상기 증착 설비 는 내부 에 진공 이 형성 되 는 챔버 와 , 상기 챔버 의 내부 에 설치 되 며 , 웨이퍼 가 안착 되 는 척 과 , 상기 챔버 의 내부 로 공정 가스 를 공급 하 는 가스 공급 부 와 , 상기 척 과 대응 되 는 방향 으로 일정 거리 이격 되 도록 상기 챔버 의 내부 에 설치 되 며 , 그 중심 으로부터 방사형 상 으로 배치 되 며 상기 웨이퍼 상 에 증착 되 는 타 겟 이 고정 되 는 타 겟 홀더 들 을 갖 는 타 겟 고 정체 와 , 상기 타 겟 을 향하 여 레이저 광 을 조사 하 는 광 조사 부 와 , 상기 타 겟 고 정체 의 중심 과 제 1 회전축 으로 연결 되 어 상기 타 겟 고 정체 를 회전 시키 는 제 1 구 동부 와 , 상기 타 겟 홀더 들 각각 의 중심 과 제 2 회전축 으로 연결 되 어 상기 타 겟 홀더 들 각각 을 회전 시키 는 제 2 구동 부들과 , 상기 타 겟 홀더 를 회전 시킴 과 동시 에 상기 타 겟 홀더 의 폭 만큼 의 회전 범위 로 상기 타 겟 고 정체 를 왕복 회전 시키 도록 상기 제 1 구 동부 와 상기 제 2 구동 부 를 제어 하 는 제 어부 와 , 상기 타 겟 홀더 에 연결 되 어 상기 타 겟 고 정체 상 에서 상기 제 1 회전축 과 상기 타 겟 홀더 사이 의 거리 를 변화 시키 는 위치 가 변 수단 을 포함 한다 .