c ) 샤워 헤드 ( e ) 가 전도성 전극 으로서 더 이상 사용 되 지 않 기 때문 에 , 샤워 헤드 ( e ) 에 대해 비 전도 성 및 비 반응 성 물질 을 사용 할 수 있 다 . 이 는 가스 분배 만 을 위해 샤워 헤드 물질 을 최적 화 할 수 있 게 한다 . 이러 한 새로운 샤워 헤드 ( e ) 는 또한 임의 의 반응 또는 스퍼터링 이 발생 하 는 것 을 방지 하 기 위해 플 라즈 마 ( c ) 영향력 의 밖 에 배치 된다 . 이 로 인해 샤워 헤드 ( e ) 로부터 기판 ( d ) 에 대한 임의 의 오염 이 완전히 방지 된다 .