통상 적 인 플 라즈 마 시스템 은 세 척 , 식각 , 증착 및 구조 의 성장 을 포함 하 는 기판 처리 어플리케이션 을 위해 기판 에 걸쳐서 플 라즈 마 를 발생 시키 도록 DC , AC , 또는 RF 전압 을 갖 는 평행 한 전극 을 사용 한다 . 전극 중 하나 , 통상 적 으로 하부 의 전극 은 플 라즈 마 처리 중 에 기판 홀더 ( substrate holder ) 로서 작용 한다 . 처리 중 에 필요 한 가스 의 조합 물 ( 가스 혼합물 ) 은 통상 적 으로 상부 의 전극 을 통해 공급 된다 . 가스 유동 을 균일 하 게 하 고 반 응종 의 플 라즈 마 체류 시간 을 줄이 기 위해 , 샤워 헤드 구조물 이 가스 혼합물 을 분배 하 는 데 사용 된다 . 이 는 가스 유동 의 균일성 을 위해 샤워 헤드 구조물 을 형성 하 는 상부 전극 상 에 개구 가 존재 함 을 의미 한다 .