종래 기술 에 있 어서 의 액정 표시 장치 ( LCD ) , 플라 즈 마 표시 장치 ( PDP ) , 전계 발광 표시 장치 ( Electroluminescent Display , ELD ) , 터치 패널 , 솔 라셀 ( Solar Cell ) 및 기타 전자 계량기 에 투명 도전 층 을 구비 하 는 전자 부품 이 필요 로 된다 . 상기 전자 부품 에 는 일반 적 으로 기판 과 투명 도전 층 이 구비 된다 . 상기 투명 도전 층 은 일반 적 으로 인듐 주석 산화물 ( Indium Tin Oxide , ITO ) 층 이 다 . 상기 ITO 층 의 제조 에 는 주로 스퍼터링 ( Sputtering ) 또는 증착 방법 이 사용 된다 . 이 와 같 은 제조 방법 에 는 진공 환경 및 200 ∼ 300 ℃ 까지 의 가열 이 필요 로 된다 . 이 로 인해 , ITO 층 의 제조 비용 이 높 아 지 게 되 고 , 따라서 전자 부품 의 제조 비용 도 높 아 지 게 된다 . 또한 , 상기 ITO 층 의 기계 적 및 화학 적 내구 성 이 나쁘 고 , ITO 층 의 저항 치 의 분포 가 균일 하 지 않 기 때문 에 , 종래 의 ITO 층 을 사용 하 는 전자 부품 의 성능 이 나빠 지 게 된다 .