시스템 ( 400 ) 은 또한 , 도관 ( 409 ) 을 통해 린스 유체 ( 227 ) 의 제어 된 흐름 을 근접 헤드 ( 405 ) 에 공급 하 도록 정의 된 린스 유체 공 급기 ( 407 ) 를 포함 한다 . 시스템 ( 400 ) 은 도관 ( 413 ) 을 통해 근접 헤드 ( 405 ) 에 진공 을 적용 하 도록 정의 된 진공 소스 ( 411 ) 를 더 포함 한다 . 근접 헤드 ( 405 ) 는 세정 재료 및 그 안 에 포집 된 오염물 을 제거 하 기 위해 제어 된 속도 로 기판 ( 403 ) 의 상부 면 에 린스 유체 ( 227 ) 를 도포 하 도록 정의 된다 . 근접 헤드 ( 405 ) 는 또한 진공 소스 ( 411 ) 에 의해 기판 ( 403 ) 의 상부 면 으로부터 도포 된 린스 유체 , 세정 재료 , 및 그 세정 재료 안 에 포집 된 오염물 을 제거 하 도록 정의 된다 .