따라서 , 이러 한 유기 금속 전구체 원료 가 내포 하 고 있 는 화학 적 인 문제 를 기계 적 으로 해결 하 려는 노력 이 반도체 관련 장비 업체 들 사이 에서 다양 하 게 시도 되 어 왔 다 . 반도체 생산 공정 의 CVD 또는 ALD 에 사용 되 는 장치 는 보통 박막 증착 챔버 , 상기 박막 증착 챔버 의 내부 조건 을 조절 하 는 콘트롤 러 , 그리고 상기 박막 증착 챔버 에 공급 되 는 각종 원료 물질 을 저장 하 고 공급 하 는 수단 ( 저장 수단 의 예 : 캐니 스터 ( canister ) , 공급 수단 의 예 : 기화기 ( vaporizer ) , 샤워 헤드 ( shower head ) , 분사기 ( atomizer ) 등 ) 으로 이루어지 는데 , 상술 한 기계 적 인 접근 은 주로 각종 원료 물질 의 미세 분사 를 재현 성 있 게 실시 하 는 공급 수단 의 개발 에 집중 되 어 있 었 다 ( 미국 특허 제 6 , 706 , 647 호 , 제 5 , 835 , 670 호 , 제 6 , 572 , 707 호 , 제 6 , 805 , 907 호 및 제 7 , 036 , 801 호 참조 ) .