단지 조명 빔 경로 의 또는 단지 이미 징 빔 경로 의 영향 은 , 단지 조명 빔 경로 에 만 영향 을 주 기 위해 , 적어도 하나 의 회절 광학 요소 가 SLM 의 이미지 평면 내 에 또는 그 근처 에 배치 됨 으로써 달성 된다 . 대신 에 , 적어도 하나 의 회절 광학 요소 는 이미 징 빔 경로 에 만 영향 을 주 기 위해 SLM 의 퓨리 에 평면 내 에 또는 그 근처 에 배치 될 수 있 다 . 도 12 및 도 13 에서 , 예 를 들 어 가변 이미 징 시스템 ( 30 ) 으로 지칭 된 적어도 하나 의 회절 요소 가 조명 장치 의 광원 평면 내 에 배치 되 어 , 단지 이미 징 빔 경로 에 만 영향 을 준다 . 대안 적 으로 또는 추가 적 으로 , 예 를 들 어 SLM 의 평면 에 배치 되 는 도 12 및 도 13 에 도시 된 제 1 이미 징 요소 ( 27 ) 는 마찬가지 로 단지 조명 빔 경로 에 만 영향 을 주 는 적어도 하나 의 회절 요소 를 포함 할 수 있 다 .