상기 종래 기술 의 스펙트럼 ( 301 ) 에서 순수 한 Ti 막 의 형성 을 나타내 는 피크 가 관찰 되 지 않 음 은 , 상기 Ti 막 의 형성 공정 시 에 상기 Ti 막 이 질소 함 유물 에 의해 오염 됨 에 따른 것 으로 볼 수 있 다 . 상기 종래 의 ALD 기술 에서 의 상기 질소 함 유물 에 의한 오염 은 , 상기 Ti 막 형성 반응 자체 만 으로 는 상기 질소 함 유물 을 전혀 사용 하 지 않 는다는 점 에서 일견 납득 되 지 않 을 수 있 다 . 하지만 , 상기 종래 의 ALD 기술 을 따를 경우 상기 질소 함 유물 에 의한 오염 의 발생 은 일관 적 으로 관찰 될 수 있 다 .