따라서 종래 에 반도체 제조 공정 에서 배출 되 는 상기 와 같 은 유해 성 가스 를 처리 하 기 위하 여 고온 의 환경 에서 유해 가스 를 열분해 하 여 정화 하 는 연소 식 처리 법 과 , 흡착제 를 이용 하 여 정화 하 는 방식 의 건식 처리 법 과 , 유해 가스 를 물 과 접촉 하 도록 하 여 포집 한 후 오염 된 물 을 정화 하 는 방식 의 습식 처리 법 및 상기 방법 을 혼용 한 처리 법 이 있 다 .