양극 층 ( 11 ) 을 형성 하 기 위한 재료 는 홀 을 용이 하 게 주입 하 기 위해 더 큰 일함수 를 갖 는 것 이 바람직 하 다 . 크롬 은 4 . 5 eV 의 일함수 를 가지 며 , 니켈 은 5 . 15 eV 의 일함수 를 가지 고 , 금 은 5 . 1 eV 의 일함수 를 가지 고 , 팔라듐 은 5 . 55 eV 의 일함수 를 가지 며 , ITO 는 4 . 8 eV 의 일함수 를 가지 며 , 구리 는 4 . 65 eV 의 일함수 를 갖 는다 . 양극 층 ( 11 ) 의 정공 주입 층 ( 12 ) 과 접촉 하 는 표면 의 일함수 는 4 eV 이상 인 것 이 바람직 하 다 .