슬릿 ( 16 ) 을 형성 하 기 위해 , 하드 마스크 층 ( 17 ) 을 전면 에 증착 한 후 슬릿 마스크 ( 18 ) 를 형성 할 수 있 다 . 슬릿 마스크 ( 18 ) 형성 시 오버레이 정렬 은 오버레이 측정 용 단차 들 ( 14 LK , 15 K , 15 G ) 을 이용 할 수 있 다 . 슬릿 마스크 ( 18 ) 의 정확 한 오버레이 제어 를 위하 여 하부 에서 명확히 식별 되 는 정렬 키를 사용 해야 한다 . 하드 마스크 층 ( 17 ) 으로서 실리콘 및 카본 등 의 불 투명 물질 을 사용 하 는 경우 에 는 , 하부 의 정렬 키를 식별 하 기 어렵 다 . 이 에 따라 , 본 실시 예 는 오버레이 측정 용 하부 단차 ( 14 LK , 15 K , 15 G ) 를 이용 하 여 정렬 키 신호 를 확보 할 수 있 다 .