그런데 , 이 기입 어드레스 방전 실패 를 방지 하 도록 , 강제 점 등 처리 회로 ( 3 ) 의 동작 에 의해 , 하전 입자 부족 이 예측 되 는 방전 셀 에 시간 적 및 / 또는 공간 적 으로 인접 하 는 인접 방전 셀 을 강제 적 으로 흑 표시 이외 의 계조 , 예 를 들 면 도 22 에 나타낸 바 와 같 은 제 2 계조 로 구동 시키 도록 한 것 이 다 . 즉 , 도 13 에 나타낸 바 와 같 은 표시 상태 로 되 는 경우 에 는 , 하전 입자 부족 이 예측 되 는 점 등 천 이 셀 ( 중앙 의 방전 셀 ) 에 인접 하 는 방전 셀 이 본래 , 흑 표시 의 제 1 계조 로 구동 시키 는 것 이 라도 , 이 를 강제 적 으로 도 22 에 나타낸 바 와 같 은 제 2 계조 로 구동 시키 도록 한 것 이 다 ( 도 17 ∼ 도 19 ) . 이러 한 처리 에 의하 면 , 시간 적 및 / 또는 공간 적 으로 점 등 천 이 셀 에 인접 하 는 인접 방전 셀 에 있 어서 강제 적 으로 미약 발광 방전 이 야기 되게 되 어 , 이 미약 발광 방전 에 의해 점 등 천 이 셀 에 대한 하전 입자 의 보충 이 실시 된다 . 따라서 , 하 전입자 부족 이 해소 되 고 , 해당 방전 셀 의 기입 어드레스 방전 이 안정 화 한다 .