도포 및 건조 공정 , 또는 라미 네이트 공정 에 의해 , 회로 기판 위 에 감광성 필름 ( 감광성 수지 조성물 층 ) 이 설치 된 후 , 이어서 , 마스크 패턴 을 통하 여 , 감광성 수지 조성물 층 의 소정 부분 에 활성 광선 을 조사 하 고 , 조사 부 의 감광성 수지 조성물 층 을 광경 화 시키 는 노광 공정 을 행한다 . 활성 광선 으로서 는 , 예 를 들 면 , 자외선 , 가시광선 , 전자선 , X 선 등 을 들 수 있 고 , 특히 자외선 이 바람직 하 다 . 자외선 의 조사량 은 대체로 10 mJ / cm 2 내지 1000 mJ / cm 2 이 다 . 노광 방법 에 는 마스크 패턴 을 프린트 배 선판 에 밀착 시켜 행하 는 접촉 노광 법 과 , 밀착 시키 지 않 고 평행 광선 을 사용 하 여 노광 하 는 비 접촉 노광 법 이 있 지만 , 어느 쪽 을 사용 하 여도 상관없 다 . 또한 , 감광성 수지 조성물 층 위 에 지 지체 가 존재 하 고 있 는 경우 에 는 , 지 지체 위 에서 노광 하 여도 좋 고 , 지 지체 를 박리 후 에 노광 하 여도 좋 다 .