도 1 은 본 발명 에 이용 되 는 APCVD 장치 를 나타내 고 , 도 2 는 본 발명 에 이용 되 는 APCVD 장치 의 공정 가스 분배 배관 구성 을 나타내 고 , 그리고 도 3 은 본 발명 에 이용 되 는 APCVD 장치 의 공정 가스 흐름 을 나타내 는 것 으로 , 본 발명 에 이용 되 는 APCVD 장치 는 TEOS 버 블러 ( 110 ) , 오존 생성기 ( 120 ) , 주 가스 라인 ( 130 ) , 소정 개수 의 분배 헤드 ( 140 ) 및 주 반응 챔버 ( 150 ) 및 각각 의 공정 가스 의 유량 을 조절 하 는 가스 유량 제어기 들 ( MFC ) , N 개 의 분배 링 , 퍼지 링 , 오존 링 , 벤트 링 등 으로 구성 된다 .