또한 , 동일 한 제조 및 어셈블리 허용 오차 문제 가 하부 전극 에 대한 상부 전극 의 정렬 에 영향 을 미친다 . 예 를 들 어 , 일부 생산 플 라즈 마 프로세싱 시스템 에서 , 제조 및 어셈블리 허용 오차 는 상부 전극 이 척 으로부터 약간 오프셋 되게 하 여서 , 비대칭 플 라즈 마 시스 ( plasma sheath ) 를 발생 시키 고 , 이것 은 플 라즈 마 프로세싱 의 제어 가능 성 에 영향 을 미친다 . 다른 예 로서 , 상부 전극 은 일부 플 라즈 마 프로세싱 시스템 에서 이동 가능 하 도록 구성 될 수 도 있 다 . 시간 을 통해 , " 상부 전극 어셈블리 는 "" 유 극 ( play ) "" 또는 규격 을 벗어난 허용 오차 를 나타낼 수 도 있 어서 ", 이롭 지 못한 상부 전극 / 척 오프셋 을 발생 시킨다 . 그 결과 , 플라 즈 마 프로세싱 결과 가 손상 될 수 도 있 다 .