리소그래피 프로세싱 동안 , 기판 상 의 연속 하 는 층 들 에서 의 패턴 들 의 배치 는 기판 상 에서 의 디바이스 피처 들 의 정확 한 형성 ( definition ) 을 위해 가능 한 한 정밀 하 게 이루어져야 하 며 , 상기 피처 들 모두 는 규정 된 공차 내 의 크기 를 가져야 한다 . 오버레이 오차 ( 즉 , 연속 하 는 층 들 간 의 부정합 ) 는 기능 적 인 디바이스 들 을 생성 하 기 위해 잘 - 형성 된 공차 들 내 에 있 어야 한다 .