상기 가 ) 의 감도 측정 시 와 동일 한 방법 으로 패턴 ( Pattern ) 막 을 형성 하 되 10 ㎛ Contact Hole CD 기준 으로 노광 후 , 현상 공정 전 정체 ( Delay ) 시간 에 따른 CD 변화 율 을 측정 하 였 다 . 이때 , 변화 율 이 3 % 미만 인 경우 를 ◎, 5 % 미만 인 경우 를 ○, 5 % 이상 ~ 10 % 미만 인 경우 를 △, 10 % 이상 인 경우 를 × 로 표시 하 였 다 .