또한 , 종래 기술 의 실시 예 로부터 탈출 하 는 형광 신호 를 포착 하 도록 이 단일 의 타원 형 미러 실시 예 에 구형 미러 가 사용 될 수 있 다 . 구형 미러 ( 212 ) 는 미립자 스트림 과 전자기 복사 의 교차점 이 그 초점 에 있 는 상태 로 타원 형 미러 ( 214 ) 의 반대 측 에 배치 된다 . 도 8 을 참조 하 라 . 구형 미러 는 광 을 초점 을 통해 타원 형 미러 상 으로 반대 로 반사 시키 고 , 이어서 타원 형 미러 는 광 을 구형 미러 에 있 는 개구 를 통해 형광 검출기 ( 216 ) 로 지향 시키 는데 , 이 는 도 8 에 PMT 로서 도시 되 어 있 다 . 이 실시 예 는 추가 적 인 형광 검출기 의 비용 없이 보다 큰 양 의 형광 신호 를 포착 한다 . 바람직 한 실시 예 와 유사 하 게 , 구형 미러 ( 212 ) 와 타원 형 미러 ( 214 ) 는 노즐 ( 220 ) , 형광 검출기 ( 216 ) 및 마이 산란 콘 만 을 위한 개구 를 두 고 밀 폐구 ( 218 ) 를 형성 하 게 된다 . 타원 형 미러 와 구형 미러 는 이 밀 폐구 가 가능 한 한 완벽 하 게 되 도록 2 개 의 표면 이 교차 하 는 지점 으로 연장 될 수 있 다 . 이 대안 의 구성 에 있 어서 , 구형 미러 는 미립자 스트림 과 레이저 빔 의 교차점 이 구 의 곡 률 중심 에 있 도록 위치 된다 .