도 7 ( a ) , ( b ) 에 나타내 는 바 와 같이 , 전면 패널 ( 1 ) , 배면 패널 ( 2 ) 의 장변 측 상하 단부 의 중앙부 의 표시 영역 밖 에 는 , 십자 형상 의 얼라인먼트 마크 ( 1 a , 2 a ) 가 마련 되 어 있 다 . 이 들 얼라인먼트 마크 ( 1 a , 2 a ) 를 이용 하 여 , 도 6 ( a ) ∼( c ) 에 나타내 는 분 할 노광 방법 을 이용 할 때 에 , 기판 ( 51 ) 에 상당 하 는 전면 기판 ( 3 ) 및 배면 기판 ( 8 ) 과 , 포토 마스크 ( 53 ) 의 위치 조정 을 행한다 . 전면 패널 ( 1 ) 의 얼라인먼트 마크 ( 1 a ) 는 , 도 1 에 나타내 는 투명 전극 ( 4 a , 5 a ) 을 전면 기판 ( 3 ) 에 형성 할 때 에 ITO 에 의해 동시 에 형성 된다 . 또한 , 배면 패널 ( 2 ) 의 얼라인먼트 마크 ( 2 a ) 는 , 도 1 에 나타내 는 데이터 전극 ( 10 ) 을 배 면 기판 ( 8 ) 에 형성 할 때 에 Ag 등 의 도전 재료 에 의해 동시 에 형성 된다 .