또한 , 후방 회전자 지지 판 은 유입 경로 와 대응 하 는 분 사공 및 유출 경로 와 대응 하 는 배출 공 을 갖 는 것 을 특징 으로 하 고 , 분사 공 은 후방 회전자 지지 판 의 축 방향 에 대해 경사지 고 배출 공 은 평행 한 것 을 특징 으로 하 며 , 분사 공 은 후방 회전자 지지 판 의 축 방향 에 대해 와선 형태 를 갖 는 것 을 특징 으로 한다 .