노광 된 포토레지스트 층 ( 50 ) 을 현상액 에 노출 시키 면 도 10 에 도시 한 바 와 같이 제 3 방향 ( DR 3 ) 의 두께 가 서로 다른 부분 ( 51 a , 51 b ) 을 포함 하 는 마스크 패턴 ( 51 ) 이 형성 된다 . 마스크 패턴 ( 51 ) 의 두꺼운 부분 ( 51 a ) 은 광 마스크 ( 60 ) 의 차 광부 ( 60 a ) 에 대응 하 여 형성 되 고 , 마스크 패턴 ( 51 ) 의 얇 은 부분 ( 51 b ) 은 광 마스크 ( 60 ) 의 차 광부 ( 60 b ) 에 대응 하 여 형성 된다 .