여기 서 , 상기 포토레지스트 조성물 은 앞서 도 7 을 참조 하 여 설명 한 포토레지스트 조성물 과 달리 , PHS ( poly ( 4 - hydroxystyrene ) ) 기반 의 유기 고분자 를 포함 할 수 있 다 . 구체 적 으로 , 상기 포토레지스트 조성물 을 준비 하 는 것 은 , 치환 또는 비 치환 된 4 - 하이드 록 시스티 렌 ( 4 - hydroxystyrene ) 및 아크릴 레이트 ( acrylate ) 를 함유 하 는 혼합물 에 중합 반응 을 수행 하 여 , 공중 합체 를 합성 하 는 것 을 포함 할 수 있 다 . 4 - 하이드 록 시스티 렌 또는 아크릴 레이트 는 , 후술 할 탄화수소 로 치환 될 수 있 다 . 여기 서 , 중합 반응 전 , 상기 혼합물 내 4 - 하이드 록 시스티 렌 : 아크릴 레이트 의 중량 비 는 , 95 : 5 내지 60 : 40 일 수 있 다 . 보다 구체 적 으로 , 상기 혼합물 내 4 - 하이드 록 시스티 렌 : 아크릴 레이트 의 중량 비 는 90 : 10 내지 80 : 20 일 수 있 다 .