일반 적 으로 , 스퍼터링 ( Sputtering ) 장치 는 기판 상 에 박막 을 증착 하 는 장치 로서 , 진공 상태 의 챔버 내부 에 설치 되 어 있 는 전극 들 에 직류 전압 을 인가 하 고 , 아르곤 ( Ar ) 가스 를 챔버 에 공급 하 면 , 아르곤 가스 가 이온 화 되 면서 캐소드 ( Cathod ) 로 가속 되 어 , 캐소드 에 장착 되 어 있 는 타 겟 ( Target ) 물질 의 원자 가 방출 되 어 애노드 ( Anode ) 에 있 는 기판 에 부착 되 는 원리 를 이용 한 장치 이 다 .