이어서 , 제 1 및 제 3 가스 분사 모듈 ( 130 a , 130 c ) 각각 의 가스 분사 공간 ( 212 ) 에 제 1 가스 를 공급 함 과 아울러 제 1 및 제 3 가스 분사 모듈 ( 130 a , 130 c ) 각각 의 플 라즈 마 전극 부재 ( 240 ) 에 플 라즈 마 전원 을 인가 함 으로써 기판 지지 부 ( 120 ) 상 의 제 1 및 제 3 가스 분사 영역 각각 에 플 라즈 마 화 된 제 1 가스 ( PG 1 ) 를 하향 분사 한다 . 이때 , 플 라즈 마 화 된 제 1 가스 ( PG 1 ) 는 기판 지지 부 ( 120 ) 가 소정 방향 으로 1 회전 하 는 공정 싸이클 주기 에 상관없이 지속 적 으로 분사 된다 .