반도체 제조 공정 등 에서 배출 되 는 유해 성 가스 를 정화 처리 하 는 방법 에 는 버 닝 ( burning ) 방식 과 습식 ( wetting ) 방식 이 있 다 . 상기 버 닝 방식 은 주로 수소 기 등 을 함유 한 발화 성 가스 를 고온 의 연소실 에서 분해 , 반응 또는 연소 시켜 배기가스 를 처리 하 는 방식 이 고 , 습식 방식 은 주로 수용성 가스 를 수조 에 저장 된 물 을 통과 시키 는 동안 물 에 용해 하 여 배기가스 를 처리 하 는 방식 이 다 .