그러나 , 양자 점 기반 의 자발 광 형 컬러 필터 를 제공 하 기 위해 , 양자 점 함유 감광성 조성물 은 , ( 예 를 들 어 , 고형분 기준 으로 5 중량 % 이상 또는 심지어 10 중량 % 이상의 ) 비교 적 많 은 양 의 양자 점 을 포함 해야 할 수 있 으며 , 이 경우 양자 점 의 필요 한 분산 성 을 유지 하 는 것 은 매우 어렵 다 . 따라서 , 네거티브 형 포토 레지스 를 사용 하 는 흡수 형 컬러 필터 의 패턴 형성 방법 은 양자 점 폴리머 복합체 패턴 의 제조 에 적용 하 기 어렵 다 . 예 를 들 어 , 양자 점 을 표면 처리 없이 알칼리 현상 가능 한 포토레지스트 와 단순 혼합 할 경우 심각 한 양자 점 응집 이 발생 하 며 , 패턴 제조 가 불 가능 하 다 .