또한 , 본 발명 에 따른 전극 기판 의 제조 방법 은 , 유리 기판 에 에칭 마스크 를 적용 하 여 , 입력 배선 을 성막 ( 成 膜 ) 하 기 위한 홈 을 그 도중 의 깊이 까지 에칭 하 는 제 1 에칭 공정 과 , 상기 유리 기판 에 에칭 마스크 를 적용 하 여 , 개별 전극 을 형성 하 기 위한 홈 및 상기 입력 배선 을 형성 하 기 위한 홈 을 최종 의 깊이 까지 에칭 하 는 제 2 에칭 공정 과 , 상기 입력 배선 을 형성 하 기 위한 홈 에 금속 재료 로 이루어지 는 입력 배선 을 성막 하 는 입력 배선 형성 공정 과 , 상기 개별 전극 을 형성 하 기 위한 홈 에 ITO 로 이루어지 는 개별 전극 을 성막 하 는 개별 전극 형성 공정 을 구비 한 것 이 다 .