또한 본 실시 형태 에 의하 면 , 전술 한 포커스 매핑 시 에 , 주제 어 장치 ( 20 ) 에 의해 면 위치 계측 시스템 ( 180 ) 과 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 가 동시 에 작동 되 고 , 다점 AF 계 ( 90 a , 90 b ) 의 검출 결과 가 , 면 위치 계측 시스템 ( 180 ) 의 계측 결과 를 기준 으로 한 데이터 로 환산 된다 . 따라서 , 미리 이 환산 데이터 를 취득 해 둠 으로써 , 그 후 에 , 면 위치 계측 시스템 ( 180 ) 에 의해 웨이퍼 테이블 ( WTB ) 의 Z 축 방향 의 위치 정보 , 및 XY 평면 에 대한 경사 방향 의 위치 정보 를 계측 하 는 것 만 으로 , 웨이퍼 ( W ) 의 면 위치 정보 를 취득 하 지 않 고 웨이퍼 ( W ) 의 면 위치 제어 가 가능 해진다 . 따라서 , 본 실시 형태 에서 는 , 선단 렌즈 ( 191 ) 와 웨이퍼 ( W ) 표면 사이 의 워킹 디스턴스 가 좁 아 져 있 음 에 도 불구 하 고 , 특별히 지장 없이 노광 시 의 웨이퍼 ( W ) 의 포커스 · 레벨 링 제어 를 양호 한 정밀도 로 실행 할 수 있 다 .