상기 적외선 발생 램프 ( 300 ) 에서 발생 되 는 적외선 은 상기 반사판 ( 400 ) 에 의해 상기 적외선 이 송관 ( 500 ) 으로 집중 이송 되 며 , 상기 디 퓨 져 ( 600 ) 에 의해 상기 적외선 이 송관 ( 500 ) 으로 유입 되 는 적외선 은 가압 상태 로 상기 적외선 배출관 ( 700 ) 을 통해 치료 부위 에 집중 조사 된다 .