반도체 미립자 로 이루어지 는 반도체 층 의 제작 방법 에 특별히 제한 은 없 지만 , 물성 , 편리 성 , 제조 비용 등 을 고려 한 경우 에 는 습식 제막 법 이 바람직 하 며 , 반도체 미립자 의 분말 혹은 졸 을 물 이나 유기 용매 등 의 용매 에 균일 분산 한 페이스트 를 조제 하 여 , 투명 도전 성 기판 상 에 도포 하 는 방법 이 바람직 하 다 . 도포 는 , 그 방법 에 특별히 제한 은 없 으며 , 공지 의 방법 에 따라서 행할 수 있 고 , 예 를 들 어 , 딥 법 , 스프레이 법 , 와이어 바 법 , 스핀 코트 법 , 롤러 코트 법 , 블레이드 코트 법 , 그라비아 코트 법 , 또한 , 습식 인쇄 방법 으로서 는 , 예 를 들 어 , 볼록판 , 오프셋 , 그라비아 , 오목판 , 고 무판 , 스크린 인쇄 등 여러 가지 의 방법 에 의해 행할 수 있 다 . 반도체 미립자 의 재료 로서 결정 산화 티탄 을 사용 하 는 경우 , 그 결정형 은 아나 타제 형 이 광촉매 활성 의 점 으로부터 바람직 하 다 . 아 나 타제 형 산화 티탄 은 시판 중 인 분말 , 졸 , 슬러리 이 어도 되 고 , 혹은 , 산화 티탄 알 콕 시드 를 가수 분해 하 는 등 의 공지 의 방법 에 의해 소정 의 입경 의 것 을 만들 어도 된다 . 시판 중 인 분말 을 사용 할 때 에 는 입자 의 2 차 응집 을 해소 하 는 것 이 바람직 하 며 , 도포 액 조제 시 에 유발 이나 볼밀 이나 초음파 분산 장치 등 을 사용 해서 입자 의 분산 을 행하 는 것 이 바람직 하 다 . 이 때 , 2 차 응집 이 풀어진 입자 가 재차 응집 하 는 것 을 방지 하 기 위해서 , 아세틸 아세톤 , 염산 , 질산 , 계면 활성제 , 킬레이트제 등 을 첨가 할 수 있 다 . 또한 , 증 점 ( 增 粘 ) 의 목적 으로 폴리 에틸렌옥사이드 나 폴리비닐 알코올 등 의 고분자 , 셀룰로오스 계 의 증 점제 등 , 각종 증 점제 를 첨가 할 수 도 있 다 .