화소 ( PXL ) 들 로부터 방출 된 광 중 일부 가 사용 자 의 손가락 에서 반사 되 어 센서 화소 ( SPXL ) 들 로 입사 될 수 있 다 . 이때 , 각각 지문 의 융 ( ridge ) 과 골 ( valley ) 에서 반사 되 는 반사광 의 광량 차이 및 / 또는 파형 에 기초 하 여 사용 자 의 지문 형태 ( 지문 패턴 ) 가 검출 될 수 있 다 .