플라 즈 마 발생 원 은 기판 ( 14 ) 을 지지 하 는 제 1 전극 ( 13 ) 및 챔버 ( 10 ) 의 외부 에 구성 되 는 제 2 전극 ( 12 ) 의 형태 로 이루어지 며 , 반응 가스 들 을 이온 화 함 으로써 , 플라 즈 마 처리 영역 내 에 플 라즈 마 를 발생 시키 도록 챔버 ( 10 ) 에 장착 된다 . 반응 가스 들 은 상기 플 라즈 마 발생 원에 RF , AC 또는 DC 등 과 같 은 전력 을 공급 함 으로써 이온 화 될 수 있 으며 , 전원 장치 들 은 제 1 전극 ( 13 ) 및 제 2 전극 ( 12 ) 에 각각 결합 된다 . 플라 즈 마 발생 원 은 제 2 전극 ( 12 ) 으로서 안테나 를 포함 할 수 있 으며 , 제 2 전극 ( 12 ) 즉 , 상기 안테나 는 요구 되 는 응용 예 에 따라 유도 결합 ( ICP ; Inductively Coupled Plasma ) 형 안테나 , 자화 ( magnetized ) 유도 결합 형 안테나 , 정전 결합 ( CCP ; Capacitively Coupled Plasma ) 형 안테나 , 자화 정전 결합 형 안테나 , 변압 결합 ( TCP ; Transformer Coupled Plasma ) 형 안테나 , 전자 사이클로트론 공명 ( ECR ; Electron Cyclotron Resonance ) 형 안테나 , 나선 공명 ( helical resonance ) 형 안테나 , 헬리콘 파 ( helicon wave ) 형 안테나 , 헬름 홀 쯔 ( Helmholtz ) 형 안테나 및 고주파 ( RF ; Radio Frequency ) 코일 형 안테나 로 구성 되 는 군 에서 선택 되 는 어느 하나 일 수 있 다 .