본 발명 에 따른 EUV 용 반사 형 블랭크 마스크 는 기판 ( 202 ) , 기판 ( 202 ) 상 에 적층 된 반사막 ( 204 ) , 반사막 ( 204 ) 위 에 적층 된 흡수 막 ( 206 ) , 및 흡 수막 ( 206 ) 위 에 형성 된 레지스 트 막 ( 208 ) 을 주된 막 들 로서 구비 한다 . 또한 본 발명 의 블랭크 마스크 는 , 기판 ( 202 ) 의 후면 에 형성 된 도전 막 ( 201 ) , 반사막 ( 204 ) 과 흡수 막 ( 206 ) 사이 에 형성 된 캡 핑 막 ( 205 ) , 및 흡 수막 ( 206 ) 과 레지스 트 막 ( 208 ) 사이 에 형성 된 식각 저 지막 ( 207 ) 을 추가 적 으로 구비 한다 .