상기 고비 표면 적 물질 입자 또는 다공성 물질 입자 의 입도 는 50 nm 내지 1000 nm 의 범위 일 수 있 다 . 고비 표면 적 물질 입자 또는 다공성 물질 입자 의 입도 가 50 nm 이 하인 경우 , 표면적 이 지나치 게 증가 하 여 페이스트 인 전자 방출 원 형성 용 조성물 제작 시 요구 되 는 점 도 보다 높 은 점도 를 가져 인쇄 하 기 곤란 해 지 는 문제점 이 발생 된다 .