통상 적 으로 , 반도체 제조 공정 에 있 어서 웨이퍼 를 가공 하 는 제조 장비 는 웨이퍼 를 이송 하 기 위한 이송 로봇 과 , 웨이퍼 상 에 감광액 을 도포 하 는 코터 ( coater ) 와 , 상기 도포 된 감광액 을 베 이 킹 하 는 베 이크 유닛 과 , 상기 웨이퍼 를 일정 한 위치 에 정렬 시키 기 위한 정렬 기와 , 마스크 나 레티 클 의 패턴 이 웨이퍼 상부 의 감광막 에 전사 되 도록 하 기 위해 노 광원 을 제공 하 는 노광기 와 , 상기 노광 된 감광막 을 현상 하 여 식각 마스크 로서 사용 되 어 질 감광막 패턴 이 얻 어 지 도록 하 는 현상기 와 , 상기 감광막 패턴 을 식각 마스크 로 사용 하 여 노출 된 막 을 식각 하 는 식각 장치 를 포함 한다 .