완전 ( PG ) 큐브 코너 요소 의 어레이 를 , 2 면각 오 차 를 생성 하 는 작 은 오프셋 이 적용 되 는 방식 을 제외 하 고는 , 예 1 과 관련 하 여 전술 된 바 와 실질 적 으로 동일 한 절차 를 사용 하 여 다른 경질 구리 기재 상 에 제조 하 였 다 . 난수 의 상이 한 세트 를 가진 오프셋 을 큐브 코너 요소 의 시퀀스 에 적용 하 기 보다 는 ( 예 1 에서 행해졌 던 바 와 같이 ) , 큐브 코너 요소 를 대신 에 이진 결정 과정 ( binary decision process ) 에 따라 형성 하 였으며 , 즉 그 들 을 오프셋 없이 ( 따라서 실질 적 으로 2 면각 오 차 를 갖 지 않 는 직사각형 큐브 코너 요소 의 정합 쌍 을 생 성함 ) , 또는 0 . 005 mm 인 작 은 고정 된 오프셋 을 갖 고서 형성 하 였 다 ( 따라서 0 이 아닌 2 면각 오 차 를 가진 직사각형 큐브 코너 요소 의 정합 쌍 을 생 성함 ) . 제조 된 직사각형 큐브 코너 요소 의 각각 의 정합 쌍 에 대해 , 엔드 밀링 기계 를 위한 컨트롤러 를 정합 쌍 이 위치 된 기재 상 의 위치 의 함수 로서 0 의 오프셋 또는 작 은 고정 된 오프셋 사이 에서 선택 하 도록 프로그래밍 하 였 다 : 내경 10 mm 및 외경 12 mm 의 반원형 호 - 형상 의 영역 내 에 있 는 위치 에 대해서 는 , 작 은 고정 된 오프셋 을 적용 하 였 지만 , 반원형 호 - 형상 의 영역 외부 에 있 는 위치 에 대해서 는 , 오프셋 을 적용 하 지 않 았 다 .