그런 다음 , 상기 비 아홀 용 포토레지스트 패턴 을 제거 한 뒤 그 상부 에 제 2 포토레지스트 를 도포 하 고 , 상술 한 바 와 마찬가지 로 제 2 포토레지스트 에 대해 포토 공정 을 진행 하 여 제 2 포토레지스트 패턴 을 형성 한다 . 이 제 2 포토레지스트 패턴 을 마스크 로 하 여 제 2 절 연막 ( 204 ) 을 2 차 식각 함 으로써 트렌치 배선 영역 을 형성 한다 .