이어서 , C 4 F 6 가스 등 과 같 은 플 루 오로 카본 가스 ( CxFy 가스 ) 와 He 가스 를 포함 하 는 처리 가스 를 처리 용기 ( 2 ) 내 로 공급 한다 ( 단계 S 2 ) . 이어서 , 제 1 고주파 전원 ( 32 ) 및 제 2 고주파 전원 ( 34 ) 으로부터 고주파 전력 ( HF , LF ) 을 인가 하 여 플 라즈 마 를 생성 시킨다 ( 단계 S 3 ) . 이어서 , 적층 막 을 에칭 ( 단계 S 4 ) 하 여 본 처리 를 종료 한다 .