이어서 , 도 3 a 내지 도 3 d 를 참조 해서 검출 장치 ( 100 ) 를 사용 해서 웨이퍼 ( 3 ) 위 의 마크 ( 32 ) 를 계측 하 는 방법 에 대해 설명 한다 . 도 3 a 는 , 도 2 a 에 나타내 는 검출 장치 ( 100 ) 를 Z 방향 에서 본 평면도 다 . 검출 장치 ( 100 ) 의 복수 의 검출기 21 a , 21 b , 21 c 는 , 도 3 a 에 나타낸 것 과 같이 , 복수 의 마크 중 서로 다른 마크 를 검출 하 도록 서로 이격 되 어서 배치 되 어 있 다 . 도 3 b 및 도 3 c 는 , 계측 동작 중 에 다른 시점 에 있 어서 의 웨이퍼 ( 3 ) 와 검출 장치 ( 100 ) 의 위치 관계 를 나타낸 도면 이 다 . 검출 장치 ( 100 ) 는 , 생산 성 을 고려 하 여 , 도 3 b 및 도 3 c 에 나타낸 것 과 같이 , 전체 숏 영역 중 일부 에 형성 된 마크 ( 32 ) 를 계측 한다 . 제 어부 ( 1100 ) 는 , 웨이퍼 스테이지 WS 를 제어 하 여 , 검출 장치 ( 100 ) 의 복수 의 검출기 21 a , 21 b , 21 c 의 검출 영역 에 대하 여 웨이퍼 ( 3 ) 위 의 마크 ( 32 ) 를 정렬 하 고 , 마크 ( 32 ) 의 좌표 위치 를 구한다 . 이때 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 가능 한 한 짧 은 시간 에 계측 대상 인 복수 의 마크 를 검출 하 도록 웨이퍼 스테이지 WS 를 제어 한다 . 구체 적 으로 는 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 검출 장치 ( 100 ) 의 복수 의 검출기 21 a , 21 b , 21 c 중 적어도 2 개 의 검출기 의 검출 영역 및 초점 심도 내 에 놓이 도록 웨이퍼 ( 3 ) 위 의 마크 ( 32 ) 를 정렬 하 여 , 동시 에 2 개 의 마크 의 위치 를 검출 한다 . 예 를 들 면 , 도 3 b 에 나타낸 것 과 같이 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 검출기 21 a 및 21 b 에 대하 여 웨이퍼 ( 3 ) 상의 2 개 의 마크 32 F 및 32 G 를 동시 에 정렬 하 면서 계측 동작 을 행한다 . 웨이퍼 ( 3 ) 상 의 마크 의 배치 에 따라 계측 에 사용 하 는 검출기 가 변경 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 도 3 c 에 나타낸 것 과 같이 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 검출기 21 b 및 21 c 에 대하 여 웨이퍼 ( 3 ) 상 의 마크 32 L 및 32 M 을 동시 에 정렬 하 면서 계측 동작 을 행한다 . 더구나 , 도 3 d 에 나타낸 것 과 같이 , 제 어부 ( 1100 ) 는 , 3 개 의 검출기 21 a , 21 b , 21 c 의 검출 영역 및 초점 심도 내 에 놓이 도록 웨이퍼 ( 3 ) 상의 3 개 의 마크 32 R , 32 S , 32 T 를 동시 에 정렬 하 면서 계측 동작 을 행할 수 도 있 다 . 이 와 같 은 동작 에 따라 , 1 개 의 검출기 의 검출 영역 에 대하 여 웨이퍼 ( 3 ) 상 의 복수 의 마크 ( 32 ) 를 순차 적 으로 정렬 하 면서 계측 동작 을 행하 는 경우 에 비해 , 웨이퍼 스테이지 WS 의 구동 시간 및 검출 장치 ( 100 ) 의 계측 시간 을 단축 할 수 있 다 .