본 발명 은 또한 도 4 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 2 개 의 토출 부 몸체 ( 81 b ) 의 사이 를 원단 이 통과 하 는 과정 에서 하향 경사진 분출공 ( 82 b ) 에서 분출 된 염액 이 평판 ( 86 ) 에 부딪힌 후 원단 에 묻 게 한 것 으로 , 이 는 염액 이 넓 게 퍼지 면서 염색 이 이루어져 더욱 빠른 시간 내 에 염색 할 수 있 게 된다 .