실리콘 산화 막 ( SiO 2 ) 및 실리콘 질화 막 ( SiNx ) 은 반도체 제조 공정 에서 사용 되 는 대표 적 인 절 연막 이 다 . 이 들 은 단독 으로 사용 되 거나 혹은 1 층 이상 의 실리콘 산화 막 및 1 층 이상 의 실리콘 질화 막 이 교대 로 적층 되 어 사용 되 기 도 한다 . 또한 , 금속 배선 과 같 은 도전 성 패턴 을 형성 하 기 위한 하드 마스크 ( Hard mask ) 로서 도 사용 된다 .