성막 장치 ( Unaxis 사 제조 , 상품명 : Sprinter ) 를 사용 하 여 , 막 두께 25 nm 의 GeSnO 막 ( 2 b ) , 막 두께 0 ~ 5 nm 의 SnO 2 막 ( 3 ) 을 TiMnN 막 ( 2 a ) 상 에 차례 로 성막 하 는 이외 의 것 은 , 비 교예 1 - 1 , 실시 예 1 - 1 ~ 1 - 5 와 마찬가지 로 하 여 광 기록 매체 ( 10 ) 를 얻 었 다 .