본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에서 는 , 통상 적 인 스캐닝 · 스텝 퍼 와 동일 하 게 , 레티 클 얼라이먼트 계 ( 13 A , 13 B ) , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 상 의 기준 마크 판 및 얼라이먼트 계 ( ALG ) 등 을 사용 하 여 , 레티 클 얼라이먼트 ( 레티 클 좌표계 와 웨이퍼 좌표계 의 대응 시킴 을 포함 한다 ) 및 얼라이먼트 계 ( ALG ) 의 베이스 라인 계측 등 의 일련 의 작업 이 실시 된다 . 이 들 일련 의 작업 중 레티 클 스테이지 ( RST ) 및 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 위치 제어 는 , 레티 클 간섭계 ( 16 ) 및 간섭계 시스템 ( 18 ) 의 계측 값 에 기초 하 여 실시 된다 .