또한 후 가 공시 가열 공정 과 같 은 고온 환경 에서 폴리에스테르 필름 으로부터 의 올리고머 의 석출 이 일어나 는 현상 이 발생 하 고 , 이 는 광학 용 으로서 의 투명 성 을 감소 시키 는데 , 본 발명 에서 는 위 와 같 은 프라이머 층 설계 를 통해 고온 환경 에서 의 폴리에스테르 필름 의 올리고머 석출 을 프라이머 층 도막 에서 효율 적 으로 억제 시킬 수 있 게 된다 . 본 발명 에 따른 광학 용 폴리에스테르 필름 은 150 ℃ 에서 1 시간 동안 열처리 될 때 , 열처리 전 과 후 의 헤이즈 변화 량 이 1 % 이하 이 며 , 후 가공 에서 의 고분자 수지 코팅 에 대한 우수 한 이 접착성 을 가진다 .