[ 0077 ] 프로세싱 동안 , 프로세싱 될 기판 이 포드 ( 미 도시 ) 에서 프로세싱 시스템 ( 700 ) 에 도달 할 수 있 다 . 기판 은 팩토리 인터페이스 로봇 ( 미 도시 ) 에 의해 포드 로부터 진공 양립 가능 로드 - 락 ( 706 A , 706 B ) 으로 이송 된다 . 이어서 , 기판 은 , 일반 적 으로 진공 상태 로 유지 되 는 이송 챔버 ( 702 ) 내 의 이송 로봇 ( 704 ) 에 의해 핸들링 된다 . 이어서 , 이송 로봇 ( 704 ) 은 , 블록 ( 102 ) 에서 설명 된 바 와 같 은 기판 의 세정 을 위해 , 프로세싱 챔버 ( 708 ) 또는 프로세싱 챔버 ( 710 ) 중 어느 하나 내로 기판 을 로딩 한다 . 세정 의 완료 시 에 , 이어서 , 이송 로봇 ( 704 ) 은 프로세싱 챔버 ( 708 또는 710 ) 로부터 기판 을 픽업 하 고 , 그리고 블록 들 ( 104 및 106 ) 에서 설명 된 바 와 같 은 기판 상 의 재료 의 에피 택 셜 성장 및 챔버 퍼징 을 위해 , 프로세싱 챔버 ( 712 ) 내 로 기판 을 로딩 한다 . 이어서 , 이송 로봇 ( 704 ) 은 프로세싱 챔버 ( 712 ) 로부터 기판 을 픽업 하 고 , 그리고 블록 ( 108 ) 에서 설명 된 바 와 같 은 기판 으로부터 의 재료 들 의 에칭 을 위해 , 프로세싱 챔버 ( 714 ) 내 로 기판 을 로딩 한다 . 이러 한 시퀀스 는 에피 택 셜 막 의 미리 결정 된 두께 가 도달 될 때 까지 반복 된다 . 그 후 에 , 이송 로봇 ( 704 ) 은 프로세싱 챔버 ( 714 ) 로부터 기판 을 픽업 하 고 , 그리고 블록 ( 110 ) 에서 위 에서 논의 된 바 와 같이 , 임의 의 하류 프로세싱 , 이를테면 , 열 어닐링 , 열 세정 , 열 화학 기상 증착 , 열 산화 , 또는 열 질화 를 위해 , 프로세싱 챔버 ( 716 ) 내 로 기판 을 로딩 한다 . 동일 한 프로세싱 시스템 내 에서 모든 동작 들 ( 블록 들 ( 102 , 104 , 106 , 108 , 및 110 ) ) 이 수행 되 기 때문 에 , 기판 이 다양 한 프로세싱 챔버 들 로 이송 될 때 , 기판 이 대기 에 노출 되 지 않 으며 ( 즉 , 진공 이 파괴 되 지 않 음 ) , 이 는 오염 가능 성 을 감소 시키 고 , 증착 되 는 에피 택 셜 막 의 품질 을 개선 한다 .