한편 , RF 전원 이 연속 으로 인가 되 는 시간 ( ton ) 이 0 . 2 초 미만 인 경우 , RF 전원 에 의한 방전 이 정상 적 으로 이루어지 지 않 아 , 막 형성 에 문제 가 발생 될 수 있 다 . 또한 , 소스 원료 및 반응 원료 각각 이 확산 이동 하 는 시간 이 부족 하 여 , 균일 한 막 질 의 박막 을 형성 하 기 어려울 수 있 다 . 반대 로 , RF 전원 이 연속 으로 인가 되 는 시간 ( ton ) 이 1 초 를 초과 하 는 경우 , 일반 적 인 화학 기상 증착 ( CVD ) 방법 에 비해 , 막 균일 도 및 밀도 ( density ) 향상 효과 , 표면 거칠 기 ( 또는 표면 조도 ) 의 개선 효과 가 없 거나 미미 할 수 있 다 .