도 5 를 참조 하 면 , 제 1 영역 ( A ) 의 반도체 층 ( 304 ) 이 노출 된 상태 에서 반도체 층 ( 304 ) 표면 에 형성 된 자연 산화 막 ( native oxide ) 을 포함 하 는 이 물질 을 제거 하 는 1 차 세정 을 수행 한다 . 1 차 세정 은 불 산 ( HF ) 용액 또는 BOE ( Bufferd oxide etchant ) 용액 을 이용 하 여 진행 할 수 있 다 .