또한 , 반응 가스 노즐 ( 33 ) 에 는 그 길 이 방향 을 따라 소정 의 간격 ( 예 를 들 어 , 10 ㎜) 으로 복수 의 토출 구멍 ( 35 ) 이 형성 되 어 있 고 , 토출 구멍 ( 35 ) 으로부터 상술 한 염소 가스 가 토출 된다 . 토출 구멍 ( 35 ) 은 , 도 7 에 도시 한 바 와 같이 회전 테이블 ( 2 ) 에 대하 여 수직 인 방향 으로부터 회전 테이블 ( 2 ) 의 회전 방향 의 상류 측 을 향해 기울어져 있 다 . 이 로 인해 , 반응 가스 노즐 ( 33 ) 로부터 공급 되 는 가스 는 , 회전 테이블 ( 2 ) 의 회전 방향 과 역 의 방향 으로 , 구체 적 으로 는 돌기 부 ( 81 b ) 의 하면 과 회전 테이블 ( 2 ) 의 표면 사이 의 간극 을 향해 토출 된다 . 이 에 의해 , 회전 테이블 ( 2 ) 의 회전 방향 을 따라 플라스마 발생기 ( 80 ) 보다 도 상류 측 에 위치 하 는 천 장면 ( 45 ) 의 하방 의 공간 으로부터 반응 가스 나 분리 가스 가 , 제 3 처리 영역 ( P 3 ) 내 로 유입 되 는 것 이 억제 된다 . 또한 , 상술 한 바 와 같이 , 프레임 부재 ( 81 ) 의 하면 의 외주 를 따라 형성 되 는 돌기 부 ( 81 b ) 가 회전 테이블 ( 2 ) 의 표면 에 근접 하 고 있 기 때문 에 , 반응 가스 노즐 ( 33 ) 로부터 의 가스 에 의해 제 3 처리 영역 ( P 3 ) 내 의 압력 을 용이 하 게 높 게 유지 할 수 있 다 . 이것 에 의해서 도 , 반응 가스 나 분리 가스 가 제 3 처리 영역 ( P 3 ) 내 로 유입 되 는 것 이 억제 된다 .