따라서 , 최근 포토 리소그래피 의 광원 은 종래 의 초고압 수은 램프 에 의해 생성 된 g 선 ( 파장 약 436 nm ) 또는 i 선 ( 파장 약 365 nm ) 대신 에 , 파장 약 248 nm 의 불화 크립톤 ( KrF ) 엑 시머 레이저 또는 파장 약 193 nm 의 불화 아르곤 ( ArF ) 엑 시머 레이저 로 변경 되 고 있 다 . 또한 , 파장 약 157 nm 의 F 2 레이저 가 개발 되 고 있 다 . 장래 에 는 , 파장 이 수 nm 내지 백 nm 의 극자 외광 ( EUV 광 ) 을 채용 하 는 노광 장치 의 달성 이 전망 되 고 있 다 .