( 1 ) 포토 에칭 ( Photo Etching ) : 먼저 사파이어 기판 상 에 스핀 코팅 ( Spin Coating ) 방식 으로 감광액 을 칠하 는데 , 칠 해진 감광약 의 두께 는 5 . 0 μ m 이 며 , 100 ℃ 에서 28 분 건조 시킨 후 ， 자외선 13 mw / ㎠ 하 에서 40 초 노출 시키 고 , 다시 건조 시킨 후 　 3 % 테트라메틸 암모늄 하이드 록 사이드 ( TMAH ) 에서 40 초 현상 하 면 , 직경 1 μ m 의 원기둥 형태 도안 을 얻 을 수 있 다 .