반도체 장치 의 제조 공정 에 는 , 반도체 웨이퍼 등 의 피 처리 체 에 소정 의 처리 액 을 공급 하 여 , 세정 또는 습식 에칭 등 의 액 처리 를 행하 는 공정 이 포함 된다 . 이러 한 액 처리 를 행하 는 액 처리 장치 에 마련 되 는 처리 액 공급 기구 의 일례 가 특허 문헌 1 에 기재 되 어 있 다 . 특허 문헌 1 에 기재 된 처리 액 공급 기구 는 , 처리 액 을 저류 하 는 저류 탱크 와 , 저류 탱크 에 양단 이 접속 된 순환 라인 ( 순환 관로 ) 을 갖 고 있 다 . 순환 라인 에 는 , 저류 탱크 로부터 나와서 상류 측 에서부터 순서 대로 처리 액 을 가열 하 는 히터 , 처리 액 을 보내 는 순환 펌프 와 , 처리 액 중 에 포함 되 는 파티클 등 의 오염 물질 을 제거 하 는 필터 가 마련 되 어 있 다 . 순환 라인 으로부터 복수 의 분기 공급 라인 이 분기 하 여 , 각 분기 공급 라인 이 , 기판 을 처리 하 는 처 리부 에 처리 액 을 공급 한다 .