도 9 를 참조 하 면 , 기판 처리 장치 는 공정 챔버 ( 100 ) , 지지 유닛 ( 200 ) , 가스 공급 유닛 ( 300 ) , 플라스마 소스 ( 400 ) 및 배기 유닛 ( 500 ) 을 포함 한다 . 공정 챔버 ( 100 ) 는 내부 에 기판 을 처리 하 는 처리 공간 을 가진다 . 공정 챔버 ( 100 ) 는 하우징 ( 110 ) , 커버 ( 120 ) , 그리고 라이너 ( 130 ) 를 포함 한다 .