더불 어 , 본 발명 의 여러 실시 예 들 에 따른 기판 지지대 ( 100 , 200 ) 는 , 배기 통로 ( 40 ) 의 상기 입 구부 가 터널 형태 가 되 도록 , 배기 통로 ( 40 ) 의 적어도 상기 입 구 부를 커버 하 는 커버 부 ( 50 ) 를 포함 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 배기 통로 ( 40 ) 의 상방 이 커버 되 어 , 기판 ( S ) 의 처리 공정 중 , 샤워 헤드 ( 700 ) 로부터 분사 되 는 각종 처리 가스 가 배기 통로 ( 40 ) 를 통하 여 포켓 홈 부 ( 30 ) 내부 의 여유 공간 ( V ) 으로 유입 되 는 것 을 차단 할 수 있 다 .