일반 적 으로 , 반도체 소자 또는 디스플레이 패널 기판 의 제조 공정 은 , 감광액 을 기판 상면 에 원하 는 두께 로 균일 하 게 도포 하 여 감광막 을 형성 시키 는 감광막 도 포 공정 ( PR 코팅 ) , 기판 상 에 패턴 마스크 를 위치 시키 고 패턴 마스크 에 그려진 회로 대로 노광 시키 는 정렬 및 노광 공정 , 노광 으로 경화 된 감광막 을 식각 용액 으로 제거 하 는 현상 공정 등 으로 구성 된다 . 여기 서 , 정렬 및 노광 공정 을 수행 하 는 장치 를 노광 장치 라고 한다 .