도 1 을 참조 하 면 , 본 실시 예 에 따른 기판 처리 시스템 은 반응 공간 을 갖 는 챔버 ( 100 ) 와 , 기판 ( 101 ) 이 안치 되 는 기판 안치 수단 ( 110 ) 과 , 상기 챔버 ( 100 ) 내 에 플 라즈 마 를 발생 시키 는 플 라즈 마 발생 수단 ( 120 ) 과 , 챔버 ( 100 ) 내 에 가스 를 공급 하 는 가스 공급 수단 ( 130 ) 과 , 챔버 ( 100 ) 의 온도 를 측정 하 는 온도 측정 수단 ( 200 ) 과 , 챔버 ( 100 ) 주변 에 마련 된 냉각 수단 ( 300 ) 과 , 챔버 ( 100 ) 의 온도 에 따라 제어 신호 를 생성 하 는 제어 신호 생성 수단 ( 400 ) 과 , 제 어 신호 에 따라 냉각 수단 ( 300 ) 과 플 라즈 마 발생 수단 ( 120 ) 의 동작 을 제어 하 는 온도 유지 수단 ( 500 ) 을 포함 한다 .