상기 포토 리소그래피 공정 의 노광 공정 중 광반사 에 의한 해상도 저하 를 억제 하 기 위해 식각 대상 막 및 포토레지스트 층 사이 에 , 반사 방지 코팅 ( anti - refractive coating ; ARC ) 층 을 형성 할 수 있 다 . 이 경우 , 상기 ARC 층 에 대한 식각 ( 에치 ( etch ) ) 이 추가 되 며 , 이 에 따라 상기 포토레지스트 층 또는 포토레지스트 패턴 의 소모량 또는 식각 량 이 증가 될 수 있 다 .