그러나 , 상기 SOG 절연 막 은 습식 용액 에 의 식각 속도 가 기존 의 HDP 절 연막 에 비해 매우 높 기 때문 에 , 도 1 a 에 도시 된 바 와 같이 , 산화 막 ( 120 ) 을 제거 하 기 위한 습식 식각 시 에 식각 된 SOG 절 연막 ( 106 ) 부분 의 측벽 에서 많 은 소실 ( loss ; A ) 이 발생 하 게 된다 . 여기 서 , 상기 산화 막 ( 120 ) 은 소자 분리 공정 에서 의 트렌치 형성 을 위해 사용 된 패드 산화 막 , 이온 주입 공정 에서 의 데미지 방지 를 위해 사용 된 스크린 산화 막 , 및 자연 산화 막 중 적어도 어느 하나 이 다 .