포지티브 형 포토레지스트 패턴 이 본 발명 의 포토레지스트 조성물 로부터 제조 되 는 경우 , 현상 은 알칼리 성 현상액 으로 수행 될 수 있 다 . 사용 될 알칼리 성 현상액 은 본 기술 분야 에서 사용 되 는 다양 한 알칼리 성 현상액 중 어느 하나 일 수 도 있 다 . 일반 적 으로 , " 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 또는 ( 2 - 히드록시 에틸 ) 트리 메틸 암모늄 히드록시 드 ( 보통 "" 콜린 "" 으로 알려짐 ) 의 수용액 이 흔히 사용 된다 . 알칼리 성 현상액 은 계면 활성제 를 포함 할 수 도 있 다 . "