상술 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 청정 유지 시스템 은 챔버 유닛 ( 110 ) 내부 에 수평 및 수직기 류 를 형성 하 기 때문 에 , 갠트리 장치 ( 20 ) 에서 발생 하 는 분진 이나 외부 에서 유입 된 미립자 들 이 갠트리 장치 ( 20 ) 상 에 마련 되 어 있 는 반도체 의 웨이퍼 ( wafer ) 및 액정 표시 패널 ( LCD ) 용 글라스 등 과 같 은 작업 대상 ( 5 ) 에 붙 는 것 을 최소 화 할 수 있 다 .