이후 , 상기 버퍼 층 ( 103 ) 위 로 순수 비정질 실리콘 을 증착 하 여 순수 비정질 실리콘 층 ( 미 도시 ) 을 형성 하 고 , 연속 하 여 상기 순수 비정질 실리콘 층 ( 미 도시 ) 에 대해 적정 한 에너지 밀도 를 갖 는 레이저 빔 등 을 조사 하 는 것 을 특징 으로 하 는 ELA ( Excimer Laser Annealing ) 또는 SLS ( Sequential lateral Solidification ) 공정 을 진행 하 거나 또는 고온 의 분위기 에 노출 시키 는 RTA ( rapid thermal annealing ) 의 결정 화 공정 을 진행 함 으로써 상기 순수 비정질 실리콘 층 ( 미 도시 ) 을 폴리 실리콘 층 ( 미 도시 ) 으로 결정 화 시킨다 .