제 1 실시 형태 나 제 2 실시 형태 에 있 어서 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 로부터 광학 부품 ( 201 ) ( 의 표면 ( 201 A ) ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 양 을 증가 시키 면 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 을 따라 흐르 는 기체 ( 204 ) 의 양 이나 유속 이 증가 한다 . 따라서 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 흐름 ( 기류 ) 의 흐트러짐 등 의 영향 을 억제 할 수 있 다 . 단 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 의 부근 에 발생 하 는 소용돌이 ( 206 ) 는 커지 기 때문 에 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 를 말려들 게 하 는 양 은 증가 해 버린다 .