사핀 아미드 및 랄 핀 아미드 의 화학식 I ' a 및 화학식 I ' b 의 각각 의 R - 에 난 티오 머 , 각각 의 라세미 혼합물 [ ( 화학식 Ia , I ' a ) 및 ( 화학식 Ib , I ' b ) ] 및 화학식 I ' c 및 화학식 I ' d 의 이 들 의 약제학 적 으로 허용 되 는 산 과 의 염 및 각각 의 라세미 혼합물 [ ( 화학식 Ic , I ' c ) 및 ( 화학식 Id , I ' d ) ] , 특히 메탄 설 포 네이트 에 대한 선행 기술 의 방법 에 따른 제조 에서 동일 한 상황 이 발생 하 며 , 그 결과 상기 확인 된 불순물 인 화학식 IIa , IIb , IIc 및 IId 의 화합물 의 각각 의 R 이성체 ( 각각 , 화학식 II ' a , II ' b , II ' c 및 II ' d 로 표시 함 ) 및 각각 의 라세미 혼합물 [ 각각 , ( 화학식 IIa , II ' a , 화학식 IIb , II ' b , 화학식 IIc , II ' c 및 화학식 IId , II ' d ) 로 표시 함 ] 로 오염 된다 .