그러나 , 현시점 에서 개발 되 고 있 는 EUV 광원 은 출력 이 낮 기 때문 에 , 노광 처리 에 장시간 을 요하 고 , 그 결과 , EUV 리소그래피 는 실용화 에 이르 지 않 은 것 이 현 상황 이 다 . EUV 광원 이 낮 은 출력 을 보충 하 기 위해서 , 레지스 트 재료 ( 감광성 수지 조성물 ) 의 감도 를 향상 시키 는 것 이 생각 된다 ( 특허 문헌 1 참조 ) . EUV 와 마찬가지 문제 는 전자선 및 이온 빔 등 을 광원 으로 하 는 리소그래피 의 출력 과 감도 에 있 어서 도 존재 하 고 있 다 .