셔터 ( 234 ) 의 챔퍼링 된 내부 에지 ( 285 ) 및 포트 ( 276 ) 의 챔퍼링 된 내부 에지 ( 286 ) 의 각 의 임의 의 각 이 될 수 있 지만 , 몇몇 실시 예 들 에서 는 챔퍼링 된 내부 에지 들 ( 285 , 286 ) 의 각 은 서로 대략 적 으로 일치 될 수 있 다 ( 예컨대 , 챔퍼링 된 내부 에지 들 ( 285 , 286 ) 의 각 은 챔버 의 중심 축 에 약 45 도 일 수 있 다 ) . 그러 한 실시 예 들 에서 , 짝 을 이루 는 챔퍼 내부 에지 들 ( 285 , 286 ) 는 셔터 ( 234 ) 와 포트 ( 276 ) 사이 에 더 큰 표면 영역 콘택트 를 허용 할 수 있 으며 , 그 로 인해 포트 ( 276 ) 로부터 더 많 은 양 의 고형 입자 들 의 제거 를 허용 한다 .