본 발명 의 바이너리 포토 마스크 블랭크 는 노 광광 을 충분히 차광 할 수 있 는 , 보다 박막 의 차광막 을 구비 하 고 , 기판 양면 의 반사 율 을 실용 상 문제 가 되 지 않 을 정도 로 충분히 감소 시킴 으로써 , 고스트 패턴 이 억제 된다 . 또한 , 본 발명 의 바이너리 포토 마스크 블랭크 에 대하 여 , 크롬 계 재료 로 형성 된 하드 마스크 를 이용 한 마스크 가공 을 행한 경우 , 매우 고정 밀도 의 포토 마스크 를 얻 을 수 있 다 .