다음 으로 , 도 2 c 와 같이 , 1 차 희생 막 ( 400 ) 상부 에 게이트 전극 ( 300 ') 이 형성 될 영역 만 을 개방 하 는 관 통구 ( 502 ) 를 갖 도록 통상 적 인 포토 리소그래피 공정 을 통해 감광막 패턴 ( 500 ) 을 형성 하 며 , 이때 의 포토 리소그래피 공정 은 감광액 도포 , 노광 및 현상 의 일련 된 과정 으로 이루어진다 .