상술 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 비정질 탄소막 증착 공정 에서 의 챔버 세정 방법 은 공동 전극 에 의해 플 라즈 마 자체 의 밀도 가 높 아 져 산소 의 활성 종 에너지 가 높 아 져 반응 챔버 내부 벽면 등 에 형성 된 유기 불순물 에 도달 하 는 산소 활성 종 이 많 아 지 게 되 고 , 이 에 따라 탄 소결 합의 절단 력 이 커지 게 된다 . 또한 , 산소 활성 종이 유기 불순물 의 내부 에 잘 침투 하 게 되 어 탄소 성분 과 쉽 게 결합 되 어 이산화 탄소 등 의 형태 로 반응 챔버 외부 로 쉽 게 빠져나가 게 되 어 세정 시간 을 단축 할 수 있 어 세정 효율 을 높일 수 있 다 .