상기 a ) 단계 및 상기 b ) 단계 는 통상 적 인 스퍼터링 ( sputtering ) , 졸 - 겔 ( sol - gel ) 법 , 전자 빔 증착 ( e - beam evaporation ) , 펄스 레이저 증착 ( pulsed laser deposition ) , CVD ( chemical vapor deposition ) , 스핀코팅 ( spin coating ) , 딥 코팅 ( dip coating ) 등 당업자 에게 알려진 무기물 박막 형성 방법 에 의해 수행 될 수 있 다 .