액 공급 유닛 ( 1000 ) 은 처리 액 노즐 ( 1100 ) 을 포함 한다 . 처리 액 노즐 ( 1100 ) 은 기판 지지 유닛 ( 3640 ) 에 지지 된 기판 ( W ) 에 처리 액 을 토출 한다 . 예컨대 , 처리 액 은 포토레지스트 와 같 은 감광액 일 수 있 다 . 처리 액 노즐 ( 1100 ) 은 공정 위치 와 대기 위치 간 에 이동 된다 . 여기 서 공정 위치 는 처리 액 노즐 ( 1100 ) 이 기판 지지 유닛 ( 3640 ) 에 지지 된 기판 ( W ) 의 상부 에서 기판 ( W ) 과 마주 하 는 위치 이 고 , 대기 위치 는 처리 액 노즐 ( 1100 ) 이 공정 위치 를 벗어난 위치 이 다 . 공정 위치 는 처리 액 노즐 ( 1100 ) 이 기판 ( W ) 의 중심 으로 처리 액 토출 이 가능 한 위치 일 수 있 다 .