본 발명 의 착색 조성물 은 상기 조성물 을 자외선 조사 에 의해 경화 시키 고 , 포토 리소그래프 법 에 따라 필터 세그먼트 를 형성 하 는 경우 , 광중합 개시제 등 을 첨가 해 용제 현상 형 혹은 알칼리 현상 형 착색 레지스 트 재의 형태 로 조제 할 수 있 다 . 광중합 개시제 를 사용 할 때 의 배 합량 은 , 실용 적 인 자외선 감도 의 관점 에서 , 감광성 착색 조성물 의 전체 고형분 중 0 . 3 ~ 5 . 0 중량 % 인 것 이 보다 바람직 하 다 .