또 , 본 실시 형태 에서 는 마스크 층 제거 공정 에 있 어서 , 웨이퍼 ( W ) 로부터 늘어져 떨어지 는 제 1 액 , 제 2 액 및 용해 된 수지 를 , 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 의 간극 을 개재 하 여 , 마스크 층 제거 용 보 틀 ( 42 ) 에 모아 회수 하 고 있 다 . 이 때문 에 , 제 1 액 , 제 2 액 및 용해 된 수지 를 , 웨이퍼 ( W ) 의 주위 로 비산 시키 는 것 을 억제 하 면서 , 용이 하 게 회수 할 수 있 다 .