일부 실시 예 에서 , 피처 레이아웃 보정 유닛 ( 430 ) 은 또한 제 1 웨이퍼 ( 202 ) 의 표면 상 의 마이크 로 범프 의 위치 를 조정 할 수 있 다 . 마이크 로 범프 위치 의 조정 은 관련 그리드 영역 에서 의 패턴 밀도 를 변화 시킬 수 있 다 . 마이크 로 범프 위치 의 조정 은 , 관련 그리드 영역 내 에 형성 된 마이크 로 범프 들 의 관련 높이 들 이 보다 일관 되 도록 , 이웃 그리드 영역 들 의 패턴 밀도 값 들 이 서로 보다 더 일관 되 게 만들 수 있 다 .