본 발명 의 다른 양태 는 , 진공 펌프 를 이용 하 여 소정 의 진공 압 을 갖 도록 반응 챔버 내부 의 공기 를 펌핑 하 는 단계 ; 상기 반응 챔버 의 진공 압 을 유지 시키 면서 상기 반응 챔버 내부 에 질소 가스 를 공급 하 는 단계 ; 상기 질소 가스 가 공급 되 는 상기 반응 챔버 의 상단 에 형성 된 제 1 플 라즈 마 전극 에 고주파 파워 를 인가 하 여 상기 질소 가스 의 플 라즈 마 반응 을 유도 하 는 단계 ; 상기 질소 가스 의 플 라즈 마 반응 이 유도 된 상기 반응 챔버 내 에 소정 유량 의 이소프렌 가스 를 공급 하 는 단계 ; 및 상기 이소프렌 가스 가 공급 되 는 상기 반응 챔버 의 상단 에 형성 된 제 1 플 라즈 마 전극 과 인접 하 는 제 2 플 라즈 마 전극 에 상기 고주파 파워 에 비해 상대 적 으로 저주파 영역 의 저주파 파워 를 인가 하 여 상기 반응 챔버 하단 의 히터 블록 상 에 지지 되 는 웨이퍼 상 에 비정질 탄소막 을 형성 하 는 단계 를 포함 하 는 플 라즈 마 화학 기상 증착 방법 이 다 .