이때 , 상기 사진 공정 에서 는 슬릿 마스크 내지 는 하프톤 마스크 과 같이 영역 별 로 노광량 을 조절 할 수 있 는 마스크 를 이용 하 여 상기 포토레지스트 막 을 노광 하 고 , 현상 한다 . 이 에 따라 , 상기 포토레지스트 패턴 ( PR ) 은 제 1 두께 ( t 1 ) 의 제 1 패턴 부 ( P 1 ) 들 및 상기 제 1 두께 ( t 1 ) 의 절반 가량 의 두께 인 제 2 두께 ( t 2 ) 의 제 2 패턴 부 ( P 2 ) 들 을 포함 하 도록 형성 된다 .