본 발명 은 다중 간섭 현상 을 이용 한 미세 패턴 의 형성 장치 및 방법 에 관한 것 이 다 . 본 발명 의 장치 는 레이저 소스 ; 상기 레이저 소스 로부터 의 출사 광 을 콜리 메이팅 된 상태 의 평행 광 으로 입사 하 여 반사 시키 는 회절격자 ; 및 상기 회절격자 로부터 의 반사광 을 상기 기판 쪽 으로 투과 하 고 나머지 의 광 은 상기 회절격자 쪽 으로 반사 시키 는 미러 를 포함 하 며 , 상기 회절격자 와 미러 에서 반사 및 투과 를 반복 하 는 광 은 매번 투과율 ( T ) 만큼 의 광이 상기 미러 를 투과 하 여 상기 포토 레지스터 에 조사 되 며 이 광 들 이 다중 간섭 현상 을 일으키 며 , 이때 다중 간섭 신호 의 주기 를 변경 하 여 상기 기판 상 에 노광 된 노광 부위 의 위치 를 변경 시킴 으로써 변경 된 주기 의 갯 수 만큼 의 패턴 형성 이 가능 한 것 을 특징 으로 한다 . 따라서 , 본 발명 은 다중 간섭 현상 을 이용 하 여 다양 한 모양 의 패턴 의 형성 이 가능 하 며 2 회 이상 의 패턴 형성 시 에 얼라인 이 가능 한 효과 를 제공 한다 .