상기 종래 의 ALD 기술 에 따라 Ti / TiN 막 을 형성 할 경우 , 박막 의 형성 을 위한 반응 가스 의 잔류물 및 반응 부산물 에 의한 상기 ALD 반응 챔버 의 오염 문제 가 제기 될 수 있 다 . 이 는 , TiN 막 을 형성 하 기 위한 반응 제 로 쓰이 는 NH 3 가 여러 다양 한 과정 을 통해 상기 ALD 반응 챔버 에 잔류 할 수 있 고 , 상기 잔류 NH 3 를 제거 하 기 는 쉽 지 않 기 때문 이 다 .