웨이퍼 ( W ) 는 주연 부가 핸드 ( 171 ) 의 복수 의 갈고리 ( 171 a ) 에 의해 파지 되 어 , 전달 기구 의 한 쌍 의 핸드 ( 171 ) 에 의해 연 마실 ( 21 ) 내 로 전달 된다 . 이 상태 에서 , 핸드 ( 171 ) 는 약간 낮 아 진 후 , 중심 설정 안 내부 ( 165 ) 는 웨이퍼 ( W ) 를 향해 이동 한다 . 중심 설정 안 내부 ( 165 ) 는 안내 표면 ( 165 a ) 이 웨이퍼 ( W ) 의 최외각 에지 표면 과 접촉 할 때 까지 이동하 여 , 웨이퍼 ( W ) 는 중심 설정 안 내부 ( 165 ) 에 의해 보유 된다 . 이 상태 에서 웨이퍼 ( W ) 의 중심 은 회전식 보유 기구 ( 3 ) 의 회전 축 상 에 놓인다 . 그 후 , 핸드 ( 171 ) 는 웨이퍼 ( W ) 로부터 멀 어 지 게 이동 된다 . 그 후 , 회전식 보유 기구 ( 3 ) 의 보유 스테이지 ( 4 ) 가 상승 하 여 웨이퍼 ( W ) 의 후방 표면 을 진공 흡입 에 의해 보유 한다 . 그 후 , 중심 설정 안 내부 ( 165 ) 는 웨이퍼 ( W ) 로부터 멀 어 지 게 이동 하 고 , 보유 스테이지 ( 4 ) 는 웨이퍼 ( W ) 와 함께 연마 위치 로 낮 아 진다 .