이렇게 준비 된 기판 ( 100 ) 의 하부 에 도 1 b 에 도시 된 바 와 같이 금속 막 ( 101 ) 을 형성 한다 . 금속 막 ( 101 ) 은 화학 기상 증착 방법 ( chemical vapor deposition ; CVD ) 이나 , 스퍼터링 방법 으로 티탄 또는 구리 와 같 은 금속 을 도포 하 여 형성 될 수 있 으나 , 그 형성 방법 은 특별히 제한 되 지 는 않 는다 . 그러나 본 실시 예 에서 는 스퍼터링 방법 으로 티탄 과 구리 를 순차 적 으로 도포 하 여 형성 하 였 다 .