ITO 전극 층 ( 두께 200 A , 10 Ohm / sq , 1 cm x 1 cm ) , 각각 0 ° 및 90 ° 의 문지름 각 으로 문질러진 폴리 이미드 정렬 층 ( JSR AL 3046 ) , 각각 3 또는 2 . 7 μ m 의 셀 갭 을 달성 하 기 위한 스 페이서 , 및 밀봉재 ( XN - 1500 , 미츠 비시 케미컬 즈 ( Mitsubishi Chemicals ) ) 를 갖춘 , 연마 된 SL 유리 ( 코닝 ( Corning ) , 두께 1 . 1 mm ) 의 2 개 의 기판 을 포함 하 는 TN 시험 셀 을 제조 하 였 다 .