이후 , 포토레지스트 패턴 ( 도시 되 지 않 음 ) 을 식각 마스크 로 사용 하 여 절 연막 ( 170 ) 및 제 4 희생 막 ( 180 ) 을 패 터닝 하 는 식각 공정 을 수행 하 되 , 상기 포토레지스트 패턴 의 면적 을 일정 한 비율 로 축소 시키 는 트림 공정 을 함께 교대 로 반복 적 으로 수행 함 으로써 , 순차 적 으로 적층 된 제 4 희생 막 ( 180 ) 및 절 연막 ( 170 ) 으로 각각 구성 되 는 복수 개 의 계단 들 을 포함 하 는 계단 형상 의 몰드 를 기판 ( 100 ) 상 에 형성 할 수 있 다 .