종래 반도체 기판 등 의 피 처리 워크 에 대하 여 플 라즈 마 를 조사 하 고 , 그 표면 의 유기 오염물 의 제거 , 표면 개질 , 식각 , 박막 형성 또는 박막 제거 등 의 처리 를 행하 는 워크 처리 장치 가 알려져 있 다 . 예컨대 일본 특허 공개 2003 - 1973970 호 공보 ( 이하 특허 문헌 1 ) 에 그러 한 워크 처리 장치 의 일례 가 개시 되 어 있 다 . 이 특허 문헌 1 에 개시 된 워크 처리 장치 는 공급 되 는 소정 의 가스 를 플 라즈 마 화 하 기 위한 플 라즈 마 발생 노즐 을 갖 는 플 라즈 마 발생 부 를 구비 하 고 있 으며 , 상기 플 라즈 마 발생 노즐 에서 플 라즈 마 화 된 가스 를 피 처리 워크 에 조사 하 여 그 피 처리 워크 에 상기 한 각종 처리 를 시여 하 도록 구성 되 어 있 다 . 또한 이 워크 처리 장치 에서 는 이동 기구 를 갖 는 테이블 이 플 라즈 마 발생 부 의 하방 에 설치 되 고 있 고 , 그 테이블 상 에 피 처리 워크 가 올려 져서 플 라즈 마 조사 를 받 는 소정 의 위치 에 배치 되 도록 되 어 있 다 .