정전기 방전 에 의한 패턴 손상 의 주요 발생 원인 은 포토 마스크 상부 의 금속 패턴 사이 에 공기층 이 존재 하 여 하나 의 축전기 와 같 은 구조 를 형성 하 거나 좁 은 패턴 에 순간 적 으로 많 은 양 의 정전기 전하 가 집중 된 경우 이 다 . 따라서 정전기 방전 에 의한 패턴 손상 을 방지 하 기 위해서 는 금속 패턴 내 의 전하 축적 과 급격 한 방전 을 방지 해야 하 며 , 이 를 위해서 는 금속 패턴 간 의 전하 이동 통로 를 형성 시켜 주 는 것 이 가장 효과 적 인 방법 이 다 .