한편 , 본 발명 에 관한 기판 열처리 장치 는 , 기판 에 가열 처리 를 실시 하 는 기대 가 저 부측 에 설치 된 하우징 과 , 가열 기체 를 분출 하 는 노즐 부재 를 구비 하 고 , 이 노즐 부재 로부터 분출 되 는 가열 기체 에 의해 상기 하우징 의 천정 벽 을 따르 는 가열 기체 류 를 형성 하 면서 상기 가열 처리 를 행하 는 기판 열처리 장치 에 있 어서 , 상기 노즐 부재 로서 , 상기 와 같 은 노즐 부재 를 구비 하 고 있 는 것 이 다 ( 청구 항 18 ) .