이 조건 들 이 확립 된 이후 , 약 10 내지 30 MHz 로 ( RF 매칭 회로 에 의해 RF 안테나 에 커플링 된 ) RF 파워 공 급기 를 작동 시킴 으로써 ( 듀테륨 을 이용 하 는 ) 이온 소스 가 여기 될 것 이 다 . 파워 레벨 이 0 으로부터 약 500 W 까지 증가 되 어 , 약 1011 입자 / ㎤ 의 밀도 를 갖 는 조밀 한 듀테륨 플 라즈 마 를 생성 할 것 이 다 . 원 하 는 이온 전류 ( 약 10 mA ) 및 포 커싱 을 제공 하 기 위해 이온 추출 전압 이 증가 될 것 이 다 . 그 후 , 가속기 전압 이 300 kV 로 증가 되 어 , 흐름 제한 부 를 통해 , 또한 타 겟 챔버 로 이온 빔 을 가속 시킬 것 이 다 . 타 겟 챔버 는 , 이온 빔 이 무시 될 정도 의 낮 은 에너지 로 떨어지 기 전 에 약 1 미터 를 이동 하 는 선형 진공 챔버 일 것 이 다 .