상기 제 어부 는 , 상기 처리 분포 정보 가 볼록 형 의 처리 분포 일 경우 에 , 상기 처리 분포 의 구배 가 소정 역치 보다 도 크 면 , 상기 기판 과 상기 코일 전극 의 단부 사이 를 소정 거리 보다 도 접근 하 도록 하 고 , 상기 처리 분포 의 구배 가 상기 소정 역치 보다 도 작 으면 , 상기 기판 과 상기 코일 전극 의 단부 사이 를 소정 거리 보다 도 멀 어 지 게 하 도록 하 는 , 부기 1 에 기재 된 기판 처리 장치 가 제공 된다 .