목표 패턴 의 레이아웃 ( 201 ) 에 대해 광 근접 보정 ( OPC ) 를 수행 하 여 OPC 된 레이아웃 ( 도 2 의 203 ) 을 얻 는다 ( 도 1 의 102 ) . 이러 한 OPC 는 패턴 레이아웃 의 웨이퍼 상 으로 전사 를 예측 하 기 위해 마련 된 시뮬레이션 모델 ( simulation model ) 을 초기 캘 리브레 이 션 ( calibration ) 하 고 , 초기 캘 리브레 이 션 된 모델 을 이용 하 여 수행 될 수 있 다 . 이때 , 모델 초기 캘리 브레이 션 은 패턴 전사 를 위한 노광 과정 에 적용 될 노광 조건 , 소자 의 스택 ( stack ) 정보 , 포토레지스트 종류 및 특성 등 의 정보 를 포함 하 는 모델링 변수 를 이용 하 여 수행 될 수 있 다 . 이때 , 레이아웃 전체 영역 에 대해 동일 한 일정 한 노광 에너지 도즈 ( dose ) 를 적용 하 여 모델 초기 캘 리브레 이 션 한다 .