[ 0021 ] 블록 ( 104 ) 에서 , 기판 은 , 예컨대 , 실리콘 - 함유 층 의 에피 택 셜 증착 을 위한 목표 온도 로 , 가스 상 에피택시 챔버 에서 , 프로세싱 시약 에 노출 된다 . 사용 될 수 있 는 예시 적 인 에피택시 챔버 는 , 캘리포니아 , 산타클라라 의 어 플 라이드 머 티어리 얼스 , 인 코포 레이티 드 로부터 입수 가능 한 Centura ® RP EPI 챔버 이 다 . 하나 의 예시 적 인 에피택시 챔버 가 아래 에서 도 4 에 도시 된다 . 다른 제조자 들 로부터 입수 가능 한 챔버 들 을 포함 하 는 다른 챔버 들 이 에피 택 셜 증착 을 실시 하 기 위해 사용 될 수 있 다는 것 이 고려 된다 .