반도체 소자 를 제조 하 는 데 에 이용 되 는 건식 식각 공정 ( dry etching process ) 은 공정 챔버 ( process chamber ) 내 에서 수행 될 수 있 다 . 이러 한 공정 챔버 에서 는 기판 ( 예 를 들 어 , 웨이퍼 ( wafer ) ) 을 식각 하 기 위한 공정 가스 를 공급 하 기 위해 샤워 헤드 ( shower head ) 를 사용 하 고 있 다 .