또한 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 상기 5 개 의 세컨드 얼라이먼트 쇼트 영역 에 부설 된 얼라이먼트 마크 의 검출 종료 후 , 접촉 상태 ( 또는 근접 상태 ) 에서 의 양 스테이지 ( WST , MST ) 의 + Y 방향 으로 의 이동 을 다시 개시 함 과 동시 에 , 도 20 에 도시 된 바 와 같이 , Z 헤드 ( 72 a ∼ 72 d ) 와 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 를 사용 하 여 , 웨이퍼 ( W ) 표면 의 Z 축 방향 에 관한 위치 정보 ( 면 위치 정보 ) 를 검출 하 는 포커스 매핑 을 개시 한다 .