또한 , 성형 공정 에서 사용 하 는 , 결정 화 전 성형 재료 의 클로로벤젠 가용성 성분 의 함유량 이 , 표준 물질 을 o - 디 클로로벤젠 으로 한 가스 크로마토그래피 분석 에 기초 한 o - 디 클로로벤젠 환산 값 으로 , 1 , 000 ppm 이하 인 것 이 바람직 하 다 . 여기 서 , 「 결정 화 전 성형 재료 의 클로로벤젠 가용성 성분 의 함유량 」 은 , 1 ) 성형 재료 에 관한 설명 에 기재 된 , [ 클로로벤젠 가용성 성분 량 ] 의 항목 에서 상술 한 방법 에 따라서 측정 할 수 있 고 , 그 호적 함유 범위 에 대해서 도 상술 한 범위 와 동일 하 다 . 결정 화 전 성형 재료 의 클로로벤젠 가용성 성분 의 함유량 을 1 , 000 ppm 이하 로 함 으로써 , 반도체 용기 의 제조 효율 을 향상 시킬 수 있 다 . 또한 , 결정 화 전 성형 재료 의 클로로벤젠 가용성 성분 의 함유량 을 1 , 000 ppm 이하 로 함 으로써 , 얻 어 지 는 반도체 용기 를 사용 한 경우 에 , 웨이퍼 등 의 피수 용 물 이 반도체 용기 에서 발생 한 아웃 가스 에 의해 오염 되 는 것 을 억제 할 수 있 고 , 반도체 제조 에 있 어서 의 수율 을 향상 시킬 수 있 다 .