제 1 기재 로서 패 터닝 된 PDMS ( Polydimethylsiloxane ) 기재 ( pitch 700 nm ) 를 사용 하 였 고 , 입자 로서 균일 한 크기 를 가지 는 SiO 2 비드 ( 650 nm ) 를 사용 하 였 다 . 상기 제 1 기재 상 에 상기 균일 한 크기 를 갖 는 SiO 2 비드 ( 650 nm ) 를 문지르 기 방법 을 통해 정렬 시켜 SiO 2 비드 ( bead ) 단층 을 형성 했 다 .