상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 기 위한 본 발명 의 목적 은 , 상기 오버레이 패턴 에 의해 회절 또는 산란 된 가시 광 으로부터 일부 또는 전체 가 왜곡 되 어 얻 어 진 복수 개 의 오버레이 패턴 영상 으로부터 보다 정확 한 오버레이 보정 값 을 산출 토록 하 여 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 는 오버레이 계측 설비 및 그 의 오버레이 계측 방법 을 제공 하 는 데 있 다 .