본 발명 은 기판 에 박막 을 증착 하 는 기판 처리 장치 에 관한 것 이 다 . 상기 기판 처리 장치 는 , 챔버 를 형성 하 는 커버 ; 상기 챔버 내 에 위치 하 고 전압 이 인가 되 는 상부 전극 ; 상기 상부 전극 의 하부 에 상기 상부 전극 과 연결 되 어 위치 하 며 다수 의 분사 홀 을 갖 는 가스 분배 판 ; 상기 가스 분배 판 의 하부 에 위치 되 어 기판 을 지지 하 고 , 전압 이 인가 되 는 하부 전극 ; 상기 상부 전극 의 처짐 을 방지 하 기 위해 상기 커버 를 관통 하 여 상기 상부 전극 을 지지 하 는 인장 수단 ; 을 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .