[ 0039 ] 대안 적 으로 , 기판 표면 을 세정 하 기 위해 , 상이 한 세정 프로세스 가 활용 될 수 있 다 . 예컨대 , He 및 NF 3 를 함유 하 는 원격 플 라즈 마가 가스 분배 플레이트 ( 230 ) 를 통해 프로세싱 챔버 ( 200 ) 내 에 도입 될 수 있 는 한편 , NH 3 가 챔버 바디 ( 212 ) 의 측면 에 배치 된 별개 의 가스 유입 구 ( 225 ) 를 통해 프로세싱 챔버 ( 200 ) 내 에 직접 적 으로 주입 될 수 있 다 .