그리고 전술 한 칠러 구조 ( 10 ) 는 반도체 제조 공정 에서 구동 되 는 경우 , 최종 공정 온도 로 제어 하 기 위하 여 온도 하강 및 상승 이 요구 될 때 메인 장비 ( 14 ) 에 균일 한 온도 의 냉 열 원 을 공급 하 는데 있 어서 온도 에 대한 응답 속도 가 떨어짐 과 동시 에 제어 시간 이 지연 되 는 현상 이 발생 하 며 이 로 인한 시스템 의 균일 한 냉각 및 가열 에 의한 시스템 성능 이 저하 되 는 현상 이 발생 되 고 , 이 로 인하 여 칠러 구조 ( 10 ) 에 대한 신뢰 성 이 저하 되 는 문제점 을 야기 시킨다 .