일부 경우 에 , 표면 은 임의 의 상이 한 비율 의 작용 화 그룹 의 혼합물 과 접촉 된다 . 일부 경우 에 , 혼합물 은 적어도 2 , 3 , 4 , 5 개 또는 이 를 초과 하 는 상이 한 유형 의 작용 화제 를 포함 한다 . 일부 경우 에 , 혼합물 중 의 적어도 2 개 유형 의 표면 작용 화제 의 비율 은 약 1 : 1 , 1 : 2 , 1 : 5 , 1 : 10 , 2 : 10 , 3 : 10 , 4 : 10 , 5 : 10 , 6 : 10 , 7 : 10 , 8 : 10 , 9 : 10 , 또는 2 개 의 그룹 의 목적 하 는 표면 표현 을 달성 하 기 위한 임의 의 다른 비율 이 다 . 일부 경우 에 , 목적 하 는 표면 장력 , 습윤성 , 수 접촉각 및 / 또는 다른 적합 한 용매 에 대한 접촉각 은 기판 표면 에 적합 한 비율 의 작용 화제 를 제공 함 으로써 달성 된다 . 일부 경우 에 , 혼합물 중 의 작용 화제 는 적합 한 반응 성 모이 어 티 및 불활성 모이 어 티 로부터 선택 되 어 , 반응 성 그룹 의 표면 밀도 를 다운 스트림 반응 을 위한 목적 하 는 수준 으로 희석 한다 . 일부 경우 에 , 작용 화 시약 의 혼합물 은 생체 분자 에 결합 하 는 하나 이상 의 시약 및 생체 분자 에 결합 하 지 않 은 하나 이상 의 시약 을 포함 한다 . 따라서 , 시약 의 조정 은 구별 되 는 작용 화 구역 에서 발생 하 는 생체 분자 의 결합 량 의 조절 을 가능 하 게 한다 .