즉 , 상기 서 셉 터 ( 30 ) 가 회전 함 에 따라 상기 웨이퍼 ( W ) 가 상기 분사 영역 들 을 순차 적 으로 통과 하 게 되 고 , 상기 웨이퍼 ( W ) 가 상기 분사 영역 들 을 모두 통과 하 면 상기 웨이퍼 ( W ) 상 에 한 층 의 원자 층 이 증착 된다 . 그리고 , 이 와 같이 상기 웨이퍼 ( W ) 를 지속 적 으로 회전 시킴 으로써 상기 웨이퍼 ( W ) 상 에 소정 두께 를 갖 는 박막 을 증착 시킬 수 있 다 .