플라 즈 마 크로마토그래피 에서 도입 되 는 기체 시료 를 이온 화 시키 기 위해서 는 높 은 주파수 를 갖 는 레이저 혹은 자외선 영역 의 빛 을 이용 하 여 대상 가스 시료 의 이온 화 준위 이상 으로 분자 들 을 여기 시키 거나 , 글 로우 방전 혹은 코로나 방전 등 의 방법 을 이용 하 여 이온 화 된 완충 기체 와 시료 기체 의 충돌 에 의하 여 대상 가스 시료 를 이온 화 시키 는 방법 을 이용 할 수 있 다 . 또한 , 높 은 에너지 ( 일반 적 으로 70 eV 정도 ) 를 갖 는 전자 빔 을 이용 하 여 이온 화 시키 는 방법 도 사용 할 수 있 다 . 이 들 방법 들 중 방전 이나 전자 빔 에 의한 방법 들 은 장치 에 사용 되 는 전압 공급 장치 의 크기 가 매우 커서 휴대 용 플 라즈 마 크로마토그래피 시스템 에 는 적용 하 기 어려운 실정 이 다 . 예 를 들 어서 전자 빔 을 이용 한 electron impact 이온 화 의 경우 에 는 전자 를 발생 시키 는 필라멘트 는 그 크기 가 매우 작 으나 , 필라멘트 를 가열 하 는 데 사용 되 는 전원 공급 장치 는 수 암페어 정도 의 출력 을 발생 시킬 수 있 어야 하 며 , 이러 한 장치 는 통상 적 인 플 라즈 마 크로마토그래피 장치 자체 보다 큰 경우 가 대부분 이 다 . 이 에 반하 여 레이저 나 자외선 램프 를 이용 한 광화학 적 인 이온 화 방법 들 은 이온 화 장치 의 크기 를 줄일 수 있 는 장점 이 있 다 .