기판 ( 101 ) 이 복수 의 칩 ( 다이 ) 패턴 이 형성 된 반도체 웨이퍼 인 경우 에 는 , 이러 한 칩 ( 다이 ) 패턴 의 패턴 데이터 가 검사 장치 ( 100 ) 의 외부 로부터 입력 되 어 , 설계 데이터 보존 부 ( 109 ) 에 저장 된다 . 또한 , 기판 ( 101 ) 이 노광용 포토 마스크 인 경우 에 는 , 이러 한 노광용 포토 마스크 에 마스크 패턴 을 형성 하 는 기초 로 되 는 설계 패턴 데이터 가 검사 장치 ( 100 ) 의 외부 로부터 입력 되 어 , 설계 데이터 보존 부 ( 109 ) 에 저장 된다 .