일 실시 예 에 따르 면 , 상기 제 1 및 제 2 더미 게이트 패턴 들 ( 130 a , 130 b ) 및 수동 소자 패턴 ( 125 r ) 은 동시 에 형성 될 수 있 다 . 예컨대 , 한 번 의 포 토리 소그라 피 공정 을 사용 하 여 , 상기 더미 게이트 패턴 들 ( 130 a , 130 b ) 및 수동 소자 패턴 ( 125 r ) 을 형성 할 수 있 다 . 하지만 , 본 발명 은 여기 에 한정 되 지 않 는다 . 상기 제 1 및 제 2 더미 게이트 패턴 들 ( 130 a , 130 b ) 을 먼저 형성 한 후 에 , 상기 수동 소자 패턴 ( 125 r ) 을 형성 하 거나 , 상기 수동 소자 패턴 ( 125 r ) 을 먼저 형성 한 후 에 , 상기 제 1 및 제 2 더미 게이트 패턴 들 ( 130 a , 130 b ) 을 형성 할 수 도 있 다 .