상기 마스크 막 을 사진 공정 에 의해 패 터닝 함 으로써 상기 기판 ( 100 ) 의 셀 영역 및 페리 영역 에 각각 제 1 및 제 2 마스크 패턴 ( 110 a , 110 b ) 을 형성 한다 . 상기 제 1 마스크 패턴 ( 110 a ) 은 끊어진 제 1 라인 패턴 및 상기 제 1 라인 패턴 과 이웃 하 는 제 2 라인 패턴 을 형성 하 기 위하 여 제공 된다 . 또한 , 상기 제 2 마스크 패턴 은 페리 용 라인 또는 패드 를 형성 하 기 위하 여 제공 된다 .