하드 마스크 막 의 성막 은 , 차광막 과 마찬가지 로 스퍼터링 에 의해 행하 는 것 이 바람직 하 고 , 예 를 들 면 크롬 타 겟 을 이용 하 여 아르곤 가스 만 으로 행하 는 방법 , 질소 나 질소 산화물 등 의 반응 성 가스 만 , 또는 질소 나 질소 산화물 등 의 반응 성 가스 와 아르곤 등 의 불활성 가스 와 의 혼합 가스 중 에서 반응 성 스퍼터링 을 행하 는 방법 ( 예 를 들 면 , 특허 문헌 5 : 일본 특허 공개 ( 평 ) 7 - 140635 호 공보 참조 ) 을 들 수 있 다 . 스퍼터 가스 의 유량 은 막 특성 에 맞춰 조정 할 수 있 고 , 성막 내 일정 하 게 할 수 도 있 으며 , 산소량 이나 질소 량 을 막 의 두께 방향 으로 변화 시키 고자 할 때 에 는 , 목적 으로 하 는 조성 에 따라 변화 시킬 수 도 있 다 .