본 발명 에 따른 연마 슬러리 조성물 은 연마 후 기판 의 평탄 도 가 우수 한 산화 세륨 계 연마 조성물 을 제공 한다 . 본 발명 에 따른 산화 규소 막 함유 기판 CMP 용 슬러리 조성물 은 소량 의 평탄 도 개선 제 를 사용 하 여 점도 와 같 은 물리 적 특성 의 변화 없이 전체 기판 의 평탄 도 를 우수 하 게 할 수 있 으며 , 산화 규소 막 의 연마 속도 및 질화규소 막 에 대한 산화 규소 막 의 연마 선택도 도 높 은 장점 이 있 다 .