상기 내부 개구부 ( 미 도시 ) 를 절연성 필라 ( 140 ) 로 매립 할 수 있 다 . 본 발명 의 변형 된 실시 예 에 따르 면 , 절연성 필라 ( 140 ) 를 상기 내부 개구부 ( 미 도시 ) 에 매립 하 기 전 에 , 반도체 영역 ( 130 ) 이 형성 된 구조 를 수소 또는 중수소 를 포함 하 는 가스 분위기 에서 열처리 하 는 수소 어닐링 ( annealing ) 단계 가 더 실시 될 수 있 다 . 상기 수소 어닐링 단계 에 의하 여 반도체 영역 ( 130 ) 내 에 존재 하 는 결정 결함 들 중 의 많 은 부분 들 이 치유 될 수 있 다 .