종래 의 포토 리소그래피 에서 , 처리 및 노출 동안 레티 클 을 오염 으로부터 보호 하 기 위해 레티 클 에 펠리 클 ( pellicle ) 이 일반 적 으로 배치 된다 . 펠리 클 은 무엇 보다 도 레티 클 에 대한 패턴 의 충실 도 에 부정 적 인 영향 을 미칠 수 있 는 원 하 지 않 은 입자 들 로부터 레티 클 을 보호 할 수 있 고 , 따라서 패턴 을 웨이퍼 로 전달 한다 .