" 유기성 반사 방지 코팅 "" ARC 291 ""( 상표명 ; Nissan Chemical 제품 ) 을 실리콘 웨이퍼 상 에 가해졌 고 ", 이어서 , 205 ℃ 에서 60 초 동안 베 이킹 을 행하 여 78 nm 의 반사 방지 막 이 형성 되 었 다 . 이어서 , 상기 제조 된 포지티브 레지스 트 조성물 은 상기 반사 방지 막 에 가해졌 고 , " 이어서 120 ℃ 에서 60 초 동안 베 이킹 을 행하 여 250 nm 의 레지스 트 막 이 제조 되 었 다 . 이 로써 얻 어 진 상기 웨이퍼 는 ArF 엑 시머 레이저 스캐너 ( "" PAS 5500 / 1100 """, 상표명 ; ASML 제품 , NA : 0 . 75 , σ 0 / σ 1 = 0 . 85 / 0 . 55 ) 로 패턴 노광 이 행해졌 다 . 120 ℃ 에서 60 초 동안 가열 한 후 , 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 수용액 ( 2 . 38 중량 %) 로 30 초 동안 의 현상 , 순수 한 물 로 의 세정 , 및 스핀 건조 가 성공 적 으로 행해져 레지스 트 패턴 이 얻 어 졌 다 .