따라서 , 본 발명 에 따르 는 챔버 ( 311 ) 는 그 내부 에 형성 되 는 경사면 ( 311 a , 311 b , 311 c , 311 d ) 에 의하 여 그 형상 이 변형 될 수 있 다 . 따라서 , 상기 챔버 ( 311 ) 는 그 공간 의 면적 이 서로 다르 게 형성 될 수 있 다 . 그러므로 , 공급 유로 ( 330 ) 로부터 유입 되 는 질소 가스 는 상기 면적 이 상대 적 으로 좁 은 공간 에 비하 여 넓 은 공간 에 더 많이 공급 될 수 있 다 . 이 에 따라 , 상기 넓 은 공간 에 위치 된 분사 홀 들 ( 350 ) 을 통하 여 분사 되 는 분 사량 은 상기 좁 은 공간 에 위치 된 분사 홀 들 ( 350 ) 로 분 사 되 는 질소 가스 의 분사 량 보다 상대 적 으로 더 많 을 수 있 다 . 따라서 , 상기 넒 은 공간 에 위치 된 분사 홀 들 ( 350 ) 을 통하 여 분사 되 는 질소 가스 는 분사 되 는 위치 에 해당 되 는 돌출부 ( 120 ) 의 외면 및 회전축 의 외면 을 용이 하 게 크리 닝 함 과 아울러 , 돌출부 ( 120 ) 의 외면 및 회전축 의 외면 에 유막 을 형성 시키 어 공정 부산물 이 응착 되 지 않 도록 할 수 있 다 .