다시 도 9 를 참조 하 면 , 노광 장치 ( 20 ) 는 레티 클 ( R ) 을 이용 하 여 기판 ( W ) 의 노광 공정 을 수행 한다 ( S 200 ) . 일 예 로 , 레티 클 ( R ) 은 EUV 레티 클 을 포함 하 고 , 노광 공정 은 EUV 노광 공정 을 포함 할 수 있 다 . 노광 공정 이 일정 시간 수행 되 거나 노광 공정 의 불량 이 발생 되 면 , 레티 클 ( R ) 은 교체 될 수 있 다 .