웨이퍼 ( 140 ) 를 회전 시키 면서 상기 제 2 기체 를 분사 하 기 때문 에 , 액침 노광 시 에 제 1 기체 분사 부 ( 160 ) 에 의하 여서도 제거 되 지 않 고 잔류 하 는 액체 조성물 ( 130 ) 의 액적 들 을 보다 완전히 제거 할 수 있 게 되 며 , 따라서 이후 의 PEB 공정 및 현상 공정 에서 상기 액적 들 이 잔류 할 경우 에 유발 될 문제점 들 을 해결 할 수 있 다 .