본 발명 에 따른 CMP 용 조성물 에 함유 되 는 산 성 고분자 는 설폰산기 , 카르복시기 , 인 산기 , 또는 아인 산기 를 함유 하 는 고분자 물질 이 포함 되 며 , 예 로서 , 폴리 아크릴산 또는 폴리 아크릴산 공중 합체 , 폴리 카르복시메틸 셀룰로오스 ( CMC ) , 폴리 ( 4 - 스타이렌 설폰산 ) [ poly ( 4 - styrenesulfonic acid ) ] 등 을 들 수 있 다 . 본 발명 에 따른 산 성 고분자 로서 는 폴리 아크릴산 및 폴리 아크릴산 공중 합체 가 보다 바람직 하 다 .