이러 한 구성 을 가지 는 검사 장치 는 기판 ( 132 ) 상 에 위치 하 는 이물 의 위치 와 마스크 영상 을 비교 함 에 따라 이 물 이 후속 공정 에서 픽셀 불량 에 미칠 영향 을 예측 할 수 있 게 된다 . 즉 , 이 물 이 현재 에 는 제거 또는 리페 어 대상 으로 판단 되 지 않 지만 추후 에 형성 될 박막 에 악 영향 을 줄 가능 성 이 있 는지 여부 를 예측 할 수 있 게 된다 .