이러 한 액침 리소그래피 에서 해결 하 여야 문제점 중 의 하나 로 오버레이 불량 ( overlay fail ) 을 예시 될 수 있 다 . 액침 노광 장비 에서 의 침윤 매질 인 물 ( water ) 에 대한 온도 민감 성 이 진공 상태 에 비해 백배 수준 으로 크 기 때문 에 , 침윤 매질 의 굴절 률 변화 에 따른 노광 광 의 실질 적 인 파장 변화 가 크 게 발생 될 수 있 다 . 이 에 따라 , 침윤 매질 의 온도 변동 에 의한 노광 시 오버레이 불량 은 , 종래 의 건식 노광 장비 ( dry exposure tool ) 에 비해 상당히 크 게 발생 되 고 있 다 .