흡 수막 ( 106 ) 의 두께 를 줄이 기 위해서 는 EUV 파장 에 대해 높 은 소멸 계수 ( k ) 를 가지 는 물질 이 채용 되 는 것 이 바람직 하 다 . 이러 한 물질 로서 Pt 가 고려 될 수 있 다 . 그러나 Pt 의 경우 박막 의 형성 을 위한 스퍼터링 과정 에서 결정 화 ( Crystallization ) 의 문제 가 있 다 . 즉 , Pt 재질 의 층 은 박막 형성 과정 에서 결정 화 되 어 포토 마스크 제작 공정 중 에 식각 및 repair 공정 이 불 가능 해진다 . 따라서 Pt 재질 로 흡 수막 ( 106 ) 을 형성 함 으로써 박막 두께 를 얇 게 할 수 있 으면서 도 , 결정 화 문제 가 발생 하 지 않 도록 하 여 제작 공정 에서 의 식각 및 repair 가 용이 한 구조 를 갖 도록 하 는 방안 이 필요 하 다 .