이온 소스 ( 20 ) ( 도 4 및 도 5 ) 는 진공 챔버 ( 25 ) , 무선 주파수 ( RF ) 안테나 ( 24 ) , 및 이온 주입기 처음 스테이지 ( first stage : 23 ) 및 이온 주입기 최종 스테이지 ( 35 ) 를 갖 는 이온 주입기 ( 26 ) 를 포함 한다 . 더 많 은 이온 전류 를 산출 하 기 위해 , 이온 소스 로 하여금 더 높 은 밀도 의 플 라즈 마 ( 22 ) 를 생성 하 는 고밀도 헬리콘 ( helicon ) 모드 에서 작동 하 게 하 도록 자석 ( 도시 되 지 않 음 ) 이 포함 될 수 있 다 . 적절 하 게 는 , 이 자석 의 필드 강도 는 약 50 G 내지 약 6000 G , 적절 하 게 는 약 100 G 내지 약 5000 G 의 범위 이 다 . 자석 들 은 축 방향 필드 ( 이온 빔 의 경로 에 평행 한 남북 방위 ) 또는 커 스프 필드 ( cusp field ) ( 인접 한 자석 들 에 대해 남 과 북 사이 에서 교번 하 는 내부 극 을 이용 하 여 이온 빔 의 경로 에 수직 인 남북 방위 ) 를 생성 하 도록 방위 될 수 있 다 . 축 방향 필드 는 헬리콘 모드 ( 조밀 한 플 라즈 마 ) 를 생성 할 수 있 는 반면 , 커 스프 필드 는 헬리콘 유도 모드 가 아닌 조밀 한 플 라즈 마 를 발생 시킬 수 있 다 . 진공 챔버 ( 25 ) 의 일 단부 에 가스 유입 구 ( 21 ) 가 위치 되 고 , 이 반대편 에 이온 주입기 ( 26 ) 의 처음 스테이지 ( 23 ) 가 있 다 . 가스 유입 구 ( 21 ) 는 원 하 는 연료 형태 들 중 하나 를 제공 하 며 , 이 는 1 H 2 , 2 H 2 , 3 H 2 , 3 He , 및 11 B 를 포함 하 거나 , 1 H , 2 H , 3 H , 3 He , 및 11 B 를 포함 할 수 있 다 . 유입 구 ( 21 ) 에서 의 가스 흐름 은 적절 하 게 는 질량 흐름 제어기 ( 도시 되 지 않 음 ) 에 의해 조절 되 며 , 이 는 사용자 에 의하 거나 자동 으로 제어 될 수 있 다 . RF 안테나 ( 24 ) 는 적절 하 게 는 진공 챔버 ( 25 ) 의 외부 주위 에 감긴다 . 대안 적 으로 , RF 안테나 ( 24 ) 는 진공 챔버 ( 25 ) 내부 에 있 을 수 있 다 . 적절 하 게 는 , RF 안테나 ( 24 ) 에 의해 방출 된 무선 주파수 방사선 ( radio frequency radiation ) 이 예 를 들 어 플 라즈 마 를 형성 하 는 진공 챔버 ( 25 ) 의 내용물 ( 즉 , 연료 가스 ) 을 여기 ( excite ) 시키 도록 , RF 안테나 ( 24 ) 는 진공 챔버 에 가깝 다 . RF 안테나 ( 24 ) 는 1 이상 의 턴 ( turn ) 의 튜브 ( 27 ) 를 포함 한다 . RF 튜브 또는 와이어 ( 27 ) 는 구리 , 알루미늄 , 또는 스테인리스 강과 같 은 전도성 이 고 구부릴 수 있 는 재료 로 구성 될 수 있 다 .