본 실시 예 에서 는 가공 빔 ( LA ) 이 레이저 어닐링 공정 을 수행 하 기 전 에 가공 빔 ( LA ) 의 균 일도 가 빔 프로파일러 ( beam profiler , 164 ) 를 통해 미리 측정 될 수 있 다 . 빔 프로파일러 ( 164 ) 는 스테이지 ( 172 ) 의 일 측 에 마련 되 어 스테이지 ( 172 ) 와 함께 이동 할 수 있 도록 마련 되 어 있 다 . 도 1 에 는 빔 프로파일러 ( 164 ) 가 스테이지 ( 172 ) 의 좌측 에 마련 된 경우 가 예시 적 으로 도시 되 어 있 다 . 이러 한 빔 프로파일러 ( 164 ) 는 레이저 어닐링 공정 을 수행 하 기 전 에 가공 대상물 ( 171 ) 에 최종 적 으로 조사 되 는 가공 빔 ( LA ) 의 균 일도 를 측정 하 는 역할 을 할 수 있 다 . 빔 프로파일러 ( 164 ) 는 예 를 들 면 CCD ( Charge Coupled Device ) 를 포함 할 수 있 지만 , 이 에 한정 되 지 는 않 는다 .