자연 산화물 제거 단계 는 , 도 1 의 ( b ) 에 나타낸 바 와 같이 , 예 를 들 어 0 . 5 % HF 액 을 이용 한 식각 에 의해 접합 웨이퍼 ( 도 1 의 ( a ) ) 의 액티브 층 ( 2 ) 의 표면 상 에 형성 된 자연 산화물 ( 3 ) 을 제거 하 는 단계 이 다 . 식각 에 사용 되 는 HF 액 의 농도 는 특별히 한정 되 지 는 않 지만 , 0 . 5 - 5 % 가 바람직 하 다 . 또한 , 처리 시간 은 자연 산화물 의 두께 및 HF 액 의 농도 에 의존 하 지만 , 0 . 5 - 10 분 이 바람직 하 다 .