도 1 내지 도 4 를 참조 하 면 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 는 포토 마스크 기판 또는 웨이퍼 와 같 은 기판 ( S ) 을 처리 하 기 위한 공간 을 제공 하 는 챔버 ( 20 ) 및 챔버 ( 20 ) 내 에 배치 되 며 상기 기판 을 지지 하 기 위한 기판 지지 유닛 ( 100 ) 을 포함 할 수 있 다 . 기판 지지 유닛 ( 100 ) 은 상기 기판 이 안착 되 는 기판 플레이트 및 상기 기판 플레이트 내부 에서 상하 이동 가능 하 도록 설치 되 어 상기 기판 을 지지 하 는 복수 개 의 리프트 핀 들 ( 210 ) 을 갖 는 리프트 핀 장치 를 포함 할 수 있 다 . 또한 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 는 플 라즈 마 전력 공급 부 , 바이어스 전력 공급 부 , 가스 공급 부 , 배기 부 를 더 포함 할 수 있 다 .