도 3 을 참조 하 면 , 상기 웨이퍼 시료 ( 100 ) 는 다수 의 샷 영역 들 ( 110 ) 을 갖 는다 . 상기 샷 영역 들 ( 110 ) 중 기준 샷 영역 ( 120 ) 은 기준 노광 조건 에서 패턴 을 전사 하 여 형성 한다 . 상기 기준 샷 영역 ( 120 ) 은 상기 웨이퍼 시료 ( 100 ) 의 중앙 에 위치 한다 . 상기 샷 영역 들 ( 110 ) 중 주변 샷 영역 은 상기 기준 노광 조건 을 순차 적 으로 변 화 시킨 여러 노광 조건 에서 상기 패턴 을 전사 하 여 형성 한다 . 상기 샷 영역 들 ( 110 ) 은 서로 이격 된 열 형태 를 갖 는다 . 상기 열 사이 는 노광 되 지 않 은 영역 들 이 위치 한다 .