최근 , 반도체 소자 의 고집 적 화 와 고속도화 에 따라 , 패턴 룰 의 미세화 가 요구 되 고 있 는 가운데 , 현재 범용 기술 로서 이용 되 고 있 는 광 노광 을 이용 한 리소그래피 에 있 어서 는 , 이용 되 는 광원 에 대하 여 어떻게 보다 미세 하 고 또 한 정밀도 가 높 은 패턴 가공 을 행할 지 에 대해서 여러 가지 기술 개발 이 이루어지 고 있 다 .