탄화규소 또는 높 은 열 전도율 을 가진 다른 재료 와 같 은 비금속 내화 재료 로 이루어지 는 중실 플레이트 와 같 은 중실 플레이트 를 사용 하 면 상당 한 이점 이 있 다 . 중실 플레이트 는 온도 의 균일성 을 촉진 시킨다 . 중실 탄화규소 플레이트 는 양호 하 게 제어 된 표면 형상 을 가지 도록 가공 될 수 있 다 . 또한 , 중실 탄화규소 플레이트 는 내구 성 이 있 고 , 웨이퍼 프로세싱 동안 에 플레이트 에 증착 된 재료 를 제거 하 기 위해 습식 에칭 과 같 은 세정 프로세스 하 에 놓일 수 있 다 . 허브 는 임의 의 그러 한 세정 프로세스 전 에 플레이트 로부터 분리 될 수 있 다 . 통상 적 으로 , 상기 장치 는 여러 개 의 웨이퍼 캐리어 를 포함 하 므로 , 다른 웨이퍼 캐리어 들 이 세정 되 는 동안 에 웨이퍼 를 처리 ( treat ) 하 기 위해 몇 개 의 웨이퍼 캐리어 가 이용 될 수 있 다 . 프로세스 상태 에 따라 , 세정 프로세스 는 , 웨이퍼 의 배치 ( batch ) 를 처리 하 기 위해 웨이퍼 캐리어 를 사용 하 였을 때 마다 수행 될 수 있 거나 , 덜 자주 수행 될 수 있 다 . 또한 , 세정 후 에 , 플레이트 는 새로운 웨이퍼 캐리어 를 공급 하 기 위해 동일 한 허브 또는 다른 유사 한 허브 와 재 조립 될 수 있 다 .