고도 산화 방법 의 예 로 는 첫 번 째 방법 으로 광 에너지 를 흡수 하 도록 하 여 유기물 을 들뜬 상태 로 전환 한 후 산소 와 반응 하 여 라디칼 이온 등 의 생성 경로 를 통하 여 제거 하 는 UV 산화 방법 을 들 수 있 으며 , 두 번 째 방법 으로 과산화수소 에 자외선 을 조사 하 여 생성 되 는 OH 라디칼 을 이용 하 여 유기물 성분 을 제거 하 는 UV / H 2 O 2 산화 방법 을 들 수 있 고 , 세 번 째 방법 으로 는 자외선 에너지 에 의한 흡수성 이 높 은 오존 ( O 3 ) 을 이용 하 여 광분해 를 촉진 시킴 으로써 유기물 을 효과 적 으로 처리 하 는 O 3 / UV 방법 을 들 수 있 으며 , 네 번 째 방법 으로 는 반도체 의 성질 을 지닌 광촉매 TiO 2 등 을 사용 하 는 방식 으로 자외선 을 조사 하 여 광촉매 가 활성 화 되 면 전자 가 방출 되 어 수중 의 용 존 산소 또는 추가 로 투입 된 과산화수소 와 반응 혹은 OH 라디칼 을 형성 하 여 유기물 을 분해 시키 는 TiO 2 / UV 방법 을 들 수 있 고 , 마지막 으로 는 과산화수소 와 Fe 2 + 이온 을 혼합 하 여 강한 산화력 을 지니 는 OH 라디칼 을 이용 하 여 유기물 을 산화 시키 는 펜 톤 ( fenton ) 산화 법 이 있 다 .