제 1 절 연막 ( 130 ) 상 에 액티브 패턴 ( 190 ) 및 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 을 형성 한다 . 액티브 패턴 ( 190 ) 및 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 은 서로 다른 2 개 의 마스크 를 이용 한 2 번 의 마스크 공정 을 통해 각각 패 터닝 되 거나 , 또는 하나 의 마스크 를 이용 한 한 번 의 마스크 공정 을 통해 패 터닝 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 액티브 패턴 ( 190 ) 과 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 을 2 번 의 마스크 공정 을 통해 각각 패 터닝 할 경우 , 액티브 패턴 ( 190 ) 은 게이트 전극 ( 124 ) 과 중첩 되 는 부분 에 만 형성 될 수 있 다 . 이 와 달리 , 액티브 패턴 ( 190 ) 과 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 이 한 번 의 마스크 공정 에 의해 패 터닝 될 경우 , 액 티 브 패턴 ( 190 ) 은 실질 적 으로 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 과 동일 한 형상 으로 형성 된다 . 즉 , 액티브 패턴 ( 190 ) 은 제 1 절 연막 ( 130 ) 과 제 2 금속 패턴 ( 140 ) 사이 에 형성 된다 .