산 가스 제거 공정 은 전형 적 으로 , 가스 스트림 을 모노 에탄올아민 , 디 에탄올아민 , 메틸 디 에탄올아민 , 디 이소프로필 아민 , 디 글리콜 아민 , 아미노산 의 나트륨 염의 용액 , 메탄올 , 고온 탄산칼륨 등 과 같 은 용매 와 접촉 시켜 CO 2 및 / 또는 H 2 S 담지 흡수제 를 생성 하 는 것 을 포함 한다 . 한 방법 은 2 개 의 트레인 ( 각각 의 트레인 은 H 2 S 흡수제 및 CO 2 흡수제 를 함유 함 ) 을 갖 는 셀렉 솔 ( Selexol ) ® ( UOP LLC , 미국 일리노이주 데스 플레인 즈 ) 또는 렉 티 솔 ( Rectisol ) ® ( 루르 기 아 게 ( Lurgi AG ) , 독일 프랑크푸르트 암 마인 ) 용매 의 사용 을 포함 할 수 있 다 .