도 3 은 제 2 실시 형태 를 나타내 는 개략 구성도 이 다 . 본 실시 형태 의 노광 장치 ( EX ) 는 , 예 를 들 면 국제 공개 제 99 / 49504 호 팜플렛 , 일본국 특개 2004 - 289126 호 ( 대응 미국 특허 공개 제 2004 / 0165159 호 공보 ) 등 에 개시 되 고 있 는 바 와 같 은 노광 파장 을 실질 적 으로 짧 게 하 여 해상도 를 향상 함 과 동시 에 초점 심도 를 실질 적 으로 넓 게 하 기 위해서 액침법 을 적용 한 노광 장치 로서 노광 광 ( EL ) 의 광로 의 적어도 일부 를 액체 ( LQ ) 로 채우 는 제 1 , 제 2 액침 시스템 ( 1 A , 1 B ) 을 구비 하 고 있 다 . 본 실시 형태 에서 는 액체 ( LQ ) 로서 물 ( 순수 ) 을 이용 한다 . 또 , 기판 ( P ) 에 는 액체 ( LQ ) 로부터 감광 재나 기재 ( 基 材 ) 를 보호 하 는 오버코트 막 등 을 형성 할 수 있 다 .