본 실시 형태 에서 는 , 염료 정착 장치 ( 50 ) 에 의해 렌즈 ( L ) 가 가열 될 때 , 반송 유닛 ( U ) 의 온도 가 상승 한다 . 또한 , 전사 장치 ( 40 ) 에 의해 염료 가 렌즈 ( L ) 에 전사 될 때 에 도 , 기체 ( S ) 가 가열 됨 으로써 반송 유닛 ( U ) 의 온도 가 상승 한다 . 또한 , 본 실시 형태 의 전사 장치 ( 40 ) 는 , 대략 진공 의 환경 하 에서 염료 를 렌즈 ( L ) 에 전사 한다 . 따라서 , 열 및 기압 의 영향 으로 , 판 독부 ( 2 ) 에 의한 정보 의 판독 이 곤란 하 게 되 는 것 도 생각 된다 . 그러나 , 본 실시 형태 에서 는 , 열 및 기압 의 영향 을 받 기 어려운 식별자 가 반송 유닛 ( U ) 에 마련 되 어 있 다 . 따라서 , 본 실시 형태 의 염색 시스템 ( 1 ) 은 , 가열 및 감압 이 필요 한 염색 공정 을 실행 하 면서 , 반송 유닛 ( U ) 에 관한 정보 를 적절 하 게 판독 할 수 있 다 .