예 를 들 어 , 화학 증착 ( CVD ) 또는 물리 증착 ( PVD ) 방식 으로 상이 한 굴절 률 을 갖 는 무기 화합물 ( 예 를 들 어 , 금속 산화물 ) 의 투명 박막 을 적층 시킴 으로써 다층 필름 이 형성 되 거나 또는 금속 산화물 과 같 은 금속 화합물 로 졸 - 겔 공정 ( sol - gel process ) 에 따라 콜로이드 금속 산화물 입 자막 이 형성 되 어 그 후 에 이 입 자막 이 후처리 공정 ( 예 를 들 어 , 일본 특개평 9 - 157855 에 기재 된 자외선 조사 , 또는 일본 특개 2002 - 327310 에 기재 된 플 라즈 마 처리 ) 을 거쳐서 박막 이 형성 된다 .