그런데 , 상기 와 같 은 종래 의 라디칼 증착 장치 는 RF 전원 부 ( 19 ) 의 고주파 발생기 를 통하 여 고정 된 하나 의 고주파 전압 만 을 인가 한다 . 이 경우 에 는 기판 ( 32 ) 에 막 이 증착 되 는 속도 가 느리 다 . 막 의 증착 속도 를 증가 시키 기 위하 여 RF 전원 부 ( 19 ) 의 파워 를 증가 시킬 경우 에 는 제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 와 제 2 샤워 헤드 ( 18 ) 사이 의 좁 은 플 라즈 마 발생 공간 ( 3 mm ~ 20 mm ) 때문 에 조건 에 따라서 플 라즈 마의 균 일도 가 나빠 지 거나 마이크 로 아 킹 ( micro arcing ) 등 의 현상 이 발생 될 수 있 다 . 따라서 , 일부 조건 에서 는 증착 된 막 질 이 불 균일 해진다는 문제점 이 있 다 .