또한 , 감광막 패턴 ( 34 ) 의 제거 시 10 mT ∼ 100 mT 의 압력 , 500 Ｗ ∼ 2000 Ｗ 의 소스 파워 를 인가 하 는 데 이때 , 50 Ｗ ∼ 500 Ｗ 의 바텀 파워 를 인가 하 여 제거 할 수 있 다 . 위 와 같이 , 바텀 파워 를 인가 하 여 진행 하 면 감광막 패턴 ( 34 ) 제 거시 사용 되 는 스트립 공정 이 아니 라 가벼운 식각 ( Light Etch ) 개념 으로 공정 이 더 쉽 게 진행 된다 .