후속 의 상기 지지 베이스 ( 300 ) 에 대해 시닝 처리 하 는 단계 에서 , 상기 격리 층 ( 310 ) 을 정지 층 으로 사용 한다 . 이 밖 에 , 후 속 에 상기 제 1 전극 에 연결 되 는 제 1 전도성 플러그 를 형성 할 경우 , 상기 격리 층 ( 310 ) 은 또한 상기 제 1 전도성 플러그 의 형성 을 위해 공법 플랫 폼 을 제공 한다 .