도 6 을 참조 하 면 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 패턴 마스크 및 인버스 패턴 마스크 를 이용 한 3 차원 스캐닝 의 프로 젝 션 시스템 은 피사체 로 투사 되 는 단일 패턴 및 인버스 단일 패턴 에 의해 획득 되 는 단일 패턴 영상 ( Pattern Image ) 및 인버스 단일 패턴 영상 ( Inv . Pattern Image ) 를 획득 하 며 , 각 화소 별 위치 에서 단일 패턴 영상 ( Pattern Image ) 의 화소 값 과 인버스 단일 패턴 영상 ( Inv . Pattern Image ) 의 화소 값 의 평균 으로 문턱 치 값 ( Threshold ) 을 획득 할 수 있 다 .