e ) 샤워 헤드 ( e ) 에서 화학 반응 이 일어나 지 않 기 때문 에 , 샤워 헤드 ( d ) 상 에 쌓이 는 산물 에 의한 반응물 의 성장 및 샤워 헤드 ( e ) 의 오리피스 ( ee ) 의 결과 적 인 폐쇄 의 가능 성 이 감소 된다 . 이 는 처리 중 에 균일 한 가스 유동 을 가능 하 게 하 고 , 결과 적 으로 처리 의 균일성 및 수율 의 향상 을 얻 도록 한다 . 이 는 또한 시스템 세척 을 위한 비 가동 시간 및 빈번 한 처리 중단 에 대한 필요 성 을 제거 하 여 보다 우수 한 수율 을 허용 하 고 처리 비용 을 절감 한다 .