가스 밸브 어셈블리 ( 20 ) 는 원자 층 증착 장치 와 같이 다수 의 가스 를 챔버 내부 로 순차 적 으로 분사 해야 하 는 기판 처리 장치 에서 가스 의 주입 순서 를 간편 하 게 제어 하 기 위해 사용 되 는 것 으로서 , 챔버 리드 ( 11 a ) 에 고정 되 는 하우징 ( 22 ) 과 상기 하우징 ( 22 ) 의 내부 를 관통 하 여 그 단부 가 챔버 ( 11 ) 의 내부 에 위치 하 는 회전축 ( 21 ) 을 포함 한다 .