도 1 은 본 발명 의 반도체 제조 설비 를 개략 적 으로 나타낸 다이아 그램 으로서 , 본 발명 의 반도체 제조 설비 는 크 게 , 외부 로부터 밀폐 된 공간 을 제공 하 는 프로세스 챔버 ( 10 ) 와 , 상기 프로세스 챔버 ( 10 ) 내부 의 공기 를 펌핑 하 는 배기 부 ( 20 ) 와 , 상기 프로세스 챔버 ( 10 ) 내부 에 반응 가스 및 세정 가스 를 공급 하 는 가스 공급 부 ( 30 ) 를 포함 하 여 구성 된다 .