도 6 에 도시 된 바 와 같 은 다른 실시 예 에서 는 , 비결정 임 플랜트 ( amorphization implant ) 를 수행 하 고 나 서 , 카본 임 플랜트 ( 48 ) 를 수행 함 으로써 , 비결정 Si : C 영역 들 ( 50 , 52 , 54 ) 이 형성 될 수 있 다 . 카본 임 플랜트 ( 48 ) 는 , 5 e 14 atoms / cm 2 내지 1 e 16 atoms / cm 2 의 투여 레벨 ( dosage level ) 에서 3 keV 내지 5 keV 의 에너지 레벨 로 수행 될 수 있 다 .