노광 장치 의 베스트 포커스 면은 , 예 를 들 어 검사 용 의 레티 클 을 사용 해서 계측 을 행하 거나 또는 웨이퍼 스테이지 에 탑재 된 센서 를 사용 하 여 레티 클 패턴 의 공중 상 ( aerial image ) 을 계측 함 으로써 검출 할 수 있 다 . 주사 노광 장치 의 상면 형상 은 , 상술 한 바 와 같이 하 여 검출 될 수 있 는 베스트 포커스 면 으로부터 서보 추종 에 의해 보정 될 수 있 는 0 차 성분 ( 오프셋 ) 및 1 차 성분 ( 기울기 ) 을 차감 하 여 얻 을 수 있 다 .