이 에 따라 도 5 를 참조 하 면 , 상기 투명 기판 ( 10 ) 상 에 는 제 1 포토레지스트 패 턴 ( PR 1 ) 이 형성 된다 . 다음 으로 , 제 1 포토레지스트 패턴 ( PR 1 ) 을 식각 마스크 로 이용 한 식각 공정 으로 상기 차광 물질 층 ( SL ) 을 패 터닝 하 여 상기 제 1 포토레지스트 패턴 ( PR 1 ) 과 동일 한 형상 의 차 광층 ( 20 ) 을 형성 한다 .