패턴 이 작 아 짐 에 따라 , 더 짧 은 파장 을 이용 하 는 것 이 관심사 이 다 . 극 자외선 리소그래피 인 EUVL 에서 는 약 13 . 5 nm 의 파장 이 자주 사용 된다 . 더 짧 은 파장 으로 의 이동은 EUV 방사선 에 높 은 투과율 을 제공 하 고 EUVL 장치 의 일반 적 으로 열악 한 조건 을 견딜 수 있 는 새로운 펠리 클 디자인 에 대한 요구 를 불러오 게 되 었 다 .