일 실시 형태 에서 , 도 2 에 나타낸 바 와 같이 , 샤워 헤드 전극 ( 101 ) 의 가스 공급 포트 들 ( 121 ) 은 상부 플라 즈 마 생 성 볼륨 ( 103 ) 과 대향 하 는 ( facing ) 복수 의 동심 형 방사 구역 ( 101 A , 101 B , 101 C ) 에 배치 된다 . 각각 의 동심 형 방사 구역 ( 101 A , 101 B , 101 C ) 내 의 가스 공급 포트 들 ( 121 ) 은 각각 의 가스 플로우 제어 디바이스 ( 201 A , 201 B , 201 C ) 에 부설 되 어 ( plumbing ) , 각각 의 동심 형 방사 구역 ( 101 A , 101 B , 101 C ) 으로 의 플 라즈 마 프로세스 가스 의 공급 이 독립 적 으로 제어 가능 하 게 된다 . 샤워 헤드 전극 ( 101 ) 의 복수 의 동심 형 가스 공급 구역 들 ( 101 A , 101 B , 101 C ) 에 대한 플 라즈 마 프로세스 가스 공급 의 독립 적 제어 가 중심 에서 에 지부 까지 의 증가 된 플 라즈 마 균일성 제어 를 제공 함 을 알 아야 한다 . 도 2 의 예시 적 실시 형태 는 3 개 의 동심 형 가스 공급 구역 들 ( 101 A , 101 B , 101 C ) 을 나타내 고 있 지만 , 샤워 헤드 전극 ( 101 ) 가 다소 의 독립 적 으로 제어 가능 한 가스 공급 구역 들 을 포함 하 도록 정의 될 수 있 음 을 알 아야 한다 . 예 를 들 어 , 다른 실시 형태 에서 , 샤워 헤드 전극 ( 101 ) 은 두 개 의 독립 적 으로 제어 가능 한 동심 형 가스 공급 구역 들 을 포함 하 도록 정의 된다 .