여기 서 , 상기 테스트 유닛 ( 5 ) 의 상측 ( 5 a ) 근방 및 제 1 챔버 ( 4 ) 의 일단 ( 4 d ) 은 대략 일치 하 는 위치 이 고 , 상기 테스트 유닛 ( 5 ) 의 하측 ( 5 b ) 근방 및 제 2 챔버 ( 6 ) 의 일단 ( 6 d ) 은 대략 일치 하 는 위치 로서 , 상기 제 1 대기 위치 ( A ) 및 제 2 대기 위치 ( B ) 는 각각 상기 제 1 챔버 ( 4 ) 및 제 2 챔버 ( 6 ) 내부 에 형성 되 며 , 이 는 본 발명 이 속하 는 기술 분야 의 당업자 가 첨부 된 도 5 로부터 용이 하 게 도출 할 수 있 는 사항 이 다 .