하지만 , 예 를 들 어 , 미국 특허 제 7 , 161 , 659 호 명세서 에 기재 된 노광 장치 와 같이 , 2 개 의 웨이퍼 스테이지 를 구비 하 고 있 는 경우 , 노광 위치 ( 투영 렌즈 하방 의 위치 ) 와 웨이퍼 교환 ( 및 웨이퍼 얼라인먼트 ) 이 수행 되 는 위치 사이 의 각 웨이퍼 스테이지 의 이동 중 에 , 그 웨이퍼 스테이지 의 위치 를 계측 하 는 간섭계 시스템 의 계측 이 불 가능 하 게 되 는 위치 가 존재 하 였 다 .