질소 함유 가스 는 가스 공급 기구 ( 18 ) 의 질소 함유 가스 공급원 ( 19 a ) 으로부터 가스 라인 ( 20 ) 을 거쳐서 가스 도입부 ( 14 ) 에 도달 하 여 , 가스 도입부 ( 14 ) 로부터 챔버 ( 1 ) 내 로 도입 된다 . 한편 , 실리콘 함유 가스 및 불활성 가스 는 실리콘 함유 가스 공급원 ( 19 b ) 및 불활성 가스 공급원 ( 19 c ) 으로부터 각각 가스 라인 ( 20 ) 을 거쳐서 가스 도입부 ( 15 ) 에 도달 하 여 , 가스 도입부 ( 15 ) 로부터 챔버 ( 1 ) 내 로 도입 된다 . 각 가스 공급원 에 접속 하 는 각각 의 가스 라인 ( 20 ) 에 는 , 매스 플로우 컨트롤러 ( mass flow controller ) ( 21 ) 및 그 전후 의 개폐 밸브 ( 22 ) 가 마련 되 어 있 다 . 이러 한 가스 공급 기구 ( 18 ) 의 구성 에 의해 , 공급 되 는 가스 의 전환 이나 유량 등 의 제어 를 할 수 있 게 되 어 있 다 . 또 , Ar 등 의 플 라즈 마 여기 용 의 희가스 는 임의 의 가스 이 며 , 반드시 성막 원료 가스 와 동시 에 공급 할 필요 는 없 다 .