본 발명 의 일 양태 에서 , 상기 화학식 1 로 표시 되 는 제 1 아민 화합물 은 변성 된 포토레지스트 의 표면 중 비교 적 약한 부분 에 작용 함 으로써 용매 성분 의 침투 를 용이 하 게 하 는 역할 을 할 수 있 다 . 또한 , 상기 N - 에틸 포름 아마이드 및 상기 화학식 2 로 표시 되 는 제 1 극성 용매 와 함께 사용 함 으로써 인체 에 유해 하 지 않 으면서 뛰어난 박리 력 과 박리 된 포토레지스트 용해 력 를 극대 화 시키 는 역할 을 한다 . 또한 , 경시 변화 안정 성 이 향상 되 는 효과 가 있 다 .