한편 , 상기 메탈 마스크 ( 7 ) 는 다 판넬 을 구성 하 는 각 인쇄 회로 기 판 ( pa , pb , pc , pd ) 에 대응 되 는 마스크 영역 을 형성 하 고 있 으며 , 이 들 마스크 영역 의 유휴 면 에 는 기준 마크 ( s 1 ) 가 관통 된 구멍 으로 형성 된다 . 아울러 , 상기 메탈 마스크 ( 7 ) 의 각 마스크 영역 에 해당 되 는 인쇄 회로 기판 ( pa , pb , pc , pd ) 은 상기 기준 마크 ( s 1 ) 와 대응 되 는 위치 에 인식 마크 ( s 2 ) 가 관통 된 구멍 으로 형성 되 며 , 이 들 기준 마크 ( s 1 ) 와 인식 마크 ( s 2 ) 는 후술 할 감지기 ( 20 ) 에 의해 인식 되 는 것 에 의해 위치 좌표 로서 활용 된다 .