교정 공정 에 있 어서 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 및 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 의 각각 을 독립 적 으로 이동 시켜도 되 고 , 각각 을 동시 에 이동 시켜도 된다 . 독립 적 으로 이동 시킬 경우 , 먼저 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 을 복수 의 제 1 측정 위치 ( 76 ) 중 적어도 어느 하나 로 이동 시키 고 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 에 의하 여 주입 위치 ( 70 ) 의 빔 전류 측정값 을 측정 한다 . 계속 해서 , 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 을 복수 의 제 2 측정 위치 ( 77 ) 중 적어도 어느 하나 로 이동 시키 고 , 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 에 의하 여 주입 위치 ( 70 ) 의 빔 전류 측정값 을 측정 한다 . 또 , 동시 에 이동 시킬 경우 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 을 제 1 퇴피 위치 ( 71 ) 로부터 제 3 퇴피 위치 ( 73 ) 를 향하 여 x 방향 으로 이동 시킴 과 동시 에 , 복수 의 제 1 측정 위치 ( 76 ) 에서 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 에 의하 여 빔 전류 측정값 을 측정 한다 . 이 때 에 , 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 을 제 2 퇴피 위치 ( 72 ) 로부터 복수 의 제 2 측정 위치 ( 77 ) 중 적어도 1 개 에 이동 시키 고 , 복수 의 제 2 측정 위치 ( 77 ) 중 적어도 1 개 에 있 어서 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 에 의하 여 빔 전류 측정값 을 측정 한다 . 이 와 같이 프로파일러 컵 ( 44 ) 을 동작 시킴 으로써 , 동일 조건 의 스캔 빔 ( SB ) 에 대하 여 , 제 1 프로파일러 컵 ( 44 a ) 및 제 2 프로파일러 컵 ( 44 b ) 의 각각 을 이용 하 여 , 주입 위치 ( 70 ) 에 있 어서 의 동일 한 측정 위치 에 의하 여 측정 되 는 빔 전류 측정값 을 취득 할 수 있 다 .