[ 0019 ] 일부 구현 들 에서 , 세정 프로세스 는 유도 성 커플링 플 라즈 마 ( ICP ) 소스 를 사용 하 는 에칭 챔버 에서 수행 될 수 있 다 . 예컨대 , 에칭 챔버 는 , 캘리포니아 , 산타클라라 의 어 플 라이드 머 티어리 얼스 로부터 입수 가능 한 Centura ® AdvantedgeTM MesaTM Etch 챔버 일 수 있 다 . 대안 적 으로 , 세정 프로세스 는 라디칼 - 기반 케미스트리 ( chemistry ) 를 이용 하 는 에칭 챔버 에서 수행 될 수 있 다 . ICP 소스 를 사용 하 는 하나 의 예시 적 인 에칭 챔버 가 아래 에서 도 5 에 도시 된다 .