본 개시 의 일부 구 현예 에서 , 선택 적 증착 장치 ( 11 ) 는 전구체 분배 및 제거 시스템 ( 14 ) 을 포함 할 수 있 다 . 전 구체 분배 및 제거 시스템 은 , 다수 의 전구체 증기 를 제공 하 고 연관 된 증기 를 반응 챔버 ( 12 ) 에 분배 하 도록 구성 되 고 배열 되 는 하나 이상 의 전구체 공급원 ( 114 A 및 114 B ) 을 추가 로 포함 할 수 있 는 가스 전달 시스템 ( 112 ) 을 포함 할 수 있 다 . 가스 전달 시스템 ( 112 ) 은 , 본원 에 기술 된 예시 적 인 선택 적 증착 공정 의 퍼지 사이클 에서 활용 될 수 있 는 퍼지 가스 를 저장 하 고 분배 하 도록 구성 된 공급원 용기 ( 116 ) 를 또한 포함 할 수 있 다 . 가스 전달 시스템 ( 112 ) 은 , 본원 에 기술 된 예시 적 인 선택 적 증착 공정 에 활용 되 기 위해 , 반응물 을 포함 하 고 이 를 반응 챔버 ( 12 ) 에 디스 펜싱 하 도록 구성 되 는 반응물 공급원 용기 ( 118 ) 를 또한 포함 할 수 있 다 . 비 제한 적 인 예 로서 , 선택 적 증착 장치 ( 11 ) 는 제 1 전구체 의 증기 를 제공 하 도록 구성 되 고 배열 되 는 제 1 전구체 공급원 ( 114 A ) 을 포함 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 제 1 전구체 공급원 ( 114 A ) 은 제 1 전구체 를 기화 시키 도록 구성 되 고 배열 되 는 제 1 전구체 기화기 를 포함 할 수 있 다 .