반응 챔버 ( 100 ) 는 합성 기판 ( 10 ) 상 에 탄소 나노 튜브 ( 30 ) 를 생성 하 는 공정 을 수행 하 고 , 전 후처리 실은 반응 챔버 ( 100 ) 로 / 로부터 로딩 / 언로 딩 되 는 합성 기판 ( 10 ) 에 대한 전처리 공정 및 후처리 공정 을 수행 한다 . 전처리 공정 및 후처리 공정 은 기판 에 촉매 ( 20 ) 를 도포 하 는 공정 , 또는 합성 기판 상 에 생성 된 탄소 나노 튜브 ( 30 ) 를 회수 하 는 공정 등 을 포함 한다 . 전 후처리 실은 스테이션 부 ( 200 ) , 제 1 이송 장치 ( 300 ) , 기판 보관 부 ( 400 ) , 촉매 도포 장치 ( 이하 촉매 도포 부 ) ( 500 ) , 회수 부 ( 600 ) , 그리고 제 2 이송 장치 ( 700 ) 를 가진다 .