이때 , 상기 버퍼 층 상부 에 복수 개 의 마스크 층 ( 215 a , 215 b ) 들 은 포토 리소그래피 ( Photolithography ) 공정 을 통해 형성 하 는데 , 그러 기 위해서 , 상기 마스크 층 ( 215 a , 215 b ) 들 을 이루 는 물질 로 는 포토레지스트 ( Photoresist ) 를 사용 하 는 것 이 바람직 하 다 .