도 1 a 에 도시 된 바 와 같이 , 반도체 기판 ( 11 ) 상 에 카본 이 다량 함유 된 하드 마스크 층 ( 12 , Carbon Rich Hard Mask ) 및 실리콘 이 다량 함유 된 하드 마스크 층 ( 13 , Silicon Rich Hard Mask ) 가 적층 된 이종 의 폴리머 하드 마스크 층 을 형성 하 고 , 하드 마스크 층 상 에 감광막 패턴 ( 14 ) 을 형성 한다 .