기판 ( S ) 이 지지 유닛 ( 130 ) 에 의해 지지 된 상태 에서 가열 부재 ( 120 ) 가 기판 ( S ) 을 가열 하 면 , 가스 공급 유닛 ( 140 ) 은 불활성 가스 를 지지 부재 ( 131 ) 를 통하 여 기판 ( S ) 의 저면 에 공급 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 기판 ( S ) 전체 적 으로 온도 균 일도 가 향상 될 수 있 고 , 결과 적 으로 공정 수율 이 증가 될 수 있 다 .