예컨대 , 셀 영역 ( CELL ) 에서 의 문턱 전압 조절 용 이온 주입 공정 은 불화 붕소 ( BF ) 를 이용 하 여 10 ~ 30 KeV 이온 주입 에너지 에서 1 . 0 E 13 ~ 5 . 0 E 13 ions / cm 2 의 도즈 ( dose ) 로 실시 한다 . 또한 , 고전압 영역 ( HVN ) 에서 의 문턱 전압 조절 용 이온 주입 공정 은 붕소 ( B ) 를 이용 하 여 30 ~ 70 KeV 이온 주입 에너지 에서 7 . 0 E 11 ~ 11 . 0 E 13 ions / cm 2 의 도즈 로 실시 한다 .