기판 상 에 형성 되 는 박막 은 기판 의 온도 에 따라 크 게 변하 므로 기판 의 온도 를 균일 하 게 유지 하 는 것 이 중요 하 다 . 본 발명 에서 는 기판 지지 부 ( 240 ) 의 하부 에 히터 ( 241 ) 를 구비 하 여 히터 ( 241 ) 를 통해 기판 지지 부 ( 240 ) 를 가열 하 고 가열 된 기판 지지 ( 240 ) 부를 이용 하 여 기판 ( S ) 을 가열 할 수 있 다 . 또한 기판 의 온도 를 매 공정 마다 일정 하 게 유지 하 기 위해 기판 지지 부 ( 240 ) 에 써 모 커플러 와 같 은 온도 측정 수단 ( 242 ) 을 구비 하 여 기판 지지 부 ( 240 ) 의 온도 를 측정 하 여 기판 지지 부 ( 240 ) 의 온도 가 일정 하 게 유지 될 수 있 도록 한다 .