무선 주파수 ( RF ) 소스 에 커플링 된 안테나 가 프로세스 챔버 내 에서 가스 를 플 라즈 마 상태 로 에 너자 이징 하 는 플 라즈 마 프로세싱 시스템 이 본원 에 참조 에 의해 완전히 포함 되 는 공동 소유 의 미국 특허 제 4 , 948 , 458 호 에 개시 되 어 있 다 . 이러 한 플 라즈 마 프로세싱 시스템 에서 는 , 안테나 가 프로세스 챔버 의 외부 에 위치 되 고 유전체 윈도우 를 통하 여 챔버 안 으로 RF 에너지 가 공급 된다 . 이러 한 플 라즈 마 프로세싱 시스템 은 에칭 , 증착 , 레지스 트 박리 등 과 같 은 다양 한 반도체 프로세싱 애플리케이션 에 이용 될 수 있 다 .