상기 일본 공개 특허 2001 - 110347 호 에서 는 시료 특정 부분 에 대하 여 수직 , 수평 및 원형 의 주사 신호 를 단계 적 으로 주사 하 고 , 상기 주사 신호 들 각각 에 대해 2 차 전자 의 절대치 및 각 전압 들 을 획득 한다 . 이 후 , 상기 2 차 전자 절대치 의 신호 강도 분포 중 최대치 를 이용 하 여 제 1 자동 포 커싱 을 실행 한다 . 다음 에 , 상기 제 1 자동 포 커싱 에 의해 설정 된 값 으로부터 전압 범위 를 설정 한 후 상기 원형 주사 신호 에 의해 최적 의 전압 값 을 설정 하 는 제 2 자동포 커싱 을 실행 한다 . 상기 방법 에 의하 면 , 상기 전압 범위 를 설정 하 기 위한 제 1 자동포 커싱 과 정밀 하 게 포 커싱 하 기 위한 2 차 자동 포 커싱 이 수행 되 어야 하 므로 , 초점 을 맞추 기 위하 여 많 은 시간 이 소요 될 수 있 다 . 또한 , 상기 와 같이 포 커싱 시간 이 길 어 지 게 되 면 상기 검사 대상 의 시료 표면 에 계속 적 으로 전자 들 이 주사 되 면서 상기 시료 가 손상 될 수 있 다 .