또 , 상술 한 바 와 같이 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 상 의 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 와 는 소정 의 위치 관계 로 형성 되 어 있 고 , 제 2 마스크 ( M 2 ) 상 의 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 와 는 소정 의 위치 관계 로 형성 되 어 있 다 . 따라서 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 수광 장치 ( 82 ) 의 수광 결과 로부터 얻 어 지 는 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM ) 의 위치 관계 에 의거 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 위치 관계 ( 예 를 들 면 , X 축 및 Y 축 방향 의 위치 어긋남 ) 에 관한 정보 를 취득 할 수 있 다 . 또한 , 본 실시 형태 에 있 어서 는 , X 축 방향 으로 떨어진 한 쌍 의 제 1 얼라이먼트 마크 ( RM 1 ) 와 , 대응 하 는 한 쌍 의 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 2 ) 와 의 위치 관계 를 검출 할 수 있 으므로 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 그 2 쌍 의 제 1 , 제 2 얼라이먼트 마크 ( RM 1 , RM ) 의 위치 관계 에 의거 하 여 제 1 패턴 ( PA 1 ) 과 제 2 패턴 ( PA 2 ) 과 의 상대 적 인 회전 위치 관계 ( OZ 방향 의 위치 어긋남 ) 에 관한 정보 도 구할 수 있 다 . 또 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 XY 좌표계 내 에 있 어서 의 제 1 , 제 2 패턴 ( PA 1 , PA 2 ) 의 위치 및 회전 도 구할 수 있 다 .