이때 , 상기 투명 전도성 산화물 ( 210 a ) 은 MOCVD ( Metal - Organic Chemical Vapor Deposition ) , PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 와 같 은 CVD 공정 , e 빔 ( e - beam ) 공정 , 스퍼터링 ( Sputtering ) 공정 등 으로 형성 되 며 , 상기 투명 전도성 산화물 ( 210 a ) 은 태양광 이 투과 할 수 있 도록 ZnO ( Zinc Oxide ) , ITO ( Indium Tin Oxide ) , IZO ( Indium Zinc Oxide ) 등 과 같 은 물질 을 이용 한다 .