도 2 b 에 도시 된 실시 예 에 있 어서 , 투석 액 저 장소 ( 57 ) 에 포함 된 투석 유체 를 재생 하 기 위한 별도 의 투석 액 재생 회로 ( 65 ) 가 제공 된다 . 투석 액 재생 회로 ( 제 3 회로 ) ( 65 ) 는 혈액 정화 회로 로부터 분리 된다 . 혈액 정화 회로 는 혈액 회로 ( 제 1 회로 ) ( 53 ) 및 투석 액 회로 ( 제 2 회로 ) 를 포함 한다 . 투석 액 재생 회로 ( 65 ) 를 투석 액 회로 로부터 분리 함 으로써 , 유동 , 온도 및 pH 같 은 장치 파라미터 들 은 2 개 의 서로 다른 공정 들 의 요건 에 맞 게 독립 적 으로 조정 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 혈액 정화 공정 동안 투석 액 의 유동 은 150 내지 2 , 000 ml / min 사이 인 반면 , 재생 공정 동안 은 250 내지 5 , 000 ml / min 사이 , 더 바람직 하 게 는 1 , 000 내지 2 , 000 ml / min 사이 일 수 있 다 . 투석 액 재생 유닛 에서 , 투석 유체 는 비 - 생리학 적 pH 와 온도 값 을 가지 므로 환자 의 혈액 에 상당 한 손상 을 입힐 수 있 기 때문 에 , 2 개 의 회로 들 을 투석 액 저 장소 ( 57 ) 에 의해 분리 하 는 것 이 유용 할 수 있 다 . 투석 액 저 장소 ( 57 ) 에 포함 된 투석 유체 는 연속 적 인 작동 또는 간헐 적 인 작동 으로 깨끗 해질 수 있 다 .