본 발명 은 임프 린트 리소그래피 공정 을 수행 하 기 위한 임프 린트 리소그래피 장치 에 관한 것 으로서 , 로딩 언로 딩 을 담당 하 는 제 1 이송 모듈 에서 이송 된 기판 에 감광성 폴리머 나 열가 소성 폴리머 를 정밀 하 게 도포 하 는 과정 을 수행 하 는 도포 모듈 과 ; 상기 기판 에 상기 몰드 를 압착 하 여 미세 패턴 을 형성 하 는 과정 을 수행 하 는 임프 린트 공정 모듈 과 ; 상기 임프 린트 공정 모듈 에서 상기 기판 에 압착 된 몰드 를 분리 하 는 분리 모듈 과 ; 상기 기판 또는 상기 몰드 를 상기 각 모듈 에 이송 하 는 과정 을 수행 하 는 제 2 이송 모듈 ; 로 구성 되 며 , 상기 제 2 이송 모듈 을 중심 으로 도포 모듈 과 임프 린트 공정 모듈 과 분리 모듈 이 순차 적 으로 공정 을 진행할 수 있 도록 제 2 이송 모듈 에 연통 되 도록 배열 되 며 진공 상태 에서 고품질 고 효율 의 압착 방식 의 임프 린트 공정 을 별도 의 추가 공정 없이 수행 할 수 있 는 것 을 특징 으로 한다 .