한편 , 본 발명 의 일실 시예 에 따르 면 상기 단계 는 건식 도금 및 습식 도금 중 선택 되 는 1 종 이상 의 방식 으로 수행 될 수 있 다 . 한편 , 건식 도 금 은 CVD 나 PVD 방식 의 도금 방법 으로 도 도금 층 을 형성 하 는 것 일 수 있 으며 , 습식 도 금 은 전기 도금 혹은 화학 도금 방식 으로 수행 될 수 있 다 . 일례 로 니켈 을 이용 한 전기 도금 방식 의 경우 , 황산니켈 , 염화암모늄 , 붕산 용액 또는 염화암모늄 대신 염화니켈 을 가한 용액 을 사용 하 여 니켈 을 양극 으로 하 고 상기 볼트 또는 와셔 를 음극 으로 해서 통전 하 여 수행 될 수 있 다 . 한편 , 니켈 을 이용 한 화학 도금 방식 의 경우 하이포 인산염 존재 하 에 니켈 이온 을 화학 적 으로 환원 시켜 도금 하 는 것 일 수 있 고 , 염기 성조 와 산 화조 가 있 다 . 한편 , 상기 단계 는 도금 이 티타늄 을 포함 하 는 경우 , 건식 도금 방식 으로 수행 될 수 있 다 .