이 때 , 하부 구동 롤러 ( 200 b ) 는 가능 한 배스 ( 100 ) 저면 에 가깝 게 배치 되 는 것 이 좋 다 . 기판 ( 10 ) 배면 에 대한 반복 적 인 에칭 공정 을 진행 하 게 되 면 점차 에칭 액 ( 110 ) 이 소모 되 어 배스 ( 100 ) 내부 에 존재 하 는 에칭 액 ( 110 ) 의 수위 가 낮 아 지 게 될 것 이 고 , 만일 벨트 ( 300 ) 의 하부 가 배스 ( 100 ) 에 수용 된 에칭 액 ( 110 ) 으로부터 이탈 하 게 되 면 기판 에 대한 에칭 작업 이 수행 될 수 없 게 될 것 이 므로 , 하부 구동 롤러 ( 200 b ) 를 가능 한 배스 ( 100 ) 의 저면 에 가깝 게 배치 하 게 되 면 에칭 액 ( 110 ) 의 수위 가 낮 아 지 더라도 벨트 의 하부 ( 300 b ) 가 에칭 액 ( 110 ) 으로부터 이탈 하 게 될 가능 성 이 낮 아 지 기 때문 이 다 . 그 결과 배스 ( 100 ) 내부 에 에칭 액 ( 110 ) 을 보충 하 는 작업 빈도 를 낮출 수 있 게 될 것 이 다 .