상기 애노드 전극 상부 에 정공 주입 층 물질 을 진공 증착 법 , 스핀코팅 법 , 캐스트 법 , LB ( Langmuir - Blodgett ) 법 등 과 같 은 방법 에 의해 증착 하 여 정공 주입 층 ( 200 ) 을 형성 할 수 있 다 . 상기 진공 증착 법 에 의해 정공 주입 층 을 형성 하 는 경우 그 증착 조건 은 정공 주입 층 ( 200 ) 의 재료 로서 사용 하 는 화합물 , 목적 하 는 정공 주입 층 의 구조 및 열 적 특성 등 에 따라 다르 지만 , 일반 적 으로 50 - 500 ℃ 의 증착 온도 , 10 - 8 내지 10 - 3 torr 의 진공도 , 0 . 01 내지 100 Å / sec 의 증착 속도 , 10 Å 내지 5 ㎛ 의 층 두께 범위 에서 적절히 선택 할 수 있 다 .