컵 체 ( 2 ) 의 내주 측 부분 ( 21 ) 내 에 형성 된 1 개 또는 복수 의 ( 도면 에서 는 1 개 만 나타냄 ) 가스 도입 라인 ( 214 ) 으로부터 원환 형상 의 가스 확산 공간 ( 215 ) 으로 N 2 가스 가 공급 되 고 , N 2 가스 는 가스 확산 공간 ( 215 ) 내 를 원주 방향 으로 확산 되 면서 흘러 , 가스 토출구 ( 212 , 213 ) 로부터 토출 된다 . 가스 확산 공간 ( 215 ) 에 인접 하 여 히터 ( 216 ) 가 마련 되 어 있 고 , N 2 가스 는 가스 확산 공간 ( 215 ) 내 를 흐르 고 있 을 때 가열 되 며 , 이 후 , 가스 토출구 ( 212 , 213 ) 로부터 토출 된다 . 반경 방향 외측 에 있 는 가스 토출구 ( 213 ) 로부터 토출 되 는 N 2 가스 는 , 웨이퍼 ( W ) 의 피 처리 부위 인 웨이퍼 ( W ) 의 주연 부 를 가열 함 으로써 , 약액 에 따른 반응 을 촉진 하 고 , 또한 웨이퍼 ( W ) 의 표면 ( 상면 ) 을 향해 토출 된 후 에 비산 하 는 처리 액 의 미스트 가 웨이퍼 의 이면 ( 하 면 ) 으로 흘러 들어가 는 것 을 방지 한다 . 반경 방향 내측 에 있 는 가스 토출구 ( 212 ) 로부터 토출 되 는 N 2 가스 는 , 가스 토출구 ( 212 ) 가 없 는 경우 에 웨이퍼 ( W ) 의 주연 부 만 이 데워 지 는 것 그리고 웨이퍼 ( W ) 중심 측 에 있 어서 웨이퍼 ( W ) 의 하 면 근방 에 부압 이 생기 는 것 에 기인 하 여 발생 할 수 있 는 웨이퍼 ( W ) 의 변형 을 방지 한다 .