봉합 재 층 의 원래 의 표면 중 더 적 은 부분 이 처리 되 고 , 리세 스 들 R 및 / 또는 구멍 들 이 도 3 의 조밀 한 산란 패턴 에서 와 만큼 함께 가깝 게 있 지 않 은 전이 산란 패턴 Pt 를 도시 한다 . 본 발명 에 따른 방법 에서 , " 이러 한 전이 산란 패턴 Pt 는 상당 하 지만 조밀 하 게 패 터닝 된 영역 에서 수신 된 광 의 양 보다 적 은 광 의 양 을 수신 하 는 어떤 영역 내 에 형성 될 수 있 다 . 전이 산란 패턴 Pt 의 목적 은 높 은 광 출력 영역 들 Rd 를 낮 은 광 출력 영역 들 Rs 내로 "" 혼합 "" 시킴 으로써 전체 광 출력 표면 위 에 보다 더 균일 한 광 출력 을 달성 하 는 것 이 다 . "