그 중 상기 화학 기상 증착 방법 은 다른 증착 방법 보다 웨이퍼 상 에 형성 되 는 증착 특성 과 , 가공 막 의 균일성 이 우수 하 기 때문 에 가장 보편 적 으로 사용 되 고 있 다 . 이 와 같 은 화학 기상 증착 방법 에 는 LPCVD ( Low Pressure Chemical Vapor Deposition ) , APCVD ( Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition ) , LTCVD ( Low Temperature Chemical Vapor Deposition ) , PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 등 으로 나눌 수 있 다 .