150 ° C 핫플레이트 에서 4 시간 동안 포토레지스트 ( AZEM , DTR - 300 ) 을 건조 하 여 포토레지스트 파우더 를 제조 하 였 다 . 건조 된 포토레지스트 파우더 를 60 ° C 항온 상태 의 박리 액 조성물 에 300 rpm 스터링 조건 하 에서 2 중량 % 을 투입 하 여 20 분 간 스터링 하 여 용해 하 였 다 . 상기 박리 액 을 12 내지 48 시간 동안 60 ℃ 로 가열 하 여 가혹 조건 하 의 경시 변화 를 일으켰 다 .