도 2 에 보여 지 고 있 는 바 와 같이 , 리소그래피 장치 ( LA ) 는 리소그래피 셀 ( LC ) 의 일부 를 형성 할 수 있 으며 , 때때로 리 소 셀 또는 클러스터 로 지칭 되 며 , 또한 기판 상 에 노광 전 및 노광 후 공정 을 수행 하 기 위한 장치 를 포함 하 고 있 다 . 일반 적 으로 , 이 들 은 하나 이상 의 레지스 트 층 을 증착 하 기 위한 하나 이상 의 스핀 코터 ( SC ) , 노광 된 레지스 트 를 현상 하 기 위한 하나 이상 의 현상기 ( DE ) , 하나 이상 의 냉각 플레이트 ( CH ) 및 / 또는 하나 이상 의 베 이크 플레이트 ( BK ) 를 포함 하 고 있 다 . 기판 핸들러 또는 로봇 ( RO ) 은 하나 이상 의 기판 을 입력 / 출력 포트 ( I / O 1 , I / O 2 ) 로부터 픽업 하 고 , 기판 을 상이 한 공정 장치 들 사이 에서 이동 시키 며 , 기판 을 리소그래피 장치 의 로딩 베이 ( LB ) 로 전달 한다 . 종종 총괄 적 으로 트랙 으로 지칭 되 는 이 장치 들 은 감독 제어 시스템 ( SCS ) 에 의해 자체 제어 되 는 트랙 제어 유닛 ( TCU ) 의 제어 하 에 있 으며 , 이 감독 제어 시스템 은 또한 리소그래피 제어 유닛 ( LACU ) 을 통해 리소그래피 장치 를 제어 한다 . 따라서 , 처리 량 및 처리 효율 을 최대 화 하 기 위하 여 상이 한 장치 들 이 작동 될 수 있 다 .