보상 소스 영역 ( S 3 ) 및 보상 드레 인 영역 ( D 3 ) , 제 1 초기 화 소스 영역 ( S 4 ) 및 제 1 초기 화 드레 인 영역 ( D 4 ) 은 산화물 반도체 의 캐리어 농도 를 조절 하 여 도전 성 화 하 여 형성 될 수 있 다 . 예컨대 , 보상 소스 영역 ( S 3 ) 및 보상 드레 인 영역 ( D 3 ) , 제 1 초기 화 소스 영역 ( S 4 ) 및 제 1 초기 화 드레 인 영역 ( D 4 ) 은 산화물 반도체 에 수소 ( H ) 계열 가스 , 불소 ( F ) 계열 의 가스 , 또는 이 들 의 조합 을 이용한 플라 즈 마 처리 를 통해서 캐리어 농도 를 증가 시킴 으로서 형성 될 수 있 다 .