제 1 냉각 라인 은 지지 플레이트 ( 220 ) 의 상부 에 놓여진 웨이퍼 ( W ) 의 배면 에 냉각 가스 를 공급 하 며 , 웨이퍼 ( W ) 는 냉각 가스 에 의하 여 기 설정 된 온도 로 냉각 된다 . 공정 중 에 는 고온 의 열 이 발생 하 며 , 특히 , 고밀도 플라스마 화학 기상 증착 공정 중 의 스퍼터링 에 의한 에칭 공정 에서 고온 의 열 이 발생 한다 . 이 로 인하 여 웨이퍼 ( W ) 의 온도 가 상승 할 수 있 으며 , 제 1 냉각 라인 은 냉각 가스 를 이용 하 여 웨이퍼 ( W ) 를 냉각 시킨다 .