여기 서 상기 축소 노광 장치 의 광 분해능 을 향상 시키 기 위하 여 광원 의 파장 을 감소 시키 게 되 는데 , 예 를 들 어 파장 이 436 및 365 ㎚ 인 G - 라인 및 i - 라인 축소 노광 장치 는 공정 분해능 이 라인 / 스페이스 패턴 의 경우 각각 약 0 . 7 내지 0 . 5 ㎛ 정도 가 한계 이 고 , 0 . 5 ㎛ 이하 의 미세 패턴 을 형성 하 기 위해서 는 이 보다 파장 이 더 작 은 원자외선 ( deep ultra violet ; DUV ) , 예 를 들 어 파장 이 248 ㎚ 인 KrF 레이저 나 193 ㎚ 인 ArF 레이저 를 광원 으로 사용 하 는 노광 장치 를 이용 하 여야 한다 .