단계 102 또는 104 에서 첨가 되 는 금속염 을 선택 하 여 비 히 클 시스템 을 형성 하 는 공정 을 개선 시키 거나 , 생성 된 비 히 클 시스템 을 개선 시키 거나 , 둘 모두 를 개선 시킬 수 있 다 . 예 를 들 어 , [ SiOx : ZrOz : TiOy ] 비 히 클 시스템 은 약 80 중량 % 의 SiOx , 약 15 중량 % 의 ZrOz , 및 약 5 중량 % 의 TiOy 를 포함 할 수 있 다 . 단계 102 동안 , ZrCl 4 는 농축 된 HCl 과 반응 하 여 ZrOCl 4 를 형성 한다 . 이러 한 발열 반응 은 [ SiOx : ZrOz : TiOy ] 제형 에서 의 SiOx 의 용해 성 을 [ SiOx : TiOy ] 제형 에서 의 SiOx 의 용해 성 에 비해 증가 시킨다 . 추가 로 , [ SiOx : ZrOz : TiOy ] 비 히 클 시스템 에 의해 형성 된 고분자 필름 에서 의 지르코늄 산화물 은 더 경질 이 고 더욱 크랙 - 내 성인 필름 을 생성 한다 .