일 형태 에서 는 , 상기 센터링 동작 은 , 상기 센터 링 스테이지 에 보유 지지 된 상기 기판 의 중심 의 , 상기 센터 링 스테이지 의 축심 으로부터 의 편심 방향 이 , 수평 으로 연장 되 는 소정 의 오프셋 축 과 평행 해질 때 까지 상기 센터 링 스테이지 를 회전 시키 는 동작 과 , 상기 센터 링 스테이지 에 보유 지지 된 상기 기판 의 중심 이 , 상기 프로세스 스테이지 의 축심 상 에 위치 할 때 까지 상기 센터 링 스테이지 를 상기 오프셋 축 을 따라 이동 시키 는 동작 을 포함 한다 .