이것 에 대해서 , 본 실시 형태 에 따른 클리닝 방법 에서 는 , 표면 에 잔사 를 가지 는 시료 에 바이어스 파워 를 인가 하 지 않 고 클리닝 의 일부 를 행한 결과 , 도 8 에 나타내 는 바 와 같이 , 인듐 의 잔사 를 제거 할 수 있 었 다 . 이상 으로부터 , 본 실시 형태 에 따른 클리닝 방법 에 의하 면 , 바이어스 파워 를 인가 할 수 없 는 챔버 ( 11 ) 내벽 이 어도 유효 하 게 클리닝 할 수 있 다 .