리소그래피 장치 에 의하 여 노광 된 기판 이 정확 하 고 일관 되게 노광 되 도록 하 기 위하 여 및 / 또는 적어도 하나 의 패턴 전사 단계 ( 예 를 들 어 , 광학 리소그래피 단계 ) 를 포함 하 는 패 터닝 공정 ( 예 를 들 어 , 디바이스 제조 공정 ) 을 모니터링 하 기 위하 여 , 정렬 , ( 예 를 들 어 , 위 에 놓인 층 들 내 의 구조 체 들 사이 또는 , 예 를 들 어 이중 패 터닝 공정 에 의하 여 층 에 개별 적 으로 제공 된 , 동일 층 내 의 구조 체 들 사이 일 수 있 는 ) 오버레이 , 라인 두께 , 임계 치수 ( CD ) , 초점 오프셋 , 물질 특성 등 과 같 은 하나 이상 의 특성 을 측정 또는 결정 하 기 위해 기판 또는 다른 대상물 을 검사 하 는 것 이 바람직 하 다 . 따라서 , 리 소 셀 ( LC ) 이 위치 하 는 제조 설비 는 또한 일반 적 으로 리 소 셀 에서 처리 된 기판 ( W ) 또는 리 소 셀 내 의 다른 대상물 의 일부 또는 모두 를 측정 하 는 계측 시스템 ( MET ) 을 포함 하 고 있 다 . 계측 시스템 ( MET ) 은 리 소 셀 ( LC ) 의 일부 일 수 있 으며 , 예 를 들 어 ( 정렬 센서 ( AS ) 와 같 은 ) 리소그래피 장치 ( LA ) 의 일부 일 수 있 다 .