( 1 ) 제 1 항 에 기재 된 장치 에서 , 각 기판 처리 열 은 각각 , 복수 의 처리 유닛 과 , 이 들 처리 유닛 에 기판 을 반송 하 는 주 반송 기구 를 구비 하 고 있 다 . 기판 처리 열 마다 별개 의 처리 유닛 및 주 반송 기구 가 설치 되 어 있 으므로 , 제 어부 는 , 처리 유닛 에 대한 기판 반송 경로 를 기판 처리 열 마다 적합 하 게 변화 시킬 수 있 다 .