성분 ( c ) 는 , 유전율 이방성 이 음 으로 크 다 . 성분 ( c ) 는 , IPS , VA , PSA 등 의 모드 용 의 조성물 을 조제 하 는 경우 에 사용 된다 . 성분 ( c ) 의 함유량 을 증가 시킬수록 조성물 의 유전율 이방성 이 음 으로 커지 는데 점도 가 커진다 . 따라서 , 소자 의 문턱 값 전압 의 요구 값 을 만족 시키 는 한 , 함유량 은 적 은 것 이 바람직 하 다 . 유전율 이방성 이 - 5 정도 인 것 을 고려 하 면 , 충분 한 전압 구동 을 시키 려면 , 함유량 이 40 중량 % 이상 인 것 이 바람직 하 다 .