또한 , 웨이퍼 ( W 1 ) 를 액침 영역 ( 14 ) 이 형성 되 는 노광 위치 에 위치 시키 는 제 1 상태 와 웨이퍼 ( W 1 ) 를 노광 위치 로부터 퇴피 시키 는 제 2 상태 사이 의 상태 천이 를 수행 할 때 의 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 X 축 방향 의 이동 경로 , 또는 더욱 구체 적 으로 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 스크럼 상태 이동 영역 ( AS ) 내 의 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 와의 스크럼 상태 에서 의 이동 경로 에서 는 , 대응 하 는 Y 스케일 ( SY 1 ) 에 대향 하 는 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 에 탑재 된 Y 헤드 ( EY ) 를 이용 하 여 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 Y 위치 가 주제 어 장치 ( 20 ) 에 의해 계측 된다 . 유사 하 게 , 웨이퍼 ( W 2 ) 를 액침 영역 ( 14 ) 이 형성 되 는 노광 위치 에 위치 시키 는 제 1 상태 와 웨이퍼 ( W 2 ) 를 노광 위치 로부터 퇴피 시키 는 제 2 상태 사이 의 상태 천이 를 수행 할 때 의 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 X 축 방향 의 이동 경로 , 또는 더욱 구체 적 으로 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 스크럼 상태 이동 영역 ( AS ) 내 의 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 와의 스크럼 상태 에서 의 이동 경로 에서 는 , 대응 하 는 Y 스케일 ( SY 2 ) 에 대향 하 는 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 에 탑재 된 Y 헤드 ( EY ) 를 이용 하 여 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 Y 위치 가 주제 어 장치 ( 20 ) 에 의해 계측 된다 . 따라서 , 스크럼 상태 이동 영역 ( AS ) 내 의 스크럼 상태 에서 의 이동 시 의 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 Y 축 방향 의 위치 를 간섭계 시스템 을 이용 하 여 계측 하 는 경우 에 비해 고정 밀도 로 계측 할 수 있 게 된다 .