상술 한 바 와 같이 본 발명 에 의하 면 , 주사 전자 에 과도 하 게 노출 됨 에 따른 피사체 의 손상 을 최소 화 하 면서 도 피사체 와 전자 빔 간 의 최적 의 초점 위치 를 단 시간 내 에 자동 으로 찾 을 수 있 다 . 이 로 인해 , 주사 전자 현미경 을 이용 하 여 상기 피사체 의 명확 한 이미지 를 획득 할 수 있 으며 , 상기 피사체 에 발생 한 결함 이나 , 피사체 에 형성 된 패턴 의 크기 등 을 정확 하 게 알아낼 수 있 다 .