전자 주입 층 ( 119 e ) 은 전자 의 주입 을 원활 하 게 하 는 역할 을 하 며 , Alq 3 ( tris ( 8 - hydroxyquinolino ) aluminum ) , PBD , TAZ , spiro - PBD , BAlq 또는 SAlq 를 사용 할 수 있 으나 이 에 한정 되 지 않 는다 . 전 자주 입 층 ( 119 e ) 은 전자 주입 층 을 이루 는 유기물 과 무기물 을 진공 증착 법 으로 형성 할 수 있 다 .