도 9 a 를 참조 하 면 , 제 1 영역 및 제 2 영역 이 구분 되 는 기판 을 마련 한다 . 상기 기판 상 에 식각 대상 막 을 형성 한다 . 상기 식각 대상 막 상 에 희생 마스크 막 ( 도시 안함 ) 을 형성 한다 . 상기 희생 마스크 막 을 패 터닝 함 으로써 , 제 1 및 제 2 희생 마스크 패턴 ( 244 a , 244 b ) 을 각각 형성 한다 .