그리고 , 도 3 h 와 같이 두께 가 감소 된 제 2 포토레지스트 패턴 ( 80 ) 을 마스크 로 이용 한 식각 공정 으로 게이트 상부 패드 ( 14 b ) 및 데이터 하부 패드 ( 22 b ) 상 의 절 연막 ( 37 ) 이 패 터닝 됨 으로써 게이트 하부 패드 ( 14 a ) 와 게이트 상부 패드 ( 14 b ) 의 콘 택부 와 , 데이터 하부 패드 ( 22 b ) 와 데이터 상부 패드 ( 22 a ) 의 콘 택부 가 노출 되 도록 제 4 콘 택 홀 ( 65 ) 및 제 5 콘 택 홀 ( 75 ) 이 형성 된다 .