자기 시스템 ( 12 ) 에 대해 , 타 겟 챔버 ( 60 ) 는 약 10 cm 내지 약 1 m 높이 , 및 약 10 cm 내지 약 10 m 직경 의 두꺼운 팬케이크 를 닮 을 수 있 다 . 적절 하 게 는 , 자기 시스템 ( 12 ) 에 대한 타 겟 챔버 ( 60 ) 는 약 20 cm 내지 약 50 cm 높이 , 및 거의 50 cm 직경 일 수 있 다 . 자기 타 겟 챔버 ( 60 ) 에 대해 , 타 겟 챔버 의 외경 주위 또는 진공 벽 들 의 외부 의 팬케이크 의 면 들 에 한 쌍 의 영구 자석 들 또는 전자석 들 ( 이온 한정 자석 ( 12 ) ) 이 위치 될 수 있 다 ( 도 11 및 도 12 참조 ) . 자석 들 은 적절 하 게 는 구리 와 알루미늄 또는 초전도체 , 또는 전자석 들 에 대해서 는 NbFeB 를 포함 한 재료 들 로 구성 되 고 , 이 에 제한 되 지 는 않 는다 . 자석 들 의 극 들 은 , 이 들 이 타 겟 챔버 의 벌크 부피 ( bulk volume ) 내 에 축 방향 자기장 을 생성 하 도록 방위 될 수 있 다 . 자기장 은 적절 하 게 는 1010 강철 과 같 은 고 도자 성 자기 재료 들 , 뮤 우 메탈 ( mu - metal ) , 또는 다른 재료 들 을 포함 한 자기 회로 로 제어 된다 . 자기 타 겟 챔버 의 크기 및 자기 빔 에너지 가 수학식 ( 1 ) 에 따라 필드 강도 를 결정 한다 :