또한 , 상기 건 조부 ( 11 ) 에서 염화비닐 계 중합체 라텍스 가 건조 되 어 염화비닐 계 중합체 분체 가 생성 되 면서 다량 의 미 반응 염화비닐 계 단량체 또한 발생 할 수 있 으며 , 이 는 상기 ( a ) 건조 단계 가 수행 되 는 건 조부 ( 11 ) 의 상부 로 배출 될 수 있 다 . 따라서 , 본 발명 의 폐쇄 형 후처리 시스템 은 상기 건 조부 ( 11 ) 와 상기 라텍스 저 장부 ( 1 ) 사이 에 상기 건 조부 ( 11 ) 의 상부 로 배출 되 는 미 반응 염화비닐 계 단량체 를 라텍스 저 장부 ( 1 ) 로 이송 하 기 위해 설치 된 환류 라인 B ( 12 ) 를 더 포함 할 수 있 다 .