본 발명 의 감광성 수지 조성물 이 광 라디칼 중합 개시제 를 포함 함 으로써 , 본 발명 의 감광성 수지 조성물 을 반도체 웨이퍼 등 의 기판 에 적용 하 여 감광성 수지 조성물 층 을 형성 한 후 , 광 을 조사 함 으로써 , 라디칼 에 기인 하 는 경화 가 일어나 , 광조 사부 에 있 어서 의 용해 성 을 저하 시킬 수 있 다 . 이 로 인하 여 , 예 를 들 면 전극 부 만 을 마스크 하 는 패턴 을 갖 는 포토 마스크 를 통하 여 감광성 수지 조성물 층 을 노광 함 으로써 , 전극 의 패턴 에 따라 , 용해 성 이 다른 영역 을 간편 하 게 제작 할 수 있 다는 이점 이 있 다 .