또한 , 본 발명 의 목적 은 청구 항 7 항 에 따르 는 방법 을 이용 하 여 달성 된다 . 이 방법 은 하나 또는 그 이상 의 센서 Si ( i = 1 내지 n , n 은 센서 의 개수 ) 를 이용 하 여 표면 상 의 적어도 두 개 의 충격 들 ( F 1 및 F 2 ) 의 위치 를 결정 하 기 위한 방법 으로서 , 상기 충격 들 ( F 1 및 F 2 ) 은 하나 또는 그 이상 의 센서 들 에 의해 감지 되 는 신호 를 생성 하 고 , 각 센서 는 감지 신호 si ( t ) ( t = 1 내지 n , n 은 센서 의 개수 ) 를 제공 하 는 방법 이 며 , a ) 한 충격 , 특히 최대 충격 의 위치 x 를 식별 하 는 단계 , 및 상기 식별 된 충격 의 기여 량 이 감소 되 고 , 감지 신호 들 의 쌍 들 인 si ( t ) 및 소정 의 상응 하 는 기준 신호 들 의 쌍 들 인 rij ( t ) 및 ri ' j ( t ) 의 비교 , 특히 상관 에 더욱 기반 하 는 감지 신호 si ( t ) 에 기반 하 여 , 수정 신호 를 결정 하 는 단계 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .