잔류 된 이온 성 분자 들 은 에어 홀 을 통해 유입 된 공기 와 상호 결합 하 여 펠리 클 내부 예컨대 , 기판 또는 패턴 부근 에서 성장 성 헤이즈 ( haze ) 결함 을 발생 시키 는 요인 으로 작용 하 고 있 다 . 이러 한 헤이즈 결함 은 광 을 차단 하 는 것 으로 , 펠리 클 을 부착 하 더라도 반도체 기판 에 정교 한 레지스 트 패턴 을 형성 할 수 없 게 된다 . 따라서 , 펠리 클 내부 에서 포토 마스크 패턴 을 보호 하 는 방법 이 요구 되 고 있 다 .