이러 한 반도체 소자 에 있 어서 , 반도체 기판 의 표면 을 노출 시키 는 직접 콘 택 , 게이트 전극 의 상부 를 노출 시키 는 워드 라인 콘 택 , 비트 라인 콘 택 및 플레이트 전 극 콘 택 등 을 형성 하 기 위한 콘 택 홀 들 이 반도체 소자 의 제조 과정 상 에서 형성 되 어야 하 며 , 이 와 같 은 콘 택 홀 들 은 그 깊이 가 서로 다양 하 며 , 식각 대상 막 들 도 각각 다양 하 다 .