그리고 , 이온 소스 부 ( 10 ) 와 빔 라 인부 를 연결 하 는 소스 부싱 ( 미 도시 ) 은 이온 빔 을 이끌 어 내 기 위한 전압 이 걸리 는 곳 이 기 때문 이 다 . 절연체 인 부싱 에 이온 이 집적 되 어 이온 오염 ( ion contamination ) 이 발생 됨 에 따라 절연 이 파괴 될 수 도 있 으나 본 발명 에 따른 이온 소스 부 에서 이온 이 충분 한 운동 에너지 를 갖 고 소스 부싱 을 통과 하 므로 이러 한 문제점 을 해결 할 수 있 게 된다 .