여기 서 , 용기 내 의 기판 ( 예 를 들 면 , 반도체 웨이퍼 ) 의 표면 에 공기 중 의 산소 에 의한 산화 막 이 형성 되 는 것 을 방지 하 기 위해 , 용기 내 의 공간 을 질소 나 아르곤 등 의 불활성 가스 , 또는 CDA ( Clean Dry Air ) 에 의해 충만 하 게 하 는 것 이 행해 지 고 있 다 . 그래서 , 특허 문헌 1 에 기재 된 설비 에서 는 , 고정 상태 의 용기 보관 부 에 보관 되 어 있 는 용기 에 대하 여 , 불활성 가스 를 공급 하 는 가스 공급 수단 이 설치 되 어 있 다 . 용기 에 는 , 내부 에 질소 가스 를 공급 하 기 위한 공 급구 와 용기 내부 의 산소 를 포함 하 는 공기 를 배출 하 는 배기구 가 설치 되 어 있 다 . 가스 공급 수단 은 , 보관 선반 에 보관 되 어 있 는 용기 의 공 급구 로부터 불활성 가스 를 공급 하 고 , 내부 의 공기 와 의 교환 을 행하 여 , 용기 내 를 불활성 가스 에 의해 충만 하 게 하 도록 하 고 있 다 .