상기 서술 한 노광 중 , 주제 어 장치 ( 20 ) 에 의해 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 XY 평면 내 의 위치 ( θ z 방향 의 위치 ( θ z 회전 ) 를 포함 한다 ) 는 , 2 개 의 Y 인코더 ( 70 A , 70 C ) 와 , 2 개 의 X 인코더 ( 70 B , 70 D ) 중 일방 의 합계 3 개 인코더 의 계측 결과 에 기초 하 여 제어 되 고 있 다 . 여기 서 , 2 개 의 X 인코더 ( 70 B , 70 D ) 는 , X 스케일 ( 39 X 1 , 39 X 2 ) 의 각각 에 대향 하 는 2 개 의 X 헤드 ( 66 ) 에 의해 구성 되 고 , 2 개 의 Y 인코더 ( 70 A , 70 C ) 는 , Y 스케일 ( 39 Y 1 , 39 Y 2 ) 의 각각 에 대향 하 는 Y 헤드 ( 65 , 64 ) 에 의해 구성 된다 . 또한 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 Z 위치 와 θ y 회전 ( 롤링 ) 은 , 웨이퍼 테이블 ( WTB ) 표면 의 X 축 방향 일 측 과 타 측 의 단부 에 각각 대향 하 는 , 헤드 유닛 ( 62 C , 62 A ) 에 각각 속하 는 Z 헤드 ( 74 i , 76 j ) 의 계측 값 에 기초 하 여 제어 되 고 있 다 . 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 θ x 회전 ( 피칭 ) 은 , Y 간섭계 ( 16 ) 의 계측 값 에 기초 하 여 제어 되 고 있 다 . 또한 , 웨이퍼 테이블 ( WTB ) 의 제 2 발 수판 ( 28 b ) 의 표면 에 Z 헤드 ( 74 i , 76 j ) 를 포함 하 는 3 개 이상 의 Z 헤드 가 대향 하 는 경우 에 는 , Z 헤드 ( 74 i , 76 j ) 및 그 밖 의 1 개 의 Z 헤드 의 계측 값 에 기초 하 여 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 Z 축 방향 의 위치 , θ y 회전 ( 롤링 ) 및 θ x 회전 ( 피칭 ) 을 제어 할 수 도 있 다 . 어떻게 하 더라도 , 웨이퍼 스테이지 ( WST ) 의 Z 축 방향 의 위치 , θ y 회전 및 θ x 회전 의 제어 ( 즉 웨이퍼 ( W ) 의 포커스 · 레벨 링 제어 ) 는 , 사전 에 실시 되 는 포커스 매핑 의 결과 에 기초 하 여 실시 되 고 있 다 .