베이스 소스 / 드레 인 에피 텍 셜 층 ( 108 ) 은 CVD , ALD , 분자 빔 에피 텍 셜 ( MBE ; molecular beam epitaxy ) 또는 다른 적합 한 방법 을 사용 하 여 에피 텍 셜 성장 방법 에 의해 트렌치 ( 90 ) 에 선택 적 으로 형성 된다 . 도 8 b 및 도 8 c 에 도시 된 바 와 같이 , 베이스 소스 / 드레 인 에피 텍 셜 층 ( 108 ) 은 트렌치 ( 90 ) 에 국한 된다 ( confine ) .