상기 ( B ) 양극 산화 처리 공정 에 있 어서 의 양극 산화 처리 를 0 . 20 ㏖/ℓ 옥살산 의 전해액 , 전압 50 V , 액 온도 20 ℃, 액 유속 3 . 0 m / min 의 조건 으로 바꾸 고 , 상기 ( G ) 트리밍 처리 의 처리 시간 을 10 분 으로 한 것 이외 에 는 , 실시 예 1 과 동일 한 조건 에서 처리 하 여 구조 체 ( 이방 도전 성 부재 ) 를 제조 하 였 다 .