셀 어레이 경계 영역 ( 620 ) 내 의 광차 단막 패턴 ( 630 ) 내 에 는 스 캐 터 스페이스 ( scatter space ) ( 650 ) 들 이 배치 된다 . 스 캐 터 스페이스 ( 650 ) 들 도 장축 과 단축 을 갖 는 필러 ( pillar ) 형태 를 가지 며 , 장축 은 광 투과 영역 ( 640 ) 의 장축 방향 과 수직 인 방향 , 즉 X 방향 으로 배치 되 고 , 단축 은 광 투과 영역 ( 640 ) 의 장축 방향 과 나란 한 방향 , 즉 Y 방향 으로 배치 된다 . 스 캐 터 스페이스 ( 650 ) 의 피치 는 광 투과 영역 ( 640 ) 의 절반 피치 의 대략 55 - 65 % 가 되 도록 한다 . 또한 하나 의 광 투과 영역 ( 640 ) 에 는 3 개 의 스 캐 터 스페이스 ( 650 ) 들 이 한 단위 로 배치 된다 . 이 와 같 은 스 캐 터 스페이스 ( 650 ) 는 , 상기 포토 마스크 를 이용 한 노광 시 셀 어레이 경계 영역 ( 620 ) 에 인접 한 영역 에서 발생 하 는 광 근접 효과 의 발생 을 억제 시킨다 .