다른 실시 형태 는 링 플라 즈 마 챔버 , 링 플라 즈 마 챔버 의 외부 주위 의 1 차 권선 , 다수 의 페라이트 들 을 포함 하 는 플 라즈 마 프로세싱 시스템 을 제공 하 고 , 링 플라 즈 마 챔버 는 각각 의 페라이트 를 통과 한다 . 다수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부 들 은 플 라즈 마 챔버 를 프로세스 챔버 에 연결 하 고 , 플라 즈 마 챔버 유출 부 들 의 각각 하나 는 각각 의 플 라즈 마 제 한부 를 갖 는다 . 본 시스템 은 또한 적어도 하나 의 프로세스 모니터링 센서 및 제어기 를 포함 한다 . 본 제어기 는 링 플라 즈 마 챔버 내 에 프로세스 가스 를 전달 하 기 위한 로직 , 링 플라 즈 마 챔버 의 외부 주위 의 1 차 권선 에 1 차 전류 를 인가 하 기 위한 로직 , 1 차 권선 에서 자계 를 발생 시키 기 위한 로직 , 페라이트 들 로 자계 를 집중 시키 기 위한 로직 , 링 플라 즈 마 챔버 에 있 는 프로세스 가스 에 2 차 전류 를 유도 하 기 위한 로직 , 2 차 전류 로 링 플라 즈 마 챔버 에 있 는 프로세스 가스 에서 플라 즈 마를 발생 시키 기 위한 로직 , 적어도 하나 의 프로세스 모니터링 센서 로부터 프로세스 피드백 신호 를 수신 하 기 위한 로직 및 적어도 하나 의 세트 포인트 를 조정 하 기 위한 로직 을 포함 한다 .