또 한편 , 알루미늄 PVD 단계 ( S 30 ) 는 , 증착 챔버 ( 미 도시 ) 내부 에 질소 ( N 2 ) 기체 가 채워진 환경 에서 순수 알루미늄 ( pure aluminum ) 을 상기 무공 질 양극 산화층 ( 20 ) 이 적층 된 모재 ( 11 ) 에 물리 적 기상 증착 ( PVD ) 하 는 단계 를 구비 할 수 있 다 . 이 경우 에 알루미늄 입자 와 질소 입자 가 반응 하 여 무공 질 양극 산화층 ( 20 ) 상 에 질화알루미늄 ( AlN ) 으로 이루어진 보강 층 ( 25 ) 이 적층 형성 된다 .