또한 , 종래 , 에칭 액 , 세 정수 , 제 1 액 혹은 제 2 액 을 웨이퍼 에 공급 하 고 , 웨이퍼 로부터 에칭 액 , 세 정수 , 제 1 액 및 제 2 액 을 비산 시키 도록 하 여 , 웨이퍼 의 에칭 을 실시 하 고 있 다 . 이 경우 , 에칭 유닛 , 세정 유닛 및 마스크 층 제거 유닛 을 수용 하 기 위해서 , 작업자 가 내부 에서 작업 하 는 것 이 가능 한 사이즈 의 , 대형 의 클린 룸 이 사용 된다 .