본 발명 은 반응 공간 을 제공 하 는 챔버 와 , 상기 챔버 내부 에 설치 되 는 스테이지 와 , 상기 스테이지 에 대향 하 여 상기 챔버 내부 에 설치 되 는 플 라즈 마 차 폐부 와 , 상기 스테이지 와 상기 플 라즈 마 차 폐부 사이 에 기판 을 거치 하 는 거치대 와 , 상기 스테이지 에 마련 되 어 상기 기판 의 일면 에 반응 가스 또는 비 반응 가스 를 공급 하 는 제 1 공 급구 와 , 상기 플 라즈 마 차 폐부 에 마련 되 어 상기 기판 의 타면 에 반응 가스 를 공급 하 는 제 2 공 급구 및 비 반응 가스 를 공급 하 는 제 3 공 급구 를 포함 하 는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 을 제공 한다 .