전술 한 바 와 같이 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 따르 면 , X 스케일 ( SX 1 ) 에 대향 하 는 한 쌍 의 X 헤드 ( EX 1 및 EX 2 ) 에 의해 구성 되 는 한 쌍 의 X 인코더 와 , Y 스케일 ( SY 1 ) 에 대향 하 는 Y 헤드 ( EY ) 에 의해 구성 되 는 Y 인코더 에 의해 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 가 노광 시 이동 영역 ( AE ) 과 제 1 로딩 포지션 근방 의 영역 사이 의 제 1 대기 영역 ( AW 1 ) 내 의 이동 경로 를 따라 이동 할 때 , 또는 더욱 구체 적 으로 , 전술 한 Y 축 에 실질 적 으로 평행 한 이동 경로 를 따라 이동 할 때 의 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 XY 평면 내 의 위치 정보 ( θ z 방향 의 회전 정보 를 포함 ) 가 계측 된다 . 유사 하 게 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 따르 면 , X 스케일 ( SX 2 ) 에 대향 하 는 한 쌍 의 X 헤드 ( EX 1 및 EX 2 ) 에 의해 구성 되 는 한 쌍 의 X 인코더 와 , Y 스케일 ( SY 2 ) 에 대향 하 는 Y 헤드 ( EY ) 에 의해 구성 되 는 Y 인코더 에 의해 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 가 , 노광 시 이동 영역 ( AE ) 과 제 2 로딩 포지션 근방 의 영역 사이 의 제 2 대기 영역 ( AW 2 ) 내 의 이동 경로 를 따라 이동 , 또는 더욱 구체 적 으로 , 전술 한 Y 축 에 실질 적 으로 평행 한 이동 경로 를 따라 이동 할 때 의 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 XY 평면 내 의 위치 정보 ( θ z 방향 의 회전 정보 를 포함 ) 가 계측 된다 . 따라서 , 노광 장치 ( 100 ) 에서 , 간섭계 시스템 ( 118 ) 에 의한 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 위치 계측 이 곤란 하 게 되 는 영역 에서 는 , 인코더 시스템 ( 150 ) 에 의해 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 위치 를 계측 할 수 있 고 , 간섭계 시스템 ( 118 ) 과 인코더 시스템 ( 150 ) 을 포함 하 는 계측 시스템 ( 200 ) 에 의해 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 XY 평면 내 의 위치 정보 를 항상 계측 할 수 있 다 . 또한 , 상기 각 이동 경로 를 따른 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 이동 중 에 , XZ 간섭계 들 ( 116 과 117 , 및 126 과 127 ) 사이 의 전환 처리 가 불 필요 하 다 . 따라서 , 간섭계 의 전환 처리 에 의한 시간 의 낭비 를 회피 할 수 있 고 , 이 에 의해 높 은 스루풋 을 유지 할 수 있 게 된다 .