실시 예 에서 , 공칭 윤곽 은 모델 및 / 또는 시뮬레이션 을 통한 수학 적 계산 에 의해 얻 어 질 수 있 다 . 실시 예 에서 , 시뮬레이터 또는 모델 , 예 를 들 어 ASML 의 Tachyon 제품 과 같 은 시뮬레이터 는 피처 의 패 터닝 공정 에 대한 하나 이상 의 처리 변수 에 대한 적용 가능 한 설계 값 에서 패턴 의 피처 의 예상 된 윤곽 을 결정 할 수 있 다 . 계산 에 의해 얻 어 진 이 윤곽 은 이후 공칭 윤곽 으로 지정 될 수 있 다 . 유사 하 게 , 시뮬레이터 또는 모델 은 하나 이상 의 처리 변수 의 다양 한 상이 한 값 들 ( 예 를 들 어 , 상이 한 초점 설정 들 또는 조건 들 , 상이 한 선량 설정 들 또는 조건 들 , 상이 한 투영 시스템 수차 설정 들 또는 조건 들 , 상이 한 조명 퓨 필 형상 설정 들 또는 조건 들 등 과 같 은 하나 이상 의 광학 설정 들 또는 조건 들 ) 에서 윤곽 을 결정 하 여 복수 의 피처 의 윤곽 을 얻 을 수 있 으며 , 여기 서 각 윤곽 은 하나 이상 의 처리 변수 의 상이 한 값 에서 얻 어 진다 . 계산 에 의해 얻 어 진 이 윤곽 들 은 이후 공칭 윤곽 으로 지정 될 수 있 으며 , 각 공칭 윤곽 은 하나 이상 의 처리 변수 의 상이 한 값 과 관련 된다 . 실시 예 에서 , 공칭 윤곽 들 은 상이 한 초점 설정 들 또는 조건 들 에 대해 결정 되 며 , 따라서 공칭 윤곽 들 각각 은 상이 한 초점 설정 또는 조건 ( 예 를 들 어 최적 초점 으로부터 의 어떠 한 변화 량 ( variance ) ) 과 관련 될 수 있 다 . 아래 의 설명 은 초점 설정 또는 조건 에 초점 을 맞추 지만 , 공칭 윤곽 은 초점 보다 다른 설정 또는 조건 에 대해 결정 될 수 있 으며 설정 들 또는 조건 들 의 다양 한 조합 에 대해 결정 될 수 있 다 .