이러 한 포토 리소그래피 공정 을 이용 하 여 기판 위 에 일정 한 패턴 ( 정사각형 , 직 사각형 등 의 어레이 ) 으로 형성 된 감광제 를 유리 전이 온도 ( Tg ) 이상 의 온도 로 열처리 를 하 면 감광제 의 점성 이 낮 아 지 며 표면 에너지 를 최소 화 하 기 위해 감광제 의 형상 이 반구형 으로 변화 되 어 기판 상 에 크기 와 위치 및 각 렌즈 의 밀도 가 조절 가능 한 반구형 의 렌즈 어레이 를 제작 할 수 있 게 되 는 것 이 다 .