이 와 같 은 배향 불 균일 의 영향 을 줄이 는 방법 으로서 , 특허 문헌 1 에서 는 , 투명 도전 막 상 에 배향 막 을 형성 하 고 , 그 위 에 전자선 레지스 트 에 의해 회절 격자 패턴 을 형성 하 는 방법 이 제시 되 어 있 다 . 이 방법 에서 는 , 레지스 트 가 제거 된 부분 에 배향 막 이 노출 되 어 , 배향 막 과 접하 는 액정 분자 가 수직 배향 되 어 있 다 .