상기 제 2 기판 ( 21 ) 은 투명 한 유리 , 고분자 또는 금속 으로 형성 할 수 있 다 . 상기 제 2 전도 성막 ( 22 ) 은 상기 제 2 기판 ( 21 ) 상 에 ITO 또는 SnO 2 를 얇 게 코팅 하 여 형성 할 수 있 다 . 상기 관통 홀 들 ( 23 ) 은 전해질 층 ( 30 , 도 30 참조 ) 의 주입구 로 사용 하 기 위한 것 으로 , 미세 드릴 ( drill ) 혹은 레이저 ( laser ) 를 사용 하 여 상기 제 2 기판 ( 21 ) 및 상기 제 2 전도 성막 ( 22 ) 의 양 말 단부 를 수직 및 수평 방향 으로 식각 하 여 수직 부 ( 23 a ) 및 수 평부 ( 23 b ) 를 가지 는 굴곡 된 형상 으로 형성 할 수 있 다 .