대한민국 등록 특허 제 10 - 0518698 호 ( 이산화 탄소 함유 점성 화장품 조성물 ) 에서 는 탄산염 과 유기산 및 무기산 을 사용 하 여 이산화 탄소 를 발생 시키 고 , 피부 점막 및 손상 피부 조직 등 에 적용 시 이산화 탄소 가 피하 조직 에 충분히 공급 될 수 있 도록 이산화 탄소 의 기포 를 유지 할 수 있 는 천연 고분자 , 반합 성 고분자 또는 합성 고분자 를 증 점제 로 사용 하 였 다 . 즉 증 점제 , 물 및 산 을 포함 하 는 함수 점성 조성물 을 탄산염 과 반응 시켜 이산화 탄소 를 발생 시킨다 .