또한 , 기판 처리 장치 는 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 으로부터 액체 를 제거 하 여 기판 을 건조 시키 는 건 조 유닛 과 , 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 이 물 에 접촉 되 지 않 는 상태 를 유지 하 는 비 접촉 상태 유지 유닛 을 더 포함 하 고 있 어도 좋 다 . 상기 제어 장치 는 상기 소수 화제 공급 공정 이 행하 여진 후 에 , 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 으로부터 상기 건조 유닛 에 의해 액체 를 제거 시켜 기판 을 건조 시키 는 건 조공 정과 , 상기 비 접촉 상태 유지 유닛 에 의해 상기 소수 화제 공급 공정 이 종료 되 고 나 서 상기 건조 공정 이 종료 될 때 까지 기판 이 물 에 접촉 되 지 않 는 상태 를 유지 시키 는 비 접촉 상태 유지 공정 을 더 실행 하 여도 좋 다 . 이 경우 , 전술 한 효과 와 같 은 효과 를 발휘 할 수 있 다 .