정 전압 ( - 1 V vs Ag / AgCl ) 조건 과 정전 류 ( - 30 mA ) 조건 하 에서 도금 을 실시 하 였 다 . 각각 의 도금 된 자성 박막 의 표면 형상 을 관찰 하 기 위하 여 , Field - emission scanning - electron microscope ( FE - SEM , JSM 7000 F , JEOL ) 를 이용 하 여 이미지 를 얻 었 으며 , 그 이미지 를 도 2 ( a ) 및 ( b ) 에 각각 나타내 었 다 . - 1 V 에서 constant voltage 조건 으로 도금 을 하 였을 때 , 발생 하 는 current 값 은 약 - 30 mA 이 고 , - 30 mA 에서 constant current 조건 으로 도금 하 였을 때 발생 하 는 voltage 값 은 약 - 958 mV 이 다 . 도 2 에 나타낸 바 와 같이 , FE - SEM image 를 통해 확인 한 두 전극 의 morphology 차이 가 있 다 . Constant potential 의 경우 , 특정 전위 를 걸 어 주 기 때문 에 저항 의 변화 는 current 변화 이 며 이것 은 곧 반응 량 의 변화 로 이어진다 . 따라서 , 박막 의 morphology 가 균일 하 지 못하 였 다 . 반면 에 Constant current 조건 의 경우 일정 한 전자 를 주 어 반응 량 이 일정 하 기 때문 에 균일 한 morphology 의 박막 을 얻 을 수 있 었 다 . Constant current 조건 을 통해 낮 은 전류 밀도 에서 도금 을 진행 하 여 균일 한 도금 박막 을 얻 을 수 있 음 을 확인 하 였 다 .