이상 과 같 은 구조 로 인하 여 , 본 실시 예 에 따르 면 , 주입 된 공정 가스 가 백 플레이트 ( 200 ) 의 하부 에 형성 된 가스 확산 부재 ( 300 ) 에 의해 1 차 로 확산 된 뒤 , 샤워 헤드 ( 400 ) 에 의해 2 차 로 확산 되 어 서 셉 터 ( 500 ) 상면 에 안착 된 기판 ( 800 ) 의 상면 으로 균일 하 게 분사 될 수 있 게 된다 .