도 8 에 도시 된 또 다른 구체 예 에서 , 플라스몬 마스크 제작 은 a ) 상기 기술 된 방법 중 하나 ( 예 , 나노 임프 린트 또는 광학 리소그래피 ) 에 따른 실린더 ( 82 ) 상 에 포토레지스트 ( 81 ) 의 침착 및 패턴 화 로 출발 한다 . 이후 , b ) 금속 층 은 포토레지스트 패턴 의 정상부 상 에 침착 되 고 , 이후 c ) 실린더 ( 82 ) 의 표면 상 에 금속 패턴 ( 84 ) 을 남기 는 리프트 - 오프 ( 포토레지스트 용해 ) 공정 을 실시 한다 . 마지막 으로 , d ) 얇 은 엘라스토머 ( 예 , PDMS ) 층 ( 85 ) 은 금속 패턴 ( 84 ) 의 정상부 상 에 침착 된다 . 생성 된 마스크 는 플라스몬 근 접장 마스크 로서 작용 할 수 있 다 .