이 실시 형태 에 따르 면 , 제 1 실시 형태 와 마찬가지 로 , 스테이지 ( 82 ) 에 배치 된 웨이퍼 ( W ) 를 가 열부 에 의해 가열 해서 열처리 하 는 데 있 어서 , 가 열부 의 출력 제어 를 안정 되게 행할 수 있 다 . 이 예 에서 는 , 제 1 온도 측 정부 와 제 2 온도 측 정부 는 모두 스테이지 ( 82 ) 의 내부 에 마련 되 어 있 고 , 배치 위치 가 다름 으로 인한 측정 온도 의 어긋남 은 제 1 실시 형태 에 비해서 작 다고 할 수 있 다 . 그러나 , 제 1 온도 측 정부 와 제 2 온도 측 정부 는 , 측정 정밀도 가 높 은 온도 영역 이 서로 다르 다 . 이 때문 에 , 이 들 의 전환 시 에 이행 온도 대 를 마련 해서 가중 평균 온도 를 사용 한 제어 를 행하 는 것 은 , 가 열부 의 출력 을 안정 시키 기 때문 에 유효 하 다 .