상기 한 성분 에 더 하 여 , 계면 활성제 및 용해 저 지제 와 같 은 다른 성분 들 을 임의 의 바람직 한 조합 으로 배합 하 여 포지티브 형 레지스 트 재료 를 구성 할 수 있 다 . 이 포지티브 형 레지스 트 재료 는 노광 부 에서 는 베이스 폴리머 의 현상액 에 대한 용해 속도 가 촉매 반응 에 의해 가속 되 므로 매우 고감도 이 다 . 또한 , 레지스 트 막 의 용해 콘트 라스트 와 해상 성 이 높 고 , 노광 여유도 가 있 고 , 프로세스 적응성 이 우수 하 여 , 노광 후 의 패턴 형상 이 양호 하 면서 특히 산 확산 을 억제 할 수 있 으므로 조밀 치수 차 가 작 다 . 본 재료 는 이 들 이점 때문 에 실용 성 이 높 고 VLSI 제조 용 패턴 형성 재료 로서 적합 하 다 .