촉매 담지 를 위해 제공 된 탄소질 미립자 를 처리 하 여 촉매 된 탄소질 공급 원료 ( 31 + 32 ) 를 형성 하 고 이 를 히 드로 메탄화 반응기 ( 200 ) 로 통과 시키 거나 , 하나 이상 의 가공 스트림 들 로 분할 할 수 있 고 , 여기 서 가공 스트림 들 중 하나 이상 은 히 드로 메탄화 촉매 와 회합 되 어 하나 이상 의 촉매 - 처리 된 공급 원료 스트림 을 형성 한다 . 나머지 가공 스트림 을 예 를 들 어 제 2 성분 과 회합 시키 기 위해 처리 할 수 있 다 . 추가 로 , 촉매 - 처리 된 공급 원료 스트림 을 제 2 성분 과 회합 시키 기 위해 재차 처리 할 수 있 다 . 제 2 성분 은 , 예 를 들 어 제 2 히 드 로 메탄화 촉매 , 조촉매 또는 다른 첨가제 일 수 있 다 .