상기 의 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 에 따른 화학 적 기계 적 연마 공정 용 비례 공 압제 어 시스템 은 , 흡기 밸브 와 배기 밸브 를 갖 는 밸브 부 , 매니폴드 부 , 제어 PCB 부 및 피드백 압력 센서 부를 포함 하 는 구성 이 며 , CMP 장비 용 연마 헤드 ( carrier ) 상 에 구비 된 다수 의 압력 챔버 측 에 공 압공 급 관 을 통해 연결 되 어 각각 독립 적 으로 압력 을 조절 하 여 공급 및 제어 하 는 화학 적 기계 적 연마 ( CMP ) 공정 용 비례 공 압제 어 시스템 ( EPC ) 에 있 어서 , 상기 연마 헤드 , 에 어 컴 프레 셔 , 진공 펌프 , 밸브 부 의 진동 발생 원 측 에 자이로 센서 를 각각 장착 하 여 각 진동 발생 원 으로부터 진동 의 진폭 과 주파수 를 직접 측정 후 이 를 제어 PCB 부 로 전달 하 여 압력 진동 에 대해 위상차 제어 를 수행 하 도록 구성 하 는 것 을 특징 으로 한다 .