본 발명 의 과제 는 , 미세 한 레지스 트 패턴 의 형성 이 가능 한 고해 상성 을 나타내 며 , 또한 , 경화 된 감광성 수지 조성물 의 레지스 트 박리 액 에 대한 용해 성 이 우수 한 감광성 수지 조성물 을 제공 하 는 것 이 다 . 또 , 미세 한 가공 이 가능 하 면서 , 레지스 트 박리 에 의한 불량 이 잘 발생 되 지 않 는 에칭 방법 및 도금 방법 을 제공 하 는 것 이 다 .