본 발명 에서 상기 표면 처리 는 스퍼터링 을 통해 진행 할 수 있 으며 , 더욱 상세 하 게 는 플 라즈 마 스퍼터링 을 통해 진행 할 수 있 다 . 이때 상기 플 라즈 마 스퍼터링 은 진공 중 에서 RF 전원 을 사용 하 여 수행 될 수 있 는데 , 예 를 들 어 산소 와 아르곤 의 혼합 가스 ( 몰 비 = 2 : 1 ) 내 에서 700 V 의 바이어스 전압 으로 2 시간 동안 수행 될 수 있 다 .