따라서 , 상기 상부 전극 ( 14 ) 의 샤워 헤드 를 통해서 공정 가스 가 상 , 하부 전극 ( 14 , 16 ) 사이 의 공간 으로 균일 하 게 공급 되 고 , 공급 된 공정 가스 는 RF 전 원공 급기 ( 18 ) 로부터 상기 상 , 하부 전극 ( 14 , 16 ) 으로 의 고주파 전원 의 인가 에 의해 플 라즈 마 화 되 고 , 이 플 라즈 마 에 의해 기판 의 표면 이 처리 된다 .