보다 구체 적 으로 염소 기체 를 활용 한 메탄 의 염소 화 반응 공정 을 살펴보 면 일반 적 으로 촉매 가 없 는 조건 에서 도 자외선 영역 의 광 에너지 나 적절 한 열에너지 가 공급 될 경우 자발 적 으로 반응 이 진행 되 는 공정 인데 , 기체 는 동등 해리 ( homolytic cleavage ) 과정 을 거쳐 두 개 의 염소 라디칼 ( radical ) 을 형성 하 고 , 이 염소 라디칼 은 반응 성 이 매우 높 기 때문 에 , 메탄 분자 의 C - H 결합 을 활성 화 시켜 반응 을 빠르 게 진행 시킨다 . 염소 라디칼 이 한 개 첨가 되 면서 메탄 에서 수소 라디칼 이 한 개 떨어져 나오 는 과정 을 통해서 메틸 클로라이드 ( CH 3 Cl ) 분자 한 개 가 생성 되 는데 , 메틸 클로라이드 는 반응기 내부 에 존재 하 는 잔량 의 메탄 에 비해서 반응 성 이 더욱 높 은 물질 이 다 . 이 에 따라 , 메탄 뿐 만 아니 라 메틸 클로라이드 분자 에 도 염소 화 반응 이 일어나 게 되 고 , 메틸 클로라이드 의 선택 성 이 떨어지 는 부작용 이 발생 한다 . 즉 , 염소 라디칼 에 의한 연쇄 적 인 염소 화 반응 을 통해서 메틸 클로라이드 ( CH 3 Cl ) , 메틸렌 클로라이드 ( CH 2 Cl 2 ) , 클로로포름 ( CHCl 3 ) 및 사염화탄소 ( CCl 4 ) 까지 비 - 선택 적 으로 생성 되 기 때문 이 다 .