특허 문헌 1 의 패턴 검사 장치 는 전자 현미경 과 워크 스테이션 을 구비 하 고 있 다 . 전자 현미경 은 , 포토 마스크 에 형성 된 패턴 의 화상 을 취득 한다 . 워크 스테이션 은 , 당해 화상 을 패턴 데이터 로 변환 하 고 , 이 패턴 데이터 에 대해 광 강도 분포 시뮬레이션 을 적용 함 으로써 , 기판 상 에 노광 되 는 광 의 강도 분포 를 구한다 . 워크 스테이션 은 , 이 광 강도 분포 와 , 참조 용 의 광 강도 분포 의 차분 에 기초 하 여 , 패턴 의 결함 검사 를 실시 한다 .