또한 , 일반 적 인 산업용 X 선 투시 장치 에서 는 , 검사 대상 이 미소 한 경우 , 가능 한 한 확대 된 X 선 투시 상 을 얻 을 수 있 는 것 이 바람직 하 다 . 그 를 위해서 는 , X 선 의 발생 영역 인 초점 의 크기 가 극히 작 아야 한다 . 그래서 , 초점 치수 가 수 ㎛ 이 라는 투과 형 X 선원 인 마이크 로 포커스 X 선원 이 사용 된다 . 투시 상 의 화질 의 향상 을 위해 이 와 같 은 마이크 로 포커스 X 선원 에 있 어서 , X 선 을 발생 시키 는 전자 빔 전류 ( X 선원 전류 ) 를 크 게 하 면 , 타 겟 의 전자 충돌 부 ( 초점 ) 의 발열 에 의해 타 겟 이 국부 적 으로 용융 하 여 버리 기 때문 에 , 허용 되 는 한계 치 ( 허용 부하 ) 가 설정 되 는 것 이 일반 적 이 다 . 특허 문헌 5 에 는 , 이 와 같 은 허용 부하 를 증대 시키 기 위해 , 양극 ( 타 겟 ) 이 회전 하 는 원판 인 마이크 로 포커스 X 선원 이 개시 되 어 있 다 .