측정 장치 에서 의 측정 결과 인 처리 분포 정보 는 , 측정 장치 로부터 처리 장치 ( 100 ) 의 상위 장치 가 되 는 호스트 장치 ( 270 ) 에 송신 된다 . 그 후 , 처리 분포 정보 는 , 처리 장치 ( 100 ) 가 플라스마 처리 공정 ( S 140 ) 을 개시 할 때 까지 , 호스트 장치 ( 270 ) 로부터 수 신부 ( 263 ) 를 거쳐서 컨트롤러 ( 221 ) 에 송신 된다 . 즉 , 컨트롤러 ( 221 ) 는 , 플라스마 처리 공정 ( S 140 ) 의 개시 에 앞서 , 처리 대상 이 되 는 웨이퍼 ( 200 ) 에 관한 처리 분포 정보 를 , 수 신부 ( 263 ) 를 통해서 얻 는다 .