유동 환 원로 에 장입 되 는 분 철광석 입자 들 은 수 밀리미터 부터 수십 마이크로미터 까지 의 넓 은 입 도 분포 를 가지 는데 , 이 중 존재 하 는 미분 의 분철 광석 중 대부분 이 가스 에 의하 여 반응기 밖 으로 비산 하 게 된다 . 비산 된 미분 의 분철 광석 은 슬러 지로 처리 되 거나 유동 환원 로 상단 에 위치 하 는 반응기 노즐 의 막 힘 의 원인 이 되 므로 이 의 비 산량 을 최소 화 하 여야 한다 .