또한 , 성막 속도 의 저하 를 막 는 다른 방법 으로서 , 특허 문헌 3 에 는 , F 2 가스 에 H 2 가스 를 첨가 한 클리닝 가스 를 성막 실 ( 101 ) 내 에 공급 하 여 성막 실 ( 101 ) 내 를 클리닝 한 후 , F 2 가스 에 H 2 가스 를 첨가 한 평탄 화 가스 를 성막 실 ( 101 ) 내 에 공급 하 여 성막 실 ( 101 ) 의 내벽 을 평탄 화 하 는 [ 즉 , 석영 부재 에 생긴 석영 크랙 을 제거 하 는 ] 방법 이 개시 되 어 있 다 . 한편 , 특허 문헌 3 에 는 , 클리닝 가스 에 는 H 2 가스 를 첨가 하 는 것 이 필요 하 고 , 또한 , 평탄 화 가스 속 의 H 2 가스 는 적 게 하 는 것 이 바람직 하 다는 취지 가 명시 되 어 있 다 .