그러나 , 아직 까지 감광 속도 , 잔 막 률 , 반노 광부 의 잔 막 균일 도 ( Remain Film Thickness uniformity ) , 현상 콘트 라스트 , 해상도 , 고분자 수지 의 용해 성 , 기판 과 의 접착력 , 및 회로 선폭 균일 도 등 과 같 은 포토레지스트 조성물 의 바람직 한 특성 중 어느 하나 의 특성 을 희생 시키 지 않 으면서 도 , 각각 의 산업 공정 에 적합 한 다양 한 포토레지스트 조성물 에 대한 요구 는 계속 되 고 있 다 .