포토 마스크 는 반도체 소자 제조 과정 에서 반도체 기판 에 형성 하 고자 하 는 패턴 을 구현 하 기 위해 사용 되 고 있 다 . 반도체 소자 의 집적도 가 증가 함 에 따라 , 반도체 소자 를 구성 하 는 패턴 들 도 미세 해 지 고 있 다 . 이러 한 미세 패턴 을 반도체 기판 에 구현 하 기 위해 해상력 이 우수 한 위상 반전 마스크 가 이용 되 고 있 다 .