언급 한 바 와 같이 , 본 발명 의 플 라즈 마 식각 장치 및 이 를 포함 하 는 기판 처리 시스템 에 의하 면 동일 챔버 내 에서 박막 이 형성 된 반도체 기판 을 냉각 시킨 후 반도체 기판 의 주변 부 에 흡착 된 이 물질 을 용이 하 게 식각 한다 . 기판 을 냉각 시키 는 냉각 유닛 을 포함 하 는 플 라즈 마 식각 장치 는 주변 부 식각 공정 에서 발생 할 수 있 는 이 물질 을 용이 하 게 억제 할 수 있 다 .