또한 실시 예의 이미지 센서 제조 방법 은 픽셀 부 와 주변 부 를 포함 하 며 , 광 감지 소자 가 형성 된 반도체 기판 상 에 회로 를 포함 하 는 회로 영역 을 형성 하 는 단계 ; 상기 회로 영역 상 에 금속 배선 및 상기 금속 배선 과 동시 에 형성 된 차광막 을 포함 하 는 금속 배선 층 을 형성 하 는 단계 ; 및 상기 금속 배선 층 상 에 마이크 로 렌즈 를 형성 하 는 단계 를 포함 한다 .