도 28 에 , 본 실시 예 에서 의 레벤 손 형 마스크 의 개략 평면도 를 도시 한다 . 본 실시 예 에서 의 레벤 손 형 마스크 는 , 차광막 ( 4 ) 에 , 레지스 트 패턴 ( 11 ) 의 제 1 패턴 부 ( 11 a ) 를 형성 하 기 위한 동 위상 개구부 ( 4 a ) 및 반전 위상 개구부 ( 4 b ) 가 형성 되 어 있 다 . 또한 , 레지스 트 패턴 ( 12 ) 을 형성 하 기 위한 동 위상 개구부 ( 4 c ) 와 반전 위상 개구부 ( 4 d ) 가 형성 되 어 있 다 .