다른 예시 적 인 실시 형태 에서 , 챔버 ( 100 ) 는 낮 은 압력 볼륨 에서 고밀도 Ar 플 라즈 마 와 함께 높 은 압력 볼륨 에서 CxFy ( C 4 F 8 , C 4 F 6 등 ) 의 높 은 해리 성 을 이용 한 웨이퍼 프로세스 를 수행 하 는 데 이용 된다 . 이 예시 적 인 실시 형태 에서 , CxFy 과 Ar 의 혼합물 이 플 라즈 마 프로세스 가스 로서 상부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 103 ) 에 공급 된다 . 상부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 103 ) 은 CxFy 의 높 은 해리 성 을 일으키 도록 높 은 RF 주파수 ( 60 MHz ) 및 높 은 압력 에서 동작 된다 . 상부 플 라즈 마 챔버 ( 103 ) 에서 생성 된 매우 해리 된 CxFy 는 가스 분배 유닛 ( 115 ) 의 스루홀 들 ( 117 ) 을 관통 하 여 플로우 한다 . 상부 플 라즈 마 프로세싱 볼륨 ( 103 ) 에서 생성 된 이온 들 은 가스 분배 유닛 ( 115 ) 에 의해 필터링 된다 . 또한 , 이 예시 적 인 실시 형태 에서 , Ar 가스 는 플 라즈 마 프로세스 가스 로서 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 109 ) 에 공급 된다 . 하부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 109 ) 은 높 은 이온 플럭스 를 갖 는 고밀도 Ar 플 라즈 마 를 생성 하 도록 낮 은 RF 주파수 내지 중간 RF 주파수 ( 2 MHz 및 27 MHz ) 와 낮 은 압력 에서 동작 된다 .