이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 본 발명 은 초점 높이 분석 ( Focus Level Analysis ) 장치 를 이용 하 여 노광 렌즈 의 초점 을 정확 하 게 보정 함 으로써 , 웨이퍼 의 배면 에 발생 하 는 이 물질 들 에 의해서 웨이퍼 표면 의 높이 가 상이 해 지 고 이 에 따라 노광 공정 이 정상 적 으로 수행 되 지 못하 는 문제 를 해결 할 수 있 다 . 따라서 , 노광 불 균형 에 의한 반도체 소자 의 결함 을 방지 하 고 , 반도체 소자 의 공정 수율 을 증가 및 반도체 소자 의 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 는 효과 를 제공 한다 .