특히 , 본 발명 에 따르 면 반복 적 인 증착 - CMP - 식각 의 수행 으로 식각 이 가능 한 한 10 : 1 보다 높 은 세로 / 가로 비 ( aspect ratio ) 의 매우 작 은 갭 을 충전 할 수 있 다 . 또한 , 본 발명 은 식각 되 어야 할 재질 ( 옥사이드 , 메탈 및 폴리 등 ) 에 따라 다양 한 종류 의 식각 챔버 에서 사용 될 수 있 다 .