다른 실시 형태 에서 , 기판 으로부터 오염물 들 을 세정 하 기 위한 시스템 이 개시 된다 . 본 시스템 은 기판 을 지지 하 도록 정의 된 지지 구 조체 를 포함 한다 . 시스템 은 또한 , 지지 구조 체 위 에 세정 재료 를 분배 하 여 기판 이 지지 구 조체 상 에 존재 할 때 기판 위 에 세정 재료 가 도포 되 도록 정의 된 세정 재료 분배 디바이스 를 포함 한다 . 본 시스템 은 , 지지 구조 체 위 에 배치 된 근접 헤드 를 더 포함 하 고 , 기판 이 지지 구 조체 상 에 존재 할 때 기판 의 상부 면 에 근접 헤드 의 하 부면 이 노출 된다 . 근접 헤드 는 근접 헤드 의 하 부면 으로부터 린스 유체 를 분배 하 고 , 근접 헤드 의 하부 면 에 진공 석 션 ( suction ) 을 제공 하 도록 정의 된다 . 린스 유체 의 분배 및 진공 석 션 의 적용 은 기판 이 근접 헤드 아래 의 지지 구조 체 상 에 존재 할 때 근접 헤드 의 하 부면 과 기판 의 상부 면 사이 에 유체 매 니스커 스 를 형성 하 도록 기능 한다 . 근접 헤드 는 세정 재료 로 하여금 린스 유체 에 의해 충격 을 받 을 때 탄성 방식 으로 작용 하 게 하 는 속도 범위 내 에서 린스 유체 의 유동 속도 를 제어 하 도록 정의 된다 .