또한 , 전술 한 제 1 처리 예 ∼ 제 4 처리 예 에서 는 , 제 1 소수 화 처리 및 제 2 소수 화 처리 에 있 어서 , 일정 한 농도 로 희석 된 소수 화제 의 액체 또는 증기 가 기판 ( W ) 에 공급 되 는 경우 에 대하 여 설명 하 였 다 . 그러나 , 제 어 장치 ( 22 ) 가 유량 조정 밸브 ( 28 , 30 ) ( 도 4 및 도 18 참조 ) 의 개도 를 제어 함 으로써 , 소수 화제 의 농도 가 연속 적 으로 또는 단계 적 으로 증가 되 어도 좋 다 . 이 경우 , 제 1 소수 화 처리 및 제 2 소수 화 처리 에 서 기판 ( W ) 에 부착 되 어 있 는 용제 를 소수 화제 로 원활 하 게 치환 할 수 있 기 때문 에 , 용제 를 기판 ( W ) 으로부터 제거 하 는 시간 을 단축 할 수 있 다 .