도 4 는 본 개시 내용 의 다른 이점 을 예시 하 는 , 일 실시 예 에 따른 프로세싱 챔버 ( 100 ) 의 부분 을 예시 한다 . 전압 ( VDC ) 은 기판 에지 ( 406 ) 에서 의 임계 치수 균일성 을 보상 하 기 위하 여 기판 ( 101 ) 의 에지 ( 406 ) 에서 의 플 라즈 마 시스 ( 404 ) 프로파일 을 제어 하 기 위해 사용 될 수 있 다 . 플 라즈 마 시스 ( 404 ) 는 , 플 라즈 마의 바디 를 플 라즈 마의 재료 경계 와 연결 하 는 , 공간 전하 에 의해 형성 된 강한 전기장 들 의 얇 은 구역 이 다 . 수학 적 으로 , 시스 두께 ( d ) 는 칠드 - 랑 뮈에 방정식 ( Child - Langmuir equation ) 에 의해 표현 된다 .