기판 ( Ｗ ) 에 처리 를 행하 는 기판 처리 장치 에서 , 기판 을 거의 수평 방향 으로 반송 하 면서 기판 에 복수 종류 의 처리 를 행하 는 것 이 가능 한 기판 처리 열 을 상하 방향 으로 복수 설치 함 과 아울러 , 기판 에 행하 는 처리 공정 을 기판 처리 열 마다 변경 하 는 제 어부 를 구비 하 고 있 다 . 기판 에 행하 는 처리 공정 을 기판 처리 열 마다 변경 함 으로써 , 기판 에 행하 는 처리 공정 을 기판 마다 적합 하 게 변경 할 수 있 다 . 따라서 , 기판 마다 , 기판 처리 열 수 ( 數 ) 에 상당 하 는 복수 의 다른 공정 처리 를 병행 하 여 진행 시킬 수 있 다 .