본 발명 의 일 형태 에 관한 표면 처리 조성물 은 , 산 을 포함 하 는 것 이 바람직 하 다 . 또한 , 본 명세서 에 있 어서 , 이온 관능기 함유 고분자 는 , 여기 서 설명 하 는 첨가제 로서 의 산 과 는 상이 한 것 으로서 취급 한다 . 산 은 , 표면 처리 대상물 의 표면 및 양전하 대전 성 성분 의 표면 을 양전하 로 대전 시키 는 역할 을 담당 한다고 추측 되 며 , 표면 처리 조성물 에 의한 잔사 의 제거 에 기여 할 수 있 다 .