나노 임프 린트 리소그래피 란 나노 패턴 을 형성 하 는 공정 으로 현재 반도체 공정 에서 사용 하 는 사진 현상 방식 의 미세화 와 한계점 을 극복 하 기 위해 미세 패턴 이 형성 된 스탬프 ( Stamp ) 또는 몰드 ( Mold ) 를 이용 하 여 레지스 트 ( resist ) 위 에 도장 을 찍 듯이 찍 은 후 열 ( Thermal ) 을 가하 는 열 경화 방식 또는 자외선 ( Ultra Violet ) 을 조사 하 는 자외선 경화 방식 을 이용 하 여 레지스 트 를 경화 시킨 후 분리 하 여 간단 하 게 나노 구조물 을 형성 하 는 기술 이 다 . 이 처럼 열 경화 방식 을 사용 하 는 나노 임프 린트 리소그래피 공정 을 써 멀 임프 린트 [ Thermal imprint ( hot embossing ) ] 라 하 고 , 자외선 경화 방식 을 사용 하 는 나노 임프 린트 리소그래피 공정 을 SFIL ( Step & Flash Imprint Lithography ) 라 한다 .