" 폴리 실리콘 상 의 실리콘 분진 의 측정 방법 은 문헌 [ 저널 "" Reinraumtechnik "" [ Cleanroom technology ] ( 1 / 2006 "," "" Hochreiner Silziumstaub als Kontaminationsquelle "" [ Highly pure silicon dust as a contamination source ] ; Reinraumtechnik 1 / 2006 "," Ivo Croessmann ) ] 으로부터 공지 이 다 . 여기 에 는 단결정 을 형성 하 기 위한 추가 의 가공 동안 의 해로운 효과 가 언급 된다 . 습식 화학 세정 된 폴리 실리콘 은 5 ㎛ 미만 의 분진 입 도 분포 dptj 약 10 ppmw 및 이송 후 60 ppmw 이하 의 "" 분진 "" 값 을 가진다고 개시 된다 . "