상기 시효 처리 동안 저온 의 세 컨 더리 ( secondary ) 알파 상 은 과포 화 된 ( super - saturated ) 마르텐 사이트 기지 또는 고온 베타 상 으로부터 평형 상분 율 에 따라 석출 된다 . 상기 시효 처리 시 생성 되 는 세 컨 더리 알 파상 은 용체 화 처리 시 형성 되 는 초석 알파 상 과 그 형상 이 상이 하 다 . 용체 화 처리 는 시효 처리 보다 높 은 온도 에서 수행 되 므로 용체 화 처리 시 확산 속도 는 시효 처리 시 확산 속도 보다 더 빠르 다 . 따라서 용체 화 처리 시 형성 되 는 초석 알파 상 은 상대 적 으로 저온 의 시효 처리 시 형성 되 는 세 컨 더리 알파 상 보다 성장 속도 가 더 빠르 므로 크기 가 더 큰 형상 적 특징 을 가지 게 된다 .