이어서 , 상기 제 1 하프 - 톤 마스크 ( 180 ) 를 통해 노광 된 상기 제 1 감광막 ( 170 ) 을 현상 하 고 나 면 , 도 7 c 에 도시 된 바 와 같이 , 상기 차단 영역 ( III ) 과 제 2 투과 영역 ( II ) 을 통해 광 이 모두 차단 되 거나 일부 만 차단 된 영역 에 는 소정 두께 의 제 1 감광막 패턴 ( 170 a ) 내지 제 5 감광막 패턴 ( 170 e ) 이 남 아 있 게 되 고 , 모든 광이 투과 된 제 1 투과 영역 ( I ) 에 는 상기 제 1 감광막 이 완전히 제거 되 어 상기 제 2 도 전막 ( 130 ) 표면 이 노출 되 게 된다 .