액 처리 장치 는 , 기판 ( W ) ( 예 를 들 어 반도체 웨이퍼 ) 에 액 처리 를 실시 하 는 복수 의 액 처 리부 ( 60 ) 를 갖 고 있 다 . 액 처 리부 ( 60 ) 는 , 서로 동일 한 구성 을 갖 고 있 다 . 각 액 처 리부 ( 60 ) 는 , 예 를 들 어 기판 ( W ) 을 보유 지지 해서 회전 시키 는 스핀 척 과 , 스핀 척 에 의해 보유 지지 되 어 회전 하 는 기판 ( W ) 에 처리 액 을 공급 하 는 노즐 ( 66 ) 을 가진 것 으로 할 수 있 다 .