Ag 층 및 NiCrOx 층 들 은 통상 적 으로 는 DC 기술 들 에 의해 금속 타 겟 들 로부터 스퍼터링 된다 . 모든 프로세스 들 에 대하 여 평면 및 / 또는 회전 타 겟 들 이 고려 될 수 있 다 . TiO 2 및 Si 3 N 4 코팅 들 에 대하 여 는 어느 시간 동안 회전 타 겟 들 이 이용 되 는 것 이 바람직 하 였 다 . Ag 및 NiCrOx 층 들 에 대하 여 는 기존 에 는 평면 타 겟 들 이 이용 되 지만 , 회전 타 겟 들 도 이용 가능 하 다 .