일 실시 예 에 따르 면 , 상기 반사체 를 형성 하 는 단계 는 , 상기 기판 상 에 개구부 를 갖 는 마스크 패턴 을 형성 하 는 단계 ; 및 상기 마스크 패턴 을 이온 주입 마스크 로 사용 하 여 원소 이온 주입 공정 을 수행 하 는 단계 를 포함 할 수 있 다 . 이때 , 상기 반사체 는 상기 반도체 기판 의 상부 면 과 평행 한 평판 형태 로 형성 될 수 있 다 .