이리듐 ( M . P . = 2446 ℃) 은 은과 합금 또는 고용체 를 형성 하 지 않 는다 . 따라서 , 이리듐 은 산화 를 피하 기 위해 EM 펌프 조립 체 ( 5 kk ) 및 EM 펌프 튜브 ( 5 k 6 ) 중 적어도 하나 의 적절 한 산화 방지 코팅 으로서 작용 할 수 있 다 . 이리듐 코팅 은 대략 적 인 매칭 열팽창 계수 ( CTE ) 의 금속 에 적용 될 수 있 다 . 예 시 적 인 실시 예 에서 , EM 펌프 조립 체 ( 5 kk ) 및 EM 펌프 튜브 ( 5 k 6 ) 의 내부 는 이리듐 으로 전기 도금 되 며 , 전기 도금 된 구성 요소 는 이리듐 과 유사 한 CTE 를 갖 는 Haynes 230 , 310 SS 또는 625 SS 와 같 은 스테인 레스 스틸 ( SS ) 을 포함 한다 . 대안 적 으로 , 몰리브덴 EM 펌프 조립 체 ( 5 kk ) 는 이리듐 으로 코팅 될 수 있 으며 , 이때 CTE 매칭 ( 예 를 들 어 ~ 7 ppm / K ) 이 존재 한다 . 실시 예 에서 , EM 펌프 튜브 의 내부 는 튜브 를 캐소드 로서 사용 하 여 전기 도금 되 며 , 카운터 전극 은 스 페이서 에 의해 덮인 전기 도금 영역 으로 카운터 전극 상 에서 주기 적 으로 이동 되 는 절연 스 페이서 를 갖 는 와이어 를 포함 할 수 있 다 . 실시 예 에서 , 이리듐 코팅 은 이리듐 을 포함 하 는 유기 분자 의 화학 적 증착 , 예 를 들 어 테트라 이리듐 도 데카 카르보닐 의 열 분 해 가 이리듐 이 상승 온도 에서 유지 되 는 원 하 는 표면 상 에 증착 되게 하 는 방법 을 포함 하 는 그러 한 증착 에 의해 적용 될 수 있 다 . 이리듐 은 마그네트론 스퍼터링 ( 직류 마그네트론 스퍼터링 ( DCMS ) 및 무선 주파수 마그네트론 스퍼터링 ( RFMS ) ) , 화학 기상 증착 ( CVD ) , 금속 - 유기물 CVD ( MOCVD ) , 원자 층 증착 ( ALD ) , 물리 기상 증착 ( PVD ) , 레이저 유도 화학 기상 증착 ( LCVD ) , 전착 , 펄스 레이저 증착 ( PLD ) 및 이중 글 로우 플 라즈 마 ( DGP ) 중 적어도 하나 와 같 은 당업 계 에 공지 된 적어도 하나 의 방법 에 의해 증착 될 수 있 다 . 실시 예 에서 , EM 펌프 ( 5 k 6 ) 튜브 의 내부 는 이리듐 으로 피복 될 수 있 다 . 피복 물 의 단부 는 CVD 또는 전기 도금 과 같 은 본 개시 의 수단 에 의해 이리듐 으로 코팅 될 수 있 다 .