상술 한 바 와 같이 본 발명 에 따른 주사 광학 장치 는 같 은 편 향기 의 반사면 을 사용 하 는 서브 주사 광학계 가 비대칭 광로 를 통해 피 주 사면 에 광 을 주사 하 도록 되 어 있 다 . 이러 한 주사 광학 장치 는 피 주사 면 즉 , 결상 면 의 위치 가 각 서브 주사 광학계 에 대해 같 은 평면 에 위치 하 거나 또는 다른 평면 에 위치 하 거나 모두 적용 가능 하 다 . 이 와 같이 본 발명 의 주사 광학 장치 는 피 주 사면 의 위치 의 제약 이 없 으며 , 이러 한 제약 이 없 으므로 광 경로 상 에 배치 되 는 반사 미러 등 의 광학 부재 부품 수 가 줄어들 뿐 만 아니 라 , 광 주사 장치 의 크기 도 줄일 수 있 고 , 부품 조립 , 조정 등 에 유리 하 다 .