여기 서 , 각각 의 마스크 공정 이 종료 된 후 선택 적 으로 박막 패턴 이 형성 된 기판 위 에 이 물 을 검출 하 기 위한 제 1 검사 공정 ( S 8 ) 이 실시 된다 . 제 1 검사 공정 ( S 8 ) 은 패턴 검사 장비 를 이용 하 여 이 물 의 개수 와 위치 를 판단 한다 . 구체 적 으로 , " 도 3 을 참조 하 면 이 물 이 감지 되 는 픽셀 ( 또는 "" 화소 "" 라 한다 ) 의 이미지 와 이웃 하 는 제 1 픽셀 의 이미지 를 서로 동일 위치 로 배열 한 후 차분 ( 差分 ) 한다 . 그리고 "," 이 물 이 감지 되 는 픽셀 ( 이하 "" 검사 픽셀 "" 이 라 함 ) 주변 에 는 8 개 의 픽셀 이 위치 하 게 함 에 따라 검사 픽셀 과 주변 픽셀 간 의 차분 과정 을 7 회 더 반복 함 에 따라 이 물 이 위치 하 는 영역 이 강조 되 게 됨 에 따라 이 물 의 위치 와 개수 를 알 수 있 게 된다 . "