제 1 도 전막 ( 214 ) 은 불순물 이 도핑 된 폴리 실리콘 , 금속 또는 금속 화합물 을 사용 하 여 형성 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 제 1 도 전막 ( 214 ) 은 텅스텐 ( W ) , 알루미늄 ( Al ) , 코발트 ( Co ) , 티타늄 ( Ti ) , 탄 탈륨 질화물 ( TaNx ) , 티타늄 질화물 ( TiNx ) 등 을 사용 하 여 형성 될 들 수 있 다 . 또한 , 제 1 도 전막 ( 214 ) 은 스퍼터링 공정 , 화학 기상 증착 ( CVD ) 공정 , 원자 층 적층 ( ALD ) 공정 , 펄스 레이저 증착 ( PLD ) 공정 , 전자 - 빔 증착 공정 등 을 이용 하 여 형성 될 수 있 다 .