개시 하 는 실시 형태 에 대한 변형 도 가능 하 며 , 이것 은 본 개시 내용 의 범주 에 포함 되 는 것 이 전적 으로 의도 된다 . 예 를 들 어 , 도 18 의 예 에서 , P 타입 일함수 층 ( 84 ) 의 측벽 ( 84 S ) 은 핀 ( 64 B ) 의 상부 면 에서 P 타입 일함수 층 ( 83 ) 의 측벽 ( 83 S ) 에 인접 해 있 다 ( 예컨대 , 물리 적 으로 접촉 하 거나 연결 된다 ) . 그러나 , ( 예컨대 , 패 터닝 된 상부 포토레지스트 ( 88 ) 를 형성 하 는 데 사용 되 는 ) 포토 리소그래피 공정 의 공정 변동 및 / 또는 부정확 성 으로 인해 , P 타입 일함수 층 ( 84 / 83 ) 이 연결 되 는 위치 및 / 또는 P 타입 일함수 층 ( 84 / 83 ) 이 연결 되 는 위치 에서 의 P 타입 일함수 층 ( 84 / 83 ) 의 형상 이 도 18 ( 및 도 20 ) 의 예 와 상 이 할 수 도 있 다 . 이하 에 다양 한 대안 실시 형태 에 대해 논의 한다 .