2 단계 로 , 상온 에서 아세트산 과 정제 수 의 비율 을 80 : 20 ( v / v %) 으로 하 여 300 ml 만든 후 호모 게나 이 져 로 교반 하 면서 아세트산 을 첨가 하 여 pH 가 4 ∼ 4 . 5 범위 를 유지 하 면서 조절 한 용매 를 500 round flask 에 옮긴 후 유리 마개 로 막 고 300 rpm 으로 15 분 간 교반 하 였 다 . 교반 이 끝난 후 상기 화학식 1 의 제 1 실리콘 화합물 로서 선택 된 γ - 글리 시독 시프 로 필 트리 메 톡 시 실란 ( GPTMS , 비중 1 . 07 ) 을 30 . 90 g 혼입 한 후 90 ℃ 에서 6 시간 동안 300 rpm 으로 교반 하 여 가수 분해 를 촉진 시키 고 이후 5 단계 에서 투입 될 순환 골재 표면 과 축합 반응 ( Si - O - M ) 을 수행 하 기 위한 실라 놀 기 ( Si - OH ) 를 생성 하 였 다 .