단계 S 16 에서 , 제 어 유닛 ( 11 ) 은 , 기판 ( 2 ) 이 몰드 ( 1 ) 의 패턴 이 전사 될 추가 샷 영역 ( 다음 샷 영역 ) 을 갖 는지 를 판단 한다 . 다음 샷 영역 이 존재 하 는 경우 ( 단계 S 16 에서 예 인 경우 ) , 처리 는 단계 S 10 으로 복귀 한다 . 그러나 , 다음 샷 영역 이 존재 하 지 않 는 경우 ( 단계 S 16 에서 아니 오 인 경우 ) , 임프 린트 처리 는 종료 된다 . 이 와 같이 , 상술 한 방식 으로 도 3 에 도시 된 임프 린트 처리 를 수행 함 으로써 , 기판 ( 2 ) 상 의 복수 의 샷 영역 에 임프 린트 재의 패턴 을 형성 할 수 있 다 . 또한 , 도 3 에 도시 된 임프 린트 처리 를 기판 마다 실행 함 으로써 , 복수 의 기판 에 임프 린트 재의 패턴 을 형성 할 수 있 다 .