기판 처리 장치 ( 1 ) 에서 는 , 가스 가 가스 공급 부 로부터 내부 공간 ( 10 s ) 으로 공급 되 어 플 라즈 마 를 생성 한다 . 또한 , 제 1 고주파 전력 및 / 또는 제 2 고주파 전력 이 공급 됨 으로써 , 상부 전극 ( 30 ) 과 하부 전극 ( 18 ) 사이 에 고주파 전계 가 생성 된다 . 생성 된 고주파 전계 가 플 라즈 마 를 생성 한다 .