이 와 같이 상기 편광 필름 ( 8 ) 의 저면 에 30 ~ 200 nm 두께 를 갖 는 ITO , 불소 첨가 산화주석 ( FTO ) , 불소 첨가 산화아연 ( FZO ) 및 그 들 의 결합 으로 이루어진 금속 화합물 을 제조 하 는 방법 과 , 상기 제조 방법 을 통해 제조 된 편광 필름 기판 을 주요 기술 구성 요소 로 하 여 TFT LCD 패널 의 제조 공정 을 간소 화 하 는 것 이 다 .