이어서 , 상기 포토레지스트 막 을 선택 적 으로 노광 한다 . 상기 노광 공정 을 수행 하 기 위해서 는 먼저 노광 장치 의 마스크 스테이지 상 에 회로 패턴 이 형성 된 노광 마스크 를 위치 시킨 후 상 에 노광 마스크 를 기판 과 정렬 한다 . 이후 , 상기 노광 마스크 에 광 을 조사 하 여 상기 포토레지스트 막 과 상기 노광 마스크 를 투과 한 광 을 반응 시킨다 .