편광판 의 제조 방법 은 요오드 , 이색 성 염료 중 1 종 이상 이 염착 된 편광자 의 적어도 일면 에 보호 필름 이 형성 된 적층 체 에 펨토 초 레이저 를 조사 하 는 단계 를 포함 하 고 , 상기 펨토 초 레이저 는 파장 340 nm 내지 346 nm 영역 및 파장 510 nm 내지 520 nm 영역 에서 각각 선택 되 는 적어도 2 종 의 펨토 초 레이저 를 포함 한다 . 펨토 초 레이저 가 편광자 에 조사 되 지 않 고 편광자 와 보호 필름 의 적층 체 에 조사 되 는 점 을 제외 하 고 는 상기 일 실시 예의 편광판 의 제조 방법 과 실질 적 으로 동일 하 다 . 레이저 가 편광판 중 상부 보호 필름 , 편광자 의 순서 로 투과 되 며 , 파장 340 nm 내지 346 nm 및 510 nm 내지 520 nm 의 레이저 는 상부 보호 필름 에서 투과 율 이 90 % 이상 이 됨 으로써 편광자 에 편광 해소 영역 을 제대로 형성 할 수 있 음 과 동시 에 상부 보호 필름 , 편광자 , 및 편광판 에서 열 변형 이 없 도록 할 수 있 다 .