소자 제조 예 18 에서 는 , 발광 층 을 다음 과 같이 증착 시킨 것 외 에 는 소자 제조 예 1 과 동일 한 방법 으로 OLED 소자 를 제조 하 였 다 . 진공 증착 장비 내 의 셀 에 제 1 호스트 로서 화합물 C - 8 을 넣 고 , 다른 셀 에 제 2 호스트 로서 화합물 H 2 - 6 을 넣 어 1 : 1 의 속도 로 증발 시키 고 , 또 다른 셀 에 는 화합물 D - 39 을 넣 은 후 , 세 물질 을 증발 시켜 호스트 와 도판 트 의 합계 량 에 대해 도판 트 를 3 중량 % 의 양 으로 도핑 함 으로써 상기 정공 전달 층 위 에 40 nm 두께 의 발광 층 을 증착 하 였 다 .