상기 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 의 바람직 한 실시 예 에 따른 광학 적 웨이퍼 엔드 포인트 이중 검사 장치 는 , 회전 되 는 플 래 튼 상면 에 결합 되 고 웨이퍼 를 연마 하 는 연마 패드 가 구비 된 웨이퍼 엔드 포인트 이중 검사 장치 에 있 어서 , 상기 플 래 튼 의 내부 일 측 에 구비 되 고 , 제 1 조사 광 을 조사 하 여 , 상기 연마 패드 일 측 에 형성 된 제 1 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 시키 는 제 1 광원 ; 상기 제 1 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 된 후 반사 되 는 제 1 입사광 을 감지 하 는 제 1 수광 센서 ; 상기 플 래 튼 의 내부 타 측 에 구비 되 고 , 제 2 조사 광 을 조사 하 여 , 상기 연마 패드 타 측 에 형성 된 제 2 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 시키 는 제 2 광원 ; 상기 제 2 윈도우 를 통해 상기 웨이퍼 에 입사 된 후 반사 되 는 제 2 입사광 을 감지 하 는 제 2 수광 센서 ; 를 포함 하 고 , 상기 제 1 광원 및 제 2 광원 으로부터 조사 되 는 제 1 조사 광 및 제 2 조사 광 에 대한 제 1 특성 값 과 , 상기 제 1 수광 센서 및 제 2 수광 센서 로 입사 되 는 제 1 입사광 및 제 2 입사광 에 대한 제 2 특성 값 을 비교 분석 하 여 상기 웨이퍼 의 연마 를 제어 하 는 제 어부 ; 를 포함 한다 .