본 발명 은 방사광 의 입사 각도 를 정밀 하 게 제어 할 수 있 고 , 시료 의 온도 를 용이 하 게 조절 할 수 있 도록 , 시료 제 어부 와 온 도조 절부 를 초기 화 하 는 단계 와 , 상기 시료 제 어부 의 스테핑 모터 구동 부 를 제어 작동 시켜 진공 시료 챔버 를 정렬 하 는 단계 , 상기 시료 제 어부 의 고니오미터 구동 부 를 제어 작동 시켜 시료 에 대한 방사광 의 입사각 을 보정 하 는 단계 , 상기 온 도조 절부 를 제어 작동 하 여 시료 가 놓여 있 는 시료 대 의 온도 를 조절 하 는 단계 를 포함 하 는 방사광 스침 각 입사 산란 장치 제어 방법 을 제공 한다 .