상술 한 바 와 같 은 본 발명 의 열전달 가스 공급 구조 를 갖 는 반도체 제조 용 히팅 척 에 의하 면 , 기판 가열 이 필요 한 반도체 제조 공정 에서 기판 을 신속히 균일 하 게 가열 하 는 것 과 공정 의 진행 과정 에서 도 기판 이 열 적 균일성 을 유지 하 면서 안 정 되게 기판 온도 가 유지 되 어 기판 처리 공정 의 효율 을 높일 수 있 다 .