기판 처리 장치 가 개시 된다 . 기판 처리 장치 는 , 내부 에 처리 공간 을 가지 는 챔버 , 처리 공간 내 에서 기판 을 지지 하 는 기판 지지 유닛 , 처리 공간 내 로 가스 를 공급 하 는 가스 공급 유닛 및 고주파 전력 을 인가 하 는 고주파 전원 을 포함 하 고 , 고주파 전력 을 이용 하 여 가스 로부터 플라 즈 마를 발생 시키 는 플 라즈 마 발생 유닛 을 포함 하 되 , 기판 지지 유닛 은 , 기판 을 지지 하 는 지 지판 및 기판 의 온도 를 제어 하 는 가열 유닛 을 포함 하 며 , 가열 유닛 은 , 가열 부재 , 가열 부재 로 전력 을 인가 하 는 히터 전원 및 가열 부재 와 고주파 전원 의 커플링 을 방지 하 는 필터 유닛 을 포함 하 고 , 필터 유닛 은 , 고주파 전원 으로부터 공급 되 는 고주파 전력 을 차단 하 는 필터 및 필터 의 성능 저하 를 방지 하 는 필터 제어 유닛 을 포함 한다 .