화학 기상 증착 으로 코팅 된 제품 은 충분히 알려져 있 으며 , 다양 한 응용 분야 에 사용 된다 . 예 를 들 어 , CFC 또는 흑연 과 같 은 탄소 , 또는 석영 과 같 은 세라믹 물질 로 이루어진 도가니 는 화학 기상 증착 ( CVD ) 에 의해 비정질 탄소 ( amorphous carbon ) 또는 합성 다이아몬드 의 표면 층 으로 코팅 되 는 것 이 알려져 있 다 . 또한 , 전기 산업 또는 반도체 기술 분야 에서 세라믹 물질 로 이루어진 기판 이 질화규소 로 코팅 되 는 것 이 알려져 있 다 . 질화규소 의 표면층 은 , 예 를 들 어 기판 을 패 시베이 션 할 ( passivating ) 목적 으로 , 일반 적 으로 플 라즈 마 강화 화학 기상 증착 ( PECVD ) 에 의해 형성 된다 . 질화규소 의 비정질 표면층 은 PECVD 방법 을 사용 하 여 1 mbar 의 작업 압력 에서 200 ° C 내지 500 ° C 의 작업 온도 에서 형성 될 수 있 다 . 이 질화규소 층 은 여전히 처리 가스 로부터 5 내지 30 % 의 수소 또는 산소 를 함유 할 것 이 다 . 대안 적 으로 , 슬립 캐스팅 ( slip casting ) , 분말 코팅 , 또는 화염 및 플 라즈 마 분무 로서 알려진 것 에 의해 질화규소 층 이 적합 한 몸체 에 적용 되 는 것 도 가능 하 다 . 이러 한 종류 의 질화규소 층 은 확산 을 허용 하 고 기밀 성 이 없 고 , 내식성 이 없 으며 , 및 / 또는 제조 로 인한 수소 , 산소 , 탄소 , 또는 다른 불순물 을 함유 한다 .