실시 형태 에 따른 디 퓨 져 의 제조 방법 은 , 레이저 광원 으로부터 입사 되 는 레이저 빔 을 확산 하 여 비대칭형 출광 패턴 을 형성 하 는 디 퓨 져 제조 방법 으로서 , 기판 상 에 포토레지스트 층 을 형성 하 는 , 포토레지스트 층 형성 단계 ; 상기 포토레지스트 층 상 에 소정 의 마스크 패턴 이 형성 된 마스크 를 형성 하 는 , 마스크 형성 단계 ; 상기 마스크 로 가로 방향 으로 의 지향 각 ( beam angle ) 과 세로 방향 으로 의 지향 각이 동일 한 디 퓨 징 된 빛 을 조사 하 여 상기 포토레지스트 층 에 상기 마스크 패턴 에 대응 되 는 복수 의 공동 ( void ) 을 형성 하 는 , 공동 형성 단계 ; 및 디 퓨 져 형성 물질 을 상기 복수 의 공동 에 형성 하 여 상기 디 퓨 져 를 형성 하 는 , 디 퓨 져 형성 단계 ; 를 포함 하 고 , 상기 마스크 에 형성 된 상기 마스크 패턴 에서 , 상기 가로 방향 으로 배열 된 인접 한 2 개 의 패턴 사이 의 거리 는 상기 세로 방향 으로 배열 된 인접 한 2 개 의 패턴 사이 의 거리 와 서로 다르 다 .