질소 분위기 에 의해 순수 에 포함 되 는 산소 에 의하 여 , Low - k 재료 표면 에 불 필요 한 워터 마크 인 실리콘 산화물 을 형성 하 지 않 아도 된다 . 또한 , 압력 을 높임 으로써 물 의 접촉각 이 증대 하 여 , 외관상 발수성 이 아닌 환경 으로 할 수 있 다 . 이 와 같 은 환경 을 형성 함 으로써 , 스핀 건조 를 행하 여도 워터 마크 의 형성 을 방지 하 는 것 이 가능 하 게 된다 .