본 개시 의 일 측면 에 따른 기판 열처리 장치 는 , 피막 이 형성 된 기판 을 지지 하 고 가열 하 는 가열 부 와 , 상기 가 열부 상 의 처리 공간 과 외부 공간 을 이격 하 는 챔버 와 , 상기 기판 의 둘레 가장자리 보다 밖 에서 상기 처리 공간 내 로 개구 하 여 , 상기 처리 공간 내 의 가스 를 배출 하 는 외주 배기 부 와 , 상기 가 열부 에 의한 상기 기판 의 가열 시간 이 경과 함 에 따라 상기 외주 배기 부 에 의한 상기 가스 의 배출 량 을 늘리 는 배기 제 어부 를 구비 한다 .