상기 공정 물질 공급 시스템 ( 20 a ) 은 제 1 소스 물질 공급 장치 ( 30 a ) , 제 2 소스 물질 공급 장치 ( 30 b ) , 전자 공여 화합물 공급 장치 ( 60 a ) , 퍼지 가스 공급 장치 ( 90 a ) , 및 산화제 공급 장치 ( 80 a ) 를 포함 할 수 있 다 . 상기 제 1 소스 물질 공급 장치 ( 30 a ) 는 상기 제 1 소스 물질 ( 16 ) 을 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에 공급 하 기 위한 장치 일 수 있 다 . 상기 제 2 소스 물질 공급 장치 ( 30 b ) 는 상기 제 2 소스 물질 ( 17 ) 을 상기 반응 챔버 ( 10 ) 내 에 공급 하 기 위한 장치 일 수 있 다 .