기판 적 재 대 ( 2 ) 는 , 처리 용기 ( 1 ) 내 에서 기판 W 를 수평 으로 지지 한다 . 기판 적 재 대 ( 2 ) 는 , 기판 W 에 대응 한 크기 의 원판 형 을 이루 고 , 지지 부재 ( 23 ) 에 지지 되 어 있 다 . 기판 적 재 대 ( 2 ) 는 , 질화 알루미늄 ( AlN ) 등 의 세라믹스 재료 나 , 알루미늄 이나 니켈 기 합금 등 의 금속 재료 로 구성 되 어 있 고 , 내부 에 기판 W 를 가열 하 기 위한 히터 ( 21 ) 가 매립 되 어 있 다 . 히터 ( 21 ) 는 , 히터 전원 ( 도시 되 지 않 음 ) 으로부터 급전 되 어 발열 한다 . 그리고 , 기판 적 재 대 ( 2 ) 상면 의 기판 적 재면 근방 에 마련 된 열전대 ( 도시 되 지 않 음 ) 의 온도 신호 에 의해 히터 ( 21 ) 의 출력 을 제어 함 으로써 , 기판 W 를 미리 결정 된 온도 로 제어 하 도록 되 어 있 다 .