본 실시 예 에서 는 , 레지스 트 패턴 ( 10 ) 중 , 제 1 패턴 부 ( 10 a ) 를 레벤 손 형 마스크 에 의해 노광 을 행하 고 , 제 2 패턴 부 ( 10 b ) 를 하프톤 형 마스크 에 의해 노광 을 행하 는 다중 노광 법 을 채용 하 고 있 다 . 다중 노광 법 에서 는 , 처음 에 노광 을 행한 부분 의 잠상 은 , 나중 에 노광 을 행하 였을 때 의 광 의 바램 에 의해 영향 을 받 는 경우 가 있 다 .