종래 기기 와 는 대조 적 으로 , 본 발명 의 기기 ( 1 ) 는 가스 가 작업 영역 ( 5 ) 에 위치 된 분말 재료 와 접촉 하 도록 챔버 ( 2 ) 에 반응 성 가스 를 공급 하 기 위한 시스템 을 더 구비 한다 . 따라서 , 가스 공급 시스템 은 작업 영역 ( 5 ) 위 에 반응 성 가스 의 분위기 를 제공 할 수 있 다 . 이 가스 공급 시스템 은 가스 공 급기 ( 14 ) , 밸브 ( 12 ) 및 가스 센서 ( 16 ) 를 구비 한다 . 센서 ( 16 ) 와 밸브 ( 12 ) 는 챔버 ( 2 ) 내 가스 의 농도 에 대한 상기 센서 ( 16 ) 로부터 의 정보 전송 과 상기 밸브 ( 12 ) 의 제어 를 가능 하 게 하 기 위해 제어 유닛 ( 18 ) 에 전기 적 으로 연결 되 어 있 다 ( 점선 으로 표시 됨 ) . 이 특별 한 예 에서 , 제 어 유닛 ( 18 ) 은 또한 전 자건 ( 3 ) 과 같 은 기기 ( 1 ) 의 다른 부분 들 을 제어 하 기 위한 종래 의 중앙 제어 유닛 으로 작동 한다 . 작업 영역 ( 5 ) 으로 흐르 는 가스 가 화살표 ( 11 ) 로 표시 되 어 있 다 .