본 발명 은 반도체 집 적 회로 , CCD ( Charge Coupled Device ; 전하 결합 소자 ) , LCD ( Liquid Crystal Device ; 액정 표시 소자 ) 용 컬러 필터 , 자기 헤드 등 의 미세 가공 에 이용 되 는 포토 마스크 의 소재 가 되 는 바이너리 포토 마스크 블랭크 , 특히 ArF 노광 에 이용 하 는 바이너리 포토 마스크 용 바이너리 포토 마스크 블랭크 및 바이너리 포토 마스크 블랭크 를 이용한 바이너리 포토 마스크 의 제조 방법 에 관한 것 이 다 .