이 에 대한 대안 으로 , 기판 ( 10 ) 을 상대 적 으로 저가 의 재료 인 유리 ( glass ) 를 사용 하 여 만드 는 방법 이 있 다 . 여기 서 , 유리 는 주 성분 이 이산화규소 ( SiO 2 ) 이 고 , Na 2 O , Al 2 O 3 , CaO 와 같 은 금속 산화물 ( metal oxide ) 을 포함 하 고 있 는 것 을 의미 한다 . 그런데 , 유리 는 저가 의 재료 이 기 는 하 지만 , 건식 식각 공정 에서 식각 률 ( etching rate ) 이 쿼츠 에 비해 상대 적 으로 낮 다 . 특히 , 유리 표면 에 수 마이크로미터 깊이 로 패턴 을 제작 하 여야 할 경우 식각 에 상당히 오랜 공정 시간 이 소요 되 는 문제점 이 있 다 .