조명 의 평면 은 광원 ( 108 ) 의 높이 를 조절 함 으로써 연속 측정 들 사이 에서 조절 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 광원 ( 108 ) 의 각각 의 위치 에 대해 , 광원 ( 108 ) 및 렌즈 ( 204 ) 에 의해 생성 된 광 빔 은 퇴적 챔버 ( 102 ) 의 시야 의 제 1 ( 예 를 들 어 , 평면 ) 서브 영역 을 조명 할 수 있 고 , 입자 들 ( 106 ) 의 검출 은 위 에서 설명 된 바 와 같이 수행 될 수 있 다 . 후속 하 여 , 광 빔 이 시야 의 제 2 서브 영역 을 조명 하 도록 광원 ( 108 ) 을 수직 방향 으로 ( 위 또는 아래 로 ) 이동 시킴 으로써 , 광 빔 이 재 위치 될 수 있 다 . 일부 구현 들 에서 , 카메라 ( 112 ) 는 새로운 조명 된 서브 영역 이 그 초점 에 남 아 있 도록 광원 ( 108 ) 과 함께 이동 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 카메라 는 광원 에 견고 하 게 연결 되 어 남 아 있 는 방식 으로 장착 될 수 있 다 . 다른 구현 들 에서 , 카메라 ( 112 ) 는 챔버 ( 102 ) 에 대해 고정 되 어 남 아 있 을 수 있 는 한편 , 카메라 의 초점 거리 는 새로운 서브 영역 에 초점 이 맞 도록 조절 된다 . 두 개 의 연속 적 인 재 조절 사이 의 수직 시프트 는 수직 방향 에서 빔 의 수직 확산 ( 예 를 들 어 , 하나 의 구현 에서 1 mm ) 보다 작 을 수 있 고 , 그 에 의해 가시 영역 의 전체 수직 연장 이 결국 에 는 커버 된다 . 일부 구현 들 에서 , 광 빔 의 재 위치 는 수직 방향 이 아닌 수평 ( 또는 임의 의 다른 ) 방향 으로 수행 된다 .