이상 상세히 설명 한 바 와 같이 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 의하 면 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 가 Y 축 방향 으로 직선 적 으로 이동 하 는 동안 에 , 복수 의 검 출점 이 X 축 방향 으로 소정 간격 으로 설정 되 는 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 에 의해 웨이퍼 ( W ) 표면 의 면 위치 정보 가 검출 되 고 , X 축 방향 을 따라 일렬 로 검출 영역 이 배열 되 는 복수 의 얼라이먼트 계 ( AL 1 , AL 21 ∼ AL 24 ) 에 의해 웨이퍼 ( W ) 상 에서 서 로 위치 가 상이 한 얼라이먼트 마크 가 검출 되 고 , 또한 주변 노광 유닛 ( 51 ) 에 의해 웨이퍼 ( W ) 의 주변 노광 이 실시 된다 . 즉 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) ( 웨이퍼 ( W ) ) 가 , 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 의 복수 의 검 출점 ( 검출 영역 ( AF ) ) 과 , 복수 의 얼라이먼트 계 ( AL 1 , AL 21 ∼ AL 24 ) 의 검출 영역 과 , 주변 노광 유닛 ( 51 ) 의 하방 을 직선 적 으로 통과 하 는 것 만 으로 , 웨이퍼 ( W ) 의 거의 전체 면 의 면 위치 정보 의 검출 과 , 웨이퍼 ( W ) 상 에서 검출 할 모든 얼라이먼트 마크 ( 예 를 들 어 EGA 에 있 어서 의 얼라이먼트 쇼트 영역 의 얼라이먼트 마크 ) 의 검출 과 , 웨이퍼 ( W ) 의 주변 노광 의 3 개 의 동작 이 종료 된다 . 따라서 , 얼라이먼트 마크 의 검출 동작 과 , 면 위치 정보 ( 포커스 정보 ) 의 검출 동작 과 , 주변 노광 동작 을 무 관계 로 ( 따로 따로 ) 실시 하 는 경우 에 비해 현격히 스루풋 을 향상 시킬 수 있 다 . 즉 , 주변 노광 동작 에 필요 로 하 는 시간 을 웨이퍼 얼라이먼트 동작 시간 에 거의 오버랩 시킬 수 있 기 때문 에 , 주변 노광 동작 이 스루풋 을 거의 저하 시키 는 경우 가 없 다 .