얻 어 진 실시 예 3 ∼ 4 및 비 교예 2 ∼ 3 의 표면 처리 제 를 사용 하 여 , 실시 예 1 ∼ 2 , 비 교예 1 과 동일 하 게 하 여 , SiO 2 막 기판 , Al 2 O 3 막 기판 , Cu 기판 및 Co 기판 의 표면 처리 를 실시 하 였 다 . 표면 처리 제 에 의한 표면 처리 조건 은 , 25 ℃, 1 분 간 으로 하 였 다 . 결과 를 표 2 에 나타낸다 .