따라서 , 본 실시 형태 에서 의 기판 처리 장치 에서 는 , 처리 용기 ( 10 ) , 매니폴드 ( 90 ) , 덮개 ( 60 ) 에 의해 밀폐 된 공간 이 형성 된다 . 본원 에서 는 , 처리 용기 ( 10 ) , 매니폴드 ( 90 ) , 덮개 ( 60 ) 에 의해 둘러싸인 공간 을 처리 용기 의 내측 , 또는 처리 용기 ( 10 ) 의 내측 공간 이 라고 기재 하 고 , 처리 용기 ( 10 ) , 매니폴드 ( 90 ) , 덮개 ( 60 ) 의 외측 공간 을 처리 용기 ( 10 ) 의 외측 이 라고 기재 하 는 경우 가 있 다 . 따라서 , 본 실시 형태 에서 의 기판 처리 장치 에서 는 , 처리 용기 ( 10 ) 의 내측 에서 기판 처리 가 이루어지 기 때문 에 , 처리 용기 ( 10 ) 의 내측 의 공간 의 배기 가 이루어지 고 , 성막 등 에 사용 되 는 처리 가스 가 공급 된다 . 또한 , 처리 용기 ( 10 ) 의 외측 은 대략 대기압 상태 이 다 .