전자 수송 영역 ( ETR ) 이 전자 주입 층 ( EIL ) 을 포함 할 경우 , 전자 수송 영역 ( ETR ) 은 LiF , LiQ ( Lithium quinolate ) , Li 2 O , BaO , NaCl , CsF , Yb 와 같 은 란타넘 족 금속 , 또는 RbCl , RbI 와 같 은 할로겐화 금속 등 이 사용 될 수 있 으나 이 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 전자 주입 층 ( EIL ) 은 또한 전자 수송 물질 과 절연 성 의 유기 금속염 ( organo metal salt ) 이 혼합 된 물질 로 이루어질 수 있 다 . 유기 금속염 은 에너지 밴드 갭 ( energy band gap ) 이 대략 4 eV 이상 의 물질 이 될 수 있 다 . 구체 적 으로 예 를 들 어 , 유기 금속염 은 금속 아세테이트 ( metal acetate ) , 금속 벤조 에이트 ( metal benzoate ) , 금속 아 세토 아세테이트 ( metal acetoacetate ) , 금속 아세틸 아 세토 네이트 ( metal acetylacetonate ) 또는 금속 스테아 레이트 ( stearate ) 를 포함 할 수 있 다 . 전자 주입 층 ( EIL ) 들 의 두께 는 약 1 Å 내지 약 100 Å , 약 3 Å 내지 약 90 Å 일 수 있 다 . 전자 주입 층 ( EIL ) 들 의 두께 가 전술 한 바 와 같 은 범위 를 만족 할 경우 , 실질 적 인 구동 전압 상승 없이 만족 스러운 정도 의 전자 주입 특성 을 얻 을 수 있 다 .