도 4 를 참조 하 면 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 대전 방지 처리 방법 은 대상물 에 제 1 기체 로부터 발생 된 이온 빔 을 조사 하 여 이온 빔 을 주입 하 는 이온 빔 주입 단계 ( S 100 ) ; 및 이온 빔 을 주입 한 상기 대상물 에 제 2 기체 로부터 발생 된 이온 빔 을 조사 하 여 캡 핑 층 을 형성 하 는 캡 핑 층 형성 단계 ( S 200 ) ; 를 포함 할 수 있 다 .