5 ㎝ 모서리 의 유리 기판 ( 이 글 2000 ； 코닝 사 제 ) 상 에 , 착색 수지 조성물 을 스핀 코팅 법 으로 도포 한 후 , 100 ℃ 에서 3 분 간 프리 베이 킹 하 여 착색 조성물 층 을 얻 었 다 . 방랭 후 , 착색 조성물 층 이 형성 된 기판 과 석영 유리제 포토 마스크 의 간격 을 100 μ m 로 하 고 , 노광기 ( TME - 150 RSK ； 탑 콘 ( 주 ) 제 ) 를 이용 하 여 , 대기 분위기 하 , 150 mJ / ㎠ 의 노광량 ( 365 nm 기준 ) 으로 광 조사 했 다 . 포토 마스크 로서 는 , 100 μ m 라인 앤드 스페이스 패턴 이 형성 된 것 을 사용 했 다 . 광 조사 후 의 착색 조성물 층 을 , 비 이온 계 계면 활성제 0 . 12 % 와 수산화 칼륨 0 . 04 % 를 포함 하 는 수계 현상액 에 24 ℃ 에서 60 초간 침지 현상 하 고 , 세 면 후 , 오븐 내 , 200 ℃ 20 분 간 포스트 베이 킹 을 행하 여 , 착색 패턴 을 얻 었 다 .