상기 1 단계 는 , 기본 적 으로 투명 기판 의 전면 에 차광 패턴 또는 반투 과 패턴 등 의 광학 패턴 이 구현 되 는 공정 이 완료 된 포토 마스크 의 배면 에 스 크레 치 등 의 결함 영역 을 검사 하 는 공정 에 해당 한다 ( S 1 단계 ) . 상기 포토 마스크 는 , 투명 기판 상 에 광 투 과부 와 차광 패턴 , 반투 과 패턴 이 구비 된 구조 의 하프톤 마스크 나 , 위상 반전 패턴 이 구비 된 위상 반전 타입 의 마스크 등 다양 한 포토 마스크 전반 을 포함 하 는 개념 이 다 . 즉 포토 마스크 의 전면 에 광학 패턴 이 구비 된 구조 의 배면 표면 에 생긴 스 크레 치 등 의 결함 영역 을 확인 하 는 공정 에 해당 한다 . 이하 에서 는 본 발명 에 따른 일 적 용례 로서 투명 기판 상 에 차광 패턴 또는 반투 과 패턴 이 구비 된 구조 의 하프톤 마스크 의 결함 을 제거 하 는 것 으로 본 발명 의 요지 를 설명 하 기 로 한다 .