상기 와 같 은 입자 측정 시스템 은 광 변환 부 에 의해 생성 되 는 1 차원 광 을 플 라즈 마 내 로 조사 하 기 때문 에 , 플라 즈 마 내 의 특정 한 부위 ( 0 차원 의 한 점 ) 에 존재 하 는 입자 의 크기 밖에 측정 할 수 없 는 종래 와 는 달리 , 플라 즈 마 내 의 특정 한 면 ( 2 차원 의 한 면 ) 에 존재 하 는 입자 들 의 크기 및 그 분포 를 측정 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 반도체 공정 에 이용 되 는 플라 즈 마 공정 에서 공정 용기 의 구조 또는 물리 적 작용 등 과 같 은 여러 가지 요인 들 에 의해 플 라즈 마 내 의 위치 에 따라 달라지 는 입자 들 의 크기 및 그 분포 를 2 차원 적 으로 감시 ( monitoring ) 할 수 있 다 .