상술 한 바 와 같이 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 도 , 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 에 대한 기판 ( P ) 의 소정 의 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 으로 의 이동과 , 제 1 조명 영역 ( IA 1 ) 에 대한 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 소정 의 주사 방향 으로 의 이동과 , 제 2 조명 영역 ( IA 2 ) 에 대한 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 소정 의 주사 방향 으로 의 이동 을 동기 하 여 실시 하 는 것 에 의해서 , 패턴 화 된 노광 광 ( EL ) 을 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 의 각각 에 조사 하 고 , 기판 ( P ) 의 각 쇼트 영역 을 다중 노광 한다 .