한편 , 선택 라인 영역 에 형성 되 는 접합 영역 ( 114 b ) 에서 는 전하 차단 영역 ( 118 b ) 으로 인하 여 콘 택 플러그 의 저항 이 증가 할 수 는 있 으나 , 전하 차단 영역 ( 118 b ) 을 형성 할 때 이온 주 입량 을 조절 하 여 콘 택 플러그 의 저항 이 증가 되 는 양 을 최소 화 할 수 있 다 . 또는 , 도면 에 는 도시 하 지 않 았 지만 선택 라인 영역 에 형성 된 접합 영역 ( 114 b ) 을 차단 하 는 마스크 를 형성 한 뒤 이온 주입 공정 을 실시 하 여 선택 라인 영역 에 형성 된 접합 영역 ( 114 b ) 에 는 전하 차단 영역 ( 118 b ) 을 형성 하 지 않 을 수 있 다 .