기판 처리 장치 ( 1 ) 는 , 반도체 웨이퍼 등 의 원판 형상 의 기판 ( W ) 을 한 장 씩 처리 하 는 매 엽 식 의 장치 이 다 . 기판 처리 장치 ( 1 ) 는 , 기판 ( W ) 을 수용 하 는 복수 의 캐리어 ( C ) 를 유지 하 는 복수 의 로드 포트 와 , 복수 의 로드 포트 로부터 반송 된 기판 ( W ) 을 처리 액 이나 처리 가스 등 의 처리 유체 로 처리 하 는 복수 의 처리 유닛 ( 2 ) 과 , 기판 처리 장치 ( 1 ) 를 제어 하 는 제어 장치 ( 3 ) 를 포함 한다 . 제 어 장치 ( 3 ) 는 , 프로그램 등 의 정보 를 기억 하 는 기억 부 와 기억 부 에 기억 된 정보 에 따라서 기판 처리 장치 ( 1 ) 를 제어 하 는 연산 부를 포함 하 는 컴퓨터 이 다 .