도 2 는 다중 패스 전략 ( strategy ) 의 실시 예 를 나타낸다 . 이 는 개별 적 인 노출 이 내부 의 감지 레이어 를 노출 하 기 위해 충분 한 노출 강도 를 가지 지 않 으나 , 노출 의 조합 ( combination ) 은 감지 레이어 를 노출 하 기 에 충분 하 다 . 도 2 는 SLM ( 110 ) 으로부터 의 이미지 ( 322 , 324 , 325 ) 가 실제 및 가상 이미지 광원 사이 의 작 지만 피할 수 없 은 갭 ( gap ) 을 채우 기 위해 , 워크 피스 상 에 배치 될 수 있 는지 에 대한 실시 예 를 나타낸다 . 이미지 ( 322 , 324 , 325 ) 가 워크 피스 의 이동 방향 으로부터 횡 방향 으로 이격 된다 . 이미지 ( 322 ) 는 가상 SLM 위치 ( 112 ) 와 대응 하 고 , 이미지 ( 324 ) 는 실제 SLM 에 대응 하 며 , 이미지 ( 326 ) 은 가상 SLM 위치 에 대응 한다 . 도 2 의 A , B , C , D , E 및 F 는 워크 피스 의 서로 다른 위치 에 대한 이미지 ( 322 , 324 , 326 ) 의 위치 를 나타낸다 . 도시 된 실시 예 에서 , 이미지 가 서로 부분 적 으로 겹치 나 , 패턴 이 완성 되 면 , 적절 한 방식 으로 서로 충돌 ( butt up ) 할 수 있 다 .