건조 동작 동안 , 제 1 회전 가능 차 폐부 ( 101 ) , 및 결과 적 으로 는 핑거 암 ( 121 ) 과 핑거 - 단부 캡 ( 123 ) 조합 들 , 및 암 / 캡 조합 들 에 기계 적 으로 결합 되 는 기판 ( 119 ) 은 미리 결정 된 속도 로 회전 하 거나 미리 결정 된 속도 ( 일련 의 또는 미리 결정 된 속도 들 ) 로 가속 된다 . 회전 운동 은 , 선행 세정 동작 동안 사용 된 액체 를 기판 ( 119 ) 으로부터 수직 기판 세정 및 건조 챔버 ( 100 ) ( 도 1 참조 ) 로 배출 한다 . 도입 된 가스 ( 예컨대 , N 2 ) 는 가스 분산 메커니즘 들 ( 215 , 217 ) 에 의해 ( 기판 ( 119 ) 상 으로 의 직접 충돌 을 회피 하 도록 ) 재 지향 되 고 , 수직 기판 세정 및 건조 챔버 ( 100 ) 내 의 액체 들 또는 액체 증기 들 을 지향 시키 도록 기능 한다 . 그런 다음 , 액체 들 또는 액체 증기 들 은 도입 된 가스 에 의해 챔버 의 회전 가능 차 폐부 들 ( 101 , 103 A ) 사이 의 개구 들 ( 125 ) 을 통해 지향 된다 . 챔버 로부터 진공 배기 된 후 에 , 배출 된 액체 들 또는 액체 증기 들 ( 301 ) 은 이어서 외측 챔버 ( 200 ) ( 도 2 참조 ) 의 배출 채널 ( 213 ) 로 지향 된다 . 아래 에서 더 상세히 설명 되 는 바 와 같이 , 배출 채널 ( 213 ) 은 환경 ( 예컨대 , 반도체 제조 설비 ) 에서 의 설비 배 출부 와 유체 연통 하 도록 결합 된다 . 추가 로 , 배출 채널 ( 213 ) 은 기판 건조 동작 들 이 시작 되 기 전 에 , 외측 챔버 가 건조 되 거나 실질 적 으로 건조 되 도록 준비 하 는 것 을 보조 한다 .