이러 한 실리콘 산화 막 의 에칭 액 조성물 로 는 지금 까지 는 BOE ( buffered oxide etchant ) 식각 액 이 주로 사용 되 어 왔으나 , BOE 의 경우 는 불 산 ( HF ) 과 불화 암모 늄 ( NH 4 F ) 및 물 로 구성 이 되 어 있 어 불 산 으로 인해 취급 상 위험 할 뿐 아니 라 , 실리콘 산화 막 과 함께 노출 되 어 있 는 질화 막 등 에 대한 식각 선택 비 도 낮 은 것 이 문제점 으로 인식 되 고 있 다 .