참고 로 , 필요 에 따라서 는 감광막 패턴 ( 40 ) 의 하부 측 에 비 반사 ( BARC : Bottom of Anti Reflection Coating ) 막 을 먼저 형성 하 여 포토 리소그래피 공정 의 노광 시 에 노광 빛 이 반사 되 는 것 을 방지 할 수 있 으며 , 이 경우 식각 시 에 는 먼저 비 반사막 을 제거 하 고 , 이어서 다른 공정 조건 으로 폴리 실리콘 막 ( 30 ) 및 게이트 산화 막 ( 20 ) 을 제거 할 수 있 다 .