일 실시 형태 에서 , 챔버 는 일 측상 에 샤워 헤드 및 타 측상 에 이동 가능 한 전극 을 갖 는다 . 샤워 헤드 는 접지 되 거나 바이어스 될 수 도 있 으며 , 가스 , 예 를 들 어 , CxFy , Cl 2 , Br 2 등 과 같 은 반응 가스 , 아르곤 을 챔버 로 전달 하 는 공급 부 를 갖 는다 . 챔버 는 또한 , 선형 드라이브 디스크 캐리어 용 가이드 또는 레일 을 갖 는다 . 디스크 캐리어 가 프로세싱 위치 를 가정 할 때 , 전극 은 디스크 에 근접 하 게 이동 되 지만 , 이 를 터치 하 지 않 는다 . RF 전력 , 예 를 들 어 , 13 . 56 MHz 가 디스크 에 용량 적 으로 커플링 되 는 전극 에 커플링 된다 . 그 후 , 플 라즈 마가 디스크 와 샤워 헤드 사이 의 보이드 에서 점 화 되 어서 , 디스크 의 면 으로부터 재료 를 스퍼터링 한다 . 다음 챔버 에서 , 반대 의 대면 하 는 순서 를 제외 하 고 정확 한 배치 가 제공 되 어서 , 디스크 의 반 대면 이 에칭 된다 . 냉각 챔버 가 2 개 의 챔버 사이 에 , 또는 2 개 의 챔버 이후 에 개재 될 수 도 있 다 .