도 27 ( b ) 에 나타내 는 바 와 같이 , 그 레지스 트 패턴 ( 63 ) 을 마스크 로서 사용 하 여 , 게이트 ( 5 ) 의 상방 으로 연장 되 는 게이트 측벽 절 연막 ( 6 ) 및 산화 막 ( 61 ) 을 선택 적 으로 제거 해서 , 게이트 ( 5 ) 의 상면 을 노출 시킨다 . 그 결과 , 제 1 및 제 2 게이트 측벽 절 연막 ( 6 - 1 , 6 - 2 ) , 및 제 5 및 제 6 게이트 측벽 절 연막 ( 24 - 1 , 24 - 2 ) 을 형성 한다 .