이러 한 노광 조작 에서 , 포토레지스트 코팅 층 으로부터 반사 된 방사선 은 패 터닝 된 피처 의 해상도 를 저하 시킨다 . 예 를 들 어 , 노광 방사선 이 기판 과 포토레지스트 사이 의 계면 에서 반사 되 는 경우 , 포토레지스트 코팅 층 에 조사 된 방사선 의 강도 에 공간 적 편차 가 발생 하 고 , 방사선 은 의도 적 으로 노광 되 지 않 은 포토레지스트 영역 쪽 으로 산란 된다 . 따라서 , 포토레지스트 노광 시 의 방사선 반사 는 현상 시 패턴 균일성 의 부족 , 예컨대 인쇄 된 라인 - 스페이스 피처 에서 의 균일 하 지 않 은 선폭 을 초래 한다 . 또한 , 영역 들 간 에 산란 되 거나 반사 된 방사선 양 의 차이 가 있 기 때문 에 , 해상도 는 기판 토포 그래피 에 민감 해질 수 있 다 .