또 , 게 타재 ( 403 ) 는 밀폐실 ( 139 ) 의 내면 에 있 어서 , 일산 화 탄소 제 거기 ( 170 ) 에 대응 하 는 영역 에 위치 하 고 있 으므로 , 개 질기 ( 160 ) 나 촉매 연소기 ( 180 ) 에 대응 하 는 영역 에 위치 하 는 경우 와 달리 , 반응 장치 ( 110 ) 의 동작 중 에서 의 게 타재 ( 403 ) 의 활성 화 를 방지 할 수 있 다 .