일부 실시 예 들 에서 , 염소 기반 에칭 이 주석 옥사이드 의 존재 시 특정 한 금속 옥사이드 들 을 선택 적 으로 에칭 하 도록 사용 된다 . 예 를 들 어 티타늄 옥사이드 는 주석 옥사이드 의 존재 시 염소 - 기반 에칭 을 사용 하 여 선택 적 으로 에칭 될 수 있 다 . 일부 실시 예 들 에서 , 반도체 기판 이 제공 되 고 , 반도체 기판 은 노출 된 티타늄 옥사이드 층 및 주석 옥사이드 의 층 을 포함 한다 . 다음 에 , 티타늄 옥사이드 는 주석 옥사이드 의 존재 시 염소 - 기반 에칭 화학 물질 을 사용 하 여 선택 적 으로 에칭 된다 . 주석 옥사이드 는 이 에칭 전 에 노출 될 수 도 있 고 또는 주석 옥사이드 에칭 과정 동안 노출 되 게 될 수 도 있 다 .