상기 방법 은 시스템 에 의해서 제어 될 수 있 다 . 상기 시스템 은 서브 - 액적 의 형성 을 제어 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 액적 의 네 킹 영역 의 직경 을 제어 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 액적 의 네 킹 영역 의 풋 프린트 를 제어 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 액적 의 네 킹 영역 의 일부 의 풋 프린트 를 제어 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 상기 전극 구성 부 의 1 개 이상 의 전극 에 대한 전압 의 공급 을 제어 하 도록 프로그래밍 된 프로세서 를 포함 할 수 있 다 . 상기 시스템 은 상기 프로세서 에 결합 된 센서 를 포함 할 수 있 다 . 상기 방법 은 상기 프로세서 에 결합 된 센서 를 이용 해서 상기 서브 - 액적 의 형성 동안 상기 액적 의 가장자리 부를 모니터링 하 는 단계 를 포함 할 수 있 다 . 상기 방법 은 상기 센서 에 의해 감지 된 변수 에 의거 해서 상기 전극 혹은 전극 구성 부 에 인가 되 는 전압 을 조정 하 는 단계 를 포함 할 수 있 다 . 상기 프로세서 는 목적 으로 하 는 서브 - 액 적 용적 을 나타내 는 미리 결정 된 위치 에 액적 의 가장자리 부를 위치 시키 기 위하 여 상기 액적 의 가장자리 부 의 감지 된 위치 에 응답 해서 상기 액 적 형성 전극 구성 부 의 1 개 이상 의 전극 의 전압 을 조정 함 으로써 분배 된 서브 - 액적 의 용적 을 제어 하 면서 상기 서브 - 액적 을 형성 하 도록 구성 될 수 있 다 .