반응 영역 에서 의 유동 화 층 자체 는 미립자 의 배출 을 예방 하 고 , 용액 을 따라 층 의 표면 으로 상승 한 입자 를 방출 시키 는 것 을 줄인다 . 고형물 입자 가 층 에 체류 하 는 것 은 , 용액 공급 의 유리 한 위치 결정 으로 , 예 를 들 면 도 2 에 따라 비스듬 하 게 하방 으로 용액 을 공급 함 으로써 최적 화 될 수 있 다 . 또한 , 유동 화 층 에서 혼합 요소 가 사용 될 수 있 는데 , 이 혼합 요소 는 일반 적 으로 유동 화 층 밑 에 위치 한 그레 이 트 를 대체 한다 . 정화 영역 에 위치 한 적어도 하나 의 유동 안 내부 는 이미 전술 했 다 . 상부 정화 영역 을 확장 시키 고 배출 개구 를 정화 부 의 중심 축선 상 에서 대칭 으로 위 치킴 으로써 , 입자 정화 속도 보다 작 은 배출 유동 이 얻 어 진다 . 본 발명 에 따른 적어도 하나 의 유동 안 내부 에 의해 , 유동 및 사이클론 와동 의 형성 을 안정 시키 는 것 이 향상 된다 .