플라 즈 마 발생 장치 ( 10 ) 는 챔버 ( 30 ) 에 RF ( radio frequency ) 를 공급 하 기 위하 여 적어도 하나 의 안테나 ( 32 , 34 , ..., 36 ) , 플라 즈 마 생 성 에 사용 되 는 이온 화 가스 를 공급 하 기 위한 가스 라인 ( 38 ) 을 구비 한다 . 상기 챔버 ( 30 ) 는 절연체 로 되 어 있 으며 고온 / 저온 , 고압 / 저압 에 견딜 수 있 는 구조 를 갖 는다 . 또한 , 마이크로웨이브 의 에너지 가 챔버 ( 30 ) 밖 으로 방출 되 지 않 도록 전자파 차폐 기능 을 갖 는다 . 또한 상기 챔버 ( 30 ) 의 외부 에 는 플 라즈 마 증착 과정 을 보조 하 기 위해 챔버 ( 30 ) 내 의 압력 을 높이 거나 낮출 수 있 는 압력 제어 장치 ( 미 도시 ) 가 존재 되 고 , 또한 챔버 ( 30 ) 내부 에 발생 하 는 높 은 / 낮 은 온도 에서 챔버 ( 30 ) 를 보호 하 기 위한 온 / 냉각 장치 ( 미 도시 ) 가 있 다 .