미세 패턴 형성 방법 및 이 를 이용 한 반도체 소자 의 제조 방법 이 제공 된다 . 미세 패턴 형성 방법 은 하 부막 상 에 , 트렌치 들 을 정의 하 는 제 1 희생 막 을 형성 하 고 , 트렌치 들 을 채우 는 제 2 희생 막 을 형성 하 고 , 제 2 희생 막 을 패 터닝 하 여 , 상부 개구부 를 정의 하 는 제 2 희생 패턴 들 을 트렌치 내 에 국소 적 으로 형성 하 고 , 그리고 , 하 부막 을 패 터닝 함 으로써 상부 개구부 아래 의 하부 막 에 하부 개구부 를 형성 하 는 것 을 포함 한다 .