본 발명 의 화학식 1 로 표시 되 는 화합물 또는 이 의 약학 적 으로 허용 가능 한 염 을 함유 하 는 피부 미용 개선 용 조성물 을 제조 함 에 있 어서 , 통상 적 으로 함유 되 는 피부 미용 개선 용 조성물 에 본 발명 의 화학식 1 로 표시 되 는 화합물 또는 이 의 약학 적 으로 허용 가능 한 염이 3 내지 30 중량 부 , 바람직 하 게 는 5 또는 20 중량 부 로 첨가 할 수 있 다 .