도 3 을 참고 하 면 , 기판 ( 10 ) 과 기판 ( 10 ) 의 상부 로 감광 물질 인 포토 레지스터 ( 20 ) 를 도포 하 고 , 그 위 로 미러 ( 30 ) 를 위치 시킨다 . 이때 미러 ( 30 ) 의 반사 율 을 R 이 라 하 고 투과율 을 T 라 한다 . 그리고 미러 ( 30 ) 의 상부 로 는 회절격자 ( 40 ) 를 구비 한다 . 회절격자 ( 40 ) 는 입사광 을 반사 하 도록 설치 되 고 , 회절격자 ( 40 ) 에서 반사 된 반사광 을 미러 ( 30 ) 를 통해 반사 또는 투과 된다 . 이때 , 미러 ( 30 ) 를 투과 한 투과광 은 기판 ( 10 ) 상부 에 포토 레지스터 ( 20 ) 에 노광 된다 . 또한 , 미러 ( 30 ) 에서 반사 된 반사광 은 다시 회절 결자 ( 40 ) 를 통해 반사 되 어 미러 ( 30 ) 에서 투과 되 고 이 때 반사 된 반사 광 은 또 다시 회절격자 ( 40 ) 를 통해 투과 및 반사 되 는 과정 을 반복 하 여 다중 간섭 에 따른 다중 간섭 신호 를 발생 한다 .