그러므로 , 본 발명 의 또 다른 실시 예 에 따른 기판 지지대 ( 300 , 400 , 500 ) 및 이 를 포함 하 는 기판 처리 장치 ( 1000 ) 는 , 도 14 의 ( B ) 및 ( C ) 에 도시 된 바 와 같이 , 기판 ( S ) 의 하부 에 발생 하 는 압력 이 기판 ( S ) 의 상부 에 발생 하 는 압력 보다 작 게 발생 하 도록 유도 하 여 , 복수 개 의 기판 ( S ) 들 에 대한 처리 공정 수행 중 기판 ( S ) 이 기판 지지대 ( 300 , 400 , 500 ) 의 포켓 홈 부 ( 30 ) 로부터 이탈 되 는 것 을 효과 적 으로 방지 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 기판 ( S ) 의 처리 공정 중 기판 ( S ) 이 포켓 홈 부 ( 30 ) 로부터 이탈 되 는 문제 로 인해 기판 ( S ) 의 공정 불량 이 발생 하 는 것 을 방지 하 고 수율 을 증가 시키 는 효과 를 가질 수 있 다 .