조명 시스템 ( 412 ) 은 , 타 겟 ( T ) 상 의 방사선 의 포 커싱 된 스팟 이 되 도록 , HHG 소스 위치 ( 710 a 및 710 b ) 를 기판 표면 상 으로 이미 징 한다 . 소스 위치 둘 모두 가 기판 에 대해 동일 한 평면 에서 포 커싱 되 도록 소스 위치 가 선택 되 면 , 소스 위치 ( 710 a ) 로부터 획득 되 는 조명 방사선 ( 456 ) 의 부분 ( 456 a ) 은 제 1 스팟 ( Sa ) 으로 포 커싱 될 것 이 고 , 동시 에 조명 방사선 ( 456 ) 의 제 2 부분 ( 456 b ) 은 약간 떨어진 거리 에 있 는 제 2 스팟 ( Sb ) 으로 포 커싱 될 것 이 다 . 타 겟 의 평면 에서 의 이 들 스팟 의 간격 ( 여기 위치 의 간격 및 조명 시스템 ( 412 ) 의 배 율 에 의해 제어 됨 ) 은 , 삽입 된 세부 사항 ( 780 ) 에서 도시 되 는 바 와 같이 두 개 의 타 겟 ( Ta 및 Tb ) 의 간격 에 매치 될 수 있 다 .