본 발명 에 따른 피 산화제 박막 시편 은 먼저 상기 박막 을 r . f . 마그네 트 런 스퍼터링 법 을 이용 하 여 1 μ m 의 두께 로 제작 하 고 , 제작 한 박막 을 2 . 5 cm × 2 . 5 cm × 0 . 05 cm 의 P 형 Si ( 100 ) 조각 위 에 증착 하 여 얻 을 수 있 다 . 이때 , 상기 박막 이 발생 된 ROS 에 의해 산화 되 는 유일 한 물질 이 되 기 위해서 는 , 박막 표면 에 존재 하 는 이미 형성 되 어 있 는 자연 산화 막 이 완전히 제거 되 어야 한다 . 상기 자연 산화 막 의 제거 는 묽 은 HF 용액 ( 탈 이 온수 : HF = 50 : 1 , v / v ) 을 이용 한 식각 과정 으로 이루어지 는데 , 상기 HF 용액 에 5 분 간 담구 어 표면 의 자연 산화 막 을 제거 할 수 있 다 .