이 에 본 발명 은 상기 와 같이 용 존 산소 의 제거율 을 향상 하 고 촉매 막 의 파손 을 막 기 위하 여 대한민국 특허 등록 제 595529 호 에서 제조 된 평 막 과 는 달리 기계 적 강도 가 우수 하 고 단위 부피 당 접촉 면적 이 넓 은 중공사 막 을 사용 하 여 팔라듐 촉매 를 첨 착하 였 다 [ 도 1 ] . 본 발명 에서 상전 이 방법 과 열 유도 상전 이 방법 을 혼합 하 여 제조 된 중공사 막 은 다공도 와 비표 면적 이 커 나노 크기 를 갖 는 팔라듐 클러스터 고정 화 에 유리 하 다 . 또한 첨 착 되 는 팔라듐 의 양 을 대한 민국 특허 등록 제 595529 호 의 발명 과 비교 하 여 약 20 배 적 게 사용 하 고 ( 3 . 4 중량 % → 0 . 16 중량 %), 반응 효율 즉 용 존 산소 제거율 은 평균 65 % 에서 평균 96 % 이상 으로 용 존 산소 의 제거율 을 향상 시켜 반도체 및 원자력 발전소 계통수 처리 에 도 사용 할 수 있 도록 반응 효율 을 향상 시킨 것 에 특징 이 있 다 .