피처 데이터베이스 ( 320 ) 는 반도체 웨이퍼 상 에 형성 된 피처 들 의 층 에 대한 데이터 를 저장 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , " 피처 데이터베이스 ( 320 ) 는 프론트 엔드 오브 라인 ( front - end - of - line ) ( "" FEOL "")"," 미들 오브 라인 ( middle - of - line ) ( "" MOL "")"," 백 엔드 오브 라인 ( back - end - of - line ) ( "" BEOL "") 의 제조 공정 에서 형성 된 층 들 의 집 적 회로 레이아웃 ", 패 키 징 공정 에서 형성 된 피처 , 예컨대 , C 4 범프 형성 물 의 레이아웃 , 및 / 또는 패 키 징 공정 을 위해 웨이퍼 / 다이 를 마련 할 때 형성 된 피처 , 예컨대 , TSV 또는 마이크 로 범프 의 형성 물 의 레이아웃 에 관한 데이터 를 저장 할 수 있 다 . 일 실시 예 에서 , " 피처 데이터베이스 ( 320 ) 내 의 데이터 는 그래픽 데이터베이스 시스템 ( graphic database system ) ( "" GDS "") 의 포맷 ", 예컨대 , GDSII , OASIS 또는 OASIS . MASK 의 포맷 으로 이루어진다 . 피처 데이터베이스 ( 320 ) 는 웨이퍼 상 에 형성 된 상이 한 층 들 에 대한 피처 레이아웃 데이터 를 다수 의 상이 한 포맷 으로 포함 할 수 있 다 . 또한 , 컨트롤러 ( 310 ) 는 상이 한 반도체 제조 공정 에서 상이 한 층 들 에 대한 다수 의 상이 한 피처 데이터베이스 ( 320 ) 와 함께 기능 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , OASIS . MASK 포맷 으로 생성 된 레이아웃 데이터 는 특히 포토레지스트 형성 물 의 제어 와 관련 하 여 사용 될 수 있 다 .