이러 한 시뮬레이션 모델 을 이용 한 시뮬레이션 을 통해 설계 된 패턴 레이아웃 이 실제 웨이퍼 상 에 형성 되 는 형상 을 예측 하 거나 광 근접 보정 을 수행 하 기 위해서 , 시뮬레이션 모델 을 수행 하 고자 하 는 패턴 전사 과정 에 대해 캘 리브레 이 션 한다 . 이때 , 본 발명 의 실시 예 에서 는 목표 패턴 레이아웃 을 따르 는 포토레지스트 패턴 을 웨이퍼 상 에 전사 한 후 리플 로우 공정 을 수행 하 므로 , 캘리 브레이 션 은 전사 과정 및 리플 로우 과정 을 모두 고려 하 여 수행 된다 .