현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 은 4 개 이 며 , 반송 스페이스 ( Ａ ２ ) 를 따른 횡 방향 으로 2 개 나란 한 것 이 상하 2 단 으로 적층 되 어 있 다 . 도 3 , 도 8 에 나타내 는 바 와 같이 , 각 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 은 기판 ( Ｗ ) 을 회전 가능 하 게 지지 하 는 회전 지지 부 ( 77 ) 와 , 기판 ( Ｗ ) 주위 에 설치 되 는 컵 ( 79 ) 을 구비 하 고 있 다 . 1 단 에 병설 ( 竝設 ) 되 는 2 개 의 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 은 칸막이벽 등 으로 칸 막 이 되 는 일 이 없 게 설치 되 어 있 다 . 또한 , 2 개 의 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 에 대해 , 현상액 을 공급 하 는 공급 부 ( 81 ) 가 설치 되 어 있 다 . 공 급부 ( 81 ) 는 , 현상액 을 토출 하 기 위한 슬릿 또는 작 은 구멍 열 을 가지 는 2 개 의 슬릿 노즐 ( 81 a ) 을 가진다 . 슬릿 또는 작 은 구멍 열 의 길 이 방향 의 길이 는 기판 ( Ｗ ) 의 지름 에 상당 하 는 것 이 바람직 하 다 . 또한 , 2 개 의 슬릿 노즐 ( 81 a ) 은 서로 다른 종류 또는 농도 의 현상액 을 토출 하 도록 구성 하 는 것 이 바람직 하 다 . 공 급부 ( 81 ) 는 , 각 ( 各 ) 슬릿 노즐 ( 81 a ) 을 이동 시키 는 이동기 구 ( 81 b ) 를 더 구비 하 고 있 다 . 이 에 의해 , 각 슬릿 노즐 ( 81 a ) 은 각각 , 횡 방향 으로 나란 한 2 개 의 회전 지지 부 ( 77 ) 의 상방 으로 이동 가능 하 다 .