그러나 기존 에 상용 화 된 금속 패턴 하부 에 전도성 물질 을 형성 시키 는 기술 의 경우 다음 과 같 은 다양 한 문제점 을 갖 고 있 어 그 사용 이 제한 되 고 있 다 . 첫 번 째 는 금속 패턴 하부 에 형성 된 전도성 물질 과 패턴 의 금속 간 의 밀착력 이 낮 아 도 2 와 같이 금속 패턴 의 일부 가 박리 되 는 현상 이 있 어 포토 마스크 의 제조 생산 수율 및 포토 마스크 수명 을 단축 시키 는 문제 를 갖 고 있 다 .