또한 , 예 를 들 어 염소 ( Cl 2 ) 또는 브롬화수소 ( HBr ) 를 함유 한 가스 를 이용 하 는 건식 에칭 이 수행 된다 . 건식 에칭 에서 는 , 에칭 가스 로서 탄화 플루오르 가스 가 이용 되 지 않 기 때문 에 , 하부 의 실리콘 질화 막 ( 3 ) 에 대한 높 은 선택 비 를 유지 하 면서 비결정 실리콘 ( 7 ) 을 처리 할 수 있 다 .