본 발명 의 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 의 제조 공정 은 다음 과 같이 이루어질 수 있 다 . 한 쌍 의 투명 기재 ( 10 및 20 ) 들 과 스 페이서 와 실란 트 같 은 밀봉재 ( 30 ) 로 셀 을 형성 한다 . 투명 기재 들 중 적어도 어느 하나 의 투명 기재 에 투명 발열 층 을 형성 할 수 있 다 . 투명 발열 층 이 코팅 된 투명 기재 는 양 투명 기재 가 마주 보 는 면 에 투명 전기 전도성 물질 이 균일 하 게 코팅 형성 되 어 , 투명 발열 층 에 전기 를 인가 할 경우 발열 할 수 있 도록 투명 발열 층 의 양 말단 에 은 ( silver ) 으로 모선 ( bus bar ) 을 형성 시켜 도선 ( lead wire ) 이 연결 되 어 있 는 투명 발열 층 ( 70 ) 으로 이루어진다 . 셀 의 빈 공간 내 에 본 발명 의 가변 형 매체 조성물 을 주입 시킨 후 주입구 를 밀봉 시킨다 . 밀봉 이 끝난 투명 기재 구조물 을 자외선 , 전자 빔 혹은 가시광선 에 일정 시간 노광 시키 면 셀 내 에 있 는 가변 형 매체 조성물 의 고분자 반응 이 일어나 게 되 고 , 반응 이 완료 된 투명 기재 구조물 은 상온 에서 는 투명 하 다가 열에너지 를 공급 받 으면 반투명 또는 거의 불 투명 한 상태 로 변하 는 가변 형 매체 ( 40 ) 가 투명 기재 들 사이 에 접합 된 ( laminated ) 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 이 된다 . 열에너지 가 공급 되 는 방법 은 자연 적 으로 여름철 의 기온 이 가변 형 매체 의 반응 온도 이상 으로 상승 하 면 투과 율 이 변하 게 하 거나 , 태양 광선 이 직접 도달 하 여 가변 형 매체 의 반응 온도 이상 으로 상승 하 면 투과 율 이 변하 게 하 거나 , 상기 의 도선 에 직류 전기 나 교류 전기 를 공급 하 여 전기 전도성 코팅 층 이 또는 패턴 된 열선 이 발열 함 으로써 열에너지 를 공급 하 여 투과 율 이 변하 게 할 수 도 있 다 . 이러 한 공정 으로 제조 된 투과율 가변 형 투명 기재 구조물 에 투 사기 를 이용 하 여 영상 을 투사 하 면 , 투명도 에 따라 홀로 그래픽 투사 스크린 또는 후면 투사 스크린 을 구현 할 수 있 는 것 이 다 .