기판 들 및 패 터닝 디바이스 들 은 노광 시 매우 정확 하 게 정렬 되 어야 한다 . 이 를 위해 기판 및 / 또는 패 터닝 디바이스 상 에 광학 정렬 마크 들 을 제공 하 는 것 이 알려져 있 다 . 한 가지 알려진 정렬 마크 는 , 상기 마크 가 광학 격자 로서 사용 될 수 있 도록 위치 의 함수 로서 주기 적 으로 변하 는 반사 특성 들 을 갖 는다 . 이러 한 격자 의 주기 는 , 예 를 들 어 위치 를 측정 하 는데 약 0 . 6 미크론 의 파장 을 갖 는 광이 사용 되 는 경우 에 16 미크론 일 수 있 다 . 광학 시스템 은 이 격자 로부터 의 선택 된 회절 차수 들 을 이용 하 여 회절 된 광 의 이미지 를 형성 함 으로써 기판 및 / 또는 패 터닝 디바이스 의 위치 를 측정 한다 . 간단 한 정렬 마크 에서 , 주기 적 인 변동 의 각 주기 는 고 반사 의 일 영역 ( 예 를 들 어 , 금속 ) 및 저 반사 의 일 영역 ( 예 를 들 어 , 산화물 ) 의 일 영역 , 예 를 들 어 각각 의 주기 에 있 어서 금속 의 8 미크론 의 넓 은 영역 및 산화물 의 8 미크론 의 넓 은 영역 에 의해 실현 된다 .