단계 S 42 로부터 단계 S 46 까지 , 제 1 처리 블록 ( 3 ) 의 3 개 의 처리 층 ( A 1 ~ A 3 ) 이 3 중 의 막 ( 하 층막 , 중간막 및 포토레지스트 막 ) 을 기판 ( W ) 에 형성 하 는 동작 에 대하 여 설명 한다 . 처리 층 ( A 1 ) 의 기판 반송 기구 ( MHU 3 ) 는 , 버퍼 부 ( BU 1 ) 의 이 송부 ( SN 1 ) 로부터 기판 ( W ) 을 수취 하 여 , 수취 한 기판 ( W ) 을 도포 유닛 ( SC ) 및 임의 의 열처리 부 ( 37 ) 에 반송 한다 . 그 후 , 처리 층 ( A 1 ) 의 기판 반송 기구 ( MHU 3 ) 는 , 도포 유닛 ( SC ) 에 의하 여 하 층막 이 형성 된 기판 ( W ) 을 버퍼 부 ( BU 1 ) 의 이 송부 ( SN 11 ) 에 반송 한다 .