상술 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 에 따른 기판 처리 장치 는 제 1 챔버 , 상기 제 1 챔버 가 상부 에 위치 되 도록 상기 제 1 챔버 와 적층 되 는 제 2 챔버 , 그리고 상기 제 1 챔버 및 상기 제 2 챔버 로부터 기판 을 이송 하 는 이송 모듈 을 포함 하 되 , 상 기 이송 모듈 은 기판 이 놓여 지 는 제 1 블레이드 및 상기 제 1 블레이드 의 상부 에 위치 되 어 상기 제 1 블레이드 를 구동 시키 는 제 1 구동축 를 가지 는 제 1 로봇 과 , 기판 이 놓여 지 는 제 2 블레이드 및 상기 제 2 블레이드 의 하부 에 위치 되 어 상기 제 2 블레이드 를 구동 시키 는 제 2 구동축 를 가지 는 제 2 로봇 을 포함 하 고 , 상기 제 1 블레이드 는 상기 제 2 블레이드 의 상부 에 배치 되 고 , 상기 제 1 로봇 과 상기 제 2 로봇 은 서로 상하 로 대향 되 도록 배치 된다 .