RLSA 방식 의 플 라즈 마 처리 장치 ( 100 ) 에 있 어서 는 , 이하 와 같 은 순서 로 플 라즈 마 CVD 법 에 의해 웨이퍼 W 표면 에 질화규소 막 을 퇴적 시키 는 처리 를 행할 수 있 다 . 우선 , 게이트 밸브 ( 17 ) 를 열 어 반입 / 반 출구 ( 16 ) 로부터 웨이퍼 W 를 챔버 ( 1 ) 내 로 반입 하 여 탑재 대 ( 2 ) 상 에 탑재 한다 . 다음 으로 , 챔버 ( 1 ) 내 를 감압 배기 하 면서 , 가스 공급 기구 ( 18 ) 의 질소 함유 가스 공급원 ( 19 a ) 및 실리콘 함유 가스 공급원 ( 19 b ) 으로부터 질소 함유 가스 및 실리콘 함유 가스 를 소정 의 유량 으로 각각 가스 도입부 ( 14 , 15 ) 를 통해 챔버 ( 1 ) 내 로 도입 한다 . 이렇게 하 여 , 챔버 ( 1 ) 내 를 소정 의 압력 으로 조절 한다 .