광 산 발생 제 로 는 후술 하 는 경화 막 형성 공정 에서 의 노광 시 에 , 산 ( 브뢴스테드 산 또는 루이스산 ) 을 발생 하 는 물질 이 면 특별히 제한 은 없 고 , 오늄 염 화합물 , 할로겐화 유기 화합물 , 퀴논 디 아지드 화합물 , 술폰 화합물 , 유기산 에스테르 화합물 , 유기산 아미드 화합물 , 유기산 이미드 화합물 , 및 이 들 이외 의 기타 광 산 발생 제 를 사용 할 수 있 다 . 이 들 광 산 발생 제 는 패턴 을 노광 하 는 광원 의 파장 에 따라 , 분광 감도 의 면 에서 적당히 선택 할 수 있 다 .