또 , 이상 에 기재 된 실시 형태 에 의하 면 , 기판 처리 장치 는 , 순환 경로 ( 20 ) 에 배치 되 고 , 또한 순환 경로 ( 20 ) 로부터 처 리조 ( 14 ) 에 귀환 하 는 처리 액 ( 30 ) 에 열 을 가하 는 제 1 가열 부 를 구비 한다 . 여기 서 , 제 1 가열 부 는 , 예 를 들 어 , 히터 ( 44 ) 에 대응 하 는 것 이 다 . 이 와 같 은 구성 에 의하 면 , 순환 경로 ( 20 ) 에 흐르 는 처리 액 ( 30 ) 의 온도 를 , 처 리조 ( 14 ) 내 의 처리 액 ( 30 ) 의 온도 에 근접 시킬 수 있 다 . 따라서 , 측정 조 ( 24 ) 내 의 처리 액 ( 30 ) 의 온도 변화 를 억제 할 수 있 다 .