상기 투영 광학계 ( 58 ) 로부터 소정 거리 이격 되 도록 웨이퍼 척 ( 60 ) 이 배치 될 수 있 다 . 상기 웨이퍼 척 ( 60 ) 상 에 웨이퍼 ( 62 ) 가 배치 될 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 보조 포토 마스크 ( 44 ) 또는 상기 주 포토 마스크 ( 50 ) 와 상기 웨이퍼 ( 62 ) 는 콘주게이트 관계 를 유지 할 수 있 다 . 상기 웨이퍼 척 ( 60 ) 은 웨이퍼 스테이지 ( 64 ) 상 에 배치 될 수 있 다 . 이 에 따라 , 상기 투영 광학계 ( 58 ) 를 통과 한 광 은 상기 웨이퍼 ( 62 ) 상 에 형성 되 는 포토 레지 트 막 으로 조사 되 어 포토레지스트 패턴 을 형성 할 수 있 다 .