일부 구 현예 에서 , 본원 에 기재 된 탄소 나노 입자 및 응 집체 는 마이크로파 플라스마 반응기 를 사용 하 여 생성 되 고 챔버 용적 은 100 cm 3 내지 100 , 000 cm 3 , 또는 1000 cm 3 내지 100 , 000 cm 3 , 또는 100 cm 3 내지 10 , 000 cm 3 , 또는 1000 cm 3 내지 10 , 000 cm 3 , 또는 1000 cm 3 내지 5 , 000 cm 3 이 다 . 다중 챔버 는 또한 단일 반응기 에서 병행 하 여 사용 될 수 있 고 , 다중 반응기 는 동일 한 반응기 시스템 에서 병행 하 여 사용 될 수 있 다 .