설명 해야 할 것 은 , 상기 전기 전도 층 ( 325 ) ( 도 20 에 도시 된 바 와 같 음 ) 에 대해 패 터닝 처리 를 수행 한 후 , 상기 제 1 전극 ( 320 ) 은 상기 압 전 층 ( 330 ) 을 노출 시키 므로 , 따라서 상기 제 2 전도성 홀 ( 331 ) 및 제 2 서브 전도성 홀 ( 332 ) 을 형성 하 는 단계 에서 , 상기 압 전 층 ( 330 ) 만 에칭 하 면 되 기 에 , 에칭 공법 이 간단 하 다 .