또한 , 본 실시 형태 에서 는 O 2 가스 와 H 2 가스 를 플라스마 여기 해서 기판 의 플라스마 처리 를 행하 는 예 를 나타냈 지만 , 이 에 한정 하 지 않 고 , 예 를 들 어 O 2 가스 대신 에 N 2 가스 를 처리 실 ( 201 ) 내 에 공급 하 여 , N 2 가스 와 H 2 가스 를 플라스마 여기 해서 기판 에 대하 여 질화 처리 를 실행 해도 된다 . 이 경우 , 상술 한 산소 함유 가스 공급계 대신 에 상술 한 질소 함유 가스 공급계 를 구비 하 는 처리 장치 ( 100 ) 를 사용 할 수 있 다 .