본 발명 은 포 매 용 포 셉 가열 거치대 에 관한 것 으로 , 좀 더 구체 적 으로 포 매 과정 에서 포 셉 의 온도 에 의한 검체 손상 을 방지 하 고 , 청결 을 유지 하 게 하 기 위하 여 , 포 매 작업 시 , 파라핀 베스 에 복수 개 의 포 매 용 포 셉 을 일정 한 온도 로 가열 하 도록 삽입 , 거치 되 는 복수 개 의 포 셉 히팅 홀 들 과 , 포 매 용 포 셉 에 잔존 하 는 이 물질 을 제거 하 는 이 물질 제거 용 스펀지 및 파라핀 베스 를 일정 온도 로 가열 하 는 히터 를 구비 하 여 포 매 용 포 셉 을 가열 및 세정 하 는 포 매 용 포 셉 가열 거치대 에 관한 것 이 다 .