상기 격벽 ( 27 ) 에 이용 되 는 격벽 조성물 은 , 실리콘 화합물 수지 를 이용 할 수 도 있 고 , 주로 상기 격벽 ( 27 ) 을 형성 하 기 위해서 는 제 2 유전체 층 ( 24 ) 상 에 격벽 재료 조성물 을 페이스트 형태 로 120 ~ 200 ㎛ 의 두께 로 전면 코팅 하 고 스크린 인쇄 법 , 샌드 블라스트 법 , 금형 법 등 을 통해 격벽 패턴 을 형성 한 후 소성 하 면 격벽 ( 27 ) 이 형성 된다 .