분자 내 에 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 는 페놀 성 수산기 함유 용제 가용성 폴리 이미드 와 PAC 로 이루어지 는 포지티브 형 감광성 수지 조성물 도 제안 되 어 있 다 ( 이하 , 특허 문헌 3 참조 ) . 특허 문헌 3 에 는 , 비시 클로 ( 2 , 2 , 2 ) - 옥토 - 7 - 엔 - 2 , 3 , 5 , 6 - 테트라 카르복실 산 2 무수물 을 함유 하 는 테트라 카르복실 산 2 무수물 과 , 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 을 함유 하 는 방향 족 디아민 이 탈수 축합 된 구조 를 갖 는 중축합 물 로서 , 중축합 물 을 얻 는 경우 에 전체 테트라 카르복실 산 2 무수물 과 전체 방향 족 디아민 을 합친 전체 원료 모노머 중 에서 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 이 원료 주 입시 에 20 몰 % ∼ 40 몰 % 의 범위 에 있 고 , 중축합 물 을 얻 을 때 의 전체 테트라 카르복실 산 2 무수물 의 몰수 와 전체 방향 족 디아민 의 몰수 의 비 가 1 : 0 . 75 ∼ 0 . 87 또는 0 . 75 ∼ 0 . 87 : 1 의 범위 이 며 , 중축합 물 의 중량 평균 분자량 이 5 , 000 ∼ 17 , 000 의 범위 에 있 는 폴리머 가 기재 되 어 있 다 . 특허 문헌 3 에서 는 , 페놀 성 디아민 에 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 을 사용 함 으로써 분자 중 에 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 고 , 알칼리 용해 성 과 PAC 의 상호 작용 을 발현 하 고 , 비시 클로 ( 2 , 2 , 2 ) - 옥토 - 7 - 엔 - 2 , 3 , 5 , 6 - 테트라 카르복실 산 2 무수물 을 사용 함 으로써 , γ - 부티 로 락톤 에 대한 용해 성 과 i 선 투명 성 을 향상 시켜 , 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 의 도입 량 과 중량 평균 분자량 을 컨트롤 함 으로써 , 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 에서 유래 하 는 강한 알칼리 용해 성 을 제어 하 고 있 고 , γ - 부티 로 락톤 에 가용 으로 i 선 에 대해 충분히 투명 하 며 , 2 . 38 % TMAH 현상액 으로 패턴 을 형성 할 수 있 는 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 는 포지티브 형 감광성 수지 조성물 을 개시 하 고 있 다 . 그러나 , 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 의 도입 량 이 그 알칼리 용해 성 의 높이 로부터 제한 되 고 , 그 때문 에 폴리머 내 의 페놀 성 수산기 의 밀도 가 떨어지 고 , 또 , 비스 ( 3 - 아미노 - 4 - 하이드 록 시 페닐 ) 술폰 에서 유래 하 는 페놀 성 수산기 가 PAC 와의 상호 작용 이 약하 기 때문 에 , 보다 고감도 인 포지티브 형 감광성 수지 조성물 이 요망 되 고 있 다 .