본 발명 은 산화 인듐 주석 ( 이하 ' ITO ' 라 한다 ) 고밀도 스퍼터링 타 겟 제조 용 의 산화 주석 분말 의 제조 에 관한 것 으로 , 보다 상세 하 게 는 초음파 화학 적 반응 ( Ultrasonic Chemistry Reacton ) 에 의한 미세 한 산화 주석 분말 을 제조 하 여 고밀도 의 타 겟 제조 용 분말 로 활용 하 는 방법 에 관한 것 이 다 .