리소그래피 장치 ( LA ) 는 , 제 어 유닛 ( LACU ) 에 의해 제어 되 는 위치 결정 시스템 을 각각 갖 는 두 개 의 기판 테이블 을 구비 하 는 소위 듀얼 스테이지 타입 ( dual stage type ) 을 가질 수 도 있 다 . 하나 의 기판 테이블 상 의 하나 의 기판 이 노출 스테이션 ( EXP ) 에서 노출 되 고 있 는 동안 , 다른 기판 은 측정 스테이션 ( MEA ) 에서 다른 기판 테이블 상 으로 로딩 될 수 있 고 , 그 결과 , 다양 한 준비 단계 가 수행 될 수 도 있 다 . 따라서 , 정렬 마크 의 측정 은 매우 시간 소모적 이 며 , 두 개 의 기판 테이블 의 제공 은 , 장치 의 스루풋 에서 의 실질 적 인 증가 를 가능 하 게 한다 . 기판 테이블 이 측정 스테이션 에 있 는 동안 뿐 만 아니 라 노출 스테이션 에 있 는 동안 , 위치 센서 ( IF ) 가 기판 테이블 의 위치 를 측정 할 수 없 는 경우 , 기판 테이블 의 위치 가 스테이션 둘 모두 에서 추적 되 는 것 을 가능 하 게 하 기 위해 , 제 2 위치 센서 가 제공 될 수 도 있 다 . 리소그래피 장치 ( LA ) 가 , 두 개 의 기판 테이블 을 구비 하 는 소위 듀얼 스테이지 타입 을 갖 는 경우 , 노출 스테이션 및 측정 스테이션 은 별개 의 위치 에 있 을 수 도 있 는데 , 기판 테이블 은 별개 의 위치 사이 에서 교환 될 수 있 다 . [ 그러나 , 이것 은 하나 의 가능 한 배열 일 뿐 이 며 , 측정 스테이션 및 노출 스테이션 은 그렇게 별개 일 필요 는 없 다 . 예 를 들 면 , 노 출전 측정 국면 ( pre - exposure measuring phase ) 동안 측정 스테이지 가 일시 적 으로 커플링 되 는 단일 의 기판 테이블 을 갖 는 것 이 공지 되 어 있 다 . 본 개시 는 어느 하나 의 타입 의 시스템 으로 제한 되 지 는 않 는다 . ]