노광 공정 에서 는 상기 층 형성 공정 에서 얻 어 진 적층 체 와 원 하 는 포토 마스크 ( 예 를 들 면 석영 노광 마스크 ) 를 감광성 수지 층 ( 감광성 전사 재료 를 사용 한 경우 는 가지 지체 제거 후 의 제거 면 ( 산소 차단 층면 ) ) 과 포토 마스크 가 마주 향하 도록 배치 하 고 , 예 를 들 면 감광성 수지 층 과 포토 마스크 를 수직 으로 세운 상태 에서 포토 마스크 면 과 감광성 수지 층 사이 의 거리 를 적당히 ( 예 를 들 면 200 ㎛) 설정 하 여 노광 한다 .