상기 반도체 소자 는 고속 으로 동작 하 는 동시 에 대용량 의 저장 능력 이 요구 됨 에 따라 상기 반도체 소자 는 집적도 , 신뢰 도 및 응답 속도 등 을 향상 시키 는 방향 으로 제조 기술 이 발전 되 고 있 다 . 따라서 , 상기 반도체 장치 의 집적 도 향상 을 위한 사진 식각 ( photolithography ) 기술 과 같 은 미세 가공 기술 에 대한 요 구도 가 엄격 해 지 고 있 는 실정 이 다 .