이 에 , 본 실시 형태 에서 는 , 변조 율 이 큰 빔 을 포함 하 는 제 1 영역 과 , 변조 율 이 작 은 빔 을 포함 하 는 제 2 영역 이 별도 가 되 도록 빔 어레이 ( 34 ) 를 복수 의 영역 ( 서브 빔 어레이 ) 으로 분할 한다 . 제 1 영역 에 대하 여 변조 율 을 내리 도록 가중치 부여 하 고 , 제 2 영역 에 대하 여 변조 율 을 올리 도록 가중치 부여 하 여 , 제 1 영역 과 제 2 영역 의 변조 율 이 동일 한 정도 가 되 도록 한다 . 그리고 , 제 1 영역 의 빔 과 제 2 영역 의 빔 으로 패턴 을 다중 묘화 한다 . 이 에 의하 여 , 다중 묘화 에 있 어서 제 1 영역 의 빔 과 제 2 영역 의 빔 이 각 그리드 에 주 는 조사량 의 합 을 유지 한 채 로 , 스트라이프 중 의 최대 조사량 을 내릴 수 있 다 . 또한 , 상기 소정 시간 ( T ) 이 단축 되 므로 , 묘화 스루풋 을 향상 시킬 수 있 다 . 특히 , 스트라이프 묘화 중 의 스테이지 속도 를 일정 하 게 하 는 묘화 제어 를 행하 는 경우 , 효과 가 크 다 .