기상 증착 장치 ( 100 ) 를 이용 하 여 실리콘 산화 막 ( SiO 2 ) 과 같 은 박막 을 화학 기상 증착 방법 으로 형성 할 수 있 다 . 이 때 제 1 주 입부 ( 141 ) 는 실란 가스 를 주입 하 고 , 제 2 주 입부 ( 142 ) 는 산소 를 공급 한다 . 또한 제 2 주 입부 ( 142 ) 를 통하 여 아르곤 과 같 은 불활성 기체 를 주입 한다 . 물론 산소 를 주입 시 제 2 주 입부 ( 142 ) 를 이용 하 지 않 고 제 1 주 입부 ( 141 ) 중 실란 가스 를 주입 하 지 않 는 제 1 주 입부 ( 141 ) 를 이용 하 여 주입 하 는 것 도 물론 가능 하 다 .