도 1 에 도시 된 바 와 같 은 일반 적 인 급속 열처리 시 공정 가스 로 아르곤 ( Ar ) 과 암모니아 ( NH 3 ) 가스 의 혼합 가스 를 사용 하 여 열처리 한 웨이퍼 와 , 아르곤 ( Ar ) 과 암모니아 ( NH 3 ) 가스 의 혼합 가스 를 사용 하 여 열처리 하 기 전 에 산소 ( O 2 ) 에 의해 수 옹 스트롱 ( Å ) 성장 시킨 웨이퍼 를 사용 하 여 평가 하 였 다 . 그 결과 , 수 옹 스트롱 ( Å ) 성장 시킨 후 아르곤 ( Ar ) 과 암모니아 ( NH 3 ) 가스 의 혼합 가스 를 사용 하 여 급속 열처리 를 한 웨이퍼 중 Pv 영역 에서 보다 많 은 산소 석출 물 이 검출 되 었 다 .