상기 에서 얻 어 진 도막 에 소정 패턴 마스크 를 이용 하 여 , 365 ㎚ 에서 의 강도 가 10 mW / cm 2 인 자외선 을 15 초간 조사 하 였 다 . 이어서 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 0 . 5 중량 ％ 수용액 으로 25 ℃ 에서 1 분 간 현상 한 후 , 순수 로 1 분 간 헹구 었 다 . 이 들 조작 에 의해 불 필요 한 부분 을 제거 하 였 다 .