또한 , 예시 적 으로 , 제 1 시드 층 ( 31 ) 상 에 전체 적 으로 제 1 포토레지스트 층 ( 41 ) 을 증착 하 고 , 그 후 , 제 1 탄성 부 ( 100 ) 의 형상 과 대응 되 는 패턴 을 갖 는 마스크 를 이용 하 여 노광 및 현상 공정 을 수행 함 으로써 , 제 1 탄성 부 ( 100 ) 의 형상 과 대응 되 는 패 터닝 이 된 제 1 포토레지스트 층 ( 41 ) 을 형성 할 수 있 다 .