X 선 검사 장치 ( 1 ) 는 복수 의 화상 처리 알고리즘 을 기억 하 는 기억 부 ( 21 ) , 이 물 ( F ) 을 부여 한 물품 ( A ) 에 전자파 를 투과 시킴 으로써 얻 어 지 는 투과 화상 ( P 11 ) , 또는 합성 투과 화상 ( P 13 ) 을 기준 투과 화상 ( P 1 ) 으로서 취득 하 는 취득 부 ( 22 ) , 기억 부 ( 21 ) 에 기억 된 복수 의 화상 처리 알고리즘 에 의해 기준 투과 화상 ( P 1 ) 을 각각 처리 하 는 것 에 의해 얻 어 지 는 평가 화상 ( P 3 ) 에 기초 하 여 , 각각 의 화상 처리 알고리즘 에 대한 이물 ( F ) 의 검출 정밀도 를 평가 하 는 평가 부 ( 24 ) , 평가 부 ( 24 ) 에서 의 평가 에 기초 하 여 , 화상 처리 알고리즘 의 적어도 하나 를 , 미리 선택 된 화상 처리 알고리즘 으로서 설정 하 는 설 정부 ( 25 ) 를 구비 한다 .