본 발명 은 반도체 제조 기술 에 관한 것 으로 특히 , 반도체 소자 제조 공정 중 , 녹 색광 , 적색 광 및 청색광 의 파장 에 따른 투과율 을 고려 한 곡률 반경 을 갖 는 마이크 로 렌즈 를 포함 하 는 씨 모스 이미지 센서 및 그 제조 방법 에 관한 것 이 다 . 이 를 위해 본 발명 은 , 제 1 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 1 컬러 필터 와 제 2 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 2 컬러 필터 와 제 3 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 3 컬러 필터 및 상기 제 1 , 제 2 및 제 3 컬러 필터 상 에 각기 다른 두께 및 곡 률 반경 으로 형성 된 마이크 로 렌즈 를 포함 하 는 씨 모스 이미지 센서 를 제공 한다 . 그리고 , 반도체 기판 상 에 소정 의 하부 층 을 형성 하 는 단계 , 상기 하부 층 상 에 제 1 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 1 컬러 필터 와 제 2 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 2 컬러 필터 와 제 3 파장 의 빛 을 필터 링 하 는 제 3 컬러 필터 를 형성 하 는 단계 및 상기 제 1 , 제 2 및 제 3 컬러 필터 상 에 각기 다른 두께 및 곡률 반경 을 갖 는 마이크 로 렌즈 를 형성 하 는 단계 를 포함 하 는 씨 모스 이미지 센서 의 제조 방법 이 제공 된다 .