또 , 이상 에 기재 된 실시 형태 에 의하 면 , 기판 처리 장치 는 , 처 리조 ( 14 ) 내 에 기포 를 공급 하 는 기포 공급 부 ( 18 ) 를 구비 한다 . 이 와 같 은 구성 에 의하 면 , 처 리조 ( 14 ) 내 의 파티클 을 제거 할 수 있 다 . 또한 , 기포 공급 부 ( 18 ) 에 의해 기포 ( 18 A ) 를 처 리조 ( 14 ) 내 에 공급 하 는 경우 에 는 , 처 리조 ( 14 ) 에 있 어서 의 처리 액 ( 30 ) 의 액면 의 변동 은 보다 현저 해진다 . 그러 한 경우 에 , 예 를 들 어 , 처 리조 ( 14 ) 에 있 어서 처리 액 ( 30 ) 의 압력 을 측정 하 면 , 처리 액 ( 30 ) 의 액면 의 변동 의 영향 에 의해 , 측정 정밀도 가 낮 아 진다 . 한편 으로 , 상기 의 실시 형태 에 있 어서 의 경우 와 같이 , 측정 조 ( 24 ) 에 있 어서 의 처리 액 ( 30 ) 의 압력 을 압력 측 정부 ( 26 ) 에 의해 측정 하 면 , 처 리조 ( 14 ) 에 있 어서 의 처리 액 ( 30 ) 의 액면 , 나아가 서 는 , 외조 ( 16 ) 에 있 어서 의 처리 액 ( 30 ) 의 액면 이 크 게 변동 되 는 경우 여도 , 높 은 정밀도 로 처리 액 ( 30 ) 의 압력 을 측정 할 수 있 다 .