또한 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 따르 면 , XY 평면 에 평행 한 반사 플레이트 ( 25 A ) 의 반사면 상 에 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 이동 경로 에 대응 하 는 헤드 ( EX 1 , EX 2 , 및 EY ) 의 이동 궤적 을 따라서 X 스케일 ( SX 1 ) 및 Y 스케일 ( SY 1 ) 을 배치 하 는 것 만 으로 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 가 , 노광 시 이동 영역 ( AE ) 과 제 1 로딩 포지션 근방 의 영역 사이 의 제 1 대기 영역 ( AW 1 ) 내 의 이동 경로 를 따라 이동 할 때 의 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 의 XY 평면 내 의 위치 의 제어 가 가능 하 게 된다 . 유사 하 게 , XY 평면 에 평행 한 반사 플레이트 ( 25 B ) 의 반사면 상 에 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 이동 경로 에 대응 하 는 헤드 ( EX 1 , EX 2 , 및 EY ) 의 이동 궤적 을 따라서 X 스케일 ( SX 2 ) 및 Y 스케일 ( SY 2 ) 을 배치 하 는 것 만 으로 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 가 , 노광 시 이동 영역 ( AE ) 과 제 2 로딩 포지션 근방 의 영역 사이 의 제 2 대기 영역 ( AW 2 ) 내 의 이동 경로 를 따라 이동 할 때 의 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 의 XY 평면 내 의 위치 의 제어 가 가능 하 게 된다 . 따라서 , 노광 장치 ( 100 ) 에 따르 면 , 노광 위치 와 제 1 및 제 2 로딩 포지션 사이 의 영역 의 전체 면 ( 더 구체 적 으로 , 반사 플레이트 ( 25 A 및 25 B ) 의 전체 면 과 거의 일치 ) 에 격자 를 설치 하 는 경우 에 비해 , 비용 의 저감 이 가능 하 게 된다 .