또한 , 도 1 에 도시 된 조명 유닛 ( 100 ) 은 또한 광원 들 ( 104 A , 104 B , 104 C 및 104 D ) 에 의해 생성 된 복사 를 광학 적 으로 처리 하 기 위한 하나 이상 의 광학 소자 또는 설비 ( 130 ) 를 포함 할 수 있 다 . 예컨대 , 하나 이상 의 광학 소자 ( 130 ) 는 상기 생성 된 복사 의 공간 분포 및 전파 방향 중 의 하나 또는 둘 다를 변경 시키 도록 구성 될 수 있 다 . 특히 , 하나 이상 의 광학 소자 는 상기 생성 된 복사 의 확산 각도 를 변경 시키 도록 구성 될 수 있 다 . 하나 이상 의 광학 소자 ( 130 ) 는 상기 생성 된 복사 의 공간 분포 및 전파 방향 중 의 하나 또는 둘 다를 ( 예컨대 소정 의 전기 및 / 또는 기계 자극 에 응답 하 여 ) 가변 적 으로 변경 시키 도록 특별히 구성 될 수 있 다 . 조명 유닛 ( 100 ) 에 포함 될 수 있 는 광학 소자 들 의 예 들 은 반사 물질 들 , 굴절 물질 들 , 반투명 물질 들 , 필터 들 , 렌즈 들 , 거울 들 및 광섬유 들 을 포함 하 지만 이 에 한정 되 지 않 는다 . 광학 소자 ( 130 ) 는 또한 인광 물질 들 , 발광 물질 들 , 또는 상기 생성 된 복사 에 응답 하 거나 상기 생성 된 복사 와 상호 작용 할 수 있 는 다른 물질 을 포함 할 수 있 다 .