일부 실시 예 에서 , 간섭계 기술 은 패턴 화 된 포토레지스트 층 의 특징 을 모니터링 하 는 데 에 사용 된다 . 예 를 들 어 , 패턴 화 형상 의 임계 치수 ( 예 를 들 어 , 라인 폭 ) 가 연구 될 수 있 다 . 이 와 달리 또는 이 에 추가 로 , 간섭 기술 은 패턴 화 된 레지스 트 의 배 선부 와 포토레지스트 층 아래 의 배 선부 사이 의 중첩 오차 ( overlay error ) 를 판정 하 는 데 에 사용 될 수 있 다 . 다시 , 측정 된 임계 치수 및 / 또는 중첩 오 차 가 공정 범위 를 벗어나 면 , 패턴 화 된 포토레지스트 를 기판 으로부터 벗겨낼 수 있 으며 , 새로운 패턴 화 포토레지스트 층 을 형성 한다 .