화소 영역 ( 120 ) 에서 는 , 화소 전극 ( 125 ) 및 제 1 격벽 ( 141 ) 의 상면 에 , 정공 주입 층 ( 132 ) , 발광 층 ( 133 ) 이 순차 로 적층 되 어 있 다 . 이 들 의 층 은 , 유기 EL 장치 ( 1 ) 와 동일 한 방법 에 의해 형성 되 지만 , 발광 층 ( 133 ) 의 재료 로서 적색 발광 폴리머 가 이용 된다 . 전자 주입 층 ( 134 ) 및 대향 전극 ( 126 ) 은 , 화소 영역 ( 120 ) 및 제 2 격벽 의 상면 에 형성 되 어 있 지만 , 대향 전극 ( 126 ) 에 전위 를 공급 하 는 대향 전극 콘택트 배선 ( 126 a ) 의 위치 까지 는 연장 되 지 않 는다 .