본 실시 형태 의 레지스 트 조성물 에 있 어서 , ( A ) 성분 은 , 상기 ( A - 1 ) 성분 인 것 이 바람직 하 다 . 즉 , 본 실시 형태 의 레지스 트 조성물 은 , 알칼리 현상 프로세스 에 있 어서 포지티브 형 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 「 알칼리 현상 프로세스 용 포지티브 형 레지스 트 조성물 」 , 또는 , 용제 현상 프로세스 에 있 어서 네거티브 형 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 「 용제 현상 프로세스 용 네거티브 형 레지스 트 조성물 」 인 것 이 바람직 하 다 .