이하 , 첨부 되 는 도면 을 참조 하 여 본 발명 에 따른 일 실시 형태 가 설명 된다 . 도 10 은 본 발명 의 실시 형태 에 따른 결정 화 장치 의 개략 적 인 구성 을 나타내 는 도면 이 다 . 도 11 은 도 10 에 도시 되 는 조사 시스템 의 내부 구성 을 개략 적 으로 나타내 는 도면 이 다 . 도 10 및 11 을 참조 하 면 , 본 발명 에 따른 결정 화 장치 는 입사광 빔 또는 플럭스 ( flux ) 의 위상 을 변조 하 여 소정 광 강도 분포 를 갖 는 광 빔 또는 플럭스 를 형성 하 는 광 변조 소자 ( 1 ) , 광 변조 소자 ( 10 ) 에 레이저 빔 을 조사 하 는 조사 시스템 ( 2 ) , 결상 광학계 ( 3 ) , 및 프로세싱 대상 기판 ( 4 ) 을 홀딩 하 는 기판 지지대 ( 5 ) 를 포함 한다 .