근년 에 는 반도체 제조 기술 의 미세화 가 점점 진행 되 고 , 최 첨단 프로세스 에서 는 선폭 20 nm 세대 , 나아가 선폭 10 nm 세대 가 채용 되 고 있 다 . 또한 , 미세화 에 수반 하 여 가공 할 때 의 기술 난이도 도 향상 되 고 있 고 , 사용 하 는 재료 , 장치 , 가공 방법 등 , 다 방면 으로부터 의 접근 에 의해 기술 개발 이 진행 되 고 있 다 .