비록 뉴트럴 종 의 이 중심 - 대 - 에 지간 불 균일 성 은 중심 - 대 - 에 지간 프로세스 균일성 의 유일 한 원인 은 아니 지만 , 많 은 유전체 식각 애플리케이션 들 에서 그것 은 현저 한 요인 이 다 . 특히 , 뉴트럴 의존 프로세스 들 이를테면 게이트 또는 비트 라인 마스크 오픈 , 저 - k 막 상 의 포토레지스트 스트립 , 고도 선택 성 콘택트 / 셀 및 비아 식각 은 특히 이 들 효과 에 민감 할 수 도 있 다 . 유사 한 문제 들 이 , 웨이퍼 유전체 식각 에 사용 되 는 것 들 이외 에 , 다른 평 행판 플 라즈 마 반응기 들 에서 적용 될 수 도 있 다 .