본 발명 은 반도체 소자 제조 를 위한 포토 공정 시 오버레이 정렬 도 향상 을 위한 오버레이 키 형성 방법 에 있 어서 , X , Y 축 의 오버레이 키 가 균일 하 지 않 게 손상 되 는 경우 에 도 정확 한 오버레이 정렬 도 를 구현 할 수 있 도록 오버레이 키 를 X , Y 축 뿐 만 아니 라 , 여러 각도 에서 오버레이 정렬 을 위한 킷값 을 검출 할 수 있 도록 다각형 의 바 타입 으로 오버레이 키 를 디자인 함 으로써 , X , Y 축 의 두 개 의 오버레이 키 중 하나 가 손상 되 더라도 방향 을 회전 하 여 다른 각도 에서 X , Y 축 의 오버레이 키 검출 이 가능 하 여 정확 하 게 오버레이 정렬 을 수행 할 수 있 게 된다 .