소정 의 실시 예 에서 , 간섭 기술 은 하프톤 ( half - tone ) 포토 리소그래프 와 관련 해서 사용 될 수 있 다 . 하프톤 리소그래피 는 , 패턴 화 레지스 트 층 의 배 선부 에서 의 특정 의 두께 편차 가 요구 되 는 경우 에 사용 된다 . 본 발명 의 저 결맞음 간섭계 기술 은 하프톤 영역 에서 포토레지스트 패턴 의 두께 프로 파일 을 모니터링 하 는 데 에 사용 될 수 있 다 . 또한 , 본 기술 은 이 들 배 선부 의 중첩 및 임계 치수 를 정하 는 데 에 도 사용 될 수 있 다 .