상기 전자 빔 증착 ( e - beam evaporation ) 을 이용 하 여 고상 의 감광 물질 층 상면 과 상기 홈 을 이루 는 면 에 전체 적 으로 크롬 ( Cr ) 을 증착 하 여 크롬 접착 층 을 형성 하 게 되 며 , 이때 상기 크롬 접착 층 의 두께 는 1 . 0 nm ~ 5 . 0 nm 의 범위 내 로 한다 . 보다 바람직 하 게 는 3 . 0 nm 이 다 .