도 5 는 본 발명 의 방법 의 한 실시 양태 에 따라 상처 부위 에서 도포 된 산화질소 수준 에서 의 변화 의 한 예 를 보여 주 는 시간 경과 에 따른 산화질소 ( NO ) 의 그래프 이 다 . 이 그래프 는 상처 소독 단계 동안 산화질소 수준 이 비교 적 높 고 , 조직 재생 개시 동안 비교 적 더 낮 으며 , 치유 가 종결 되 는 동안 가장 낮 음 을 보여 주 는데 ; 이 는 다양 한 세포 유형 에 따라 일시 적 으로 변화 된다 . 따라서 , 본 발명 은 치료 기간 에 따른 기체 신호 전달 물질 의 분배 및 투여 의 변화 가 그 치료 기간 에 걸친 기체 신호 전달 물질 을 보다 효율 적 으로 사용 하 게 하 도록 한다 . 이 는 전해 셀로 의 전류 인가 의 양 , 시점 및 지속 시간 에 대한 마이크로프로세서 제어 에 의해 이루어질 수 있 다 . 따라서 , 본 발명 은 배터리 또는 외부 전력 공급원 에 대해 제어 할 수 있 는 임의 적 인 제어 마이크로프로세서 를 포함 할 수 있 다 . 마이크로프로세서 는 클럭 ( clock ) 기능 뿐 만 아니 라 전압 제어기 를 포함 하 여 전해 셀로 의 전류 인가 를 제어 하 도록 프로그래밍 될 수 있 다 . 도 5 는 조절 된 전달 을 제공 하 기 위해 마이크로프로세서 제어기 를 통해 발생 될 수 있 는 더 낮 은 기체 신호 전달 물질 ( 산화질소 ) 발생 수준 의 몇 개 의 영역 ( 예컨대 , 피크 1 등 ) 및 영역 2 및 3 을 도시 한다 . 산화질소 발생 프로파일 은 2 회 이상 의 사이클 을 통해 및 / 또는 2 개 이상 의 부위 에서 변화 되 거나 반복 될 수 있 다 .