본 발명 의 다른 측면 에 따르 면 , 복수 의 광원 에 대한 광선 추적 방법 을 수행 하 여 , 복수 의 광원 으로부터 의 광선 에 대한 정보 데이터 인 레이 맵 을 저장 하 는 단계 ; 복수 의 광원 중 하나 또는 그 이상 의 광원 에 대한 조건 이 변경 되 면 , 조건 에 대응 하 는 정보 데이터 를 입력 받 아 레이 맵 에서 변경 된 광원 에 대응 하 는 정보 데이터 를 변경 하 는 단계 ; 및 변경 된 레이 맵 에 기초 하 여 , 배광 특성 을 산출 하 는 단계 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 하 는 조명 시스템 특성 측정 방법 이 제공 된다 . 조명 시스템 특성 측정 방법 은 배광 특성 을 산출 하 는 단계 후 에 , 산출 된 배광 특성 이 표시 되 는 단계 ; 가 더 포함 될 수 있 다 .