본 발명 에 따라 , PECVD 장치 를 이용 하 여 박막 을 증착 하 는 방법 은 다음 과 같 다 . 먼저 , 금속 의 특성 을 갖 는 붕소 가 주입 된 규소 ( P ++- Si ) 로 만들 어 진 기판 ( 1 ) 을 트리클로로에틸렌 ( trichloroethylene ) , 아세톤 ( acetone ) 및 메탄올 ( methanol ) 따위 로 세정 한 다음 , 반응기 ( 50 ) 의 기판 받침대 ( 51 ) 위 에 올려 놓 는다 . 이때 , 반응기 ( 50 ) 의 기본 압력 은 터보 분자 펌프 ( 55 ) 의 펌핑 을 통하 여 5 × 10 - 6 Torr 이하 로 낮 게 유지 한다 .