도 7 및 도 8 을 참조 하 면 , 도전 패턴 ( 125 ) 으로 둘러싸여 진 공간 을 채우 는 금속 도전 층 ( 127 a ) 을 형성 한다 . 상기 금속 도전 층 ( 127 a ) 은 타이타늄 ( Ti ) 층 또는 코발 트 ( Co ) 층 일 수 있 고 , 그리고 약 300 Å 의 두께 로 형성 될 수 있 다 . 상기 금속 도전 층 ( 127 a ) 에 열처리 공정 예 를 들 어 , RTS ( rapid thermal silicidation ) 공정 을 적용 하 여 상기 금속 도전 층 ( 127 a ) 및 상기 도전 패턴 ( 125 ) 을 반응 시켜 금속 실리사이드 패턴 ( 129 ) 을 형성 할 수 있 다 . 상기 금속 실리사이드 패턴 ( 129 ) 은 타이타늄 실리사이드 패턴 또는 코발트 실리사이드 패턴 일 수 있 다 . 상기 RTS 공정 은 약 500 ℃ 내지 약 750 ℃ 의 온도 범위 에서 수행 될 수 있 다 .