상기 제 2 웨이브 플레이트 ( 224 b ) 상기 제 2 미러 ( 222 b ) 에서 반사 되 어 상기 제 2 증폭 매질 ( 221 b ) 방향 으로 향하 는 레이저 펄스 의 위상 을 변경 한다 . 이 때 상기 제 2 웨이브 플레이트 ( 224 b ) 는 상기 제 1 웨이브 플레이트 ( 224 a ) 와 는 달리 하프 웨이브 플레이트 ( HWP , Half Wave Plate ) 로 형성 된다 . 즉 상기 제 2 웨이브 플레이트 ( 224 b ) 로 공급 되 는 레이저 펄스 는 S 파 이 고 , 상기 제 2 웨이브 플레이트 ( 224 b ) 를 통과 한 레이저 펄스 는 파 의 위상 이 1 / 2 파장 변경 되 어 P 파 가 된다 . 이 는 상기 제 2 미러 ( 224 b ) 에서 반사 된 레이저 펄스 가 상기 제 2 웨이브 플레이트 ( 224 b ) 를 사이 에 두 고 상기 제 2 미러 ( 224 b ) 와 대향 하 도록 배치 되 는 상기 제 2 빔 스플리터 ( 223 b ) 를 투과 하 도록 하 기 위함 이 다 .