상기 다결정 실리콘 층 을 형성 하 는 방법 은 첫 번 째 , 다 결정 실리콘 막 을 직접 증착 하 는 방법 ( as - deposition ) 있 는데 , 상기 방법 은 580 ℃ 이상 의 온도 와 0 . 1 내지 0 . 2 torr 의 압력 하 에서 유리 기판 위 에 직접 증착 하 는 방법 을 나타낸다 . 그러나 이 와 같 은 방법 에서 일반 적 인 유리 기판 이 이러 한 고온 에서 오랜 시간 동안 견딜 수 없 으므로 대형 유리 패널 에 적용 하 는 것 은 불리 하 다 . 실란 ( SiH 4 ) 가스 를 사용 하 여 530 ℃ 에서 성공 한 예 도 있 으나 , 아직 실용 화 되 기 엔 문제점 이 많 은 것 으로 알려져 있 다 .