또 , 약액 처리 에 있 어서 는 , 약액 이 기판 ( W ) 의 하 면 ( 이면 ) 으로 돌 아 들어가 는 것 을 억제 하 기 위해 , 가스 공급 공 ( 1700 B ) ( 도 3 및 도 4 를 참조 ) 으로부터 간극 영역 ( 180 ) 내 에 질소 ( N 2 ) 등 의 불활성 가스 가 , 예 를 들 어 100 L ∼ 500 L / min 로 공급 된다 . 또한 , 가스 공급 공 ( 1700 B ) ( 도 3 및 도 4 를 참조 ) 으로부터 공급 되 는 가스 는 , 스핀 베이스 ( 51 A ) 에 분사 된 후 , 일부 가 간극 영역 ( 180 ) 으로 흘러 들어가 고 ( 도 3 및 도 4 의 상 방향 ) , 다른 일부 가 이면 차 단판 ( 170 ) 의 하방 및 케이싱 ( 171 ) 내 ( 도 3 및 도 4 의 하 방향 ) 로 흘러 들어간다 .