이러 한 반도체 웨이퍼 인쇄 장치 용 스탬 핑장 치 는 , 노광 작업 에 의해 마스크 의 회로 패턴 을 웨이퍼 에 형성 시키 는 것 이 아니 라 스탬 핑 방식 에 의해 마스크 의 패턴 을 웨이퍼 에 직접 인쇄 한다 . 즉 , 회로 패턴 이 형성 된 마스크 에 잉크 를 도포 하 고 이 마스크 를 웨이퍼 에 직접 스 탬핑 한다 . 따라서 종래 의 노광 작업 에 필요 한 감광액 도포 공정 , 노광 공정 , 현상 공정 , 식각 공정 등 의 여러 공정 들 이 삭제 된다 .