상술 한 바 와 같이 , 웨이퍼 ( 218 ) 는 광 나노 젯 ( 228 ) 에 대하 여 이동 될 수 있 다 . 따라서 , 본 예시 적 인 실시 예 에서 , 광 나노 젯 계측 시스템 ( 200 ) 은 스테이지 ( 220 ) , 샘플 핸들러 ( 222 ) , 및 스테이지 위치 결정 시스템 ( 224 ) 을 포함 할 수 있 다 . 샘플 핸들러 ( 222 ) 는 스테이지 ( 220 ) 상 에 웨이퍼 ( 218 ) 를 자동 적 으로 위치 결정 및 배향 하 도록 구성 될 수 있 다 . 스테이지 ( 220 ) 는 x 축 , y 축 , 및 z 축 을 따르 는 이동 및 회전 을 포함 하 는 6 개 의 자유도 를 갖 도록 구성 될 수 있 다 . 스테이지 ( 220 ) 의 미세 한 정렬 및 위치 결정 은 스테이지 위치 결정 시스템 ( 224 ) 에 의해 제어 될 수 있 는데 , 이 는 피에조 나노 위치 결정 시스템 또는 기타 유사 한 시스템 일 수 있 다 .