도 5 c 에서 알 수 있 듯이 , 상기 포토레지스트 층 ( 130 ) 위 에 소정 의 마스크 ( 140 ) 를 위치 시키 고 광 을 조사 한다 . 상기 마스크 ( 140 ) 는 광이 투과 되 는 제 1 영역 ( 142 ) 과 광이 투과 되 지 않 는 제 2 영역 ( 144 ) 으로 이루어진다 . 상기 제 1 영역 ( 142 ) 및 제 2 영역 ( 142 ) 은 최종 적 인 기판 의 요철 패턴 ( 110 ) 을 감안 하 여 적절히 조절 한다 .