즉 , 공급 유로 ( 32 ) 에 세정 유체 가 가압 되 어 공급 되 는 경우 , 세정 유체 의 일부 는 유동 공간 ( 39 ) 에서 유동 되 고 , 세정 유체 의 나머지 일부 는 분사 중공 ( H ) 을 통해 분사 된다 . 이때 , 세정 유체 는 고압 으로 배출 가스 를 향해 분사 된다 . 이 에 따라 , 배출 가스 에 포함 된 분진 이 세정 유체 에 흡착 되 어 제거 될 수 있 다 .