도 1 a 는 본 개시 내용 의 구현 들 을 실시 하 기 위해 이용 될 수 있 는 열 처리 챔버 ( 100 ) 의 개략 적 인 단면 표현 이 다 . 열 처리 챔버 ( 100 ) 는 램프 어셈블리 ( 110 ) , 처리 용적 ( 139 ) 을 정의 하 는 챔버 어셈블리 ( 130 ) , 및 처리 용적 ( 139 ) 에 배치 된 기판 지 지체 ( 138 ) 를 일반 적 으로 포함 한다 . 처리 챔버 ( 100 ) 는 , 예 를 들 어 열 어닐링 , 열 세정 , 열 화학 기상 증착 , 열 산화 및 열 질화 등 과 같 은 프로세스 들 을 위해 기판 ( 101 ) 을 가열 하 는 제어 된 열 사이클 ( controlled thermal cycle ) 을 제공 할 수 있 다 .