이 와 같이 , 본 실시 형태 에 의하 면 , 빔 어레이 를 x 방향 을 향하 여 소정 의 균등 폭 으로 복수 의 영역 으로 분할 하 고 , 각 분 할 영역 에서 빔 의 위치 이탈 량 의 범위 는 빔 어레이 전체 에서 의 빔 위치 이탈 량 의 범위 보다 작아지 는 경향 을 이용 하 여 , 각 분 할 영역 에 대해 , 위치 이탈 량 의 평균값 을 도시 한 함수 를 산출 한다 . 그리고 , 묘화 데이터 에 정의 된 패턴 의 위치 를 , 이 함수 로 산출 한 값 만큼 시프트 해 둠 으로써 , 위치 이탈 한 빔 으로 묘화 한 패턴 의 묘화 위치 를 설계 값 에 가까워 지 도록 보정 할 수 있 다 . 또한 , 빔 어레이 의 영역 분 할 수 와 같 은 수 ( 또는 그 이상 의 수 ) 의 다 중도 로 다중 묘화 를 행한다 .