수많 은 제조 공정 에서 는 , 산 , 용제 , 염기 , 포토레지스트 , 도 펀트 , 무기 , 유기 및 생물학 적 용액 과 , 의약품 과 , 방사선 화학 약품 과 같 은 초고 순도 의 액체 를 사용 할 필요 가 있 다 . 그러 한 산업 에서 는 , 초 고순 도 액체 에서 의 입자 크기 및 개수 가 순도 를 보장 하 도록 제어 되 는 것 이 필요 하 다 . 특히 초 고순 도 액체 는 마이크 로 전자 공학 적 제조 공정 단계 의 여러 국면 에서 사용 되 기 때문 에 , 반도체 제조자 는 공정 화학 약품 과 화학 적 취급 장비 에 관하 여 엄격 한 입자 농도 규격 을 정하 고 있 다 . 제조 공정 동안 사용 된 액체 가 높 은 레벨 의 입자 또는 기포 를 함유 하 고 있 는 경우 에 이 들 입자 또는 기포 가 실리콘 의 고체 표면 에 퇴적 될 수 있 기 때문 에 이러 한 규격 이 요구 된다 . 이러 한 것 으로 인해서 , 제품 의 고장 ( failure ) 과 , 품질 및 신뢰 성 저하 를 초래 할 수 있 다 .