스퍼터링 에 의해 금속 시드 층 이 절 연막 ( 22 ) 및 내부 전극 ( 26 ) 상 에 형성 된다 ( 단계 S 16 ) . 이 스퍼터링 공정 에서 , 내부 전극 ( 26 ) 의 표면 상 의 산화물 층 이 바람직 하 게 는 역 스퍼터링 ( reverse sputtering ) 에 의해 먼저 제거 된다 . 이어서 , Ti 또는 Cu 와 같 은 금속 시드 가 스퍼터링 된다 . 내부 전극 ( 26 ) 의 표면 상 의 부식 을 방지 하 기 위해 , 절 연막 ( 22 ) 의 RIE 와 금속 시드 스퍼터링 사이 의 시간 은 바람직 하 게 는 3 시간 이하 이 고 , 최장 24 시간 이하 라는 것 에 주목 한다 .