상기 한 본 발명 의 구체 예 들 은 예시 이 다 . 본 발명 의 범위 내 에 있 으면서 상기 열거 된 명세서 에 많 은 변화 와 수정 들 이 행해질 수 있 다 . 예 를 들 면 , 용매 PM Acetate 는 조성물 3 , 4 및 5 의 다른 구성 요소 성분 들 을 용해 하 기 위해 주로 사용 된다 . 그 결과 , PM Acetate 의 대신 에 디 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르 아세테이트 , 메틸 아밀 케톤 등 과 같 은 많 은 통상 의 포토레지스트 용매 가 사용 될 수 있 다 . 또한 , 조성물 3 , 4 및 5 의 고형물 성분 들 , 즉 , ISORAD ® 501 , CYMEL ® 303 ULF 및 CYCAT 4040 ® 은 조성물 중량 의 0 . 1 % to 70 %, 및 더 바람직 하 게 는 중량 으로 0 . 5 % 내지 10 % 범위 로 포함 할 수 있 고 , 나머지 양 은 용매 로 구성 된다 . 조성물 3 , 4 및 5 의 각각 의 성분 은 중량 으로 50 % 내지 99 % 의 ISORAD ® 501 , 중량 으로 1 % 내지 50 % 의 CYMEL ® 303 ULF 및 중량 으로 0 % 내지 10 % 의 CYCAT ® 4040 를 포함 할 수 있 다 . 그러므로 , 본 발명 의 범위 는 상기 한 설명 에 의해 제한 되 지 않 으며 , 대신 에 첨부 특허 청구 범위 를 참조 하 여 그 들 의 충분 한 균등 물 범위 와 함께 결정 되 어야 한다 .