그러나 , 이 와 같이 중성 빔 에 사용 되 는 그리드 는 웨이퍼 면적 을 커버 할 만만 면적 에 원형 의 홀 을 형성 하 여 이 홀 을 통해 이온 을 통과 시킴 으로써 이온 추출 면적 이 전체 플레이트 의 면적 대비 20 ~ 30 % 에 미치 지 못하 기 때문 에 전기장 이나 플 라즈 마의 밀도 를 높여야 하 고 , 플라 즈 마 밀도 를 높이 게 되 면 중성 빔 챔버 가 2 개 나 3 개 의 전극 ( 그리드 ) 으로 구성 되 어 있 다는 점 을 고려 할 때 전기장 의 조절 만 으로 는 이온 빔 의 방향 을 조절 하 기 어렵 다는 문제점 이 있 었 다 .