그리고 상기 반응 챔버 ( 200 ) 내부 에 는 드럼 ( 210 ) 에 인접 하 여 기판 이나 기판 에 증착 된 물질 들 을 열처리 시키 기 위해 히터 ( 220 ) 가 형성 되 며 , 상기 히터 ( 220 ) 는 통상 적 으로 할로겐 히터 ( 220 ) 를 사용 하 며 , 상온 에서 공정 온도 이상 까지 승 온의 제어 가 가능 하 다 . 상기 히터 ( 220 ) 에 의해 기판 에 형성 된 유기물 및 기판 표면 에 형성 된 산화층 을 제거 하 고 , 증착 된 초전 도 층 에 산소 를 공급 하 여 산소 결핍 현상 을 보강 하 기 위한 것 이 다 .