그러나 종래 의 수차 측정 장치 및 방법 에서 는 레이저 프로세스 장치 에서 의 실제 의 사용 조건 과 는 전혀 다른 조건 으로 결상 광학계 의 수차 측정 을 행하 고 있 다 . 구체 적 으로 , 실제 의 레이저 프로세스 에서 는 가공 할 패턴 에 대응 한 광변조 소자 를 결상 광학계 의 물 체면 에 설치 하 는 것 에 대해 , 예 를 들 면 샥 크 - 하트 만법 이나 쉐어링 간섭법 에서 는 핀홀 을 결상 광학계 의 물 체면 에 설치 한다 . 이 결과 , 종래 기술 에서 는 , 결상 광학계 를 통과 하 는 것 은 핀홀 을 통과 한 미약 한 광 뿐 이 기 때문 에 실제 의 사용 조건 에 가까운 광 입사 상태 에서 수차 의 시간 적 변화 를 측정 할 수 없 다 .