안면 용 미스트 분사 장치 가 제공 된다 . 본 발명 의 예시 적 인 실시 예 에 따른 안면 용 미스트 분사 장치 는 물 이 일정량 수용 되 는 제 1 공간 을 갖 는 제 1 챔버 와 , 상기 제 1 공간 과 연통 되 어 상기 제 1 공간 으로부터 유입 된 물 이 일정량 저장 되 는 제 2 공간 을 갖 는 제 2 챔버 와 , 상기 제 1 공간 과 연통 되 는 제 3 공간 이 상기 제 1 공간 의 상부 측 에 위치 하 도록 상기 제 1 챔버 의 상부 에 배치 되 는 제 3 챔버 및 토출구 를 포함 하 는 하우징 ; 상기 제 2 공간 에 배치 되 고 , 상기 제 2 공간 에 저장 된 물 을 무화 하 여 제 1 미스트 를 발생 시키 는 초음파 진동자 ; 상기 제 2 챔버 와 적어도 일부 가 접하 도록 배치 되 고 , 상기 제 2 챔버 로부터 유입 된 물 을 가열 하 여 상기 제 1 미스트 보다 상대 적 으로 더 높 은 온도 의 제 2 미스트 를 발생 시키 는 적어도 하나 의 히터 ; 상기 제 1 미스트 및 제 2 미스트 가 혼합 된 혼합 미스트 를 상기 제 3 공간 으로부터 상기 토출구 로 압송 할 수 있 도록 상기 제 3 공간 측 으로 공기 를 제공 하 는 송풍 팬 ; 및 전반 적 인 동작 을 제어 하 기 위한 제 어부 ; 를 포함 한다 .