본 발명 의 목적 은 , 상기 한 문제점 을 모두 해소 한 , 즉 , 용융 성 으로서 연속 증착 이 가능 하 고 , 전자 빔 증착 법 을 사용 하 였 다 하 더라도 증발 속도 를 용이 하 게 제어 할 수 있 어 , 종래 보다 도 넓 은 파장 범위 , 특히 근자 외역 의 빛 을 투과 시킬 수 있 으며 , 또한 , 고 굴절 률 을 갖 는 광학 박막 을 성막 하 기 위한 증착 재료 , 그 를 사용 하 여 얻 어 지 는 광학 박막 및 그 광학 박막 의 제조 방법 을 제공 하 는 것 에 있 다 .