도 7 은 본 발명 의 실시 형태 에 따라 , 프로세싱 모듈 에서 컴포넌트 및 / 또는 오브젝트 의 위치 및 / 또는 오프셋 을 결정 하 는 인 - 시 츄 광학 기술 의 단계 들 의 단순 화 된 흐름 도 를 도시 하 다 . 단계 702 에서 , 레이저 어셈블리 는 ( 척 , 상부 전극 , 단부 이펙터 , 웨이퍼 , 웨이퍼 상 의 영역 등 과 같 은 ) 관심 컴포넌트 및 / 또는 오브젝트 를 스캔 하 기 위해 프로세싱 모듈 내부 를 트래버스 한다 . 단계 704 에서 , 레이저 로부터 의 반사 율 데이터 는 스캐닝 이 발생 할 때 센서 에 의해 수신 된다 . 단계 706 에서 , 반사 율 데이터 는 불 연속 에 대해 분석 된다 . 이 들 불 연속 은 반사 율 불연속 이 검출 될 때 레이저 이 미터 의 위치 정보 와 상관 된다 ( 단계 708 ) . 그 후 , 이 들 불 연속 상관 위치 는 프로세싱 모듈 에서 의 다양 한 컴포넌트 및 / 또는 오브젝트 의 위치 를 결정 하 기 위해 이용 된다 . 다른 방법 으로 는 또는 추가 로 , 이 들 불 연속 상관 위치 는 프로세싱 모듈 에서 의 다양 한 컴포넌트 및 / 또는 오브젝트 중 의 상대 적 위치 ( 즉 , 오프셋 ) 를 결정 하 기 위해 이용 될 수 도 있 다 .