또한 , 도금 층 Ⅱ 상 에 상기 의 화합물 층 을 형성 하 는 방법 은 , 상기 의 방법 으로 한정 되 지 않 는다 . 예 를 들 면 , Si , Ti , Al , Zr 중 으로부터 선택 된 적어도 1 종 의 양이온 을 함유 하 고 , 인산 이온 , 불 소산 이온 , 불화물 이온 중 으로부터 선택 된 적어도 1 종 의 음 이온 을 함유 하 는 산 성 의 수용액 에 , 도금 층 I 과 도금 층 Ⅱ 를 갖 는 강판 을 침지 하 는 반응 형 처리 를 행한 후 , 물세 정하 거나 또는 물 세정 하 는 일 없이 가열 건조 하 는 방법 에 의해서 도 , 도금 층 Ⅱ 상 에 상기 의 화합물 층 을 형성 하 는 것 이 가능 하 다 .