단색광 을 사용 하 는 포토 마스크 노광 장치 는 현재 약 365 nm 의 파장 을 사용 하 는 것 이 일반 적 이 며 최근 , 257 nm 및 그 이하 의 파장 을 사용 하 는 노광 장치 도 개발 되 어 있 다 . 상기 노광 파장 에서 반사 율 이 5 % 이하 로 적층 되 면 낮 은 반사 율 에 의한 이점 이 거의 없 으며 노광 파장 에서 반사 율 이 30 % 이상 이 되 면 상기 스탠딩 웨이브 현상 이 커지 게 되 어 포토 마스크 CD 제어 에 문제 가 발생 한다 .