규소 기판 에 증착 된 산화 규소 필름 을 필름 두께 모니터 ( 미국 캘리포니아주 밀피 타스 소재 의 나노 메트 릭스 인 코포 레이티 드 ( Nanometrics Incorporated ) 의 모델 나노 스펙 ( Model NanoSpec ) ( 등록 상표 ) 6100 UV 테이블 탑 필름 어 낼리 시스 시스템 ( Tabletop Film Analysis System ) ) 로 측정 하 였 다 . 이어서 산화 규소 필름 과 기판 을 주위 온도 ( 약 25 ℃) 에서 6 주 동안 에이징 시킨 NMP / HFE 7100 ( 20 / 80 , w / w ) 의 혼합물 을 함유 하 는 100 밀리리터 폴리프로필렌 비이 커 내 에 넣 었 다 . 이 혼합물 의 플 루오 라이드 이온 농도 를 상기 에 설명 한 바 와 같이 측정 하 였 다 . 충분 한 부피 의 혼합물 을 이용 하 여 산화 규소 필름 을 덮 었 다 . 주위 온도 ( 약 25 ℃) 에서 의 30 분 후 , 산화 규소 두께 를 다시 측정 하 였 다 . 사후 처리 된 웨이퍼 기판 상 에 놓인 수적 ( water droplet ) 의 형태 를 조사 하 여 정성 적 표면 소수성 을 결정 하 였 다 . 처리 전 기판 표면 은 소수성 인 것 으로 결정 되 었 다 . 그 결과 가 하 기 표 2 에 예시 되 어 있 다 .