본 발명 의 산란 입자 는 평균 입경 이 30 내지 500 nm 범위 일 경우 미세 패턴 이 우수 하 게 형성 된다는 점 에서 바람직 하 다 . 이때 평균 입경 이 상기 범위 에 해당 할 경우 , 입사 된 빛 의 충분 한 산란 효과 를 기대 할 수 있 고 , 조성물 내 에 가 라 앉 는 문제 가 발생 하 지 않 으며 , 균일 한 품질 의 자발 광층 표면 을 얻 을 수 있 다 .