도 2 g 및 도 2 h 를 차례 로 참조 하 면 , 제 2 식각 공정 이 제 2 접착 패턴 ( 520 ) 상 에 수행 될 수 있 다 . 제 2 식각 공정 은 CF 4 , O 2 , 및 / 또는 O 3 와 같 은 가스 를 식각 가스 로 사용 한 건식 플 라즈 마 식각 공정 일 수 있 다 . 제 2 식각 공정 에서 , 제 2 접착 패턴 ( 520 ) 의 식각 비 는 제 1 컬러 필터 ( CF 1 ) 의 식각 비 및 제 2 컬러 필터 ( CF 2 ) 의 식각 비 보다 클 수 있 다 . 제 2 식각 공정 에 의해 제 2 잔여물 들 ( 820 ) 및 노출 된 제 2 접착 패턴 ( 520 ) 이 제거 될 수 있 다 . 이 에 따라 , 제 3 및 제 4 픽셀 영역 들 ( PX 3 , PX 4 ) 상 의 접착 층 ( 400 ) 및 차광 패턴 ( 450 ) 이 노출 되 고 , 제 1 컬러 필터 ( CF 1 ) 가 노출 될 수 있 다 . 제 2 접착 패턴 ( 520 ) 은 제 3 및 제 4 픽셀 영역 들 ( PX 3 , PX 4 ) 상 의 접착 층 ( 400 ) 이 제 2 식각 공정 에 의해 손상 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 . 제 2 식각 공정 동안 , 제 2 컬러 필터 ( CF 2 ) 의 높이 가 감소 할 수 있 다 .