종래 CVD 실리콘 질화물 필름 중 의 많 은 불순물 은 수소 , 일반 적 으로 공정 가스 혼합물 내 의 수소 로부터 남겨진 수소 이 다 . 실리콘 질화물 필름 내 에 잔류 하 는 수소 의 감소 는 필름 의 밀도 의 증가 및 산화물 에칭 의 산화물 / 질화물 선택도 의 증가 를 가져온다 . 다시 말 해 증가 된 밀도 는 , 노출 된 실리콘 질화물 이 부식 되 는 기간 동안 에칭 에 대해 저항 하 는 실리콘 질화물 필름 의 능력 의 증가 를 가져온다 .