본 발명 의 포토레지스트 조성물 은 , 보통 용매 중 에서 , 수지 ( A ) , 산 발생 제 ( B ) , 및 필요 하 다면 수지 ( A 2 ) , ? 처 , 및 / 또는 첨가제 를 상기 조성물 에 대해 적합 한 비율 로 혼합 하 고 , 선택 적 으로 그 후 에 0 . 003 ㎛ 내지 0 . 2 ㎛ 의 구멍 크기 를 갖 는 필터 로 혼합물 을 여과 함 으로써 제조 될 수 있 다 .