일부 실시 예 들 에서 , 디스크 ( 202 ) 는 디스크 ( 202 ) 의 정상 에 배치 된 기판 의 배면 과 접촉 하 도록 ( 전술 한 바 와 같 은 ) 가스 공급원 ( 141 ) 으로부터 ( 예컨대 , 전술 한 제 1 그루브 들 을 통해 ) 디스크 ( 202 ) 와 기판 ( S ) 사이 의 기판 계면 까지 가스 흐름 을 제공 하 기 위한 하나 또는 그 초과 의 가스 홀 ( 302 ) 들 을 포함 할 수 있 다 . 기판 계면 에 제공 되 는 가스 압력 에 대한 제어 는 기판 의 가열 및 냉각 에 대한 제어 를 용이 하 게 한다 . 일부 실시 예 들 에서 , 그리고 도 3 에 도시 된 바 와 같이 , 가스 홀 ( 302 ) 은 디스크 ( 202 ) 의 중앙 에 배치 될 수 있 다 . 도 3 에 는 단지 1 개 의 가스 홀 ( 302 ) 만 도시 되 어 있 으나 , 원 하 는 대로 가스 를 분산 시키 기 위해 임의 의 양 의 가스 홀 ( 302 ) 들 이 제공 될 수 있 다 .