이어서 , 평탄 화 절연 층 ( 57 ) 위 에 막 두께 200 nm 의 티탄 층 을 스퍼터링 법 에 의해 형성 했 다 . 또한 , 상기 티탄 층 을 포토 리소그래피 법 을 이용 하 여 선택 적 으로 에칭 함 으로써 게이트 층 ( 52 ) 에 접속 하 는 도전 층 ( 도시 하 지 않 음 ) , 소스 층 ( 55 a ) 에 접속 하 는 도전 층 ( 58 a ) 및 드레 인 층 ( 55 b ) 에 접속 하 는 도전 층 ( 58 b ) 을 형성 했 다 ( 도 2 ( H ) 참조 ) .