본 실시 예 는 도 6 의 방법 과 동일 한 약 200 나노미터 정도 의 두께 로 웨이퍼 의 표면 에 금 ( Au ) 코팅 을 한 후 에 D - SIMS 방법 으로 보론 농도 를 측정 한 것 이 다 . 즉 , 보론 의 이탈 방지 와 D - SIMS 에 의한 웨이퍼 의 벌크 영역 의 파임 을 방지 하 기 위하 여 , 본원 에서 의 실리콘 산화 막 대신 금 코팅 을 한 경우 이 다 .