본 발명 의 일 측면 에 따른 기판 처리 장치 는 내부 공간 을 포함 하 는 챔버 부재 ; 상기 챔버 부재 의 내부 공간 에 위치 되 고 , 하나 이상 의 관통 홀 을 포함 하 며 , 열 을 발생 시켜서 기판 을 가열 하 는 가열 부재 ; 및 상기 관통 홀 을 관통 하 여 상기 기판 을 지지 하 며 , 상기 가열 부재 에 대한 상기 기판 의 높이 가 변경 될 수 있 도록 승강 되 는 지지 유닛 ; 포함 한다 .