도 5 에 도시 된 배기 시스템 에서 , 제조 장치 ( 1 ) 의 작동 프로세스 , 공급 가스 의 종류 및 공급 가스 의 유량 이 제조 장치 ( 1 ) 로부터 제어기 ( 6 ) 내 에 입력 된다 . 제조 장치 ( 1 ) 는 CVD 장치 이 고 , 프로세스 챔버 내 의 작동 시퀀스 는 물 공급 → 진공 흡인 → 온도 상승 → 성막 ( 재료 가스 공급 ) → 온도 강 하 → 대기압 으로 복귀 → 물 제거 이 다 . 상기 작동 시퀀스 는 반복 된다 . 또한 챔버 내부 에 부착 되 어 있 는 고체 물질 을 제거 하 기 위해 , 세정 가스 ( 예 를 들 어 , HF , ClF 3 , NF 3 등 ) 가 챔버 내 로 주기 적 으로 공급 되 고 , 챔버 가 배기 된다 . 제어기 ( 6 ) 는 제조 장치 ( 1 ) 의 작동 프로세스 , 공급 가스 의 종류 및 공급 가스 의 유량 에 따라 진공 펌프 장치 ( 3 ) 내 의 제 1 진공 펌프 ( 10 ) 및 제 2 진공 펌프 ( 20 ) 의 회전 속도 의 자동 제어 를 수행 하 도록 구성 된다 . 구체 적 으로 , 진공 측 에 배치 되 고 부스터 펌프 로서 기능 하 는 제 1 진공 펌프 ( 10 ) 및 대기 측 에 배치 되 고 메인 펌프 로서 기능 하 는 제 2 진공 펌프 ( 20 ) 는 제조 장치 ( 1 ) 의 작동 프로세스 , 공급 가스 의 종류 및 공급 가스 의 유량 에 따라 최적 회전 속도 에서 작동 하 도록 제어 된다 .