또한 , 완전 순응 게인 ( kA ) 과 완전 순응 게인 ( kB ) 의 각각 은 , 상술 한 바 와 같이 , 화상 의 밝 은 영역 에 완전 순응 한 노출 치 ( EVh ) 와 , 화상 의 어두운 영역 에 완전 순응 한 노출 치 ( EVl ) 에 의거 한 연산 에 의해 구하 여진다 . 그리고 , 노출 치 ( EVh ) 와 노출 치 ( EVl ) 의 각각 은 , 상술 한 바 와 같이 , 검파 부 ( 63 ) 의 처리 에 의해 얻 어 진 화상 중 의 밝 은 영역 의 화소 의 평균치 ( Yh ) , 및 화상 중 의 어두운 영역 의 화소 의 평균치 ( Yl ) 에 의거 한 연산 에 의해 구하 여진다 . 즉 , 화상 중 의 밝 은 영역 의 화소 의 평균치 ( Yh ) , 및 화상 중 의 어두운 영역 의 화소 의 평균치 ( Yl ) 를 특정 할 수 있 다면 , 제어 MPU ( 64 ) 의 연산 에 의해 , 완전 순응 게인 ( kA ) 과 완전 순응 게인 ( kB ) 을 도출 할 수 있 는 것 이 다 .