본 발명 의 또 다른 실시 예 는 기판 을 처리 하 기 위한 방법 을 제공 하 고 , 이 방법 은 처리 볼륨 을 형성 하 는 처리 챔버 를 제공 하 는 단계 - 처리 챔버 의 대향 측면 상 에 형성 된 입구 포트 및 출구 포트 를 갖 고 , 입구 포트 및 출구 포트 의 폭 은 기판 의 지름 에 근사 함 - ; 처리 볼륨 에 기판 을 위치 시키 는 단계 ; 입구 포트 로부터 출구 포트 로 제 1 가스 유동 을 제공 하 는 단계 - 제 1 가스 유동 은 입 구 포트 의 폭 을 따라 균등 하 게 분포 된 다수 의 주입 홀 로부터 배향 됨 - ; 및 출구 포트 에 커플링 된 배출 어셈블리 를 이용 하 여 처리 볼륨 을 펌핑 하 는 단계 를 포함 하 고 , 배출 어셈블리 는 제 1 가스 유동 방향 을 따라 처리 볼륨 을 확장 시키 는 배출 볼륨 을 형성 한다 .