화학식 InxAlyGazN ( x , y , z 는 0 이상 의 정수 이 고 , 또한 x , y , z 는 동시 에 0 이 아니 다 ) 및 SixCyNz ( x , y , z 는 0 이상 의 정수 이 고 , 또한 x , y 는 동시 에 0 이 아니 다 ) 으로 표기 된 물질 층 으로 구성 되 는 제 2 에피 택 셜 적층 구조 를 형성 하 기 에 앞서 , 바람직 하 게 는 후막 층 및 후막 층 상부 에 형성 된 제 1 에피 택 셜 적층 구조 의 열 적 안정 성 을 향상 시키 기 위해서 800 도 이상 의 산소 ( O 2 ) , 질소 ( N 2 ) , 아르곤 ( Ar ) , 진공 ( vacuum ) , 공기 ( air ) , 수소 ( H 2 ) , 또는 암모니아 ( NH 3 ) 개스 분위기 에서 적어도 30 초 이상 24 시간 까지 열처리 하 는 공정 을 적용 한다 .