일본 미심사 공개 특허 출원 제 2002 - 255537 호 는 높 은 중간 기공 함량 ( high mesopore content ) , 0 . 01 대 0 . 2 의 알루미늄 대 실리콘 의 원 자비 ( 즉 , [ Al ] / [ Si ] ) ( 다시 말 해서 , 10 내지 200 의 실리카 - 알루미나 비 ) , 50 내지 1000 Å 의 기공 직경 을 갖 는 각 중간 기공 의 30 % 내지 50 % 의 부피 퍼센트 , 0 . 14 cc / g 이상 의 중간 기공 의 부피 , 및 25 원자 퍼센트 이상 의 모든 알루미늄 원자 에 대하 여 테트라 코디 네이트 된 알루미늄 원자 ( aluminum atoms ) 의 비율 을 갖 는 제올라이트 , 및 상기 제올라이트 에서 , 쉽 게 환원 되 지 않 는 , 티타니아 및 / 또는 지르 코니아 의 금속 산화물 초미립자 가 상술 한 제올라이트 의 중간 기공 의 안쪽 표면 에 조합 되 고 , 상술 한 제올라이트 로 구성 된 촉매 지 지체 상 에 담지 된 수소화 적 인 금속 을 포함 하 는 수소 화 처리 촉매 를 개시 하 고 있 다 . 높 은 중간 기공 함량 을 갖 는 상기 제올라이트 는 pH 0 . 8 내지 2 의 강산성 수용액 과 접촉 하 여 원료 제올라이트 를 가져오 는 단계 , 상기 제올라이트 를 50 ℃ 내지 200 ℃ 에서 건조 시키 는 단계 , 및 상기 건조 제올라이트 를 350 ℃ 내지 600 ℃ 에서 소성 시키 는 단계 에 의해 제조 된다 . 따라서 , 기공 의 안쪽 표면 에 조합 된 ( 담지 된 ) 금속 산화물 초미립자 에서 제올라이트 를 제조 하 는 것 이 가능 하 다는 것 을 개시 하 고 있 다 .