리 소그라 피용 하층 막 에 뛰어난 광학 특성 및 에칭 내성 을 부여 하 는 리 소그라 피용 하층 막 형성 조성물 및 이 조성물 로부터 형성 된 굴절 률 ( n ) 이 높 고 , 소 쇠 계수 ( k ) 가 낮 으며 , 투명 하 면서 도 에칭 내성 이 높 고 , 아울러 승화 성 성분 이 매우 적 은 하층 막 및 이 하층 막 을 이용 한 패턴 형성 방법 을 제공 한다 . 그러 한 하 층막 형성 조성물 은 적어도 나프탈렌 및 / 또는 알킬 나프탈렌 과 포름알데히드 를 반응 시켜 얻 어 지 는 특정 한 단위 를 포함 하 는 나프탈렌 포름알데히드 계 중합체 및 유기 용매 를 포함 하 는 것 이 다 .