가열 처리 는 희가스 또는 질소 를 포함 한 분위기 에서 수행 할 수 있 다 . 또는 상기 분위기 하 에서 가열 한 후 , 산소 를 포함 한 분위기 에서 가열 하 여도 좋 다 . 또는 , 건조 공기 분위기 에서 가열 하 여도 좋 다 . 또한 상기 가열 처리 분위기 에 수소 , 물 등 이 가능 한 한 포함 되 지 않 는 것 이 바람직 하 다 . 상기 가열 처리 는 전기 로 , 또는 RTA ( Rapid Thermal Anneal ) 장치 등 을 사용 할 수 있 다 . RTA 장치 를 사용 함 으로써 가열 처리 시간 을 단축 할 수 있 다 .