특히 도 2 에서 알 수 있 는 바 와 같이 , 일체 형 흡입 채널 ( 13 ) 을 갖 는 흡입 장치 ( 8 ) 는 , 도 1 내지 4 의 실시 예 에서 , 과잉 의 프로세스 가스 가 흡입 될 수 있 게 하 는 흡입 장치 ( 8 ) 의 상위 및 하위 세로 변 에 구멍 들 ( 10 또는 12 ) 이 제공 되 는 , 폐쇄 된 직사각형 이나 주위 의 링 ( rectangular or peripheral ring ) 으로서 형성 된다 . 직접 흡입 채널 ( 13 ) 에 제공 된 구멍 들 ( 10 ) 은 , 도 1 내지 4 에 도시 된 실시 예 에서 는 , 면판 ( 11 ) 에 의해 커버 되 며 , 면판 ( 11 ) 은 구멍 들 ( 10 ) 로 의 과잉 의 프로세스 가스 의 균일 한 유입 이 가능 하 게 해 주 는 복수 의 면판 구멍 들 ( 12 ) 을 갖 는다 .