웨이퍼 가장자리 의 감광막 을 제거 하 는 EBR 공정 에서 발생 하 는 웨이퍼 가장자리 의 두꺼운 감광막 형상 을 그대로 유지 하 고 , 웨이퍼 가장자리 영역 에서 WEE 공정 시 EBR 에서 발생 하 는 가장자리 의 두꺼운 감광막 형상 과 웨이퍼 최외각 사이 에 노광 영역 을 형성 하 여 , 현상 공정 시 웨이퍼 가장자리 지역 에서 마스크 패턴 을 잔류 시킴 으로써 하부 금속 배선 의 식각 시 금속 배선 이 쓰러지 는 현상 을 방지 한다 .