도 2 f 에서 도시 된 바 와 같이 , 게이트 절 연막 을 형성 하 기 전 에 전세정 공정 ( Pre - cleaning , 27 ) 을 실시 한다 . 전세정 공정 ( 27 ) 은 식각 부산물 을 제거 하 는 세정 공정 이 다 . 전세정 공정 ( 27 ) 은 불 산 ( HF ) 또는 BOE ( Buffered Oxide Etchant ) 용액 을 이용 한다 . 이러 한 전세정 공정 ( 27 ) 을 진행할 때 . 소자 분리 막 ( 22 ) 의 일부 가 손실 되 는데 , " 손실 두께 "" F "" 는 하드 마스크 막 패턴 ( 24 A ) 의 식각 량 "" N ""( 도 2 e 참조 ) 과 동등 하 거나 10 Å 정도 적 게 손실 되 도록 한다 . 전세정 공정 ( 27 ) 이 불 산 또는 BOE 용액 을 이용 함 에 따라 산화 막 으로 형성 된 보호막 ( 26 ) 도 동시 에 제거 된다 . "