상기 제 1 층간 절연 막 은 BPSG ( boro - phospho - sililcate glass ) , TOSZ ( Tonen Silazene ) , USG ( undoped silicate glass ) , SOG ( spin on glass ) , FOX ( flowable oxide ) , TEOS ( tetra - ethyl - ortho - silicate ) 또는 HDP - CVD ( high density plasma - CVD ) 산화물 등 을 포함 하 며 , 화학 기상 증착 공정 , 플 라즈 마 강화 화학 기상 증착 ( plasma enhanced - CVD ; PE - CVD ) 공정 , 원자 층 적층 공정 또는 고밀도 플라 즈 마 화학 기상 증착 공정 을 수행 함 으로써 형성 될 수 있 다 .