상기 한 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 의 다른 실시 예 에 의한 기판 처리 장치 는 , 기판 을 처리 하 는 공정 이 진행 되 는 공정 챔버 와 ; 상기 공정 챔버 의 내측 에 설치 되 어 상기 기판 을 지지 하 며 , 상기 기판 을 냉각 시키 도록 냉각 유체 가 순환 하 는 복수 의 냉각 라인 들 이 형성 된 기판 지지 부재 와 ; 상기 냉각 라인 들 의 입력단 에 연결 된 공급 관 들 과 ; 상기 냉각 라인 들 의 출력 단 에 연결 된 배출관 들 과 ; 상기 공급 관 들 및 배출관 들 에 연결 되 어 상기 냉각 라인 들 을 순환 하 는 냉각 유체 를 공급 하 거나 회수 하 는 냉각 장치 ; 를 포함 하 되 , 상기 냉각 라인 들 은 각각 상이 한 크기 의 유동 단면적 을 가지 도록 형성 되 는 것 을 특징 으로 한다 .