상기 와 같 은 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 에 의한 평판 디스플레이 패널 의 모서리 를 연마 하 는 장치 는 상기 패널 의 모서리 를 연마 하 는 연마지 석 ; 상기 패널 의 실시간 연 마량 과 , 최초 연 마량 을 대비 하 여 상기 연마 지석 의 마모 량 을 측정 하 는 검사 수단 ; 및 상기 검사 수단 에 의해 측정 된 상기 연마 지석 의 마모 량 에 따라 상기 연마 지석 의 위치 를 조정 하 는 보정 수단 ; 을 포함 하 여 이루어진다 .