관련 기술 분야 의 통상 의 기술자 들 은 , 마이크로파 신호 들 ( 320 ( 1 ) 및 320 ( 2 ) ) 의 위상 을 조정 하 기 위해 신호 제어기 ( 312 ) 가 이중 위상 신호 생성기 ( 215 ) 와 협동 하 는 동안 , 조정기 들 ( 250 ) 이 또한 , 반사 되 는 전력 을 최소 화 하 기 위해 임피던스 정합 을 계속 조정 하 는 것 을 이해 할 것 이 다 . 따라서 , 시스템 ( 300 ) 은 임피던스 정합 을 만족 시키 지 않 지만 , 대신 에 , 도파 로 ( 210 ) 에 인접 한 프로세스 챔버 에서 의 플 라즈 마 대칭 을 최적 화 하 기 위해 전자 장치 세트 들 ( 255 ( 1 ) 및 255 ( 2 ) ) 에 대한 위상 및 / 또는 진폭 조정 의 추가 적 인 능력 을 제공 한다 . 즉 , 실시 예 들 에서 , 시스템 ( 300 ) 의 작동 동안 서로 동시 에 , 신호 생성기 ( 315 ) 는 위상 오프셋 을 조정 하 고 , 조정기 들 ( 250 ) 은 임피던스 정합 을 제공 한다 . 다른 실시 예 들 에서 , 시스템 ( 300 ) 의 작동 동안 서로 동시 에 , 신호 생성기 ( 315 ) 는 진폭 을 조정 하 고 , 조정기 들 ( 250 ) 은 임피던스 정합 을 제공 한다 .