본 발명 의 포토 마스크 블랭크 ( 10 ) 는 레지스 트 막 ( 13 ) 을 도포 하 는 공정 후 , 기판 ( 11 ) 의 측면 및 / 또는 이면 등 에 불 필요 한 레지스 트 막 ( 13 ) 이 도포 되 지 않 기 때문 에 , 불 필요 한 레지스 트 막 ( 13 ) 을 제거 하 는 추가 적 인 공정 이 필요 하 지 않 다 . 따라서 , 제조 비용 과 공정 시간 이 줄어들 고 , 불 필요 한 레지스 트 막 ( 13 ) 으로부터 발생 되 는 파티클 의 영향 을 받 을 염려 가 전혀 없 다 .