본 발명 에 있 어서 의 표면 저항률 이란 , JIS K 6271 ( 2001 년 ) 에 준거 하 여 측정 되 는 값 이 다 . 구체 적 으로 는 , 발포 입자 성 형체 의 중앙부 로부터 잘라 낸 시험 편 ( 세로 100 ㎜ × 가로 100 ㎜ × 두께 : 성 형체 의 두께 ) 을 3 편 준비 하 고 , 그 시험편 을 23 ℃, 습도 50 ％ 의 분위기 하 에 24 시간 방치 한 후 , 23 ℃, 습도 50 ％ 의 분위기 하 에서 , 각 시험편 에 인가 전압 500 V 로 인가 한 후 30 초 후 의 전류 치 를 측정 하 여 표면 저항 률 을 산출 하 고 , 각각 의 시험편 에 대해 얻 어 진 표면 저항 률 을 산술 평균 함 으로써 표면 저항 률 을 구한다 . 측정 장치 는 미츠 비시 화학사 제조 「 하이 레스타 MCP - HT 450 」 등 을 사용 할 수 있 다 .