도 1 에 더 도시 된 바 와 같이 , EUV 광원 ( 10 ) 은 예 를 들 면 액 적 소스 ( 92 ) 로부터 타 겟 재료 의 배출 포인트 를 변경 하 고 및 / 또는 액 적 형성 타이밍 을 변경 시키 기 위해 , 컨트롤러 ( 60 ) 로부터 의 신호 ( 일부 실시 예 에서 상술 한 액적 오 차 또는 그 로부터 도출 된 일부 양 을 포함 하 는 ) 에 응답 하 여 , 원 하 는 조사 영역 에 도달 한 액적 에서 의 오차 를 보정 하 고 및 / 또는 펄 싱 된 레이저 시스템 ( 12 ) 으로 액적 의 생 성 을 동조 시키 는 동작 을 수행 할 수 있 는 , 액 적 제어 시스템 ( 90 ) 을 포함 한다 .