ALD 형 공정 들 은 전구체 화학 물질 들 의 제어 된 ( controlled ) 자기 제한 적 ( self - limiting ) 표면 반응 들 에 근거 한다 . 반응 챔버 내부 로 상기 전구체 들 을 순차 적 으로 또한 교번 하 여 공급 함 으로써 가스 상 반응 은 회피 된다 . 증기 상 반응물 들 은 반응 챔버 내 에서 서로 간 에 분리 된다 . 과량 의 반응물 들 및 / 또는 반응 부산물 들 은 통상 반응물 펄스 들 사이 에 반응 챔버 로부터 제거 된다 .