그러나 이러 한 광 근접 보정 을 통해 마스크 패턴 들 을 보정 하 는 경우 , 디자인 된 패턴 을 마스크 에 패 터닝 할 때 발생 되 는 에러 가 , 이러 한 마스크 를 이용 하 여 웨이퍼 를 패 터닝 할 때 어느 정도 영향 을 미치 는 지 를 알 수 는 없 었 다 . 즉 , 웨이퍼 상 에 설계자 가 원 하 는 선폭 을 갖 는 패턴 이 형성 되 기 위해 , 마스크 상 에서 어느 정도 까지 의 에러 가 허용 이 되 는지 에 관한 것 을 정확히 예측 할 수 없 다는 어려움 이 있 었 다 .