예컨대 , 본 발명 에 따른 유기 발광 소자 는 스퍼터링 ( sputtering ) 이나 전자 빔 증발 ( e - beam evaporation ) 과 같 은 PVD ( physical vapor deposition ) 방법 을 이용 하 여 , 기판 상 에 금속 또는 전도 성 을 가지 는 금속 산화물 또는 이 들 의 합금 을 증착 시켜 양극 을 형성 하 고 , 그 위 에 정공 주입 층 , 정공 수송 층 , 발광 층 , 전자 수송 층 을 포함 하 는 유기물 층 을 형성 한 후 , 그 위 에 음극 으로 사용 할 수 있 는 물질 을 증착 시킴 으로써 제조 될 수 있 다 . 이 와 같 은 방법 외 에 도 , 기판 상 에 음극 물질 부터 유기물 층 , 양극 물질 을 차례 로 증착 시켜 유기 발광 소자 를 제조 할 수 도 있 다 .