이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 가 비아 특징 부 ( 214 ) 상 에 더 형성 되 고 , 콘 택 특징 부 ( 210 ) 및 비아 특징 부 ( 214 ) 를 통해 S / D 특징 부 ( 114 ) 에 전기 적 으로 접속 된다 . 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 단면도 로 도 3 에 예시 된 바 와 같이 상부 표면 및 하부 표면 에 상이 한 폭 을 갖 는 기하 형상 을 가질 수 있 다 . 일부 실시 예 에서 , 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 상부 폭 ( Wt ) 및 상부 폭 보다 작 은 하부 폭 ( Wb ) 을 포함 한다 . 예 를 들 어 , 비 ( Wt / Wb ) 는 1 . 1 보다 더 크 다 . 일부 예 에서 , 비 ( Wt / Wb ) 는 1 . 1 과 1 . 3 사이 범위 이 다 . 이 예 에 더 하 여 , Wt 는 5 nm 와 150 nm 사이 범위 이 다 . 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 10 nm 내지 60 nm 사이 범위 의 두께 를 가질 수 있 다 . 본 실시 예 에서 , 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 BEOL 프로세스 동안 형성 되 는 최하 금속 층 ( M 0 으로 도 지칭 됨 ) 의 금속 라인 이 다 . 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 , 조성 및 형성 에 관련 하 여 ILD 층 ( 218 ) 과 유사 한 , 또 다른 ILD 층 ( 220 ) 에 형성 된다 . 일부 실시 예 에서 , ILD 층 ( 220 ) 을 퇴적 하 기 전 에 에칭 정지 층 ( ESL ; etch - stop layer ) ( 222 ) 이 퇴적 될 수 있 다 . ESL ( 222 ) 은 일부 예 에 따라 조성 및 형성 에 관련 하 여 CESL ( 216 ) 과 유사 하 다 . 이 층 전도성 특징 부 ( 126 ) 는 ILD 층 ( 220 ) 의 트렌치 에 형성 되 고 이 층 구조 를 갖 는다 .