상세 하 게 는 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 그 라데 이 션 파라미터 에 따라 , 렌즈 ( L ) 중 색 이 연한 부위 ( 시감 투과 율 이 높 은 부분 ) 의 온도 를 , 색 이 진한 부분 의 온도 보다 낮 은 온도 로 제한 한다 . 그 결과 , 색 이 연한 부위 의 온도 가 과도 하 게 상승 하 여 기재 가 변색 되 는 것 이 억제 된다 . 또한 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 렌즈 수 파라미터 에 따른 수 의 렌즈 ( L ) 에 대한 정착 공정 을 , 염료 정착 장치 ( 50 ) 에 실행 시킨다 . 또한 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 색 파라미터 에 따라 렌즈 ( L ) 의 목표 온도 를 설정 함 으로써 , 염색 할 색 에 따른 적절 한 온도 로 렌즈 ( L ) 의 온도 를 상승 시킨다 . 또한 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 재질 파라미터 에 따라 렌즈 ( L ) 의 온도 추이 를 제어 함 으로써 , 렌즈 ( L ) 의 재질 에 따른 적절 한 방법 으로 염료 를 렌즈 ( L ) 에 정착 시킨다 . 상세 하 게 는 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 렌즈 ( L ) 의 재질 에 따라 , 렌즈 ( L ) 의 온도 를 목표 온도 에 도달 시킬 때 까지 의 시간 , 온도 상승 비율 , 렌즈 ( L ) 의 온도 를 목표 온도 로 유지 하 는 시간 의 길이 등 중 적어도 어느 것 을 제어 한다 . 또한 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 형상 파라미터 에 따라 주 사부 ( 513 ) 의 구동 을 제어 함 으로써 , 렌즈 ( L ) 의 형상 에 기인 하 는 부위 별 온도 차 가 과도 하 게 커지 는 것 을 억제 한다 . 상세 하 게 는 , 본 실시 형태 의 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 레이 저광 의 출력 을 일정 하 게 한 상태 로 , 렌즈 ( L ) 상 에 있 어서 의 레이 저광 의 주사 속도 를 부위 에 따라 변화 시킴 으로써 , 렌즈 ( L ) 에 가하 는 에너지 를 부위 마다 조정 한다 . 레이 저광 의 주사 속도 가 작 은 위치 에서 는 , 주사 속도 가 큰 위치 에 비하 여 , 단위 시간 당 부위 에 가해 지 는 에너지 가 커진다 . 각 부위 에 균등 하 게 레이 저광 의 에너지 가 가해진 경우 , 렌즈 ( L ) 중 두께 가 작 은 부위 에서 는 , 두께 가 큰 위치 에 비하 여 온도 가 상승 하 기 쉽 다 . 또한 , 렌즈 ( L ) 의 주위 부위 는 , 렌즈 ( L ) 의 중심 부위 에 비하 여 열 이 방출 되 기 쉬우므로 , 주변 부위 의 온도 는 중심 부위 에 비교 하 여 상승 하 기 어렵 다 . 따라서 , 컨트롤러 ( 71 ) 는 , 렌즈 ( L ) 의 형상 파라미터 에 따라 , 렌즈 ( L ) 의 두께 및 위치 에 따른 적절 한 주사 속도 로 레이 저광 을 주사 시킴 으로써 , 부위 별 온도 차 가 과도 하 게 커지 는 것 을 억제 한다 .