본 발명 의 또 다른 실시 예 에 따른 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 광원 , 상기 광원 으로부터 발광 된 빛 을 집광 하 는 콘덴서 렌즈 , 상기 콘덴서 렌즈 를 통과 한 빛 을 분산 또는 굴절 시키 는 제 1 광학 요소 , 상기 제 1 광학 요소 를 통과 한 빛 을 통과 시키 는 단일 패턴 이 형성 된 패턴 마스크 , 상기 제 1 광학 요소 를 통과 한 빛 을 반사 하 는 반사판 , 상기 광원 에 따른 빛 의 발광 을 구동 하 는 구동 부 , 상기 패턴 마스크 를 통과 한 빛 또는 상기 패턴 마스크 를 통과 하 지 않 은 빛 을 분산 또는 굴절 시키 는 제 2 광학 요소 및 상기 광학 요소 를 통과 한 빛 을 방출 하 는 프로 젝 션 렌즈 를 포함 하 되 , 상기 구동 부 는 상기 패턴 마스크 로 입사 되 는 빛 을 차단 하 는 제 1 차 단부 및 상기 반사판 을 통해 상기 제 2 광학 요소 로 입사 되 는 빛 을 차단 하 는 제 2 차 단부 를 구동 하 여 블랙 패턴 , 상기 단일 패턴 및 화이트 패턴 이 방출 되 도록 한다 .