플라 즈 마 처리 장치 ( 100 ) 는 , 예컨대 알루미늄 등 의 도전 성 재료 로 형성 되 어 있 는 처리 실 ( 102 ) 과 , 처리 실 ( 102 ) 내 에 복수 종류 의 가스 를 공급 하 는 가스 공급계 ( 200 ) 를 구비 한다 . 처리 실 ( 102 ) 은 , 전기 적 으로 접지 되 어 있 고 , 처리 실 ( 102 ) 내 에 는 피 처리 기판 , 예컨대 반도체 웨이퍼 ( 이하 , " 간단히 "" 웨이퍼 "" 라고도 한다 ) W 를 탑재 하 는 탑재 대 를 겸하 는 하부 전극 ( 서 셉 터 ) ( 110 ) 과 ", 이것 에 대향 하 여 평행 하 게 배치 된 상부 전극 ( 120 ) 이 마련 되 어 있 다 .