본 발명 에서 사용 가능 한 전자 수송 층 형성 물질 은 특별히 제한 되 지 는 않 으나 , 알루미늄 트리 하이드 록 시 퀴놀린 ( aluminum trihydroxyquinoline ; Alq 3 ) , 1 , 3 , 4 - 옥사 디아졸 유도체 인 2 -( 4 - 바이페닐 일 - 5 - 페닐 - 1 , 3 , 4 - 옥사 디아졸 ( 2 -( 4 - biphenylyl ) - 5 - phenyl - 1 , 3 , 4 - oxadiazole , PBD ) , 퀴녹살린 유도체 인 1 , 3 , 4 - 트리스 [ ( 3 - 페닐 - 6 - 트리플 루 오로 메틸 ) 퀴녹살린 - 2 - 일 ] 벤젠 ( 1 , 3 , 4 - tris [ ( 3 - penyl - 6 - trifluoromethyl ) quinoxaline - 2 - yl ] benzene , TPQ ) , 및 트리아졸 유도체 등 이 바람직 하 게 사용 될 수 있 다 . 또한 , 상기 정공 수송 층 형성 물질 로 본 발명 의 일 구 현예 에 따른 유기 화합물 도 사용 할 수 있 음 은 당연 하 다 .