상기 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 다른 실시 예 에 따른 라인 패턴 구조물 의 형성 방법 으로 , 기판 에 형성 된 식각 대상 막 상 에 고립 된 패턴 형상 의 예비 하드 마스크 패턴 을 형성 한다 . 상기 예비 하드 마스크 패턴 및 식각 대상 막 상 에 , 상기 예비 하드 마스크 패턴 의 적어도 일부분 과 겹치 면서 서로 평행 한 복수 의 희생 라인 들 및 상기 희생 라인 들 을 서로 수평 연결 하 는 연결 라인 을 포함 하 는 희생 마스크 패턴 을 형성 한다 . 상기 희생 마스크 패턴 표면 및 식각 대상 막 상 에 스 페이서 막 을 형성 한다 . 상기 스 페이서 막 및 하부 에 노출 된 예비 하드 마스크 패턴 을 이방성 식각 하 여 , 하드 마스크 패턴 및 상기 희생 마스크 패턴 들 과 의 사이 에 제 1 갭 이 생성 되 면서 상기 희생 마스크 패턴 측벽 에 제 1 스 페이서 패턴 들 을 형성 한다 . 상기 희생 마스크 패턴 을 제거 한다 . 상기 제 1 스 페이서 패턴 및 하드 마스크 패턴 을 이용 하 여 상기 식각 대상 막 을 식각 하 여 , 절단 된 라인 형상 을 포함 하 는 트렌치 들 을 형성 한다 . 또한 , 상기 트렌치 들 내부 에 갭 필 용 물질 을 채워 넣 어 , 특정 영역 에서 끊어진 라인 형상 을 갖 는 적어도 하나 의 제 1 라인 패턴 을 형성 한다 .