도 6 ( a ) 및 도 6 ( b ) 는 본 발명 에 따라 형성 된 비정질 탄소막 의 기판 과 샤워 헤드 사이 의 거리 에 따른 굴절 률 ( N ) 및 광 흡수 계수 ( K ) 의 변화 를 도시 한 그래프 이 다 . 도 6 ( a ) 및 도 6 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 기판 과 샤워 헤드 사이 의 거리 가 270 mils , 300 mils , 350 mils 및 500 mils 로 증가 할수록 굴절 률 ( N ) 은 감소 하 고 , 광 흡수 계수 ( K ) 또한 감소 한다 . 그런데 , 도 6 ( a ) 에 도시 된 바 와 같이 파장 에 따라 굴절 률 ( N ) 은 400 ㎚ 의 파장 까지 는 점차 증가 하 다 그 이후 로 서서히 감소 하 며 , 도 6 ( b ) 에 도시 된 바 와 같이 파장 에 따라 광 흡수 계수 ( K ) 는 점차 감소 한다 . 특히 , 633 nm 파장 에서 는 기판 지지대 와 샤워 헤드 사이 의 거리 가 증가 할수록 굴절 률 ( N ) 은 약 2 . 11 부터 약 1 . 98 까지 감소 하 며 , 광 흡수 계수 ( K ) 는 약 0 . 11 부터 약 0 . 06 까지 감소 한다 . 이때 , 기판 지지대 와 샤워 헤드 사이 의 거리 가 증가 할수록 증착 두께 는 증가 하 게 된다 .