상술 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따르 면 , 단일 평행 광 을 스테이지 및 거울 면 들 에 입사 함 으로써 , 제 1 거울 면 및 제 2 거울 면 에서 반사 된 평행 광과 , 스테이지 에 직접 입사 된 평행 광 의 간섭 에 의해 간섭무늬 를 형성 할 수 있 다 . 따라서 , 복수 개 의 평행 광 을 각각 시료 에 입사 하 는 것 에 비해 정확 한 간섭무늬 를 형성 할 수 있 고 , 하나 의 평행 광 을 빔 스프 리트 를 이용 하 여 복수 개 로 분할 하 는 데 필요 한 복잡 한 장치 가 필요 없 는 이점 이 있 다 .