첫째 로 , 석영 분말 로부터 제거 될 RE 마이크 로 입자 가 석영 분말 로부터 노출 되 는 것 이 유리 하 고 , 둘째 로 RE 마이크 로 입자 가 세정 단계 중 에 훨씬 더 큰 석영 결정 의 입자 에 결합 된 채 로 남 아 있 지 않 도록 보장 하 는 것 이 유리 하 다 . 제 1 양태 는 바람직 하 게 는 세정 전 에 석영 분말 의 적합 한 전 - 처리 에 의해 이루어지 고 , 제 2 양태 는 바람직 하 게 는 액체 세정 상 의 적합 한 상향 속도 에 의해 이루어진다 . 예 를 들 어 상이 한 표면 전하 로 인한 , RE 마이크 로 입자 의 석영 그레인 에 의 부착 ( 응집 ) 은 연속 적 인 또는 간헐 적 인 초음파 교반 에 의해 , pH 의 선택 에 의해 또는 다른 수단 에 의해 극복 될 수 있 다 .