그 다음 단계 에서 는 화소 전극 ( 12 ) 상 에 형성 된 알루미나 박막 ( 13 ) 을 식각 한다 ( S 213 ) . 원자 층 증착 법 으로 100 ℃ 미만 에서 100 nm 정도 의 두께 로 증착 된 알루미나 박막 ( 13 ) 은 약한 염기 성 용액 에서 충분히 용해 되 므로 , 본 실시 예 에서 는 NMD - 3 등 과 같 은 약 염기 성 용액 을 이용 하 여 식각 공정 을 진행 한다 . 약 염기 성 용액 으로 에칭 하 는 경우 , 화소 전극 ( 12 ) 의 표면 에 손상 을 가하 지 않 고 화소 전극 ( 12 ) 상 에 형성 된 알루미나 박막 ( 13 ) 을 제거 할 수 있 다 .