각 처리 층 ( A 1 ~ A 3 ) 은 , 제 3 기판 반송 기구 ( MHU 3 ) , 복수 의 도포 유닛 ( SC ) , 복수 의 열처리 부 ( 37 ) , 및 반송 스페이스 ( 39 ) 를 구비 하 고 있 다 . 각 처리 층 ( B 1 ~ B 3 ) 은 , 제 4 기판 반송 기구 ( MHU 4 ) , 복수 의 현상 유닛 ( DEV ) , 복수 의 열처리 부 ( 37 ) , 및 반송 스페이스 ( 39 ) 를 구비 하 고 있 다 . 반송 스페이스 ( 39 ) 는 , X 방향 으로 직선 형상 으로 연장 되 도록 구성 되 어 있 다 . 즉 , 반송 스페이스 ( 39 ) 는 , X 방향 으로 긴 공간 이 다 . 각 기판 반송 기구 ( MHU 3 , MHU 4 ) 는 , 반송 스페이스 ( 39 ) 내 에 설치 되 어 있 다 . 도포 유닛 ( SC ) ( 또는 현상 유닛 ( DEV ) ) 과 열처리 부 ( 37 ) 는 , 반송 스페이스 ( 39 ) 를 사이 에 끼 도록 배치 되 어 있 음 과 더불 어 , 반송 스페이스 ( 39 ) 의 길 이 방향 을 따라서 배치 되 어 있 다 .