도 1 에 있 어서 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 1 ) 는 용량 결합 형 평행 평판 플 라즈 마 에칭 장치 로서 구성 되 어 있 으며 , 예 를 들 면 표면 이 알루마이트 처리 ( 양극 산화 처리 ) 된 알루미늄 으로 이루어지 는 원통형 의 챔버 ( 처리 실 ) ( 10 ) 를 구비 한다 . 챔버 ( 10 ) 는 보안 접지 되 어 있 다 . 단 , 이 에 한정 되 는 것 이 아니 라 , 플라 즈 마 처리 장치 ( 1 ) 는 용량 결합 형 평행 평판 플 라즈 마 에칭 장치 에 한정 되 지 않 으며 , 유도 결합 플 라즈 마 ICP ( Inductively Coupled Plasma ) , 마이크로파 플 라즈 마 , 마그네트론 플 라즈 마 등 임의 의 형식 의 플 라즈 마 처리 장치 면 좋 다 .