이 절차 를 이용 하 여 , 선형 필터 가 양선 형 ( bi - linear ) TCC 매트릭스 로 통합 되 어서 , 순수 광학 에어리얼 이미지 에 적용 가능 한 모든 계산 절차 들 이 선형 필터링 된 에어리얼 이미지 에 적용 될 수 있 다 . 이 특성 은 , 완전 한 레지스 트 이미지 가 필터 ( P ) 의 푸리에 계수 들 에 대응 하 는 가중 인자 들 을 더 하 는 수정 만 을 갖 는 수학식 1 의 단일 평가 에 의해 생성 될 수 있 기 때문 에 전반 적 인 계산 시간 을 상당히 감소 하 게 한다 . 여 하한 의 주어진 마스크 디자인 입력 에 대해 , 이 공식 은 미리 계산 되 고 필터 - 조정 된 TCC 0 , A 및 B 매트릭스 들 로부터 이미지 들 P { I 0 }, P { a }, P { b } 를 직접 - 각각 하나 의 통과 로 - 생성 하 게 할 것 이 다 . 그 후 , 수학식 22 는 이 3 개 의 이미지 들 의 선형 조합 으로서 여 하한 의 임의 PW 지점 에 대한 실제 레지스 트 이미지 를 정의 한다 .