또한 , 리소그래피 장치 는 투영 시스템 과 기판 사이 의 공간 을 채우 기 위해서 , 기판 의 전체 또는 일부분 이 비교 적 높 은 굴절 률 을 갖 는 액체 , 예컨대 물 로 덮일 수 있 는 형태 로 구성 될 수 있 다 . 또한 , 침지 액체 는 리소그래피 장치 내 의 다른 공간 들 , 예 를 들 어 패 터닝 디바이스 ( 예 를 들 어 , " 마스크 ) 와 투영 시스템 사이 에 도 적용 될 수 있 다 . 침지 기술 은 투영 시스템 의 개구수 ( numerical aperture ) 를 증가 시키 는 데 사용 될 수 있 다 . 본 명세서 에서 사용 되 는 "" 침지 "" 라는 용어 는 기판 과 같 은 구조 체가 액체 내 에 담그 어 져야 함 을 의미 하 는 것 이 라기 보다 는 ", 노광 시 액체 가 투영 시스템 과 기판 사이 에 놓이 기 만 하 면 된다는 것 을 의미 한다 .