이 후 , OPC 모델 을 셋 업 하 고 ( S 112 ) , 시뮬레이션 노광 ( S 114 ) 을 통한 컨 투어 이미지 ( contour image ) 와 웨이퍼 에 인쇄 된 패턴 의 SEM 이미지 를 비교 하 여 ( S 116 ) , 선폭 등 의 면 에서 일정 스펙 ( specification ) 을 만족 하 게 되 면 모델 베이스 드 OPC 를 행하 게 되 고 ( S 118 ) , OPC 검증 ( S 120 ) 단계 로 진입 하 게 된다 . 스펙 을 만족 하 지 못하 면 다시 OPC 모델 을 셋 업 을 하 고 ( S 112 ) , 시뮬레이션 노광 ( S 114 ) 과 컨 투어 이미지 및 웨이퍼 에 인쇄 된 패턴 의 SEM 이미지 비교 ( S 116 ) 를 반복 하 게 된다 .