필름 은 습 도 약 40 % 인 공기 분위기 에서 제조 되 었 다 . 모든 11 - AA ( Sigma Aldrich ) 가 강한 소수성 의 키 토산 필름 의 표면 개질 제 로 사용 되 었 다 . 11 - AA 의 제조 를 위해 , 11 - 아미노 운 데카 논산 을 0 . 14 중량 % 의 농도 로 탈 이온 수 에 용해 시켰 다 . 11 - AA 용액 을 플라스마 처리 된 키 토산 기판 위 에 500 rpm 의 회전 속도 로 10 초 동안 스핀 코팅 하 고 , 이어서 100 ℃ 에서 10 분 동안 어닐링 시켰 다 . AgNW 용액 ( 탈 이 온수 중 0 . 3 중량 %, Nanopyxis Co . , Ltd ) 을 30 초 동안 다양 한 스핀 속도 로 11 - AA 처리 된 키 토산 기판 상 에 스핀 코팅 하 였 다 . AgNW 필름 은 10 분 동안 100 ℃ 에서 어닐링 되 었 다 .