해당 레지스 트 하층 막 형성 용 조성물 은 , 가교 촉매 로서 각종 아민 화합물 , 페놀 수지 , 아미노 수지 , 머 캅 탄계 화합물 , 히드라지드 류 , 폴리 페놀 , 다염기산 , 광산 발생 제 또는 열 산 발생 제 등 을 사용 할 수 있 다 . 그 중 에서 도 생산 성 이나 잔존 촉매 의 광학 특성 에 대한 영향 이 거의 보이 지 않 는 광 또는 열 산 발생 제 가 바람직 하 다 .