % H 2 O 2 를 처리 하 여 제조 하 였 다 . 산화 적 DNA 손상 을 위해 2 μ L 의 플라스미드 DNA 및 1 μ L 의 DNA 손상 용액 을 음성 대 조군 으로 하 였 다 . 양성 대 조군 은 DNA 손상 용액 과 효모 액 을 처리 하 지 않 은 시료 로 하 였 다 . 효모 처리 군 ( Lane 1 , Lane 2 ) 에서 는 2 μ L 의 효모 액 을 처리 하 였 다 . 1 % 아가 로즈 겔 을 이용 하 여 시료 를 로딩 하 고 , 135 V 및 30 분 동안 전기영동 을 실시 하 였 고 , 이 를 0 . 05 % ( w / v ) ethidium bromide 을 이용 하 여 분석 하 였 고 , 그 결과 는 도 2 에 나타내 었 다 .