본 발명 의 다른 구체 예 에 따르 면 , 침투 및 건조 된 지 지체 재료 의 열 후처리 는 200 내지 600 ℃, 바람직 하 게 는 250 내지 400 ℃ 의 온도 에서 건조 시킨 후 에 수행 한다 ( 열 분 해 ) . 열 분 해 는 바람직 하 게 는 공기 분위기 또는 수증기 포화 공기 또는 불활성 가스 분위기 에서 일어난다 . 200 내지 600 ℃ 의 이 열 후처리 를 이용 하 여 유기 성분 을 실질 적 으로 제거 한다 . 그 다음 , 용해 된 유기 성분 을 가교 시켜 무 정질 예비 세라믹 재료 를 형성 시킨다 .