한 양태 에서 , 기판 처리 도구 ( 200 ) 는 전방 단부 ( 201 ) , 후방 단부 ( 202 ) , 및 본 명세서 에 기술 된 방식 으로 기판 처리 도구 ( 200 ) 의 동작 을 제어 하 기 위한 임의 의 적절 한 컨트롤러 ( 299 ) 를 포함 한다 . 한 양태 에서 , 컨트롤러 ( 299 ) 는 예 를 들 어 클러스터 형 아키텍처 제어 ( clustered architecture control ) 와 같 은 임의 의 적절 한 제어 아키텍처 의 일부 일 수 있 다 . 제 어 시스템 은 마스터 컨트롤러 ( 한 양태 에서 컨트롤러 ( 110 ) 일 수 있 음 ) , " 그 개시 내용 이 그 전체 에 있 어서 참조 에 의해 본원 에 통합 되 는 "" 스캔 가능 한 운동 제어 시스템 "" 이 라는 명칭 으로 2011 년 3 월 8 일자 허여 된 미국 특허 제 7 ", 904 , 182 호 에 개시 된 것 과 같 은 클러스터 컨트롤러 및 자율 원격 컨트롤러 를 가지 는 폐쇄 루프 컨트롤러 일 수 있 다 . 다른 양태 에서 , 임의 의 적절 한 컨트롤러 및 / 또는 제 어 시스템 이 이용 될 수 있 다 .