도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 본 실시 형태 에 따른 진공 성막 장치 ( 100 ) 는 , 이온 플 레이팅 ( ion plating ) 장치 로 구성 되 어 있 다 . 이 진공 성막 장치 ( 100 ) 에 는 , 도전 성 재료 로 이루어지 는 진공 챔버 ( 1 ) 의 내부 에 성막 재료 를 증발 시키 기 위한 증발원 ( 2 a , 2 b ) 이 설치 되 고 , 이 증발원 ( 2 a , 2 b ) 에 대향 하 여 도전 성 재료 로 이루어지 는 원판 ( 圓板 ) 형상 의 기재 홀더 ( 6 a ) 가 설치 되 어 있 다 . 기재 홀더 ( 6 a ) 에 는 , 기재 ( 21 a ) 가 소정 의 고정구 ( 36 ) 에 의해 기재 홀더 ( 6 a ) 의 기재 부 착면 에 고정 되 어 있 다 . 기재 ( 21 a ) 로서 , 여기 서 는 실리콘 웨이퍼 ( silicon wafer ) 가 사용 된다 . 또한 , 증발원 ( 2 a , 2 b ) 은 여기 서 는 성막 재료 가 설치 된 하스 부 ( 5 a , 5 b ) 와 , 하스 부 ( 5 a , 5 b ) 근처 에 설치 된 전자총 ( 미 도시 ) 으로 구성 된다 . 또 이 증발원 ( 2 a , 2 b ) 의 위쪽 에 는 , 이동 가능 한 셔터 ( shutter ) ( 3 a , 3 b ) 가 각각 회전축 ( 4 a ) , ( 4 b ) 에 의해 회전 가능 하 게 설치 되 어 있 다 . 한편 , 도 1 및 도 2 에 도시 된 바 와 같이 , 기재 홀더 ( 6 a ) 의 후면 에 는 , 도전 성 재료 로 이루어지 는 원기둥 형상 의 회전축 체 ( 7 a ) 가 연장 형성 되 어 있 다 . 이 회전축 체 ( 7 a ) 는 진공 챔버 ( 1 ) 의 상부 챔버 벽 ( 1 a ) 을 관통 하 여 외부 로 연장 되 도록 설치 되 어 있 다 . 이 회전축 체 ( 7 a ) 의 챔버 벽 ( 1 a ) 외측 으로 돌출 하 고 있 는 부분 ( 이하 , 돌출부 라고 한다 ) 은 , 회전 구동 장치 ( 8 ) 에 의해 회전 구동 되 도록 , 크로스 롤러 베어링 ( cross roller bearing ) ( 9 ) 및 오 일 실 ( oil seal ) ( 19 ) 을 통하 여 , 후술 하 는 하우징 ( housing ) ( 10 ) 에 대하 여 회전 가능 하 게 지 지 되 어 있 다 . 여기 서 , 회전 구 동장 치 ( 8 ) ( 모터 ( M ) ) , 후술 하 는 평기 어 ( 8 a ) , 크로스 롤러 베어링 ( 9 ) 및 하우징 ( 10 ) 이 기재 홀더 ( 6 a ) 의 회전 기구 를 구성 한다 . 또 , 오 일 실 ( 19 ) 이 회전축 체 ( 7 a ) 와 하우징 ( 10 ) 사이 에 설치 됨 으로써 , 진공 챔버 ( 1 ) 의 내부 는 소정 의 진공 상태 로 유지 된다 .