이하 표 1 은 금속 이트륨 과 반도체 처리 장치 부품 을 제조 하 는 데 사용 되 는 다른 금속 재료 의 성질 비교 를 나타낸다 . 당업자 라면 , 본 표 를 고려 하 여 , 열거 된 다른 재료 들 에 비해 금속 이트륨 을 사용 하 는 이점 및 단점 을 알 수 있 다 . 기계 적 성질 의 면 에서 , 이트륨 금속 은 반도체 처리 장비 를 위한 기재 기판 재료 로서 사용 되 는 많 은 다른 재료 들 과 유사 하 다 . 이트륨 금속 의 전기 저항률 은 알루미늄 또는 알루미늄 합금 에 비해 매우 높 지만 , HASTALLOY ® C 276 , 티타늄 합금 , 및 SST 316 보다 우수 하 다 . 표 2 에 나타낸 이트륨 옥사이드 의 전기 저항률 은 도 펀트 재료 , 예컨대 , 지르코늄 옥사이드 , 하프늄 옥사이드 , 스칸듐 옥사이드 , 니오븀 옥사이드 , 사마륨 옥사이드 , 이테르븀 옥사이드 , 에르븀 옥사이드 , 세륨 옥사이드 , 네오디뮴 옥사이드 , 테르븀 옥사이드 , 디스프로슘 옥사이드 , 및 이 들 의 조합 물 을 산화 전 에 이트륨 금속 에 첨가 함 으로써 감소 될 수 있 다 .