도 1 및 도 2 를 참조 하 면 , 본 발명 의 실시 예 에 따른 증착 장치 는 공정 공간 이 형성 되 는 증착 챔버 ( 100 ) ; 상기 증착 챔버 ( 100 ) 에 연결 되 는 공급 챔버 ( 200 ) ; 상기 증착 챔버 ( 100 ) 에 연결 되 는 배출 챔버 ( 300 ) ; 상기 공급 챔버 ( 200 ) 내부 에 수용 되 는 저장 용기 ( 500 ) 를 상기 증착 챔버 ( 100 ) 로 이동 시키 거나 상기 증착 챔버 ( 100 ) 로부터 상기 배출 챔버 ( 300 ) 로 이동 시키 기 위한 이송 유닛 ; 상기 증착 챔버 ( 100 ) 의 내부 에 설치 되 어 기판 이 안착 되 는 기판 지지 부 ( 800 ) ; 및 상기 기판 지지 부 ( 800 ) 에 안착 되 는 기판 에 상기 저장 용기 ( 500 ) 에 저장 되 는 원료 물질 을 분사 하 기 위한 분사 유닛 ; 을 포함 한다 .