지 립 과 질소 함유 수용성 고분자 와 염기 성 화합물 과 킬레이트제 와 탈 이온 수 를 혼합 하 여 연마 용 조성물 을 조제 하 였 다 . 지 립 으로서 는 실리카 입자 ( 평균 1 차 입경 50 nm ) 를 사용 하 였 다 . 질소 함유 수용성 고분자 로서 는 Mw 55 × 104 의 폴리아 크릴 로일 모르 폴린 ( 이하 「 PACMO 」 라고 표기 함 ) 을 사용 하 였 다 . 염기 성 화합물 로서 는 수산화 테트라메틸 암모늄 ( 이하 「 TMAH 」 라고 표기 함 ) 과 이미다졸 ( 이하 「 imd 」 라고 표기 함 ) 과 탄산칼륨 ( 이하 「 K 2 CO 3 」 이 라고 표기 함 ) 을 사용 하 였 다 . 킬레이트제 로서 는 에틸렌디아민 테 트라키스 ( 메틸렌 포스폰산 ) ( 이하 「 EDTPO 」 라고 표기 함 ) 을 사용 하 였 다 . 연마 용 조성물 에 있 어서 의 지 립 의 함유량 은 15 ％, PACMO 의 함유량 은 0 . 024 ％, TMAH 의 함유량 은 2 . 1 ％, imd 의 함유량 은 0 . 24 ％, K 2 CO 3 의 함유량 은 1 . 4 ％, EDTPO 의 함유량 은 0 . 08 ％ 로 하 였 다 .