실시 형태 는 , 멀티 빔 묘화 방법 및 멀티 빔 묘화 장치 에 관한 것 이 다 . 실시 형태 의 멀티 빔 묘화 방법 은 , 소정 방향 으로 진행 하 는 스테이지 에 재치 된 기판 상 에 정의 한 화소 마다 멀티 빔 의 각 빔 을 조사 하 여 패턴 을 형성 하 는 것 이 다 . 이 멀티 빔 묘화 방법 은 , 적어도 상기 소정 방향 으로 상기 멀티 빔 의 어레이 를 분할 한 복수 의 서브 어 레이 마다 의 각 빔 의 위치 이탈 량 으로부터 서브 어 레이 마다 의 패턴 의 위치 보정 량 을 취득 하 고 , 위치 보정 량 에 기초 하 여 상기 서브 어레이 마다 에 묘화 되 는 패턴 의 위치 를 시프트 하 기 위한 , 각 화소 에 조사 되 는 각 빔 의 조사량 을 산출 하 고 , 산출 된 상기 조사량 으로 제어 하 여 , 둘 이상 의 상기 서브 어레이 의 각각 적어도 일부 를 이용 하 여 다중 묘화 를 행한다 .