도 11 은 광학 계측 을 사용 하 여 제조 클러스터 를 제어 하 는 예시 적 인 프로세스 ( 1100 ) 를 나타낸다 . 스텝 1102 에서 , 제조 프로세스 는 제조 클러스터 를 사용 하 여 웨이퍼 상 에서 수행 된다 . 스텝 1104 에서 , 유전체 현미경 의 음영 측 표면 에서 유도 된 광 강도 패턴 인 광 나노 젯 이 발생 된다 . 스텝 1106 에서 , 웨이퍼 상 의 검사 영역 은 광 나노 젯 으로 스캐닝 된다 . 스텝 1108 에서 , 광 나노 젯 이 검사 영역 을 스캐닝 함 에 따라 유전체 마이크 로 스피어 로부터 재귀 반사 광 의 측정치 가 얻 어 진다 . 스텝 1110 에서 , 검사 영역 내 구조 의 존재 는 재귀 반사 광의 얻 어 진 측정치 로 결정 된다 . 스텝 1112 에서 , 제조 클러스터 의 하나 이상 의 프로세스 파라미터 는 검사 영역 내 구조 의 존재 의 결정 에 기초 하 여 조정 된다 .