25 . 디바이스 를 제조 하 는 방법 으로서 , 그 방법 은 리소그래피 프로세스 단계 를 포함 하 되 , 상기 리소그래피 프로세스 단계 를 수행 하 기 이전 또는 이후 에 , 조항 12 내지 25 중 임의 의 것 에서 정의 되 는 바 와 같 은 방법 에 의해 기판 상 의 제 1 및 제 2 타 겟 의 측정치 가 획득 되 고 , 획득 된 측정치 는 기판 및 / 또는 추가 적 인 기판 의 프로세싱 을 위해 리소그래피 프로세스 단계 의 파라미터 를 조정 하 기 위해 사용 된다 .