또한 , 통상 가스 공급원 ( 18 ) 도 처리 용기 ( 11 ) 의 바깥 의 대기 분위기 중 에 마련 되 기 때문 에 , 스 페이서 ( 17 ) 및 상부 전극 베이스 ( 16 ) 에 의해 둘러싸여 지 는 상부 공간 ( 17 a ) 이 대기 분위기 가 되 도록 구성 될 경우 가 있 다 . 이 경우 에 있 어서 도 , 처리 공간 ( S ) 이 그 진공도 가 유지 되 도록 상부 공간 ( 17 a ) 으로부터 구획 되 기 때문 에 , 스 페이서 ( 17 ) 는 스 페이서 ( 14 ) 와 마찬가지 로 일체 성형 일 필요 가 있 고 , 해당 스 페이서 ( 17 ) 는 처리 용기 ( 11 ) 의 천 장면 과 상부 전극 베이스 ( 16 ) 의 사이 에 O 링 ( 10 , 10 ) 을 거쳐서 끼워 지 도록 구성 되 어 있 었 지만 , 장치 의 대형 화 에 따라 대형 의 것 이 필요 하 게 되 는 결과 로서 , 그 제조 가 곤란 해진다는 문제 가 생겼 다 .