비록 입사 광선 ( 64 ) 이 실제로 상기 미러 ( 58 ) 를 통과 하 지 않 을지라도 , 가상 광선 ( 66 ) 이 상기 미러 ( 58 ) 너머 에 생성 되 어 , 상기 가상 광선 ( 66 ) 이 상기 미러 ( 58 ) 로부터 거리 ( D 2 ) 에 있 는 가상 초점면 ( 62 ) 에서 ( 높이 Rv _ i 에서 ) 상기 기판 ( 24 ) 의 위치 를 향해 수렴 한다 . 상기 거리 ( D 2 ) 는 상기 거리 ( D 1 ) 의 2 배 인 것 으로 이해 되 어야 한다 . 이 와 같 은 배열 에 있 어서 , 상기 다운 - 룩 광학 시스템 ( 20 ) 의 필드 깊이 는 기판 상 의 본드 패드 의 배향 을 검사 하 도록 하 면서 , 또한 상기 다운 - 룩 광학 시스템 ( 20 ) 은 상기 본드 헤드 ( 50 ) 가 상기 다운 - 룩 광학 시스템 ( 20 ) 과 기판 ( 24 ) 사이 에 위치 될 때 상기 미러 ( 58 ) 상 의 미러 기준 마크 들 을 관측 할 수 있 게 한다 . 따라서 , 상기 본드 헤드 ( 50 ) 의 위치 는 상기 본드 헤드 ( 50 ) 가 상기 기판 위치 의 위 에 있 을 때 정렬 하 는 동안 상기 다운 - 룩 광학 시스템 ( 20 ) 에 의해 관측 될 수 있 다 .