다음 으로 , 제 2 도금 층 형성 을 위한 도금 공정 을 수행 하 였으며 , 구체 적 으로 상술 한 제 1 도금 층 형성 방법 과 동일 한 방식 으로 도금 공정 을 수행 하 되 , 무전 해 니켈 도금 으로 4 ㎛ target 으로 공정 을 수행 함 으로써 , 도금 층 이 형성 된 볼트 ( 실시 예 1 , 도 1 참조 ) 및 와셔 ( 실시 예 2 , 도 2 참조 ) 를 제조 하 였 다 .