본 발명 이 해결 하 려고 하 는 과제 는 리 소그라 피용 하층 막 에 뛰어난 광학 특성 및 에칭 내성 을 부여 하 는 리 소그라 피용 하층 막 형성 조성물 및 그 조성물 로부터 형성 된 굴절 률 ( n ) 이 높 고 , 소 쇠 계수 ( k ) 가 낮 으며 , 투명 하 면서 도 에칭 내성 이 높 고 , 아울러 승화 성 성분 이 매우 적 은 하층 막 및 이 하층 막 을 이용 한 패턴 형성 방법 을 제공 하 는 것 이 다 .