본 발명 은 세정 가스 의 원격 활성 화 를 위한 원격 플 라즈 마 발생기 를 가지 는 플 라즈 마 화학 기상 증착 ( chemical vapor depostion , CVD ) 장치 와 관련 된다 . 특히 , 본 발명 은 쓰루 풋 ( throughput ) 을 증가 하 기 위하 여 , 반응기 세정 속도 를 증가 시키 는 균일 한 단면적 을 가지 는 개선 된 홀 들 을 포함 하 는 새로운 샤워 플레이트 와 관련 된다 .