한편 , 상술 한 바 와 같이 식각 공정 이 진행 됨 에 따라 기판 ( W ) 을 지지 하 는 기 판 지지 부재 ( 240 ) 의 온도 는 플 라즈 마 에 의한 히팅 으로 계속 적 으로 변화 하 게 된다 . 이 에 따라 기판 ( W ) 의 온도 또한 변하 게 되 는데 , 기판 의 온도 는 공정 에 영향 을 주 는 주요 한 요인 으로 보다 정밀 하 고 재현 성 있 게 제어 되 어야 할 필요 성 이 있 다 . 그러므로 본 발명 은 냉각 장치 ( 260 ) 를 통해 일정 온도 로 조절 된 냉각 유체 를 냉각 라인 ( 244 ) 을 통해 기판 지지 부재 ( 240 ) 에 공급 함 으로써 , 기판 지지 부재 ( 240 ) 상 에 놓여진 기판 ( W ) 의 온도 를 적절 하 게 제어 할 수 있 는 시스템 을 제공 한다 .