다음 으로 , 홀 ( 67 ) 내부 의 접하 고 있 는 유전체 층 ( 64 ) 을 습식 에칭 한다 . 이때 사용 한 에칭 액 에 있 어서 , 유전체 층 ( 64 ) 은 가용성 이 지만 , 전극 층 WL 은 불용성 이 다 . 따라서 , 도 15 a 에 도시 된 바 와 같이 , 유전체 층 ( 64 ) 만 이 홀 ( 67 ) 의 중심축 으로부터 이격 되 어 후퇴 된다 . 즉 , 홀 ( 67 ) 에 접하 는 유전체 층 ( 64 ) 의 노출면 은 , 홀 ( 67 ) 에 접하 는 전극 층 WL 의 노출면 에 대해 홀 ( 67 ) 의 중심축 으로부터 더 이격 한 제 1 위치 로 후퇴 된다 ( 도 15 a 에 나타냄 ) . 이러 한 에칭 은 등방성 이 면 되 고 , 습식 에칭 이외 에 도 , CDE ( 화학 적 건식 에칭 ) 도 가능 하 다는 점 에 주목 한다 .