생산 설비 내 에서 , 장치 ( 100 ) 는 , " 장치 ( 100 ) 에 의한 패턴 화 를 위해 감광성 레지스 트 ( photosensitive resist ) 및 다른 코팅 재 를 기판 ( W ) 에 도포 하 기 위한 코팅 장치 ( 108 ) 를 또한 포함 하 는 "" 리 소 셀 ( litho cell ) "" 또는 "" 리 소 클러스터 ( litho cluster ) "" 의 일부 를 형성 한다 . 장치 ( 100 ) 의 출력 측 에서 ", 노출 된 패턴 을 물리 적 레지스 트 패턴 으로 현상 하 기 위해 , 베이 킹 장치 ( 110 ) 및 현상 장치 ( 112 ) 가 제공 된다 . 모든 이 들 장치 사이 에서 , 기판 핸들링 시스템 은 , " 기판 을 지지 하 는 것 및 그 들 을 하나 의 단편 의 ( one piece of ) 장치 로부터 다음 단편 의 장치 로 전달 하 는 것 을 담당 한다 . 종종 일괄 적 으로 "" 트랙 "" 으로 칭해 지 는 이 들 장치 는 ", 감독 제어 시스템 ( supervisory control system ; SCS ) 에 의해 그 자체 가 제어 되 며 , 또한 리소그래피 장치 제어 유닛 ( LACU ) 를 통해 리소그래피 장치 를 제어 하 는 트랙 제어 유닛 의 제어 하 에 있 다 . 따라서 , 스루풋 및 프로세싱 효율 성 을 최대 화 하 기 위해 상이 한 장치 가 동작 될 수 있 다 . 감독 제어 시스템 ( SCS ) 은 , 각각 의 패턴 화 된 기판 을 생성 하 기 위해 수행 될 단계 의 정의 를 아주 상세 하 게 제공 하 는 레시피 정보 ( recipe information ) ( R ) 를 수신 한다 .