한국 등록 특허 제 0746645 호 ( 2006 . 02 . 06 . 출원 ) 는 웨이퍼 들 을 세정 하 는 장치 에 관한 것 으로서 , 공정 이 수행 되 는 공간 을 제공 하 는 처 리조 와 ; 공정 진행시 상기 처 리조 내 에 제공 되 며 기판 들 이 세워진 상태 로 열 을 이루 도록 상기 기판 들 을 지지 하 는 지지 부재 와 ; 그리고 상기 처 리조 내 에 상기 지지 부재 아래 에 배치 되 어 상기 기판 들 로 세정액 을 분사 하 는 세정액 공급 부재 를 포함 하 되 , 상기 지지 부재 는 , 상기 기판 들 의 가장자리 가 삽입 되 는 슬롯 들 이 형성 된 지지 로드 들 과 ; 상기 지지 로드 들 을 연결 하 는 결합 판 및 상기 결합 판 으로부터 기판 의 중앙 영역 과 대향 되 도록 상부 로 연장 되 는 로드 형상 의 고정 로드 를 가지 는 고정대 와 ; 그리고 상기 지지 로드 의 끝단 에 제공 된 슬롯 에 삽입 된 기판 과 상기 고정 로드 사이 에 설치 되 며 , 상기 고정 로드 보다 넓 은 폭 을 가지 는 안내판 을 구비 한다 .