또한 , 비 교예 1 의 파지 티 브 포토레지스트 조성물 을 각각 가로 길이 가 약 370 mm , 세로 길이 가 약 470 mm , 두께 가 약 0 . 7 mm 인 유리 기판 위 에 스핀 코터 를 이용 하 여 도포 하 여 포토레지스트 막 을 형성 하 였 다 . 채널 부 에 대응 하 는 반투 과부 를 갖 는 하프톤 마스크 를 이용 하 여 상기 포토레지스트 막 을 노광 하 고 , 트리 메틸 암모늄 하이드 록 사이드 약 2 . 38 중량 % 를 포함 하 는 수용액 을 이용 하 여 약 60 초간 현상 하 여 두께 가 상대 적 으로 얇 은 채널 부 를 갖 는 포토레지스트 패턴 을 형성 하 였 다 .