열처리 시 분위기 는 특별히 한정 되 지 않 으나 질소 ( N 2 ) , 아르곤 ( Ar ) , 수소 ( H 2 ) , 이 들 의 혼합 기체 등 의 분위기 에서 실시 하 는 것 이 바람직 하 다 . 열처리 온도 는 온도 범위 500 내지 1500 ℃ 범위 에서 수행 한다 . 열처리 온도 가 500 ℃ 미만 인 경우 에 는 고분자 의 탄화 가 이루어지 지 않 으며 , 1500 ℃ 를 초과 하 는 경우 에 는 전기 화학 적 으로 비활성 물질 인 SiC 가 형성 되 기 때문 에 바람직 하 지 않 다 . 또한 열처리 시 2 내지 20 ℃/ 분 속도 로 온도 범위 500 내지 1500 ℃ 의 적절 한 온도 로 승 온 시킨 다음 1 내지 10 시간 등온 조건 하 에 열처리 하 는 것 이 더 바람직 하 다 .