또한 , 이 와 같 은 단점 을 극복 하 기 위하 여 광학 적 으로 입사각 을 조절 하 거나 이 에 따른 파장 의 변화 를 측정 하 는 방법 이 사용 되 는 바 , 미국 특허 제 4 , 889 , 427 호 와 제 5 , 359 , 681 호 에 기재 된 바 와 같이 광원 에서 발산 되 는 빛 이 수렴 되 는 위치 에 기판 을 위치 시킨 후 , 시료 를 통해 반사 되 어 발산 되 는 빛 을 어레이 형태 의 수 광소자 에 의해서 측정 함 에 의해서 입사각 을 연속 적 으로 변화 시킨 효과 를 가지 고 최소 의 빛 이 입사 된 픽셀 에 해당 하 는 플라 즈 몬 공명 각 을 찾아내 는 방법 이 개시 되 어 있 다 .