18 F - FDG 를 제조 하 는 대표 적 인 방법 중 하마처 법 은 비교 적 높 은 수율 을 달성 할 수 있 다는 특징 을 갖 는 반면 , 제조 수율 이 크 게 차이 나 는 경우 가 있 다는 문제 를 갖 고 있 다 . 이 편차 의 주 된 원인 은 18 F 표식 반응 에 있 어서 의 수율 , 즉 18 F - TAFDG 의 제조 수율 ( 이하 , 방사성 불소화 수율 로 함 ) 이 차이 나 는 것 이 다 . 따라서 , 18 F - FDG 를 상업 적 으로 안정 되게 공급 하 기 위해서 는 고 ( 高 ) 수율 로 안정 되게 제조 할 수 있 는 방법 내지 는 조건 을 이용 할 필요 가 있 고 , 그러 기 위해서 는 안정 되게 고수 율 로 18 F - TAFDG 를 제조 할 수 있 는 조건 을 확립 할 필요 가 있 다 .