도 6 에 도시 된 바 와 같이 , 반도체 처리 장치 ( 10 ) 에 는 , 가스 를 도입 하 여 감압 상태 를 해제 하 는 디 퓨저 ( 50 ) 가 설치 되 어 있 다 . 이 와 같이 , 상기 가스 도 입구 에 , 디 퓨저 ( 50 ) 가 설치 되 어 있 기 때문 에 , 개폐 밸브 ( 40 ) 를 개방 한 순간 의 압력 변동 을 완화 할 수 있 어 , 장치 내 의 파티클 이 날아오르 는 것 을 억제 할 수 있 다 .