미러 ( 30 ) 에 반사 된 선형 패턴 광 은 패턴 광 을 구성 하 는 단일 띠 간 의 거리 가 일정 간격 씩 이격 되 어 순차 적 으로 배열 될 수 있 다 . 즉 , 광원 ( 10 ) 의 출력 세기 는 제 1 주기 또는 제 1 주파수 를 가지 도록 제어 되 고 , 미러 ( 30 ) 의 회전 구동 은 제 2 주기 를 또는 제 2 주파수 를 가지 도록 제어 되 어 제 1 스트라이프 패턴 ( 51 - 1 ) 이 생성 될 수 있 다 . 제 어회 로 ( 300 ) 는 , 피사체 에 반사 되 어 이미지 센서 ( 200 ) 로 입사 되 는 광이 형성 하 는 제 1 프레임 과 제 2 프레임 의 제 1 스트라이프 패턴 ( 51 - 1 ) 과 제 2 스트라이프 패턴 ( 51 - 2 ) 이 서로 위상차 를 가지 도록 , 광원 ( 10 ) 출력 세기 의 제 1 주기 와 미러 ( 30 ) 회전 구동 의 제 2 주기 가 위상차 를 가지 도록 제어 할 수 있 다 .