또 다른 실시 형태 는 , 플라 즈 마 발생 ( generating ) 방법 으로서 , 링 플라 즈 마 챔버 내 에 프로세스 가스 를 수용 하 기 위한 복수 의 가스 유입 부 포트 들 과 상기 복수 의 가스 유입 부 포트 들 각각 과 수직 으로 정렬 된 복수 의 가스 유출 부 포트 들 을 가지 는 상기 링 플라 즈 마 챔버 내 에 프로세스 가스 를 전달 하 는 단계 ; 상기 링 플라 즈 마 챔버 의 외부 주위 의 1 차 권선 에 1 차 전류 를 인가 하 는 단계 ; 상기 1 차 권선 에 자계 를 발생 시키 는 단계 ; 복수 의 페라이트 들 로 상기 자계 를 집중 시키 는 단계 로서 , 상기 링 플라 즈 마 챔버 는 상기 복수 의 페라이트 들 의 각각 을 통과 하 는 , 상기 자계 를 집중 시키 는 단계 ; 상기 링 플라 즈 마 챔버 에 있 는 상기 프로세스 가스 에 2 차 전류 를 유도 하 는 단계 ; 상기 2 차 전류 로 상기 링 플라 즈 마 챔버 에 있 는 상기 프로세스 가스 에서 플라 즈 마를 발생 시키 는 단계 ; 상기 링 플라 즈 마 챔버 를 프로세스 챔버 에 연결 하 는 복수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부 들 의 각각 에서 플라 즈 마 제 한부 로 상기 링 플라 즈 마 챔버 에 상기 플 라즈 마 를 제한 하 는 단계 로서 , 상기 복수 의 가스 유입 부 포트 들 각각 및 상기 복수 의 가스 유출 부 포트 들 각각 은 상기 복수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부들 각각 과 정렬 되 는 , 상기 플 라즈 마 를 제한 하 는 단계 ; 및 상기 복수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부들 각각 의 상기 플라 즈 마 제 한부 를 바이어스 하 는 단계 로서 , 상기 바이어스 하 는 단계 는 이온 들 이 상기 복수 의 플 라즈 마 챔버 유출 부들 밖 으로 그리고 상기 프로세스 챔버 내 로 이동 ( draw ) 하 도록 작용 하 는 , 상기 플라 즈 마 제 한부 를 바이어스 하 는 단계 를 포함 하 는 , 플라 즈 마 발생 방법 입니다 .