연속 주조 및 가열 은 일반 적 인 조건 에서 행할 수 있 다 . 상기 한 바 와 같이 Si 함유량 이 0 . 4 ％ 이상 인 경우 에 , 산세 가 필요 해질 정도 로 Si 산화물 이 생성 된다 . Si 함유량 이 3 . 0 ％ 초과 에서 는 , 냉 연판 어닐링 중 에 Si 산화물 이 강판 의 표면 에 다량 으로 형성 되 고 , 산세 를 행해도 Si 산화물 을 충분히 제거 하 기 가 불 가능 하 기 때문 에 , 화성 처리 성 을 확보 하 는 것 이 곤란 해진다 . 따라서 , Si 함유량 은 3 . 0 ％ 이하 로 한다 .