본 발명 은 기판 등 에 미세 패턴 을 형성 하 는 데 사용 되 는 몰드 를 제조 하 는 기 법 에 관한 것 으로 , 더욱 상세 하 게 는 무 정형 또는 결정 형 의 테 프론 물질 을 이용 하 여 선폭 이 수 ㎚ 내지 수십 ㎚( 100 ㎚ 이하 ) 정도 의 미세 크기 를 갖 거나 혹은 수 ㎛ 내지 수 ㎝ 정도 의 크기 를 갖 는 패턴 형성 용 몰드 를 제조 하 는데 적합 한 몰드 제조 방법 에 관한 것 이 다 .