일부 경우 에 , 레지 스트로 코팅 된 표면 은 , 예컨대 작용 화 후 및 / 또는 리소그래피 후 에 레지스 트 를 제거 하 기 위해 처리 된다 . 일부 경우 에 , 레지스 트 는 용매 , 예컨대 N - 메틸 - 2 - 피 롤리 돈 을 포함 하 는 스트립 핑 용액 으로 제거 된다 . 일부 경우 에 , 레지스 트 스트립 핑 은 음파 처리 또는 초음파 처리 를 포함 한다 . 일부 경우 에 , 레지스 트 는 코팅 및 스트립 핑 되 고 , 이어서 노출 된 구역 의 능동 적 작용 화 에 의해 목적 하 는 차등 작용 화 패턴 을 생성 한다 .