도 3 g 에 도시 된 바 와 같이 , 희생 막 패턴 ( 24 A ) 을 선택 적 으로 제거 한다 . 이때 , 희생 막 패턴 ( 24 A ) 은 습식 식각 , 특히 딥 아웃 ( Dip Out ) 을 통해 제거 한다 . 희생 막 패턴 ( 24 A ) 이 산화 막 이 므로 딥 아웃 공정 시 불 산 ( HF ) 용액 또는 BOE ( Buffered Oxide Etchant ) 를 사용 하 며 , 이 들 용액 에 의해서 는 질화 막 물질 인 게이트 하드 마스크 막 ( 29 ) 과 산화 방지 패턴 ( 26 A ) 은 선택 비 를 가져 식각 되 지 않 는다 .