본 발명 은 플루오르화 중합체 가 중합체 를 형성 하 기 위해 사용 된 중합 반응 도중 에 혼입 된 입자 를 갖 는 , 기재 에 표면 효과 를 부여 하 기 위한 조성물 을 제공 한다 . 따라서 본 입자 는 중합체 화학 구조 의 일부 이 다 . 이 입자 는 그 표면 에 반응 성 작용기 를 갖 고 , 플루오르 화 되 지 않 으며 , 용액 계 또는 에 멀 젼 계 플루오르화 중합체 중 어느 하나 의 합성 에서 중합 도중 에 반응 된다 . 생성 된 조성물 은 입자 를 함유 하 지 않 는 전통 적 인 구매 가능 한 처리 제 와 비교 하 여 , 또는 처리 제 가 적용 전 에 처리 조 내 에서 입자 와 물리 적 으로 혼합 되 는 조성물 과 비교 하 여 , 처리 된 기재 에 표면 효과 의 향상 된 성능 및 내 구성 을 제공 한다 . 중합체 구조 내로 의 0 . 1 중량 % 만큼 낮 은 소량 의 입자 의 혼입 이 성능 을 향상 시키 는 데 효과 적 인 것 으로 밝혀졌 다 . 바람직 하 게 는 약 0 . 1 % 내지 약 5 중량 %, 더욱 바람직 하 게 는 약 0 . 1 % 내지 약 3 중량 %, 및 더욱 바람직 하 게 는 약 0 . 1 % 내지 약 1 중량 % 의 입자 성분 이 중합체 내 로 혼입 된다 . 본 발명 은 성능 에 있 어서 어떠 한 감소 도 없이 더 소량 의 전통 적 처리 제 의 사용 , 또는 8 개 미만 의 탄소 원자 의 짧 은 퍼플 루오 로 알킬 사슬 을 함유 하 는 제제 ( 따라서 , 더 적 은 불소 를 함유 함 ) 의 사용 을 허용 한다 .