한편 , 종래 에 는 인산 + 질산 + 초산 + 물 로 이루어진 정규 의 Al 단일 막 식각 액 을 이용 하 여 Mo / Al ( Al - Nd ) / Mo 삼 중막 을 습식 식각 과 건식 식각 을 혼합 하 거나 대한민국 특허 공개 제 1999 - 0066167 호 에 제시 되 어 있 는 바 와 같이 염소 ( Cl 2 ) + 아르곤 ( Ar ) + 산호 ( O 2 ) 로 이루어진 혼합 가스 를 진공 분위기 에서 건식 식각 을 하 여 원 하 는 패턴 을 제조 하 는 기술 이 제안 되 었었 다 .