상기 예 에서 예시 된 바 와 같이 , 노출 모델 들 당 보정 및 제 어 기술 이 오버레이 계측 에서 사용 될 때 , 랜덤 ( 확률 적 인 ) 노이즈 의 존재 는 오버레이 데이터 로부터 생성 된 보정 가능 한 것 들 의 충실 도 에 해로운 영향 을 미칠 수 있 다 . 추가 분석 은 아델 ( Adel ) 등 2017 , “ 5 nm 노드 를 향한 ” 오버레이 마크 충실 도 에 대한 확률 적 프로세스 변동 의 영향 , Proc . SPIE 10145 , 마이크 로 리소그래피 XXXI , 1014509 에 대한 계측 , 검사 및 프로세스 제어 에 제공 되 며 , 이 는 그 전체 가 본 명세서 에 참조 로 통합 된다 .