한편 , 본 실시 예 가 변형 된 실시 예 에 있 어서 는 , 각각 의 테스트 마스크 별로 노광 에너지 와 포커스 를 변화 시켜 가 면서 , 공정 을 진행 하 였을 경우 에 발생 되 는 초점 심도 ( Depth of focus : DOF ) 의 변화 량 도 함께 고려 하 여 마스크 패턴 들 을 보정 할 수 도 있 다 . 도 5 a 및 도 5 b 에 상기 5 개 의 테스트 마스크 를 노광 에너지 와 포커스 를 변경 시켜 가 면서 측정 한 초점 심도 의 변화 량 에 대한 그래프 가 도시 되 어 있 다 . 도 5 a 는 제 1 패턴 ( 2 ) 에 대한 초점 심도 의 변화 량 을 도시 한 것 이 고 , 도 5 b 는 제 2 패턴 ( 4 ) 에 대한 초점 심도 의 변화 량 을 도시 한 것 이 다 . 도시 된 바 와 같이 , 패턴 의 목표 선폭 을 변화 시켜 마스크 를 제작 한 경우 초점 심도 의 값 이 점점 감소 됨 을 알 수 있 다 . 따라서 마스크 패턴 의 최적 의 선폭 량 을 결정 함 에 있 어서 , 상기 α 값 과 함께 이러 한 초 점심 도 값 이 많이 변하 지 않 는 범위 내 에 있 는 선폭 량 을 최적 의 선폭 량 으로 결정 하 는 것 이 바람직 하 다 .