제 2 실시 예의 히트 싱크 ( 110 ) 를 제조 하 기 위하 여 , 전술 한 제 1 실시 예의 히트 싱크 제조 방법 에서 식각 과정 이 완료 된 후 에 도금 공정 이 진행 된다 . 도금 에 의해 히트 싱크 베이스 ( 11 ) 와 돌기 ( 12 ) 에 도금 층 ( 40 ) 이 형성 된다 . 도금 층 ( 40 ) 은 열전도도 가 높 은 구리 또는 은 ( Ag ) 재질 로 이루어진다 . 그리고 도금 층 ( 40 ) 의 두께 는 관통 구멍 ( 13 ) 에 후술 되 는 피 브 디 공정 이나 피이 시브 디 공정 을 이용 하 여 DLC 층 ( 30 ) 을 형성 할 수 있 는 두께 를 가진다 . 도금 층 ( 40 ) 은 40 - 270 ㎛ 의 두께 로 형성 될 수 있 다 .