최근 은 고 성능 광학 박막 을 효율 적 으로 생산 하 기 때문 에 , 보다 높 은 막 두께 정밀도 와 안정 한 굴절 률 이나 낮 은 흡수율 이 라고 한 고품질 막 질 을 고속 으로 성막 하 는 것 이 요구 된다 . 그런데 , 되풀이 되 는 프로세스 에 의한 장치 의 경시 변화 나 장치 의 특성 차이 등 에 의해 , 필요 한 막 두께 정밀도 나 막 질 을 실현 할 수 없 다고 하 는 과제 가 있 다 .