상기 범위 를 넘 어 , 점착제 의 저장 탄성 률 이 커져 , 상기 세정 시험 W 1 및 W 2 에 의한 세정 횟수 가 많 아 지 면 , 점착제 층 ( 20 ) 이 상대 적 으로 변형 하 기 어렵 고 , 또한 , 점착제 층 ( 20 ) 과 전 면판 ( 10 ) 및 원편광 판 ( 30 ) 의 사이 의 밀착력 이 상대 적 으로 커지 는 경향 이 있 다 . 그 결과 , 광학 적층 체 ( 1 ) 의 상온 환경 하나 습열 환경 하 에서 의 굴곡 내구 성 이 저하 하 기 쉬워진다 . 한편 , 상기 범위 를 넘 어 , 점착제 의 저장 탄성 률 이 작아져 , 상기 세정 시험 W 1 및 W 2 에 의한 세정 횟수 가 줄어들 면 , 점착제 층 ( 20 ) 이 상대 적 으로 변형 하 기 쉽 고 , 또한 , 점착제 층 ( 20 ) 과 전 면판 ( 10 ) 및 원편광 판 ( 30 ) 의 사이 의 밀착력 이 상대 적 으로 작아지 는 경향 이 있 다 . 그 결과 , 광학 적층 체 ( 1 ) 의 상온 환경 하 에서 나 습열 환경 하 에서 의 굴곡 내구 성 이 저하 하 기 쉬워진다 .