레티 클 스테이지 ( 2 ) 상 에 는 레티 클 스테이지 미러 ( 7 ) 가 설치 되 어 있 고 , 상기 레티 클 스테이지 미러 ( 7 ) 에 대향 하 는 위치 에 는 레이저 간섭계 ( 9 ) 가 설치 되 어 있 다 . 레티 클 스테이지 ( 2 ) 상 의 레티 클 ( 1 ) 의 XY 방향 의 위치 및 그 회전각 ( θ Z ) 은 상기 레이저 간섭계 ( 9 ) 에 의해 리얼타임 으로 측정 되 고 측정 결과 는 제어 장치 에 출력 된다 . 제 어 장치 는 상기 레이저 간섭계 ( 9 ) 로부터 얻 어 진 측정 결과 에 의거 해서 레티 클 스테이지 구동 장치 를 구동 함 으로써 레티 클 스테이지 ( 2 ) 에 의해 지지 를 받 고 있 는 레티 클 ( 1 ) 의 위치 결정 을 실시 한다 .