상기 감광 물질 층 ( 30 ) 은 음성 감광제 ( negative photoresist ) 를 스핀 코터 ( Spin coater ) 를 이용 한 스핀코팅 처리 하 여 상기 이산화규소 ( SiO 2 ) 층 ( 20 ) 상부 로 펴 서 층 을 이룸 으로써 형성 된다 . 이때 상기 감광 물질 층 ( 30 ) 의 두께 는 1 . 0 ~ 6 . 0 ㎛ 범위 를 유지 하 도록 한다 .