이때 , 상기 본 발명 의 제 1 실시 예 에 따른 횡전 계 방식 액정 표시 장치 는 상기 화소 전극 을 형성 하 는 마스크 공정 을 통해 비로소 상기 액티브 패턴 의 채널 영역 에 형성 되 어 있 는 n + 비정질 실리콘 박막 패턴 을 제거 함 으로써 상기 액티브 패턴 의 백 채널 ( back channel ) 이 오염 되 는 것 을 차단 하 여 박막 트랜지스터 의 특성 저하 를 방지 할 수 있 는 것 을 특징 으로 한다 .