이 와 같이 전자 빔 묘화 장치 에 의해 , 레지스 트 가 도포 된 마스크 등 의 위 에 소정 의 패턴 을 묘화 하 는 경우 에 있 어서 는 , 마스크 등 을 장착 한 X - Y 스테이지 상 에 적재 하 고 , 이동 시키 면서 샷 마다 소정 의 영역 에 전자 빔 을 조사 하 여 묘화 를 행한다 . 전자 빔 묘화 장치 에서 는 높 은 정밀도 가 요구 되 므로 , 보다 높 은 정밀도 로 조사 하 기 위해 , 전자 빔 이 조사 되 는 샷 영역 의 형상 을 변화 시킨 경우 에 있 어서 , 묘화 결과 로부터 보정 을 행하 는 방법 이 WANG Zhigang et al . ," "" Recent CD accuracy improvements for HL - 7000 M """, Proceedings of SPIE , VOL . 5446 , pp 657 - 668 , 2004 에 개시 되 어 있 다 .