도 20 은 형성 된 유전체 층 과 제 1 및 제 2 표면 경계 의 상대 적 인 위치 에 대해 선택 적 으로 증착 된 유전체 두께 가 갖 는 효과 를 도시 한다 . 보다 구체 적 으로 , 선택 적 으로 형성 된 유전체 층 의 에지 의 위치 는 선택 적 유전체 층 의 두께 를 선택 함 으로써 하부 금속 성 표면 과 유전체 표면 사이 의 경계 에 대해 상대 적 으로 제어 될 수 있 다 . 제 2 표면 상 에 선택 적 으로 증착 된 유전체 증착 두께 가 증가 함 에 따라 , 유전체 오버행 에지 는 제 1 및 2 표면 경계 를 지나 점진 적 으로 더 연장 된다 . 일부 구 현예 에서 , 유전체 층 이 증착 되 는데 , 이 는 도 20 의 도시 중 제 1 열 에 도시 된 바 와 같이 특정 오버행 구조 를 생성 한다 . 일부 구 현예 에서 , 더 두꺼운 유전체 층 이 증착 되 는데 , 이 는 도 20 의 도시 중 제 2 열 에 도시 된 바 와 같이 더 큰 오버행 을 생성 한다 . 일부 구 현예 에서 , 더욱 더 두꺼운 유전체 층 이 증착 되 는데 , 이 는 도 20 의 도시 중 제 3 열 에 도시 된 바 와 같이 더욱 더 큰 오버행 을 제 1 표면 위 에 생성 한다 . 이방성 처리 ( 예 를 들 어 , 이방성 반응 성 이온 식각 ) 와 같 은 특정 후속 단계 에 대해 , 제 1 표면 의 일부 가 오버행 의 범위 만큼 가려져서 후속 적 처리 에 대해 보호 될 수 있 다 .