일실 시예 에 있 어서 , 균일 한 단면적 을 가지 는 홀 들 의 변형 에 기인 하 는 막 두께 균일 도 의 감소 를 방지 하 기 위하 여 , 상기 샤워 플레이트 의 홀 가공 영역 이 또한 변형 된다 . 상술 한 실험 들 을 고려 하 면 , 홀 가공 영역 의 크기 가 감소 되 면 ( 일반 적 으로 표면 영역 에 있 어서 약 18 . 1 % 크 며 , 직경 에 있 어서 약 8 . 7 % 크다 ) , 막 두께 균 일도 가 개선 될 수 있 음 이 의도 하 지 않 고 발견 되 었 다 . 일실 시예 에 있 어서 , 상기 반응 챔버 는 공정 처리 될 상기 기판 의 일 측 의 직경 의 0 . 95 내지 1 . 05 배 의 홀 가공 영역 의 직경 을 가지 는 샤워 플레이트 를 포함 한다 . 이 는 원형 홀 가공 영역 이 공정 처리 될 상기 기판 의 일 측 의 영역 의 0 . 9 내지 1 . 10 배 인 것 에 상응 한다 . 이 는 상기 기판 상 에 증착 된 막 의 막 두께 균 일 도 에 관련 된 상기 기판 의 일 측 의 표면 영역 에 대한 홀 가공 표면 영역 의 비율 및 세정 속도 에 영향 을 준다 . 상기 홀 가공 영역 의 감소 가 상기 세정 속도 를 의미 있 게 개선 할 수 있 음 을 의도 하 지 않 고 발견 하 였 다 . 우수 한 막 두께 균 일도 를 더 보장 하 기 위하 여 , 일부 실시 예 에 있 어서 , 상기 샤워 플레이트 의 변형 된 홀 들 은 상기 샤워 플레이트 의 표면 을 따라서 나선 형 패턴 으로 배열 된다 .