개별 적 인 다이어프램 들 을 면하 는 조명 광 방사 다발 의 에지 가 , 필드 패 싯 미러 의 모든 필드 패 싯 들 에 의해 조명 되 는 배열 은 , 모든 필드 패 싯 이미지 들 에 대한 필드 강도 설정 디바이스 의 상대 적 으로 균질 의 영향 을 보장 하 며 , 따라서 , 필드 강도 설정 디바이스 의 사용 동안 에 조명 각도 분포 상 의 원치 않 는 효과 를 회피 한다 . 필드 패 싯 들 의 예리 한 이미지 들 이 강도 설정 내 에서 생성 되 는 한 , 이것 은 특히 높 은 시스템 안정 성 을 보장 하 며 , 특히 , 조명 광 의 광원 의 공간 적 인 변위 가 더 또는 덜 문제 가 없 다 . 이것 은 , 광원 이 EUV 플 라즈 마 소스 일 때 , 특히 유리 하 다 .