포토레지스트 는 기판 에 이미지 를 전사 하 는 데 사용 되 는 감광성 조성물 이 다 . 포토레지스트 의 코팅 층 은 기판 상 에 형성 된 후 , 포토 마스크 를 통해 화학 방사선 에 노광 된다 . 포토 마스크 는 화학 방사선 을 통과 시키 지 않 는 영역 과 통과 시키 는 영역 을 갖 는다 . 포토레지스트 코팅 층 이 화학 방사선 에 노광 되 면 , 포토레지스트 코팅 층 에서 광유 도성 화학 적 변형 이 일어난다 . 그 결과 , 포토 마스크 의 패턴 이 포토레지스트 코팅 층 에 전사 된다 . 이후 , 포토레지스트 코팅 층 은 현상 되 어 , 기판 상 에서 선택 적 으로 처리 될 수 있 도록 패 터닝 된 이미지 를 형성 한다 .