이런 종류 의 노광 장치 에서 는 피 노광 기판 , 예 를 들 어 웨이퍼 를 유지 하 는 스테이지 의 위치 계측 은 , 레이저 간섭계 를 사용 하 여 실시 되 는 것 이 일반 적 이 었 다 . 그런데 , 반도체 소자 의 고집 적 화 에 따른 패턴 의 미세화 에 의해 , 요구 되 는 성능 이 엄격 해졌 다 . 예 를 들 어 토탈 오버레이 오차 의 허용 값 이 수 ㎚ 의 오더 가 되 고 , 이 에 따라 스테이지 의 위치 제어 오차 의 허용 값 도 서브 나노 오더 이하 로 되 었 다 . 따라서 , 레이저 간섭계 의 빔 로 상 의 분위기 의 온도 변화 및 / 또는 온도 구배 의 영향 으로 발생 하 는 공기 흔들림 에서 기인 되 는 계측 값 의 단기 적 인 변동 도 무시 할 수 없 게 되 었 다 .