유리 기판 상 에 In : Zn = 84 원자 ％: 16 원자 ％ 의 조성 의 산화물 타 겟 을 이용 하 여 , 180 ℃ 에서 성막 , O 2 분압 3 × 10 - 3 Pa ( 5 × 10 - 5 Torr ) 의 조건 으로 , 막 두께 10 nm ( 실시 예 3 ) , 20 nm ( 실시 예 4 ) , 30 nm ( 실시 예 5 ) , 100 nm ( 비교 예 3 ) 의 In 2 O 3 - ZnO 막 ( IZO 막 ) 을 스퍼터 장치 로 형성 하 였 다 . 형성 한 IZ 0 막 을 ICP ( 유도 결합 플 라즈 마발 광 ) 분석 으로 원소 분석 을 실시 한 결과 , 제막 에 이용한 타 겟 과 거의 동일 한 조성 이 었 다 .