일 측면 에 있 어서 , 본 발명 은 원격 플 라즈 마 방전 장치 를 이용 하 여 웨이퍼 를 공정 처리 한 후 에 CVD 공정 챔버 를 세정 하 는 방법 을 제공 한다 . 상기 공정 처리 된 웨이퍼 를 상기 챔버 의 서 셉 터 ( susceptor ) 로부터 제거 한다 . 상기 원격 플 라즈 마 방전 장치 에 세정 가스 를 제공 한다 . 상기 원격 플 라즈 마 방전 장치 내 에서 상기 세정 가스 를 활성 화 하 기 위하 여 플 라즈 마 에너지 를 이용 한다 . 상기 서 셉 터 와 대면 하 는 샤워 플레이트 의 복수 의 홀 들 을 통하 여 상기 챔버 내 로 상기 활성 화 된 세정 가스 를 공급 한다 . 상기 홀 들 은 상기 샤워 플레이트 를 완전히 관통 하 여 연장 되 고 , 상기 홀 들 각각 은 균일 한 단면적 을 가진다 . 상기 샤워 플레이트 의 상기 홀 들 을 모두 포함 하 는 가장 작 은 원형 영역 의 직경 은 상기 웨이퍼 의 표면 영역 의 직경 의 0 . 95 내지 1 . 05 배 이 다 .