도 16 은 도 13 의 제 2 - 3 단계 ( S 23 ) 를 나타내 는 도면 이 다 . 위상 마스크 ( 130 ) 는 나노 노광 공정 시 사용 하 기 위한 포토 마스크 로서 , 제 1 감광제 패턴 ( 120 ) 위 에 투명 한 액상 의 고분자 를 붓 고 , 열 또는 자외선 경화 시킨다 . 이때 , 열 경화 시킬 경우 , 온도 가 40 내지 100 ℃ 범위 내 인 것 , 자외선 경화 시킬 경우 , 광조 사량 이 100 내지 2000 mJ / cm 2 인 것 이 바람직 하 다 . 열 경화 온도 가 40 ℃ 보다 낮 거나 자외선 조사량 이 100 mJ / cm 2 보다 낮 으면 경화 가 잘 일어나 지 않 는 문제점 이 있 고 , 열 경화 온도 가 100 ℃ 보다 높 거나 자외선 경화 온도 가 2000 mJ / cm 2 보다 높 으면 과도 한 수축 이 발생 하 므로 위상 마스크 ( 130 ) 의 패턴 이 원 하 는 형상 으로 나오 지 않 는 문제점 이 있 다 .