일반 적 으로 , 반도체 소자 나 디스플레이 소자 혹은 태양 전지 를 제조 하 기 위해서 는 진공 분위기 의 공정 챔버 를 포함 하 는 기판 처리 장치 에서 각종 공정 이 수행 된다 . 예컨대 , 공정 챔버 내 에 기판 을 로딩 하 고 기판 상 에 박막 을 증착 하 거나 박막 을 식각 하 는 등 의 공정 이 진행 될 수 있 다 . 이때 , 기판 은 공정 챔버 내 에 설치 된 기판 지지대 에 지지 되 며 , 기판 지지대 와 대향 되 도록 기판 지지대 의 상부 에 설치 되 는 샤워 헤드 를 통해 공정 가스 를 기판 으로 분사 할 수 있 다 .