이 와 같이 , 상술 한 제 2 실시 예의 방법 을 통하 면 , 각각 , ( 금속 배선 ) , ( 제 1 층 의 제 1 전극 ) , ( 복수 의 콘 택 홀 형성 공정 ) , ( 제 2 층 의 제 1 전극 ) 으로 4 개 의 마스크 가 소요 되 고 , 상대 적 으로 제 1 실시 예 에 비해 마스크 가 1 회 감소 되 며 , 그 에 따른 노광 및 현상 공정 을 생략 할 수 있 다 . 이 에 따라 수율 향상 과 제반 비용 감소 가 기대 된다 .