즉 , 웨이퍼 스케일 상 에서 5 nm 만큼 의 오차 를 주 어 테스트 마스크 를 제작 하 는 경우 , 제 1 패턴 ( 2 ) 을 기준 으로 하 여 마스크 공정 을 진행 하 였을 때 제 2 패턴 ( 4 ) 의 경우 22 . 39 nm 만큼 의 오 차 가 발생 하 게 되 고 , 제 3 패턴 ( 6 ) 의 경우 7 . 23 nm 만큼 의 오 차 가 발생 하 게 됨 을 알 수 있 다 .