전술 된 바 와 같이 , 반도체 제조 장치 등 내 의 챔버 의 통상 의 배기 시스템 에서 , 진공 펌프 , 배기 가스 처리 장치 , 희석 용 N 2 유닛 등 은 제조 장치 내 의 미리 정해진 작업 프로세스 의 신호 에 기초 하 여 제어 된다 . 진공 펌프 , 배기 가스 처리 장치 및 희석 용 N 2 유닛 의 최적 작동 조건 은 챔버 에 공급 된 가스 의 종류 및 가스 의 유량 에 따라 서로 상이 하 다 . 그러나 , 통상 적 으로 , 최적 작동 조건 의 이 차이 에 어떠 한 주목도 제공 되 지 않 았 다 . 예 를 들 어 , 챔버 에 공급 된 가스 의 종류 및 가스 의 유량 과 진공 펌프 의 최종 압력 및 배기 속도 ( 즉 , 진공 펌프 의 펌핑 능력 ) 사이 에 상관 관계 가 존재 한다 . 그러나 , 통상 적 으로 , 챔버 에 공급 된 가스 의 종류 및 가스 의 유량 에 무관 하 게 , 진공 펌프 는 미리 정해진 사양 에 기초 하 여 작동 되 어 왔 다 . 따라서 , 몇몇 경우 에 , 진공 펌프 는 과잉 의 펌핑 능력 으로 작동 되 어 왔 다 .