마스크 라는 용어 는 흑연 질 층 상 에 직접 침착 되 는 마스크 재료 를 지칭 한다 . 마스크 재료 는 이상 적 으로 는 , 방출 된 광 ( 적외선 , 가시 광 , UV - A , UV - B 또는 UV - C 일 수 있 음 ) 을 흡수 하 지 않 아야 한다 . 마스크 는 또한 전기 적 으로 비 - 전도성 이 어야 한다 . 마스크 는 Al 2 O 3 , SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , W 2 O 3 등 을 포함 하 는 하나 이상 의 물질 을 포함 할 수 있 다 . 이어서 , 전자 빔 리소그래피 또는 나노 임프 린트 리소그래피 및 건식 또는 습식 에칭 법 을 사용 하 여 마스크 재료 의 홀 패턴 을 제조 할 수 있 다 .