상기 제 1 가스 ( G 1 ) 및 플 라즈 마 화 된 제 2 가스 ( PG 2 ) 각각 의 동시 분사 와 동시 에 , 제 2 및 제 4 가스 분사 모듈 ( 130 b , 130 d ) 각각 에 제 3 가스 및 플 라즈 마 전원 을 공급 하 여 제 2 및 제 4 가스 분사 영역 각각 에 플 라즈 마 화 된 제 3 가스 ( PG 3 ) 를 지속 적 으로 하향 분사 한다 . 이때 , 플 라즈 마 화 된 제 3 가스 ( PG 3 ) 는 상기 공정 싸이클 주기 에 상관없이 지속 적 으로 분사 된다 .