상기 e 1 ) 단계 에서 반사 방지 막 위 에 도포 하 는 레지 스트로 는 옵틱 ( Optic ) 포토레지스트 인 THMR - iP 3500 , THMR - iP 3600 , DPR - i 7000 및 전자 빔 레지스 트 ( E - Beam resist ) 인 EBR - 9 , PBS , ZEP - 7000 , 포지티브 화학 증폭 형 레지스 트인 FEP - 171 , 네 가티 브 화학 증폭 형 레지스 트인 FEN - 270 , NEB - 22 등 의 알칼리 용해 가능 한 레진 과 PAG ( Photo Acid Generator ) 로 구성 된 성분 의 레지스 트 등 에서 적어도 하나 이상 을 선택 하 여 사용 한다 .