특히 , 사용 하 는 용매 에 따라 탄소 양자 점 에 도핑 되 는 질소 의 함량 을 조절 할 수 있 다 . 구체 적 으로 일 구 현예 에서 , 상기 질소 는 반응 용매 의 종류 에 따라 상기 탄소 양자 점 전제 중량 에 대해 3 내지 10 중량 % 로 도핑 될 수 있 다 . 예 를 들 어 니트릴 기에 대하 여 반응 성 이 높 은 용매 의 경우 상기 질소 가 3 중량 % 미만 으로 도핑 될 가능 성 이 높 고 , 반면 니트릴 기에 대하 여 반응 성 이 낮 은 용매 의 경우 상기 질소 가 10 중량 % 를 초과 하 여 도핑 될 수 있 다 .