도 1 은 방사 용액 으로부터 나노 섬유 를 형성 하 기 에 적합 한 회전식 방사 디스크 의 예시 이 다 . 회전식 방사 디스크 는 회전식 스프레이 어 장치 또는 원심 식 방사 장치 ( 도시 되 지 않 음 ) 의 방사 구 ( spinneret ) 부분 에 사용 될 수 있 다 . 평탄면 ( 11 ) 및 전 방면 방출 에지 ( 12 ) 를 갖 는 회전식 방사 디스크 ( 10 ) 가 고속 모터 ( 도시 되 지 않 음 ) 에 연결 된 구동 샤프트 ( 13 ) 상 에 장착 된다 . 방사 용액 은 적어도 하나 의 용매 중 에 적어도 하나 의 중합체 를 용해 시킴 으로써 제조 된다 . 약 100 ℃ 와 용매 의 빙점 사이 의 온도 의 방사 용액 은 , 구동 샤프트 ( 13 ) 와 동축 으로 연장 되 고 구동 샤프트 ( 13 ) 에 부착 된 측 의 반대편 인 방사 디스크 ( 10 ) 의 측 에서 방사 디스크 ( 10 ) 의 중심 에 아주 근접 하 여 있 는 공급 튜브 ( 14 ) 를 통해 펌핑 된다 . 용액 의 처리 속도 는 약 1 cc / min 내지 약 500 cc / min 이 다 . 방사 용액 이 공급 튜브 ( 14 ) 를 빠져나감 에 따라 , 방사 용액 은 회전식 방사 디스크 ( 10 ) 와 접촉 하 게 되 고 전 방면 방출 에지 ( 12 ) 에 도달 할 때 까지 평탄면 ( 11 ) 을 따라 이동 하 여 방사 디스크 의 평탄면 을 완전히 습윤 시키 고 방사 용액 을 필름 으로서 분배 시킨다 . 방사 디스크 ( 10 ) 의 회전 속도 는 약 4 , 000 rpm 내지 약 100 , 000 rpm , 더 유리 하 게 는 약 6 , 000 rpm 내지 약 100 , 000 rpm , 그리고 가장 유리 하 게 는 약 8 , 000 rpm 내지 약 100 , 000 rpm 이 다 . 전 방면 방출 에지 ( 12 ) 는 뾰족 하 거나 둥글 게 될 수 있 으며 톱니 모양 이나 분할 리지 ( ridge ) 를 포함 할 수 있 다 . 방사 디스크 ( 10 ) 의 회전 속도 는 방사 용액 을 평탄면 ( 11 ) 을 따라 그리고 전 방면 방출 에지 ( 12 ) 를 지나 나아가 게 하 여 , 원심력 에 의해 방출 에지 로부터 발산 되 는 개별 섬유질 스트림 들 을 형성 한다 . 동시 에 , 용매 는 본 발명 의 나노 섬유 가 형성 될 때 까지 기화 한다 . 나노 섬유 는 수집 기 ( 도시 되 지 않 음 ) 상 에 수집 되 어 섬유질 웨브 를 형성 할 수 있 다 .