( 해결 수단 ) 기판 처리 장치 는 , 기판 을 회전 가능 하 게 유지 하 기 위한 유지 부 와 , 유지 부를 회전 시키 기 위한 회전 구동 부 와 , 평면 에서 보 아 유지 부 를 둘러싸 며 , 또한 , 기판 에 대향 하 는 대 향판 을 구비 하 고 , 대 향판 은 , 직경 방향 의 내측 에 형성 되 며 , 또한 , 적어도 기판 과 대 향판 사이 에 가스 를 공급 하 기 위한 제 1 가스 공급 부 와 , 제 1 가스 공급 부 보다 직경 방향 의 외측 의 기판 과 대향 하 는 면 에 형성 되 며 , 또한 , 직경 방향 의 내측 보다 직경 방향 의 외측 쪽 이 기판 과 의 사이 의 거리 가 짧 은 적어도 1 개 의 변위 부를 구비 한다 .