예 를 들 면 , 미국 특허 제 3 , 666 , 473 호 에 는 두 종류 의 페놀 포름알데히드 노볼락 수지 의 혼합물 과 전형 적 인 감광성 화합물 의 사용 이 개시 되 어 있 고 , 미국 특허 제 4 , 115 , 128 호 에 는 감광 속도 를 증가 시키 기 위해 페놀 성 수지 와 나프 토 퀴논 디 아지드 감광제 에 유기산 사이 클릭 무수물 을 첨가 한 구성 이 개시 되 어 있 으며 , 미국 특허 제 4 , 550 , 069 호 에 는 감광 속도 를 증가 시키 고 인체 안전 성 을 향상 시키 기 위하 여 노볼락 수지 , o - 퀴논 디 아지드 감광성 화합물 , 및 용매 로서 프로필렌글리콜 알킬 에 테르 아세테이트 의 사용 한 포토레지스트 조성물 구성 이 개시 되 어 있 다 .