세정 챔버 ( 660 ) 는 노광 공정 이후 에 기판 ( W ) 을 세정 한다 . 세정 챔버 ( 660 ) 는 하우징 ( 661 ) , 지지 플레이트 ( 662 ) , 그리고 노즐 ( 663 ) 을 가진다 . 하우징 ( 661 ) 는 상부 가 개방 된 컵 형상 을 가진다 . 지지 플레이트 ( 662 ) 는 하우징 ( 661 ) 내 에 위치 되 며 , 기판 ( W ) 을 지지 한다 . 지지 플레이트 ( 662 ) 는 회전 가능 하 게 제공 된다 . 노즐 ( 663 ) 은 지지 플레이트 ( 662 ) 에 놓인 기판 ( W ) 상 으로 세정액 을 공급 한다 . 세정액 으로 는 탈 이온 수 와 같 은 물 이 사용 될 수 있 다 . 세정 챔버 ( 660 ) 는 지지 플레이트 ( 662 ) 에 놓인 기판 ( W ) 을 회전 시키 면서 기판 ( W ) 의 중심 영역 으로 세정액 을 공급 한다 . 선택 적 으로 기판 ( W ) 이 회전 되 는 동안 노즐 ( 663 ) 은 기판 ( W ) 의 중심 영역 에서 가장 자리 영역 까지 직선 이동 또는 회전 이동 할 수 있 다 .