실시 예 11 과 동일 하 게 제작 한 구리 나노 입자 도포 기판 을 , 200 ℃ 의 핫플레이트 상 에서 공기 중 10 분 간 가열 처리 하 지 않 고 ( 산화 처리 를 하 지 않 고 ) , 실시 예 11 과 동일 하 게 액상 처리 , 세정 을 행했 다 . 뒤 이 어 , 도 4 의 1 mm , 5 mm 각각 의 갭 을 가지 는 전극 간 에 관하 여 , 4 탐침 법 미소 저항 측정 장치 ( Loresta MCP - T 610 , 미츠 비시 화학 ( 주 ) 제 ) 를 이용 하 여 저항 을 측정 하 고 , FIB / SIM 단면 관찰 로 구한 막 두께 9 . 7 ㎛ 로부터 체적 저항 율 을 구한 바 , 각각 , 4 . 2 × 10 - 6 Ω ㆍ m , 1 . 3 × 10 - 6 Ω ㆍ m 이 었 다 .