광소자 의 변조 등 가 회로 는 RC 회로 로 표현 될 수 있 으며 , RC 회로 에서 는 변조 속도 를 결정 하 는 특성 시간 은 저항 과 정전 용량 의 곱 으로 표현 될 수 있 다 . 따라서 고속 변조 가 가능 하 고 광전 변환 효율 이 높 은 소자 를 구현 하 기 위해서 는 저 저항 을 확보 하 는 것 이 중요 하 다 . 따라서 본 발명 은 3 D 얼굴 인식 및 3 D 이미 징용 광원 을 제공 하 기 에 가장 적합 한 솔루션 을 제공 할 수 있 다 .