상기 제 1 및 제 2 포토레지스트 패턴 을 형성 하 는 단계 는 , 상기 금속 층 상부 에 포토레지스트 층 을 형성 하 는 단계 와 ; 상기 포토레지스트 층 상부 에 , 투 과부 와 차 단부 및 반투 과부 로 이루어진 마스크 를 배치 하 는 단계 와 ; 상기 마스크 를 통해 상기 포토레지스트 층 을 노광 하 는 단계 와 ; 상기 노광 된 포토레지스트 층 을 현상 하 는 단계 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .