상기 ( a 3 ) 단계 에서 선택 적 노광 , 현상 및 건조 는 당 기술 분야 에 알려진 방법 을 이용 하 여 수행 할 수 있 다 . 상기 노광 은 마스크 얼라 이너 , 스 테퍼 또는 스캐너 등 의 노광 장비 를 이용 하 여 g - 선 ( 436 nm ) , h - 선 ( 405 nm ) 또는 i - 선 ( 365 nm ) 의 단독 또는 혼합 광원 을 패턴 마스크 를 통과 하 여 차광막 위 에 노광 한다 . 노광 에너지 는 차광막 의 감도 에 따라 결정 이 되 며 , 보통 20 내지 200 mJ / cm 2 를 사용 할 수 있 다 . 노광 완료 후 기판 을 현상액 으로 딥 또는 스프레이 함 으로써 , 원 하 는 차 광부 패턴 을 형성 할 수 있 다 . 또한 현상 완료 후 차 광부 패턴 을 포스트 베 이크 하 여 , 하부 기판 과 의 밀착력 을 강화 할 수 있 다 . 상기 포스트 베 이크 조건 은 200 내지 250 ℃ 에서 10 내지 200 분 간 실시 하 는 것 이 바람직 하 다 .