일 도 전형 을 부여 하 는 불순물 이 첨가 된 반도체 막 은 , 대표 적 인 불순물 원소 로서 인 을 첨가 하 면 좋 고 , 수소 화 규소 에 포스핀 가스 등 의 불순물 기체 를 첨가 하 면 좋 다 . 일 도 전형 을 부여 하 는 불순물 이 첨가 된 반도체 막 은 2 nm 이상 50 nm 이하 의 두께 로 형성 한다 . 일 도 전형 을 부여 하 는 불순물 이 첨가 된 반도체 막 의 막 두께 를 얇 게 함 으로써 스루풋 ( throughput ) 을 향상 시킬 수 있 다 .