도 9 는 기판 의 패 터닝 공정 매개변수 에 대한 유도 된 기여 도 ( 470 ) 를 획득 하 는 예 를 개략 적 으로 보여 주 고 있 으며 , 유도 된 기여 도 는 다수 의 처리 변수 의 기여 도들 ( 이 들 중 하나 이상 은 유도 된 기여 도 일 수 있 다 ) 의 조합 이 다 . 이 경우 , 유도 된 기여 도 ( 470 ) 는 ( 비 ( de ) ) 초점 이 다 . 따라서 , 유도 된 기여 도 ( 470 ) 는 기판 의 노광 ( 400 ) 동안 리소그래피 장치 의 투영 시스템 과 관련 된 초점 오차 ( FE ) , 노광 ( 410 ) 동안 기판 위치 제어 루프 에 의하 여 생성 된 높이 오차 ( 예 를 들 어 , 이동 표준 편차 ( MSDz ) ) 및 그 기판 ( 420 ) 의 비 평탄 성 ( P ) 과 같 은 다수 의 처리 변수 의 기여 도 를 이용 하 여 획득 될 수 있 다 . 중요 하 게 는 , 이 데이터 는 리소그래피 장치 로부터 획득 될 수 있 으며 , 패 터닝 공정 의 일부 로서 기판 을 생성 하 는 공정 의 부산물 일 수 있 다 . 이 식별 된 기여 도 중 어느 것 도 , 예 를 들 어 도 3 내지 도 6 과 관련 하 여 설명 된 바 와 같 은 툴 을 사용 하 여 기판 상 에 패턴 닝 된 피처 의 측정 을 반드시 필요 로 하 지 않 는다 . 적용 가능 한 경우 기여 도 는 시뮬레이션 , 수학 적 모델 링 및 / 또는 측정 / 실험 에 의해 획득 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 기여 도 는 물리 적 모델 , 경험 적 모델 링 및 / 또는 전용 측정 을 기초 로 한 시뮬레이션 에 의해 획득 될 수 있 다 .