레지스 트 패턴 을 형성 하 기 위해서 는 포토 법 이 사용 된다 . 포토 법 에서 는 , 먼저 , 기재 에 감광성 수지 조성물 을 함유 하 는 도공 액 을 도공 하 고 , 건조 시켜 , 감광성 수지 조성물 을 함유 하 는 감광성 수지 층 을 형성 한다 . 미리 캐리어 필름 에 감광성 수지 층 을 형성 한 드라이 필름 레지스 트 ( DFR ) 를 제조 하 고 , 기재 에 감광성 수지 층 을 전사 해도 된다 . 다음 으로 , 패턴 노광 을 실시 하 여 , 노광 부를 경화 시킨다 . 이어서 , 알칼리 현상 을 실시 하 여 , 레지스 트 패턴 으로서 불 필요 한 부분 인 비노 광부 의 감광성 수지 층 을 제거 하 고 , 경화 된 감광성 수지 층 을 포함 하 는 레지스 트 패턴 을 형성 한다 .