( 1 ) 표 1 의 시료 번호 2 ( 열처리 없 음 ) 및 번호 27 ( N 2 분위기 하 200 ℃ 로 열처리 ) 의 제 1 층 ( Al － 2 . 0 원자 ％ Ni － 0 . 35 원자 ％ La 합금 층 ) 과 ITO 막 의 계면 을 , 투과 형 전자 현미경 ( 히타치 제작소 제 , 모델 명 : HF 2000 ) 으로 관찰 하 여 , Al 산화물 층 의 최 박부 의 두께 를 구하 였 다 ( 관찰 영역 : 약 10 um , 관찰 배율 : 15 만 배 ) . 또한 , 이 들 시료 의 Al 산화물 층 의 조성 을 , 전자 여기 형 특성 X 선 분석 에 의해 측정 하 였 다 . 이 들 결과 를 , 표 1 및 도 4 및 도 5 에 나타낸다 .