다음 으로 , 플라 즈 마 처리 한 포토 마스크 상부 에 준비 예 1 에서 제조 한 투명 전도성 소재 를 5 . 5 × 10 - 6 Torr 진공도 하 에서 아르곤 100 sccm , 산소 8 sccm 을 주입 하 고 2 kW 의 전력 으로 건식 증착 공정 을 진행 하 여 포토 마스크 표면 에 고르 게 투명 전도성 층 을 형성 시켰 다 . 이때 , ITO 의 타 겟 의 길이 는 1 , 000 mm 이상 으로 하 여 1 회 공정 을 진행 하 는 것 으로 투명 전도성 층 을 평균 두께 20 nm 로 형성 시켰 다 .