또한 , 상기 제 1 , 제 4 실시 형태 의 각각 에서 는 , 마이크 로 미러 · 어 레이 를 사용 하 여 주변 노광 유닛 ( 51 ) 을 구성 한 경우 를 예시 했 지만 이것 에 한정 되 지 않 고 , 웨이퍼 상 의 임의 의 위치 ( 영역 ) 를 조명 광 ( IL ) 과 거의 동일 파장 의 광 으로 자유 롭 게 노광 을 할 수 있 으면 , 주변 노광 유닛 의 구성 은 특별히 상관없 다 . 예 를 들 어 , 마이크 로 미러 · 어레이 이외 의 공간 광 변조기 를 사용 하 여 주변 노광 유닛 을 구성 할 수 있 다 . 또한 , 레티 클 과 투영 광학계 ( PL ) 를 사용 하 여 , 주변 노광 유닛 을 구성 할 수 도 있 다 . 또한 주변 노광 에서 는 , 통상 노광 에서 쇼트 영역 에 전사 되 는 것 과 동일 한 패턴 을 전사 하 게 해도 되 고 , 상이 한 패턴 을 전사 하 게 해도 된다 . 이 경우 , 예 를 들 어 전사 패턴 밀도 등 은 동일 하 거나 , 극단 적 으로 상이 하 지 않 은 것 이 바람직 하 다 . 단 , 선폭 은 성겨 도 된다 .