그런 다음 , 도 5 에 도시 한 바 와 같이 , 공통 소스 영역 ( 12 ) 을 제외 한 반도체 기판 ( 100 ) 전면 에 감광막 을 이용 하 여 자기 정렬 마스크 ( 160 ) 를 형성 한 후 자기 정렬 마스크 ( 160 ) 및 게이트 라인 ( 13 ) 을 마스크 로 삼 아 공통 소스 영역 ( 12 ) 에 존재 하 는 소자 분리 막 ( 60 ) 을 제거 하 여 반도체 기판 ( 100 ) 을 드러냄 으로써 공통 소스 라인 ( 80 ) 을 형성 한다 .