리프트 핀 ( 30 ) 상 으로 의 웨이퍼 ( W ) 의 전달 후 , 웨이퍼 반송 장치 ( M ) 가 처리 용기 ( 10 ) 로부터 발출 되 고 , 게이트 밸브 ( 12 ) 가 폐쇄 된다 . 그 와 함께 , 핀 이동 기구 ( 110 ) 에 의한 리프트 핀 ( 30 ) 의 하강 , 구동 기구 ( 24 ) 에 의한 적 재 대 ( 20 ) 의 상승 이 행하 여진다 . 핀 이동 기구 ( 110 ) 에 의한 리프트 핀 ( 30 ) 의 하강 에서 는 , 구체 적 으로 는 , 웨이퍼 ( W ) 가 전달 된 제 2 부재 ( 32 ) 를 지지 한 제 1 부재 ( 31 ) 가 , 핀 이동 기구 ( 110 ) 에 의해 적재 대 ( 20 ) 에 대하 여 하강 한다 . 상술 한 리프트 핀 ( 30 ) 의 하강 , 적재 대 ( 20 ) 의 상승 에 의해 , 핀 이동 기구 ( 110 ) 에 의한 리프트 핀 ( 30 ) 의 지지 가 해제 되 고 리프트 핀 ( 30 ) 이 다시 핀 지지 부재 ( 100 ) 에 의해 현수 지지 된다 . 그 와 함께 , 리프트 핀 ( 30 ) 의 상단 부가 적 재 대 ( 20 ) 의 관통 구멍 ( 20 a ) 에 수납 되 어 상면 으로부터 돌출 되 어 있 지 않 은 상태 가 되 고 , 리프트 핀 ( 30 ) 의 제 2 부재 ( 32 ) 로부터 적재 대 ( 20 ) 상 으로 웨이퍼 ( W ) 가 전달 된다 . 이어서 , 처리 용기 ( 10 ) 내 가 소정 의 압력 으로 조정 되 고 , 구동 기구 ( 24 ) 에 의해 적재 대 ( 20 ) 가 처리 위치 로 이동 되 어 , 처리 공간 ( S ) 이 형성 된다 .