또한 , 소프트 엑스레이 ( soft X - ray ) 는 감광제 를 도포 하 고 빛 을 이용 해서 필요 한 부분 만 노광 을 시켜 주 는 리 소 그라피 ( lithography ) 공정 과 같 은 차세대 반도체 공정 에 적용 가능 한 기술 이 다 . 현재 는 자외선 노광 이 주로 사용 되 고 있 으나 , 이 방법 은 자외선 의 퍼지 는 성질 때문 에 노광 을 시킬 때 도 원 하 지 않 은 부분 까지 노광 이 된다는 문제점 이 있 었 다 . 따라서 빛 의 퍼지 는 정도 를 줄여야 하 며 , 파장 이 짧 을 수 록 빛 이 적 게 퍼진다는 점 에 착안 하 여 자외선 보다 파장 이 짧 은 엑스레이 를 이용 하 는 것 이 리 소그라 피 에 있 어서 선택도 를 높일 수 있 다 .