도시 된 바 와 같이 종래 의 고도 처리 장치 는 , 원수 가 유입 되 는 유입 구 ( 1 a ) 가 형성 된 조정조 ( 1 ) 와 ; 회전축 ( 2 b ) 상 에 순차 적 으로 복수 개 적층 되 고 , 양 측면 상 에 미생물 이 부착 됨 과 아울러 원수 가 유동 되 는 관 통공 ( 2 a - 1 ) 이 적어도 하나 이상 형성 되 며 , 일면 의 가장자리 에 테두리 부 ( 2 a - 2 ) 가 형성 되 어 진 판 부재 ( 2 a ) 및 상기 판 부재 ( 2 a ) 사이 의 회전축 ( 2 b ) 상 에 결합 되 고 , 상기 회전축 ( 2 b ) 의 회전 에 의해 회전 되 면서 상기 판부 재 ( 2 a ) 의 면상 에 부착 된 미생물 을 탈리 시키 는 탈리 부재 ( 2 c ) 를 포함 하 며 , 상기 조정조 ( 1 ) 의 다음 단계 에 위치 하 는 반응 조 ( 2 ) 와 ; 상기 반응 조 ( 2 ) 의 다음 단계 에 위치 되 며 , 상기 반응 조 ( 2 ) 를 거친 , 처리 수 가 배출 되 는 배출구 ( 31 ) 가 형성 된 침 전조 ( 3 ) ; 를 포함 하 는 것 이 다 .