계층 ( Ｋ ２ ) 에 는 , 기판 ( Ｗ ) 에 현상액 을 공급 하 는 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 과 , 기판 ( Ｗ ) 에 열처리 를 행하 는 열처리 유닛 ( 42 ) 과 , 기판 ( Ｗ ) 의 주연 부를 노광 하 는 에지 노광 유닛 ( ＥＥＷ ) 이 설치 되 어 있 다 . 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 은 반송 스페이스 ( Ａ ２ ) 의 한쪽 측 에 배치 되 며 , 열처리 유닛 ( 42 ) 및 에지 노광 유닛 ( ＥＥＷ ) 은 반송 스페이스 ( Ａ ２ ) 의 다른 쪽 측 에 배치 되 어 있 다 . 여기 서 , 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 은 도포 처리 유닛 ( 31 ) 과 동일 한 측 에 배치 되 는 것 이 바람직 하 다 . 또한 , 열처리 유닛 ( 42 ) 및 에지 노광 유닛 ( ＥＥＷ ) 은 열처리 유닛 ( 41 ) 과 같이 나란히 되 는 것 이 바람직 하 다 . 한편 , 본 명세서 에서 는 , 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ) 에서 행해 지 는 처리 를 적당히 현상 처리 로 기재 하 며 , 에지 노광 유닛 ( ＥＥＷ ) 에서 행해 지 는 처리 를 적당히 에지 노광 으로 기재 한다 .