분자 내 에 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 는 PBO 전구체 로서 , 불소 원자 를 함유 하 는 2 , 2 - 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 헥사 플 루 오로 프로판 대신 에 , 페놀 성 수산기 의 산성도 가 높 은 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 을 사용 하 고 , 이것 과 디카르복실산 과 의 축합물 과 PAC 로 이루어지 는 포지티브 형 감광성 수지 조성물 이 제안 되 어 있 다 ( 이하 , 특허 문헌 2 참조 ) . 그러나 , 특허 문헌 2 에서 의 실시 예 에서 는 , 디카르복실산 에 불소 원자 를 갖 는 화합물 을 사용 하 고 있 고 , 추가 로 현상액 도 반도체 제조 행정 에서 통상 사용 되 는 2 . 38 % TMAH 수용액 이 아닌 , 0 . 79 % TMAH 수용액 을 사용 하 고 있 다 . 이 들 은 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 의 페놀 성 수산기 에서 유래 하 는 강한 폴리머 의 알칼리 용해 성 을 컨트롤 하 기 위해 실시 된 것 으로 생각 된다 . 본원 발명자 가 디카르복실산 으로서 특허 문헌 2 에 기재 된 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 는 4 , 4 '- 옥시 비스 벤조산 과 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 의 중축합 물 을 합성 한 결과 , 얻 어 진 폴리머 는 γ - 부티 로 락톤 에 용해 되 지 않 고 , i 선 에 대한 투명 성 은 높 으나 , PAC 와의 상호 작용 이 낮 기 때문 에 , 광 감도 를 충분히 만족 할 수 있 는 것 은 아니 었 다 .