특허 문헌 1 에 는 , 이온 교환 수지 를 포함 하 는 필터 를 사용 하 여 , 포토레지스트 조성물 로부터 이온 성 불순물 이나 금속 이온 불순물 을 제거 하 는 방법 이 개시 되 어 있 다 . 특허 문헌 2 에 는 , 포토레지스트 용 수지 를 유기 용매 와 물 을 사용 한 추출 조작 에 도입 하 여 , 금속 불순물 을 수층 에 분배 , 제거 하 는 방법 이 개시 되 어 있 다 . 또한 , 특허 문헌 3 및 특허 문헌 4 에 는 , 제타 전위 를 이용 한 흡착 에 의한 금속 제거 방법 이 개시 되 어 있 다 . 또한 , 특허 문헌 5 에서 는 , 레지스 트 성분 용액 을 , 카 티온 교환 수지 및 킬레이트 수지 에 충분 한 시간 접촉 시켜 , 카 티온 교환 수지 및 킬레이트 교환 수지상 에 금속 불 순분 의 적어도 일부 를 흡착 시키 는 것 이 제안 되 고 있 다 .