다음 에 , 실시 형태 에 따른 플 라즈 마 에칭 장치 ( 10 ) 의 구성 에 대해서 설명 한다 . 도 2 는 실시 형태 에 따른 플 라즈 마 에칭 장치 를 개략 적 으로 도시 하 는 도면 이 다 . 플 라즈 마 에칭 장치 ( 10 ) 는 기밀 하 게 구성 되 고 , 전기 적 으로 접 지 전위 로 된 처리 용기 ( 30 ) 를 갖 고 있 다 . 이 처리 용기 ( 30 ) 는 원통형 상 으로 되 고 , 예 를 들 어 표면 에 양극 산화 피막 이 형성 된 알루미늄 등 으로 구성 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 30 ) 는 플 라즈 마가 생성 되 는 처리 공간 을 획정 한다 . 처리 용기 ( 30 ) 내 에 는 , 웨이퍼 ( W ) 를 수평 으로 지지 하 는 탑재 대 ( 31 ) 가 수용 되 어 있 다 .