도 6 b 에 는 제조 공정 동안 발광 층 ( 1 ) 의 구조 화 가 어떻게 이루어질 수 있 는지 가 도시 되 어 있 다 . 발광 층 ( 1 ) 의 구조 화 시점 에 기판 ( 3 ) , 제 1 전극 ( 10 ) 및 발광 층 ( 1 ) 을 포함 하 는 발광 장치 는 마스크 ( 14 ) 에 의해 UV 광 ( 15 ) 으로 조사 된다 . UV 복사 ( 15 ) 가 발광 층 ( 1 ) 에 입사 된 부분 에서 , 그 부분 의 분자 평면 의 구조 가 변경 되 며 , 이 는 예 를 들 면 발광 층 ( 1 ) 에서 유기 폴리머 의 폴리머 화 정도 가 변경 되 면서 이루어진다 . 변경 된 분자 평면 의 구조 에 의해 , 굴절 률 이 변경 된다 .