본 고안 은 상술 한 바 와 같 은 문제점 등 을 해결 하 기 위해 안출 된 것 으로서 , 그 목적 으로 하 는 바 는 장치 의 사용 시 인체 의 피부 와 직접 접촉 하 되 넓 은 면적 으로 접촉 하 게 되 는 금속 성 의 전극 플레이트 를 대기 상태 에서 따스 하 게 예열 시킬 수 있 도록 함 으로써 장치 의 사용 시 피부 와 의 트러블 및 사용 자 의 거부 감 을 효과 적 으로 제거 할 수 있 도록 하 며 장치 사용 상 의 편의 성 을 제공 할 수 있 도록 한 예열 기능 을 갖 는 고주파 치료 장치 를 제공 하 는데 있 다 .