예 를 들 어 , 특허 문헌 1 은 , 챔버 ( 11 ) 내의 Ti 함 유막 을 제거 가능 한 클리닝 방법 을 제안 하 고 있 다 . 특허 문헌 1 에서 는 , 챔버 ( 11 ) 내 의 부재 에 대해서 부착 된 탄소 함 유막 및 Ti 함 유막 중 , 탄소 함 유막 을 산소 함유 가스 의 플 라즈 마 에 의해 제거 하 면서 , Ti 함 유막 의 표면 을 산소 함유 가스 의 플 라즈 마 에 의해 개질 한다 . Ti 함 유막 의 표면 이 개질 되 어 얻 어 진 TiO 막 은 , 불소 함유 가스 의 플 라즈 마 에 의해 제거 한다 . TiO 막 이 제거 되 어 노출 된 Ti 함 유막 의 잔사 는 , 염소 함유 가스 의 플 라즈 마 에 의해 상기 부재 로부터 제거 한다 .