투영 유닛 ( PU ) 은 , 레티 클 스테이지 ( RST ) 의 도 1 에 있 어서 의 하방 ( - Z 측 ) 에 배치 되 고 , 도시 생략 된 보디 의 일부 에 유지 되 어 있 다 . 투영 유닛 ( PU ) 은 , 경통 ( 40 ) 과 , 그 경통 ( 40 ) 에 유지 된 복수 의 광학 소자 로 이루어지 는 투영 광학계 ( PL ) 를 갖 고 있 다 . 투영 광학계 ( PL ) 로 는 , 예 를 들 어 , Z 축 방향 과 평행 한 광축 ( AX ) 을 따라 배열 된 복수 의 광학 소자 ( 렌즈 엘리먼트 ) 로 이루어지 는 굴절 광학계 가 사용 되 고 있 다 . 투영 광학계 ( PL ) 는 , 예 를 들 어 양측 텔레 센트 릭 으로 , 소정 의 투영 배율 ( 예 를 들 어 1 / 4 배 , 1 / 5 배 또는 1 / 8 배 등 ) 을 갖 는다 . 이 때문 에 , 조명계 ( 10 ) 로부터 의 조명 광 ( IL ) 에 의해 조명 영역 ( IAR ) 이 조명 되 면 , 투영 광학계 ( PL ) 의 제 1 면 ( 물체 면 ) 과 패턴 면 이 거의 일치 되 어 배치 되 는 레티 클 ( R ) 을 통과 한 조명 광 ( IL ) 에 의해 , 투영 광학계 ( PL ) 를 통하 여 그 조명 영역 ( IAR ) 내 의 레티 클 ( R ) 의 회로 패턴 의 축소 이미지 ( 회로 패턴 의 일부 축소 이미지 ) 가 , 투영 광학계 ( PL ) 의 제 2 면 ( 이미지 면 ) 측 에 배치 되 는 , 표면 에 레지스 트 ( 감응 제 ) 가 도포 된 웨이퍼 ( W ) 상 의 상기 조명 영역 ( IAR ) 에 공액 인 영역 ( 노광 영역 ; IA ) 에 형성 된다 . 그리고 , 레티 클 스테이지 ( RST ) 와 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 동기 구동 에 의해 , 조명 영역 ( IAR ; 조명 광 ( IL ) ) 에 대해 레티 클 ( R ) 을 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 으로 상대 이동 함 과 함께 , 노광 영역 ( 조명 광 ( IL ) ) 에 대해 웨이퍼 ( W ) 를 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 으로 상대 이동 함 으로써 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 하나 의 쇼트 영역 ( 구획 영역 ) 의 주사 노광 이 실시 되 고 , 그 쇼트 영역 에 레티 클 ( R ) 패턴 이 전사 된다 . 즉 , 본 실시 형태 에서 는 조명계 ( 10 ) , 레티 클 ( R ) 및 투영 광학계 ( PL ) 에 의해 웨이퍼 ( W ) 상 에 패턴 이 생성 되 고 , 조명 광 ( IL ) 에 의한 웨이퍼 ( W ) 상 의 감응 층 ( 레지스 트 층 ) 의 노광 에 의해 웨이퍼 ( W ) 상 에 그 패턴 이 형성 된다 .