다른 실시 예 에서 , 적어도 하나 의 공간 광 변조 장치 의 퓨리 에 평면 은 광학 시스템 에 의해 생성 될 수 있 다 . 이것 은 예 를 들 어 SLM 이 이미 징 요소 의 오브젝트 측 초점 평면 에 배치 되 고 , 퓨리 에 평면 이 이미 징 요소 의 이미지 측 초점 평면 에 발생 하 는 2 f 배치 에 의해 수행 될 수 있 다 . 이러 한 퓨리 에 평면 에 는 최대 하나 의 회절 차수 를 투과 시키 고 다른 회절 차수 를 필터링 하 는 필터 개구 가 배치 될 수 있 다 . 그런 다음 , 광학 시스템 에 의해 , 필터 구멍 에 의해 투과 된 회절 차수 의 부분 또는 부분 들 의 세그먼트 화 된 다중 이미지 가 생성 될 수 있 다 . 회절 차수 의 이러 한 다중 이미지 는 시야 의 크기 를 결정 하 고 , 그 내부 에서 장면 또는 오브젝트 가 생성 될 수 있 거나 또는 재 구성 될 수 있 다 .