기판 처리 장치 ( 1 ) 는 약액 이나 린스 액 등 의 처리 액 에 의해 반도체 웨이퍼 등 의 기판 ( W ) 을 1 매 씩 처리 하 는 매 엽 식 ( 枚 葉 式 ) 의 기판 처리 장치 이 다 . 도 1 및 도 2 에 도시 하 는 바 와 같이 , 기판 처리 장치 ( 1 ) 는 기판 ( W ) 을 수평 으로 유지 하 여 회전 시키 는 스핀 척 ( 2 ) ( 기판 유지 유닛 , 건조 유닛 ) 과 , 스핀 척 ( 2 ) 의 위쪽 에 배치 된 차 단판 ( 3 ) 과 , 스핀 척 ( 2 ) 에 유지 되 어 있 는 기판 ( W ) 에 처리 액 을 공급 하 는 처리 액 공급 기구 ( 4 ) 를 구비 하 고 있 다 .