한편 , 완충제 로서 작용 하 는 음 이온 종 의 구체 적 인 사용 농도 는 본 발명 < 2 > 에 관한 에칭 제 중 의 농도 로 통상 0 . 0099 중량 %~ 2 . 5 중량 %, 바람직 하 게 는 0 . 019 중량 %~ 0 . 8 중량 %, 보다 바람직 하 게 는 0 . 028 중량 %~ 0 . 3 중량 %, 더 바람직 하 게 는 0 . 028 중량 %~ 0 . 1 중량 % 이 다 . 이 들 완충제 로 작용 하 는 음 이온 종과 상기 이종 금속 접촉 부식 ( Galvanic 부식 ) 을 억제 하 는 작용 으로 기능 하 는 음 이온 종 의 합산 치가 상기 히드록실기 를 가지 는 포스폰산 계 킬레이트제 이외 의 산화력 을 갖 지 않 는 2 종 이상 의 음 이온 종 의 사용 농도 가 된다 . 위 에서 도 잠시 언급 한 바 와 같이 , 이 종금 속 접촉 부식 ( Galvanic 부식 ) 을 억제 하 는 작용 으로 기능 하 는 음 이온 종 의 사용 농도 를 0 . 002 중량 %~ 0 . 2 중량 % 로 하 여 , 완충 작용 으로 기능 하 는 음 이온 종 의 사용 농도 를 가능 한 억제 하 고 , 0 . 028 중량 %~ 0 . 1 중량 % 의 범위 로 하 면 , 완충 작용 을 유지 하 게 하 면서 보다 확실 하 게 이종 금속 접촉 부식 ( Galvanic 부식 ) 을 억제 할 수 가 있 는 것 이 다 .