일 예 에 의하 면 , 스테이션 부 ( 200 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 의 일 측 에 반응 챔버 ( 100 ) 와 나란 하 게 배치 된다 . 스테이션 부 ( 200 ) 는 제 1 영역 ( 240 ) 과 제 2 영역 ( 260 ) 을 가진다 . 제 1 영역 ( 240 ) 은 반응 챔버 ( 100 ) 와 인접 하 게 배치 되 며 , 제 1 영역 ( 240 ) 에 는 기판 저 장부 ( 400 ) 가 위치 된다 . 제 2 영역 ( 260 ) 은 제 1 영역 ( 240 ) 을 기준 으로 반응 챔버 ( 100 ) 와 반대 방향 에 제공 되 며 제 1 이송 장치 ( 300 ) 가 위치 된다 . 반응 챔버 ( 100 ) 와 제 2 영역 ( 260 ) 은 제 1 방향 ( 42 ) 으로 동일 선상 에 위치 되 도록 배치 된다 . 제 1 영역 ( 240 ) 은 상부 영역 ( 242 ) 와 하부 영역 ( 244 ) 를 가진다 . 상부 영역 ( 242 ) 는 반응 챔버 ( 100 ) 및 제 2 영역 ( 260 ) 과 동일 선상 에 위치 되 는 영역 이 고 , 하부 영역 ( 244 ) 는 상부 영역 ( 244 ) 로부터 제 1 방향 ( 42 ) 과 수직 한 제 2 방향 ( 44 ) 으로 연장 되 는 영역 이 다 . 제 1 영역 ( 240 ) 과 제 2 영역 ( 260 ) 은 각각 대체로 직사각 의 형상 을 가진다 .