표시 장치 제조 용 포토 마스크 는 , 투 광부 ( 10 ) , 차 광부 ( 20 ) 및 반투 광부 ( 30 ) 를 포함 하 는 전 사용 패턴 을 갖 는다 . 투 광부 ( 10 ) 는 , 투명 기판 이 노출 되 어 이루어진다 . 차 광부 ( 20 ) 는 , 투명 기판 상 에 적어도 차광막 이 형성 된 완전 차 광부 ( 21 ) 와 , 완전 차 광부 ( 21 ) 의 외연 에 접하 여 형성 되 고 , 투명 기판 상 에 반 투광 성 의 림 형성 막 이 형성 되 어 이루어지 는 폭 γ 의 림 부 ( 22 ) 를 갖 는다 . 반투 광부 ( 30 ) 는 , 차 광부 ( 20 ) 사이 에 끼워 지 고 , 투명 기판 이 소정 폭 α 로 노출 되 어 이루어진다 . 폭 α 는 , 반투 광부 ( 30 ) 의 노 광광 투과 율 이 , 투 광부 ( 10 ) 의 노 광광 투과율 보다 작아지 도록 설정 된다 . 림 형성 막 은 , 노 광광 의 대표 파장 의 광 에 대한 투과율 Tr 이 5 내지 60 ％, 또한 대표 파장 의 광 에 대한 위상 시프트 양 이 90 도 이하 이 다 .