상기 플라 즈 마 생 성부 ( 100 ) 는 상기 프로세스 챔버 ( 11 ) 의 일 측 에 연결 되 어 프로세스 챔버 ( 11 ) 의 외벽 일부 를 구성 하 는 컨테이너 ( 110 ) 와 , 상기 컨테이너 ( 110 ) 상 에 지지 되 는 베이스 ( 120 ) 와 , 상기 베이스 ( 120 ) 에 지지 되 며 상기 기판 처리 공간 ( 12 ) 과 마주 하 는 면 이 개구 된 상태 로 플라 즈 마 생 성 공간 ( 131 ) 을 둘러싸 는 석영 재질 의 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 와 , 상기 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 내부 의 플 라즈 마 생 성 공간 ( 131 ) 으로 반응 가스 를 공급 하 는 가스 공급 부 ( 140 ) 와 , 상기 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 내부 에서 플 라즈 마 를 생성 하 기 위해 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 의 외측 면 에 배치 되 는 RF 안테나 ( 150 ) 와 , 상기 컨테이너 ( 110 ) 의 외부 에 배치 되 고 상기 RF 안테나 ( 150 ) 에 RF 전원 을 인가 하 는 RF 전원 공급 부 ( 151 ) 와 , 판면 에 다수 의 관통 홀 ( H ) 이 형성 되 어 상기 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 의 개구 를 마감 하 는 그리드 전극 ( 160 ) 과 , 상기 컨테이너 ( 110 ) 와 베이스 ( 120 ) 를 연결 하 고 상기 플 라즈 마 챔버 ( 130 ) 의 설치 각도 를 조절 하 는 위치 조 절부 ( 180 ) 를 포함 한다 .