이러 한 제한 을 받 지 않 는 방법 은 구체 적 으로 유동층 방법 이 다 . DE 10 2006 017 695 A 1 호 는 유동 층 에서 의 탄소 나노 튜브 의 제조 를 포함 하 는 방법 을 개시 하 고 있 다 . 특히 , 새로운 촉매 를 도입 하 고 생성물 을 배출 하 여 연속 적 으로 탄소 나노 튜브 를 제조 할 수 있 는 수단 이 되 는 유동 층 의 유리 한 작업 방식 이 개시 되 어 있 다 . 사용 된 출발 물질 은 헤테로 원자 를 포함 할 수 있 는 것 으로 설명 되 어 있 다 . 탄소 나노 튜브 의 질소 도핑 을 유발 할 수 있 는 출발 물질 의 사용 에 관해서 는 개시 된 바 가 없 다 .