베이스 ( 1230 ) 는 유전 판 ( 1210 ) 을 지지 한다 . 베이스 ( 1230 ) 는 유전 판 ( 1210 ) 의 아래 에 위치 되 며 , 유전 판 ( 1210 ) 과 고정 결합 된다 . 베이스 ( 1230 ) 의 상면 은 그 중앙 영역 이 가장 자리 영역 에 비해 높 도록 단 차진 형상 을 가진다 . 베이스 ( 1230 ) 는 그 상면 의 중앙 영역 이 유전 판 ( 1210 ) 의 저면 에 대응 하 는 면적 을 가진다 . 베이스 ( 1230 ) 의 내부 에 는 냉각 유로 ( 1232 ) 가 형성 된다 . 냉각 유로 ( 232 ) 는 냉각 유체 가 순환 하 는 통로 로 제공 된다 . 냉각 유로 ( 1232 ) 는 베이스 ( 1230 ) 의 내부 에서 나선 형상 으로 제공 될 수 있 다 . 베이스 에 는 외부 에 위치 된 고주파 전원 ( 1234 ) 과 연결 된다 . 고주파 전원 ( 1234 ) 은 베이스 ( 1230 ) 에 전력 을 인가 한다 . 베이스 ( 1230 ) 에 인가 된 전력 은 챔버 ( 1100 ) 내 에 발생 된 플 라즈 마가 베이스 ( 1230 ) 를 향해 이동 되 도록 안내 한다 . 베이스 ( 1230 ) 는 금속 재질 로 제공 될 수 있 다 . 처리 유닛 에서 기판 을 처리 할 때 , 기판 의 둘레 에 는 하나 또는 복수 의 포커스 링 ( 1250 ) 이 제공 된다 .