일부 구 현예 들 에서 , 제어기 는 상술 한 예 들 의 일부 일 수 도 있 는 시스템 의 일부 일 수 있 다 . 이러 한 시스템 들 은 , 프로세싱 툴 또는 툴 들 , 챔버 또는 챔버 들 , 프로세싱 용 플랫 폼 또는 플랫 폼 들 , 및 / 또는 특정 프로세싱 컴포넌트 들 ( 기판 페데 스탈 , 가스 플로우 시스템 , 등 ) 을 포함 하 는 , 반도체 프로세싱 장비 를 포함 할 수 있 다 . 이 들 시스템 들 은 반도체 기판 또는 기판 의 프로세싱 이전 에 , " 프로세싱 동안 에 그리고 프로세싱 이후 에 그 들 의 동작 을 제어 하 기 위한 전자 장치 에 통합 될 수 도 있 다 . 전자 장치 들 은 시스템 또는 시스템 들 의 다양 한 컴포넌트 들 또는 하위 부분 들 을 제어 할 수 도 있 는 "" 제어기 "" 로서 지칭 될 수 도 있 다 . 제어기 는 ", 시스템 의 프로세싱 요건 들 및 / 또는 타입 에 따라서 , 프로세싱 가스 들 의 전달 , 온도 설정 사항 들 ( 예 를 들 어 , 가열 및 / 또는 냉각 ) , 압력 설정 사항 들 , 진공 설정 사항 들 , 전력 설정 사항 들 , 무선 주파수 ( RF ) 생성기 설정 사항 들 , RF 매칭 회로 설정 사항 들 , 주파수 설정 사항 들 , 플로우 레이트 설정 사항 들 , 유체 전달 설정 사항 들 , 위치 및 동작 설정 사항 들 , 툴 들 및 다른 이송 툴 들 및 / 또는 특정 시스템 과 연결 되 거나 인터 페이 싱 된 로드 록 들 내외 로 의 기판 이송 들 을 포함 하 는 , 본 명세서 에 개시 된 프로세스 들 중 임의 의 프로세스 들 을 제어 하 도록 프로그램 될 수 도 있 다 .