포토레지스트 조성물 이 , 구조 단위 ( I ) 로 이루어지 거나 구조 단위 ( a 1 ) 을 갖 지 않 는 수지 ( A ) 를 갖 는 경우 , 조성물 은 바람직 하 게 는 수지 ( A 2 ) 를 더 갖 고 , 더욱 바람직 하 게 는 구조 단위 ( a 1 ) 을 포함 하 는 수지 ( A 2 ) 를 더 갖 고 , 더욱 더 바람직 하 게 는 구조 단위 ( a 1 ) 을 포함 하 는 수지 ( A 2 ) 및 구조 단위 ( a 4 ) 를 포함 하 는 수지 ( A 2 ) 중 적어도 하나 를 더 갖 고 , 및 훨씬 더욱 더 바람직 하 게 는 구조 단위 ( a 1 ) 을 포함 하 는 수지 ( A 2 ) 및 구조 단위 ( a 4 ) 를 포함 하 는 수지 ( A 2 ) 둘 모두 를 더 갖 는다 .