본 실시 형태 의 레지스 트 조성물 은 , ( A ) 성분 으로서 , 상기 ( A 1 ) 성분 에 해당 하 지 않 는 , 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 기재 성분 을 병용 해도 된다 . 상기 ( A 1 ) 성분 에 해당 하 지 않 는 기재 성분 으로 는 , 특별히 한정 되 지 않 고 , 화학 증폭 형 레지스 트 조성물 용 의 기재 성분 으로서 종래 부터 알려져 있 는 다수 의 것 에서 임의 로 선택 하 여 사용 할 수 있 으며 , 고분자 화합물 또는 저 분자 화합물 의 1 종 을 단독 으로 사용 해도 되 고 2 종 이상 을 조합 하 여 사용 해도 된다 .