이러 한 특징 을 갖 는 노광 마스크 ( 691 ) 를 이용 하 여 노광 을 실시 하 면 도 6 b 에 도시 한 바 와 같이 , 상기 반투 과 영역 ( TA ) 에서 회절 노광 또는 하프톤 노광 이 이루어지 게 되 며 , 따라서 이러 한 노광 을 실시 한 후 , 현상 공정 을 진행 하 면 상기 반투 과 영역 ( HTA ) 에 대응 되 는 부분 즉 표시 영역 ( AA ) 외측 으로 비 표시 영역 ( NA ) 의 상기 기판 ( 621 ) 의 테두리 에 대해서 는 소정 폭 을 갖 는 제 1 두께 ( t 1 ) 의 제 1 포토레지스트 패턴 ( 681 a ) 이 형성 되 며 , 상기 표시 영역 ( AA ) 에 대응 해서 는 격자 구조 로서 상기 제 1 두께 ( t 1 ) 보다 두꺼운 제 2 두께 ( t 2 ) 의 제 2 포토레지스트 패턴 ( 681 b ) 이 형성 되 게 된다 .