본 발명 은 1 , 2 , 3 , 4 - 테트라 클로 로 헥사 플 루 오로 부탄 의 제조 방법 및 정제 방법 에 관한 것 이 다 . 더 상세 하 게 는 본 발명 은 , 반도체 용 에칭 가스 등 으로서 주목 받 고 있 는 헥사 플 루 오로 - 1 , 3 - 부타디엔 의 합성 원료 등 으로서 유용 한 1 , 2 , 3 , 4 - 테트라 클로 로 헥사 플 루 오로 부탄 을 제조 하 는 방법 및 1 , 2 , 3 , 4 - 테트라 클로 로 헥사 플 루 오로 부탄 을 정제 하 는 방법 에 관한 것 이 다 .