본 발명 은 탄성 표면파 필터 ( Surface Acoustic Wave Filter , SAW Filter ) 의 제작 에 관한 것 으로서 , 빗살 모양 의 반복 되 는 미세 한 선형 의 금속 패턴 을 구성 하 는 방법 에 대한 것 이 다 . 탄성 표면파 필터 는 주로 휴대 용 이동 통신 기기 에 사용 할 수 있 는 고주파 용 필터 로 사용 되 며 주파수 가 증가 할수록 빗살 모양 의 선 폭 과 선 간격 이 줄어들 게 된다 . 수백 나노미터 로 동일 한 선 폭 과 선 간격 이 수백 개 이상 반복 되 는 탄성 표면파 필터 의 제작 방법 으로 는 일반 적 으로 반도체 공정 에서 사용 되 는 노광 기술 을 고려 할 수 있 으나 메모리 공정 에서 개발 된 자외선 을 이용 하 는 130 나노미터 또는 90 나노미터 node 노광 공정 은 게이트 공정 으로서 소자 의 일부분 의 선 폭 을 줄일 수 있 는 기술 이 라는 단점 이 있 다 . 수백 나노미터 의 공정 치수 를 가지 고 있 는 탄성 표면파 필터 의 패턴 을 손쉽 게 제작 하 는 기술 로 는 수 나노미터 의 정밀도 가 있 는 전자선 리 소그라 피 를 사용 하 여야 하 지만 전자선 리 소그라 피 가 생산 장비 가 아니 므로 필터 제작 에 는 적합 하 지 않 은 단점 이 있 다 . 본 발명 은 수백 나노미터 로 동일 한 선 폭 과 선 간격 을 가지 는 패턴 을 전자선 리 소그라 피 로 제작 한 나노 몰드 와 , 나노 몰드 의 접촉 면 에 금속 재료 를 결합 하 여 안정 성 을 개선 하 고 , 개선 된 나노 몰드 를 이용 하 여 압 전 기판 위 에 도포 된 감광제 에 패턴 의 모양 을 전사 하 는 임프 린트 공정 과 , 임프 린트 된 감광제 를 마스크 로 이용 하 여 압 전 기판 위 의 금속 박막 의 일부 를 선택 적 으로 제거 하 기 위한 식각 공정 을 포함 하 는 구성 이 제시 된다 . 본 발명 에 의하 여 제작 되 는 탄성 표면파 필터 는 신뢰 성 있 는 가공 치수 가 있 으므로 뛰어난 동 작 특성 을 보여 주 고 있 으며 , 나노 몰드 를 이용 하 여 연속 적 으로 제작 이 가능 하 므로 제작 비용 을 획기적으로 낮출 수 있 는 효과 가 있 다 .