에칭 되 어야 할 니켈 의 양 을 하 기 의 방법 에 따라 결정 하 였 다 . SEM 을 이용 하 여 , 니켈 층 의 부식 도 및 부식 될 너비 가 결정 될 수 있 도록 , 구리 시드 층 을 에칭 하 기 전 및 구리 시드 층 을 에칭 한 후 의 시험편 의 측면 의 사진 을 찍 었 다 . 사진 이미지 로부터 , 구리 시드 층 을 에칭 하 기 전 의 시험편 의 니켈 층 ( 도 4 의 7 ) 의 너비 A 1 ( ㎛) 및 에칭 한 후 의 시험편 의 니켈 층 ( 도 7 의 7 ) 의 너비 A 2 ( ㎛) 를 측정 하 였 다 . 에칭 전후 의 니켈 층 너비 의 차이 A 1 - A 2 가 1 . 0 ㎛ 미만 인 경우 는 o 로 표시 하 였 고 , 상기 차이 가 1 . 0 ㎛ 이상 인 경우 는 x 로 표시 하 였 다 .