특허 문헌 1 에 는 , 기판 에 형성 된 도포 막 을 가열 처리 하 는 가열 처리 장치 에 있 어서 , 처리 용기 내 에 마련 되 어 , 기판 을 적재 하 는 적 재부 와 , 상기 적 재부 에 적재 된 기판 을 가열 하 기 위한 가열 부 와 , 평면 적 으로 보 아 상기 적 재부 상 의 기판 보다 도 외측 에서 둘레 방향 을 따라 마련 되 어 , 상기 처리 용기 내 에 급기 하 기 위한 급 기구 와 , 평면 적 으로 보 아 상기 적 재부 상 의 기판 보다 도 외측 에서 둘레 방향 을 따라 마련 되 고 , 상기 처리 용기 내 를 배기 하 기 위한 외주 배기구 와 , 상기 적 재부 상 의 기판 의 중앙부 의 상방 측 에 마련 되 어 , 상기 처리 용기 내 를 배기 하 기 위한 중앙 배기구 를 구비 한 가열 처리 장치 가 개시 되 어 있 다 .