탄소 서브 플랜트 또는 임 플랜트 와 질화 가 동시 에 이루어지 는 경우 , 탄소 증발기 의 전자 는 바람직 하 게 , 광 아크 증발기 는 기판 표재 표면 에 평행 하 게 이 를 도입 하 고 질소 를 이온 화 하 기 위하 여 진공 하 에서 활용 될 수 있 다 . 질소 이온 은 이후 기판 표면 방향 내 에서 바이어스 전압 과 함께 가속 될 수 있 따 . 동시 에 , 높이 이온 화 된 탄소 는 증발기 에 동이 한 바이어스 전압 으로 도입 되 어 기판 의 금속 표면 으로 도입 된다 .