예 를 들 면 , 반도체 기판 또는 유리 기판 과 같 은 대상 기판 에 대하 여 막 형성 공정 , 패 터닝 공정 , 세정 공정 등 과 같 은 단위 공정 들 이 수행 됨 으로써 상기 기판 상 에 는 목적 하 는 전기 적 또는 광학 적 특성 들 을 갖 는 회로 패턴 들 이 형성 될 수 있 으며 , 이 들 단위 공정 들 은 목적 하 는 장치 를 위해 제공 되 는 특정 레시피 에 따라 클린 룸 내 에 위치 되 는 다양 한 공정 설비 들 에 의해 수행 될 수 있 다 .