도 13 을 참조 하 면 , 제 1 및 제 2 마스크 패턴 들 ( 42 , 72 ) 이 제거 되 어 , 라인 형태 의 제 1 희생 패턴 들 ( 31 ) 과 , 매트릭스 형태 로 배열 된 제 2 희생 패턴 들 ( 64 ) 로 구성 된 마스크 구 조체 ( MS ) 가 하 부막 ( 20 ) 상 에 형성 될 수 있 다 . 이 와 같이 형성 된 마스크 구 조체 ( MS ) 는 도 9 를 참조 하 여 설명 한 것 처럼 , 하 부막 ( 20 ) 을 패 터닝 하 는 데 이용 될 수 있 다 . 이 와 달리 , 마스크 구 조체 ( MS ) 와 함께 제 1 및 제 2 마스크 패턴 들 ( 42 , 72 ) 이 하 부막 ( 20 ) 을 패 터닝 하 는 데 이용 될 수 도 있 다 .