상기 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 수처 리용 여과 장치 는 하부 로 여과 대상 인 원수 가 유입 되 는 처 리조 와 ; 상기 처 리조 내 에 충 진 되 어 상기 원수 에 대해 부유 가능 하 거나 , 하강 을 제한 하 는 하 강제 한 스크린 에 의해 상기 처 리조 의 상부 에 여과 층 을 형성 하 여 상기 원수 와 접촉 시 상기 원수 내 의 부유물 질 또는 슬러 지 를 흡착 하 는 다수 의 여재 와 ; 상기 처 리조 내 에 상기 원수 가 상승 하 면서 상기 여과 층 을 통과 할 수 있 도록 상기 여재 의 상승 을 제한 하 는 스크린 유닛 과 ; 상기 처 리조 및 상기 여과 층 의 세정 을 위해 상기 처 리조 하부 로 세 정수 와 세정 용 공기 를 공급 하 여 상기 처 리조 내 주면 에 부착 되 거나 상기 여과 층 에 흡착 된 슬러 지나 걸러진 부유물 질 의 부상 을 유도 하 여 배출 시키 는 세정 유닛 ; 을 구비 하 고 ,