도 6 내지 도 9 를 참조 하 면 , 처리 용기 ( 320 ) 는 승강 유닛 ( 330 ) 에 의해 하강 한다 . 이 에 , 상대 적 으로 지지 유닛 ( 310 ) 은 처리 용기 ( 320 ) 보다 상부 에 위치 되게 된다 . 이후 , 기판 ( W ) 이 지지 플레이트 ( 312 ) 의 상면 과 수평 한 방향 으로 반송 된다 . 이 에 , 기판 ( W ) 의 에지 영역 은 제 1 관 ( 410 ) 과 제 2 관 ( 420 ) 이 가지 는 개구 에 삽입 되 고 , 기판 ( W ) 의 중심 영역 은 지지 플레이트 ( 312 ) 의 상부 에 위치 하 게 된다 . 이후 , 기판 ( W ) 은 지지 플레이트 ( 312 ) 의 상면 에 안착 된다 . 지지 플레이트 ( 312 ) 의 상면 에 기판 ( W ) 이 안착 되 면 흡착 홀 ( 316 ) 은 기판 ( W ) 을 흡착 한다 . 이후 , 승강 유닛 ( 330 ) 은 처리 용기 ( 320 ) 를 상승 시킨다 . 처리 용기 ( 320 ) 가 상승 되 면 , 액 공급 유닛 ( 340 ) 과 레이저 조사 유닛 ( 350 ) 은 각각 기판 에 처리 액 과 레이저 를 조사 하 여 기판 ( W ) 에 대한 에지 처리 를 수행 할 수 있 다 .