제 2 실시 예의 방법 은 윤곽 , CD 또는 에지 배치 오차 ( EPE ) 가 상이 한 디 포커스 조건 들 에서 의 에어리얼 이미지 로부터 추출 되 는 도 4 의 흐름 도 에 의해 예시 된다 . 공정 의 제 1 단계 ( 단계 50 ) 는 원 하 는 공정 과 연계 된 공정 의 특정 한 광학 조건 들 을 확인 하 는 것 이 다 . 다음 단계 ( 단계 52 ) 는 공칭 조건 TCC 0 및 L 개 의 디 포커스 { TCCl } 을 생성 하 는 것 이 다 . 그 후 , 수학식 14 를 이용 하 여 미분 TCC 들 : A 및 B 가 생성 된다 ( 단계 54 ) . 다음 단계 ( 단계 58 ) 는 수학식 17 을 이용 하 여 TCC 0 , A 및 B 와 마스크 이미지 의 컨 볼루 션 에 의해 이미지 들 I 0 , a , b 를 생성 한다 . 그 다음 , 각각 의 마스크 디자인 에 대해 ( 단계 56 ) , 수학식 4 를 이용 하 여 디 포커스 이미지 가 합성 되 어 ( 단계 60 ) , 시뮬레이션 된 이미지 를 생성 한다 . 그 다음 , 시뮬레이션 된 이미지 로부터 윤곽 들 이 추출 되 고 , CD 들 또는 피처 EPE 들 이 결정 된다 ( 단계 62 ) . 그 후 , 공정 은 공정 윈도우 의 경계 를 결정 하 기 위해 충분 한 적용 범위 가 존재 하 는지 의 여부 를 결정 하 도록 단계 64 로 진행 하 며 , 대답 이 아니 오 인 경우 에 공정 은 단계 58 로 되돌아가 고 앞선 공정 을 반복 한다 . 충분 한 적용 범위 가 존재 하 는 경우 , 마스크 디자인 에 의해 생성 된 이미지 가 허용 가능 한 오차 공차 내 에 있 는지 를 결정 하 기 위해 공정 이 단계 66 으로 진행 하 며 , 만족 스러운 경우 공정 이 완료 된다 . 그렇 지 않 은 경우 에 는 마스크 의 조정 및 재 디자인 을 허용 하 도록 공정 이 단계 56 으로 되돌아간다 . 이 마지막 단계 는 공정 에서 선택 적 인 단계 라는 것 을 유의 한다 .