일부 구 현예 에서 , 금속 막 을 포함 하 는 증착 된 박막 에 는 증착 후 처리 공정 이 수행 될 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 당해 처리 공정 은 , 예 를 들 면 , 금속 막 을 포함 하 는 증착 된 박막 의 전도 도 또는 연속 성 을 향상 시킬 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 처리 공정 은 예 를 들 면 어닐링 공정 을 포함 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 금속 막 을 포함 하 는 박막 은 진공 또는 하나 이상 의 어닐링 가스 , 예 를 들 면 수소 를 포함 하 는 환원 가스 와 같 은 환원 가스 를 포함 하 는 분위기 에서 어닐링 될 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 금속 막 은 진공 또는 어 닐 가스 에서 의 , 예 를 들 면 환원 가스 에서 의 , 승 온 에서 , 예 를 들 면 금속 막 증착 반응 온도 에서 의 질소 및 어 닐 / 처리 를 포함 할 수 있 으며 , 질소 를 환원 시킬 수 있 거나 질소 를 금속 막 으로부터 거의 완전히 제거 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 환원 가스로 의 처리 는 매 주기 마다 , n 번 째 주기 ( 이때 n 은 1 , 2 , 3 , 4 , 9 , 19 , 49 또는 99 주기 이상 일 수 있 다 ) 마다 적용 되 거나 , 후처리 로서 금속 막 증착 후 에 적용 된다 . 질소 를 포함 하 는 금속 막 은 처리 되 기 전 에 는 약 60 원자 % 미만 , 약 50 원자 % 미만 , 약 40 원자 % 미만 , 약 30 원자 % 미만 , 약 20 원자 % 미만 , 약 10 원자 % 미만 , 또는 약 5 원자 % 미만 의 질소 를 포함 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 처리 된 후 의 금속 막 은 약 20 원자 % 미만 , 약 10 원자 % 미만 , 약 5 원자 % 미만 , 약 2 원자 % 미만 , 약 1 원자 % 미만 , 약 0 . 5 원자 % 미만 , 또는 약 0 . 2 원자 % 미만 의 질소 를 포함 할 수 있 다 .