램프 들 ( 26 ) 은 중심 축 ( 34 ) 을 중심 으로 전체 적 으로 링 - 과 같이 배열 된 구역 들 ( zones ) 로 분할 된다 . 제 어 회로망 은 다른 구역 들 내 의 램프 들 ( 26 ) 로 전달 되 는 전압 을 변화 시키 고 , 그 에 따라 복사 에너지 의 방사상 분배 를 재단 ( tailor ) 한다 . 구역 화 된 가열 의 동적 ( dynamic ) 제어 는 , 회전 하 는 웨이퍼 ( 12 ) 의 반경 에 걸쳐 온도 를 측정 하 기 위해서 반사기 ( 28 ) 내 의 개구 들 을 통해서 웨이퍼 ( 12 ) 의 후방 면 과 대면 하 도록 위치 된 하나 또는 둘 이상 의 광학 적 도파관 들 ( 42 ) 을 통해서 커플링 된 하나 의 또는 복수 의 고온계 들 ( 40 ) 에 의해서 영향 을 받 는다 . 도파관 들 ( 42 ) 은 사파이어 , 금속 , 및 실리카 섬유 를 포함 하 는 여러 가지 구조 들 로 형성 될 수 있 을 것 이 다 . 컴퓨터 화 된 제어기 ( 44 ) 는 고온계 들 ( 40 ) 의 출력 들 을 수신 하 고 그 에 따라 램프 들 ( 26 ) 의 다른 링 들 로 공급 되 는 전압 들 을 제어 하 며 , 그 에 따라 처리 동안 에 복사 가열 세기 및 패턴 을 동적 으로 제어 한다 . 고온계 들 은 일반 적 으로 약 700 내지 1000 nm 범위 내 에서 , 예 를 들 어 , 40 nm 의 좁 은 파장 대역폭 에서 광 세기 를 측정 한다 . 제어기 ( 44 ) 또는 다른 기구 들 은 , 해당 온도 로 유지 되 는 흑체 로부터 복사 되 는 광 세기 의 스펙트럼 분배 의 주지 의 프랭크 ( Planck ) 분배 를 통해서 광 세기 를 온도 로 변환 한다 .