상술 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따른 오버레이 버니어 및 반도체 소자 의 형성 방법 은 노광 공정 에서 의 초점 변화 를 용이 하 게 측정 하 기 위하 여 오버레이 버니어 의 자 버니어 에 쐐기 패턴 이 결합 된 형태 로 형성 한다 . 쐐기 패턴 은 초점 의 변화 에 민감 하 게 반응 하 므로 초점 의 변화 정도 가 용이 하 게 측정 될 수 있 다 . 또한 오버레이 버니어 형성 공정 및 오버레이 측정 공정 을 이용 하 므로 공정 을 단축 시킬 수 있 고 반도체 소자 의 형성 공정 에 있 어서 불량 발생 요인 을 조기 에 발견 하 여 반도체 소자 의 형성 공정 수율 을 증가 시키 고 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 다 .