그런데 , 이러 한 특성 안정 화 를 위한 에이징 공정 을 수행 하 는 도중 에 , 방전 으로 인한 발광 에 수반 하 는 유리 기판 상 의 온도 상승 을 억제 하 기 위한 냉각 이 효율 적 으로 이루어지 지 못하 여 , 여러 문제점 이 발생 하 게 된다 . 예 를 들 면 , 글라스 표면 상 의 각 지점 에 있 어서 냉각 이 균일 하 게 이루어지 지 못하 고 냉각 취약 부분 이 존재 함 에 따른 고열로 인한 비 정상 방전 현상 , 글라스 표면 이 고르 지 않 게 냉각 됨 으로 인한 얼룩 현상 및 이 로 인한 에이징 품질 저하 , 글라스 주연 의 비발 광부 와 발광 부 의 온도 차이 로 인한 글라스 파손 현상 등 의 문제점 이 있 으며 , 또한 전체 평균 온도 의 상승 으로 에이징 조건 약화 의 요인 이 되 어 에이징 공정 에 걸리 는 시간 이 길 어 지 기 때문 에 전체 적 인 생산 성 을 저하 시키 게 된다 .