여기 에서 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 흐름 의 흐트러짐 의 원인 이 마스크 스테이지 ( 103 ) 의 이 동등 일 경우 에 는 , 기체 ( 205 ) 의 흐름 의 흐트러짐 이 발생 하 는 타이밍 이나 양 을 파악 하 는 것 이 가능 하 다 . 따라서 , 기체 ( 205 ) 의 흐름 의 흐트러짐 이 발생 하 는 타이밍 이나 양 에 따라 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 변화 시키 므로 , 기체 ( 205 ) 의 상황 에 대하 여 항상 최적 의 유량 으로 운용 하 는 것 이 가능 해진다 .