초기 습윤 단계 와 실질 적 으로 동시 에 ( 예컨대 , 약 0 내지 약 2 초 의 시간 들 에 ) , 동작 ( 703 ) 에서 , 가스 유동 ( 예컨대 , 초 고순 도 질소 ) 이 비교 적 낮 은 유량 ( 예컨대 , 약 283 lpm 또는 대략 적 으로 10 scfm ) 으로 챔버 ( 100 ) 내 로 제공 된다 . 도입 된 가스 는 가스 분산 메커니즘 들 ( 215 , 217 ) 을 통해 챔버 ( 100 ) 내 에 분산 된다 . 가스 분산 메커니즘 들 ( 215 , 217 ) ( 도 2 참조 ) 은 회전 하 는 수직 기판 ( 119 ) 에 근접 한 저압 의 고속 가스 ( 예컨대 , 질소 ) 유동 을 생성 한다 . 저압 의 고속 가스 유동 은 , 회전 하 는 수직 기판 에 근접 한 , 수분 이 풍부 한 환경 의 탈수 를 용이 하 게 한다 . 가스 유량 은 , 가스 유량 이 약 1700 lpm ( 대략 적 으로 60 scfm ) 내지 약 2265 lpm ( 대략 적 으로 80 scfm ) 으로 증가 할 때 ( 약 13 초 내지 약 15 초 의 시간 들 에서 의 ) 거의 제 2 습윤 사이클 까지 이러 한 유량 으로 유지 된다 . 가스 유동 은 또한 , 동작 ( 707 ) 에서 , 거의 동시 에 ( 또는 동작 ( 703 ) 에서 의 가스 의 도입 전 또는 후 의 수 초 내 에 ) 챔버 ( 100 ) 로부터 배기 된다 .