본 발명 은 , 플라스마 생성 공간 에 생성 된 플라스마 를 이용 해서 행하 는 기판 처리 의 적정 화 가 도모 되 도록 한다 . 플라스마 생성 공간 과 처리 공간 을 갖 는 처리 실과 , 플라스마 생성 공간 의 주위 에 배치 되 는 코일 전극 과 , 처리 공간 에서 처리 되 는 기판 이 적재 되 는 기판 적 재부 와 , 처리 실 내 에서 기판 적 재부 를 이동 시키 는 이동 기구 부 와 , 기판 에 관한 처리 분포 정보 에 따라서 기판 과 코일 전극 의 단부 사이 의 거리 를 가변 시키 도록 이동 기구 부 를 제어 하 는 제 어부 를 갖 는 기술 이 제공 된다 .