처리 실 ( 201 ) 내 에 도입 된 F 2 가스 , 또는 희석 된 F 2 가스 는 , 처리 실 ( 201 ) 내 를 상승 하 고 , 이너 튜브 ( 204 ) 의 상단 개구 로부터 통 형상 공간 ( 250 ) 내 로 유출 하 며 , 통 형상 공간 ( 250 ) 내 를 흘러내린 후 , 배기관 ( 231 ) 으로부터 배기 된다 . F 2 가스 , 또는 희석 된 F 2 가스 는 , 처리 실 ( 201 ) 내 를 통과 할 때 프로세스 튜브 ( 203 ) 의 내벽 이나 보트 ( 217 ) 의 표면 에 누적 된 질화 실리콘 막 등 의 박막 을 포함 하 는 퇴적물 과 접촉 하 고 , 이 때 열화학 반응 에 의해 박막 이 제거 된다 . 즉 , F 2 가스 의 열분해 에 의해 생기 는 활성 종과 퇴적물 과 의 에칭 반응 에 의해 박막 이 제거 된다 .