실험 A 에서 , 기판 A 는 HF 습식 세정 용액 및 프로세스 에 노출 되 었 다 . 실험 B 및 C 에서 , 기판 B 및 C 는 각각 약 5 및 약 2 의 NH 3 / NF 3 몰 비 를 갖 는 식각 가스 들 의 혼합물 에 노출 되 었 고 , 양자 모두 약 30 와트 의 RF 전력 으로 점 화 된 플 라즈 마 에 노출 되 었 다 . 실험 D 및 E 에서 , 기판 D 및 E 는 모두 약 20 의 NH 3 / NF 3 몰 비 를 갖 는 식각 가스 들 의 혼합물 에 노출 되 었 으나 , 각각 약 30 와트 및 약 15 와트 의 서로 다른 RF 전력 으로 점 화 된 플 라즈 마 에 노출 되 었 다 .