이러 한 본 발명 은 상기 와 같 은 오존 처 리부 ; 자 화처 리부 ; 정밀 ( MF ) 여 과부 ; 광촉매 처 리부 ; 한외 ( UF ) 여 과부 ; 를 포함 하 는 다단계 처리 장치 를 하나 의 단일 장치 내 에 구현 하 기 위한 것 으로 , 여기 에 는 상기 한외 ( UF ) 여 과부 를 투과 하 지 못한 슬러리 가 수집 되 는 슬러리 처 리부 를 더 포함 하 는 형태 도 가능 하 다 .