2 가지 이온 주입 단계 가 수행 되 는 구 현예 들 에서 는 , 제 1 이온 주입 은 n - 타입 기저 층 ( 10 ) 의 전면 상 에서 약 1 . 0 × 1015 cm - 2 내지 3 . 0 × 1015 cm - 2 의 양 , 예 를 들 어 1 . 7 × 1015 cm - 2 의 양 으로 균일 하 게 수행 될 수 있 다 . 빔 가속 은 5 킬로 전자 - 볼트 ( keV ) 내지 30 keV 의 범위 , 바람직 하 게 는 10 keV 에서 수행 될 수 있 다 . 하나 이상 의 필드 영역 들 ( 20 ) 이 도핑 된 이후 에 는 , 제 2 이온 주입 단계 가 수행 됨 으로써 하나 이상 의 선택 적 영역 들 ( 15 ) 이 도핑 될 수 있 다 . 선택 적 영역 들 ( 15 ) 의 패 터닝 은 마스크 , 예 를 들 어 그래 파이트 섀도우 마스크 를 통하 여 이온 주입 을 수행 함 으로써 달성 될 수 있 다 . 수퍼 스트레이트 ( superstrate ) 섀도우 마스크 를 사용 하 는 경우 , 2 개 의 이온 주입 단계 들 을 수행 하 는 동안 각 단계 사이 에 기판 을 제거 할 필요 없이 이온 주입기 내 에 로딩 한 상태 로 방치 하 는 것 이 가능 하 다 . 그래 파이트 마스크 는 300 내지 500 마이크로미터 의 폭 을 갖 는 개구 들 을 구비 하 며 기판 의 폭 과 동일 하 거나 이 보다 더 큰 길 이 , 예 를 들 어 156 밀리미터 의 길이 를 가질 수 있 다 .