이러 한 CMP 또는 유전체 에치 백 단계 는 CNT 시드 층 ( 314 ) 의 표면 이 요철 이 되게 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 일부 실시 예 에서 , CNT 시드 층 ( 314 ) 은 지금 기술 된 CMP 또는 유전체 에치 백 단계 에 의해서 및 / 또는 추가 의 요철 표면 화 단계 에 의해서 요철 표면 이 되 는 질화 티탄 을 포함 할 수 있 다 . 이러 한 요철 표면 의 질화 티탄 표면 은 CNT 제조 를 위한 시드 표면 으로서 사용 될 수 도 있 다 . 예 를 들 어 , " 요철 표면 의 질화 티탄 은 Smith 등 의 "" Polishing TiN for Nanotube Synthesis """, Proceedings of the 16 th Annual Meeting of the American Society for Precision Engineering , Nov . 10 ~ 15 , 2001 에 기술 된 바 와 같이 수직 으로 정렬 된 CNT 의 형성 을 용이 하 게 함 을 보였 다 . ( 또한 , " Rao 등 의 "" In situ - grown carbon nanotube array with excellent field emission characteristics """, Appl . Phys . Lett . , Vol , 76 , No . 25 , 19 June 2000 , pp . 3813 - 3815 를 참조 한다 ) .