크롬 계 재료 의 하드 마스크 막 을 이용 함 으로써 , 고정 밀도 의 에칭 가공 이 가능 해 지 지만 , 상술 한 바 와 같이 본 발명 의 차광막 에 이용 되 는 규소 계 재료 를 , 전 층 에서 질소 를 포함 하 는 것 , 특히 질소 를 3 원자 ％ 이상 , 바람직 하 게 는 5 원자 ％ 이상 포함 하 는 것 으로 한 경우 에 는 , 하드 마스크 막 을 박리 하 기 위한 , 크롬 계 재료 의 드라이 에칭 조건 에서 차광막 이 형상 변화 하 기 어렵 기 때문 에 , 하드 마스크 막 을 보다 유효 하 게 적용 할 수 있 다 .