한편 , 상기 화학 적 식각 시 예컨대 , 기판 ( 100 ) , 금속 입자 ( 125 ) 및 버퍼 층 ( 200 ) 의 종류 에 따라 화학 적 식각 에 사용 되 는 용액 의 종류 가 달라질 수 있 으며 , 화학 성분 의 농도 , 양 , 혼합 비율 , 온도 및 식각 시간 중 적어도 어느 하나 의 조건 을 조절 하 여 무 반사 나노 구조 ( 140 ) 의 높이 , 경사 도 및 표 형 상태 를 조절 할 수 있 다 .