한편 , 정전 처리 된 마스크 는 최 외층 , 정전 필터 층 및 최 내층 이 순차 적 으로 적층 된 3 층 구조 이 거나 , 상기 최 외층 과 정전 필터 층 사이 에 마스크 의 형태 안정 성 을 부여 해 주 는 써 멀 본드 부직포 가 추가 된 4 층 구조 가 일반 적 이 다 . 그러나 , 전술 한 3 층 구조 의 경우 에 는 높 은 흡기 저항 및 배기 저항 으로 인하 여 , 도 13 에 도시 한 바 와 같이 사람 이 착용 후 호흡 시 최 외층 과 정전 필터 층 이 밀착 되 어 공기 의 흐름 성 이 저하 되 어 호흡 이 쉽 지 않 은 문제 가 발생 하 게 된다 . 또한 , 전술 한 4 층 구조 의 경우 에 는 써 멀 본드 부직포 로 인하 여 마스크 의 형태 안정 성 은 확보 할 수 있 으나 , 써 멀 본드 부직포 자체 의 먼지 필터 효율 이 없 어 마스크 제조 비용 만 높 아 지 게 된다 .