제 1 개 구부 ( OP 1 ) 는 제 2 방향 ( D 2 ) 으로 제 1 폭 ( W 1 ) 을 가질 수 있 다 . 일 예 로 , 제 1 개 구부 ( OP 1 ) 는 상기 포토레지스트 패턴 의 형성 에 이용 되 는 노광 공정 이 구현 할 수 있 는 최소 크기 를 가질 수 있 다 . 제 1 개 구부 ( OP 1 ) 를 통해 제 1 절 연막 ( IDL 1 ) 의 상면 의 일부 가 노출 될 수 있 다 .