도 13 은 , 막 형성 장치 ( 300 ) 에 제공 되 는 드롭 레시피 ( 1206 ) 를 생성 하 는 정보 처리 장치 ( 1200 ) 의 배치 예 를 도시 한다 . 정보 처리 장치 ( 1200 ) 는 , 예 를 들 어 프로그램 이 내장 된 범용 또는 전용 의 컴퓨터 , 또는 이 들 의 전부 또는 일부 의 조합 에 의해 형성 될 수 있 다 . 프로그램 또는 프로그램 을 저장 한 메모리 매체 도 발명 의 실시 형태 로서 이해 될 수 있 다 . 정보 처리 장치 ( 1200 ) 는 막 형성 장치 ( 300 ) 에 내장 될 수 있 다 . 디 스펜서 ( 309 ) 는 조성물 을 토출 하 는 복수 의 토출 노즐 을 포함 할 수 있 다 . 여기 에서 는 , 복수 의 토출 노즐 은 , 예 를 들 어 Y 방향 에서 미리 결정 된 배열 피치 로 배치 될 수 있 다 . 기판 구동 기구 ( 308 ) 에 의해 프로세스 웨이퍼 ( 4 ) 가 Y 방향 으로 주사 되 면서 디 스펜서 ( 309 ) 로부터 조성물 이 토출 될 수 있 고 , 이 에 의해 프로세스 웨이퍼 ( 4 ) 상 에 조성물 이 배치 될 수 있 다 . 조성물 의 배치 분해능 ( 메 쉬 ) 은 , 토출 노즐 의 배 열 피치 , 기판 보유 지지 부 ( 304 ) 의 주사 속도 , 및 토출 노즐 로부터 의 조성물 의 토출 주파수 에 의해 결정 될 수 있 다 . 디 스펜서 ( 309 ) 의 1 개 의 토출 노즐 로부터 의 조성물 의 토출 량 은 , 예 를 들 어 1 pL 내지 3 pL 일 수 있 다 . 프로세스 웨이퍼 ( W ) 상 에 적하 되 는 조성물 의 밀도 는 , 메 쉬 상 에서 의 토출 지령 포인트 의 단위 면적 당 의 개수 및 주사 횟수 에 의해 결정 될 수 있 다 . 드롭 레시피 는 , 예 를 들 어 토출 지령 포인트 의 리스트 , 주사 방향 , 및 주사 횟수 에 관한 정보 를 포함 할 수 있 다 .