하전 입자 검출 을 위한 시스템 및 방법 이 제공 된다 . 검출 시스템 은 복수 의 전자 감지 요소 ( 244 ) 로부터 수신 된 전자 세기 데이터 에 기초 하 여 세기 구배 세트 를 생성 하 도록 구성 된 신호 처리 회로 ( 502 ) 를 포함 하 고 있 다 . 검출 시스템 은 , 세기 구배 세트 에 기초 하 여 빔 스폿 의 적어도 하나 의 경 계부 를 결정 하 도록 ; 그리고 적어도 하나 의 경 계부 에 기초 하 여 복수 의 전자 감지 요소 의 제 1 세트 의 전자 감지 요소 가 빔 스폿 내 에 있 다는 것 을 결정 하 도록 구성 된 빔 스폿 처리 모듈 ( 506 ) 을 더 포함 하 고 있 다 . 빔 스폿 처리 모듈 은 또한 제 1 세트 의 전자 감지 요소 로부터 수신 된 전자 세기 데이터 에 기초 하 여 빔 스폿 의 세기 값 을 결정 하 도록 그리고 세기 값 에 기초 하 여 웨이퍼 의 이미지 를 생성 하 도록 구성 될 수 있 다 .