본 발명 의 다른 목적 은 반도체 기판 상 에 광파 장 이하 의 주기 를 갖 는 나노 구조 를 제작 하 기 위해 언급 된 기존 의 방식 에 비해 진공 을 요구 하 는 장비 없이 도 간단 한 제조 방법 , 짧 은 공정 시간 및 저 비용 으로 기판 상 에 단차 가 있 거나 전극 과 같 은 구조물 이 있 는 경우 에 도 , 이 를 제외 한 부분 또는 특정 부분 에 금속 이온 이 유기물 또는 무기물 이온 과 결합 되 어 포함 된 용액 을 도포 하 여 광파 장 이하 의 주기 를 갖 는 나노 크기 의 금속 입자 를 형성 하 고 , 화학 적 식각 방법 을 통해 무 반사 를 위한 나노 구조 를 웨이퍼 스케일 로 제작 할 수 있 는 무 반사 를 위한 나노 구조 의 제조 방법 및 무 반사 나노 구조 가 집적 된 광소자 의 제조 방법 을 제공 하 는데 있 다 .