오버레이 측정 의 정확도 가 향상 될 수 있 는 하나 의 방식 은 , 도 2 ( b ) 의 확대 된 개략 적 인 세부 사항 에서 볼 수 있 다 . 제 1 검사 단계 에서 사용 되 는 제 1 방사선 ( 220 - 1 ) 은 , 스침 입사 를 가지 며 , 기판 ( W ) 상 에 형성 되 는 층 의 스택 안 으로 거의 침투 하 지 않 는다 . 제 1 스펙트럼 데이터 는 하위 층 으로부터 의 영향 이 거의 없이 제 1 검출 시스템 ( DET 1 ) 에 의해 포착 된다 . 그 다음 , 격자 피쳐 ( T 2 ) 를 포함 하 는 상위 층 의 속성 이 , 전용 모듈 ( 210 - 1 ) 에 의해 측정 및 보고 될 수 있 다 . 더 높 은 입사각 을 가지 며 , 어쩌면 상이 한 파장 특성 및 다른 속성 을 갖 는 제 2 방사선 ( 220 - 2 ) 은 스택 안 으로 더 완전히 침투 한다 . 결과 적 으로 , 제 2 스펙트럼 데이터 는 주목 하 는 파라미터 에 관련 되 는 비대칭 성 정보 , 특히 상위 및 하위 격자 피쳐 ( T 1 및 T 2 ) 를 함께 포함 하 는 오버레이 타 겟 의 비대칭 성 을 포함 한다 . 하이브리드 프로세싱 모듈 ( 212 ) 에서 의 이 들 스펙트럼 의 프로세싱 을 결합 하 면 , 제 2 스펙트럼 에서 전달 되 는 오버레이 측정치 는 , 제 1 스펙트럼 으로부터 획득 되 는 지식 을 사용 하 여 , 하위 층 의 영향 을 제거 하 도록 조정 될 수 있 다 .