도 1 에 예시 된 시간 - 온도 프로파일 은 , 이트륨 옥사이드 상부 보호 층 ( yttrium oxide overlying protective layer ) 이 있 는 순수 한 이트륨 금속 기판 을 지니 는 부품 을 위한 , 그 시점 에서 의 최상 의 공지 된 프로 파일 이 다 . 시간 온도 프로파일 은 실험 을 기초 로 한다 . 더 높 은 온도 , 예 를 들 어 , 750 ℃ 에서 , 이트륨 옥사이드 결정 성장 은 신속 하 지만 ; 결정 성장 은 평균 결정 입도 가 약 5 ㎛ 내지 약 50 ㎛ 범위 로 더 크 게 한다 . 계면 에서 의 스트레인 ( strain ) 을 감소 시키 기 위해 , 육방정 이트륨 금속 기판 과 입방정 이트륨 옥사이드 상부 보호 층 사이 의 계면 에서 는 , 입방정 이트륨 옥사이드 결정 을 위한 더 작 은 결정 입도 가 바람직 하 다 .