이상 과 같 은 3 층 레지스 트 법 에 의한 본 발명 의 네거티브 형 패턴 형성 방법 은 다음 과 같 다 ( 도 1 참조 ) . 이 프로세스 에 있 어서 는 , 우선 피 가 공체 ( 1 ) 상 에 유기 하층 막 ( 2 ) 을 스핀 코트 로 제작 한다 ( 도 1 ( I - A ) ) . 이 유기 하층 막 ( 2 ) 은 , 피 가 공체 ( 1 ) 를 에칭 할 때 의 마스크 로서 작용 하 기 때문 에 , 에칭 내성 이 높 은 것 이 바람직 하 고 , 상층 의 규소 함유 레지스 트 하층 막 과 믹 싱 되 지 않 는 것 이 요구 되 기 때문 에 , 스핀 코트 로 형성 한 후 에 열 혹은 산 에 의해 가교 하 는 것 이 바람직 하 다 .