높 은 광 투과율 을 구현 하 기 위하 여 는 , 나노 구조 체 ( NS ) 는 입사 되 는 광 의 파장 대역 에서 낮 은 흡수율 을 가지 는 물질 로 형성 될 필요 가 있 다 . 굴절 률 이 높 을수록 광변조 효율 이 높 고 , 나노 구조 체 ( NS ) 의 종횡비 ( aspect ratio ) 를 작 게 할 수 있 으므로 제조 공정 부담 이 줄어들 수 있 다 . 종횡비 는 나노 구조 체 ( NS ) 의 두께 ( t ) 와 길이 ( D ) 의 비 를 말 한다 . 따라서 , 나노 구조 체 ( NS ) 는 가급적 굴절 률 이 높 은 물질 로 형성 될 필요 가 있 다 . 또한 , 나노 구조 체 ( NS ) 를 형성 하 는 물질 은 낮 은 표면 거칠 기 를 갖 는 단일 층 의 형성 이 가능 한 물질 일 필요 가 있 다 . 표면 거칠 기 가 크 면 나노 구 조체 ( NS ) 의 광변조 특성 의 균일성 이 나빠진다 . 단일 층 의 표면 거칠 기 는 예 를 들 어 RMS 값 ( Rq ) 으로 2 . 5 nm 미만 일 필요 가 있 다 .