발명가 는 일부 적용 에서 , 특히 입자 함량 이 특히 높 은 경우 , 입자 를 분산 시키 기 위해 임의 의 매체 사용 이 좋 은 결과 를 얻 을 수 있 음 을 발견 했으며 , 이 와 관련 하 여 보다 적절 한 매체 의 사용 은 주로 입자 의 유형 및 사용 되 는 수지 에 따라 달라진다 . 입자 분산제 의 예 로 는 pH 조절 제 가 있 으며 , 본 발명자 는 일부 용도 의 경우 충전 된 수지 시스템 의 점도 가 매우 중요 함 을 발견 했 다 . 종종 , 지나치 게 높 은 점도 는 선택 적 경화 동안 제어 되 지 않 은 다공 성 및 다른 기하 결함 의 형성 을 초래 한다 . 가압 가스 또는 기계 적 으로 활성 화 된 시스템 과 같이 고점 도 수지 를 사용 하 도록 특별히 준비 된 시스템 을 사용 하 거나 특히 수지 가 탈기 된 경우 수지 를 퍼뜨리 기 위한 시스템 을 사용 하 여 매개 할 수 있 다 . 어떤 경우 든 점도 를 낮추 기 위해 희석제 를 사용 하 는 것 이 특이 할 수 있 다 . 많 은 잠재 적 희석제 가 있 으며 특정 용도 에 적합 할 수 있 습니다 . 예 : 스티렌 과 같 은 인산 에스테르 단량체