이때 의 챔버 ( 1 ) 내 의 플라스마 밀도 분포 는 , 종래 , 주로 슬롯 안테나 ( 31 ) 로서 , 원 하 는 플라스마 밀도 분포 가 얻 어 지 는 마이크로파 방사 특성 이 되 는 슬롯 패턴 을 갖 는 것 을 사용 함 으로써 조정 하 고 있 었 다 . 그러나 , 슬롯 안테나 ( 31 ) 를 사용 해서 마이크로파 플라스마 를 생성 했 을 때 의 플라스마 밀도 분포 는 , 마이크로파 파워 나 가스 조건 등 에 따라 변동 해 버리 기 때문 에 , 슬롯 패턴 을 결정 하 는 것 만 으로 는 , 고정 밀도 의 플라스마 밀도 분포 제어 는 곤란 하 다 . 스터브 부재 ( 42 ) 에 의해 , 마이크로파 의 전파 를 둘레 방향 으로 조절 하 여 , 전계 의 불 균일 을 보정 할 수 는 있 지만 , 플라스마 밀도 분포 의 제어 를 고정 밀도 로 행하 는 것 은 곤란 하 다 .