본 발명 은 또한 , 폴리올레핀 조성물 에서 안정 화제 조성물 의 단편 화 로부터 오염 물질 의 양 을 감소 시키 기 위한 , 화합물 ( I ) 및 ( II ) 또는 이 들 의 혼합물 로부터 선택 되 는 화합물 을 포함 하 는 라디칼 스캐빈저 및 가공 안정 화제 를 포함 하 는 안정 화제 조성물 의 용도 에 관한 것 이 며 , 상기 가공 안정 화제 는 2 - 4 - 치환 된 페놀 모이 어 티 를 본질 적 으로 함유 하 지 않 고 , 여기 서 , 라디칼 스캐빈저 및 가공 안정 화제 의 첨가 된 함량 은 ≥ 1000 pm 이 다 .