상기 본 발명 의 기술 적 과제 를 달성 하 기 위해 본 발명 의 일실 시예 에 의한 박막 증착 장치 는 증착 공정 을 수행 할 공간 을 한정 하 는 공정 챔버 , 상기 공정 챔버 의 상부 에 위치 하 여 증착 대상 기판 을 고정 하 는 지지대 , 상기 지지대 와 대향 하 여 상기 공정 챔버 의 하부 에 위치 하 며 소스 물질 을 증발 시켜 상기 기판 으로 소스 가스 를 공급 하 는 증발기 및 상기 증발기 의 상부 에 서로 인접 하 게 위치 하 는 다수 의 센서 유닛 을 구비 하 고 상기 증발기 로부터 공급 되 는 증착 가스 의 유량 을 측정 하 는 유량 측정기 를 포함 한다 .