본 실시 형태 의 레지스 트 패턴 형성 방법 은 , 상기 서술 한 레지스 트 조성물 을 사용 하 여 , 지 지체 상 에 레지스 트 막 을 형성 하 는 공정 , 상기 레지스 트 막 을 노광 하 는 공정 , 및 상기 노광 후 의 레지스 트 막 을 , 유기 용제 를 함유 하 는 현상액 을 사용 한 네거티브 형 현상 에 의해 패 터닝 하 여 레지스 트 패턴 을 형성 하 는 공정 을 포함 한다 .