본 발명 의 다른 실시 예 에 따르 면 , 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 ( 200 ) 는 다 이 샷 영역 ( 230 ) 에 인접 한 아웃 프레임 ( 210 ) 에 위치 하 는 캐 패 시터 패턴 용 아들자 ( 212 ) 를 포함 하 는 것 이 바람직 하 다 . 따라서 , 노광 장비 에서 는 하부 층 에 형성 된 어미자 와 아들자 ( 212 ) 의 중첩 도 를 측정 하 여 오 정렬 을 보상 할 수 있 다 . 또한 , 다 이 샷 ( 230 ) 을 적용 하 는 넷 다이 에서 도 하부 층 과 의 중첩 도 를 측정 할 수 있 다 .