액체 원료 ( L ) 의 기화 를 촉진 하 는 기화 촉진 수단 은 제 1 노즐 ( 116 ) 과 마주 보 는 위치 에서 캐리어 ( C ) 를 분사 하 는 제 2 노즐 ( 126 ) 을 구비 한다 . 캐리어 ( C ) 는 캐리어 공급 부 ( 125 ) 에 저장 되 며 캐리어 밸브 ( 120 ) 에 의하 여 그 유량 이 조절 되 고 제 2 노즐 ( 126 ) 을 통하 여 기화 챔버 ( 155 ) 내부 로 분사 된다 . 제 2 노즐 ( 126 ) 에서 분사 되 는 캐리어 ( C ) 와 제 1 노즐 ( 116 ) 에서 분사 되 는 액체 원료 ( L ) 는 그 분사 방향 이 서로 반대 이 므로 와류 ( 160 ) 유동 을 형성 하 며 서로 혼합 되 고 , 배관 ( 170 ) 을 통하 여 공정 챔버 ( 190 ) 로 공급 된다 . 공정 챔버 ( 190 ) 에서 는 기화 된 액체 원료 ( L ) 를 이용 하 여 MOCVD 방법 등 에 의하 여 웨이퍼 에 박막 을 형성 한다 .