기판 처리 장치 는 상기 소수 화제 를 용해 시킬 수 있 고 , 또한 물 보다 표면장력 이 작 은 용제 를 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 에 공급 하 는 용제 공급 유닛 을 더 포함 하 고 있 어도 좋 고 , 상기 소수 화제 공급 유닛 은 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 에 상기 소수 화제 의 액체 를 공급 하 는 유닛 을 포함 하 고 있 어도 좋 다 . 상기 제어 장치 는 상기 소수 화제 공급 유닛 을 제어 함 으로써 , 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 에 상기 소수 화제 의 액체 를 공급 하 는 공정 을 포함 하 는 상기 소수 화 공정 을 행하 고 , 상기 용제 공급 유닛 을 제어 함 으로써 , 상기 소수 화 공정 이 행하 여진 후 로서 상기 건조 공정 이 행하 여 지 기 전 에 , 상기 기판 유지 유닛 에 유지 되 어 있 는 기판 에 상기 용제 를 공급 하 는 건 조 전 린스 공정 을 행하 여도 좋 다 . 이 경우 , 전술 한 효과 와 같 은 효과 를 발휘 할 수 있 다 .