기판 처리 장치 ( 301 ) 는 약액 이나 린스 액 등 의 처리 액 에 의해 반도체 웨이퍼 등 의 기판 ( W ) 을 1 매 씩 처리 하 는 매 엽 식 의 기판 처리 장치 이 다 . 기판 처리 장치 ( 301 ) 는 기판 ( W ) 을 수평 하 게 유지 하 여 회전 시키 는 스핀 척 ( 302 ) ( 기판 유지 유닛 ) 과 , 스핀 척 ( 302 ) 의 위쪽 에 배치 된 차 단판 ( 303 ) 과 , 스핀 척 ( 302 ) 에 유지 되 어 있 는 기판 ( W ) 에 처리 액 을 공급 하 는 처리 액 공급 기구 를 구비 하 고 있 다 .