상기 발명 은 패 터닝 된 재료 층 구조물 , 예컨대 금속 와이어 링 라인 , 접촉 공 또는 바이어스 , 절 연색 션 , 예컨대 다마스크 트렌치 또는 셀 로우 트렌치 절연 , 커패시터 구조물 용 트렌치 , 예컨대 집 적 회로 장치 의 설계 에 사용 될 수 도 있 는 것 들 을 형성 하 는 데 사용 할 수 있 다 . 상기 발명 은 산화물 , 질화물 , 폴리 실리콘 및 크롬 의 패 터닝 된 층 을 형성 하 는 것 에 관하 여 특히 유용 하 다 .