( 5 ) 　 금속 포토 마스크 층 부식 : 식각 후 의 도형 기판 을 30 ％( 질량 백분율 ) 의 염산 용액 에 집 어 넣 어 25 분 초음파 처리 하 고 , 현미경 으로 관찰 하 여 금속 포토 마스크 층 을 완전히 깨끗히 한 후 , 기판 을 추출 하 여 다시 아세톤 , 에탄올 에 각각 15 분 씩 초음파 처리 하 고 , 그 후 이온 수 로 깨끗히 씻 어 내 면 된다 .