연마 입자 의 평균 입경 ( 粒徑 ) 은 , 10 nm 이상 이 바람직 하 고 , 20 nm 이상 이 보다 바람직 하 고 , 50 nm 이상 이 더욱 바람직 하 다 . 연마 입자 의 평균 입경 은 , 200 nm 이하 가 바람직 하 고 , 100 nm 이하 가 보다 바람직 하 고 , 80 nm 이하 가 더욱 바람직 하 다 . 이러 한 관점 에서 , 연마 입자 의 평균 입경 은 , 10 ∼ 200 nm 가 바람직 하 고 , 20 ∼ 100 nm 가 보다 바람직 하 고 , 50 ∼ 80 nm 가 더욱 바람직 하 다 . 여기 서 의 「 평균 입경 」 이 란 , 연마 입자 의 2 차 입경 을 일컫 는다 . 상기 입경 ( 2 차 입경 ) 은 , 예 를 들 면 , 광회 절 산란 식 입 도 분포계 에 의해 측정 할 수 있 다 . 구체 적 으로 는 , 예 를 들 면 , COULTER Electronics 사 에서 제조 한 COULTER N 4 SD ( 상품명 ) 를 사용 하 여 , 측정 온도 : 20 ℃, 용매 굴절 율 : 1 . 333 ( 물 ) , 입자 굴절 율 : Unknown ( 설정 ) , 용매 점 도 : 1 . 005 cp ( 물 ) , Run Time : 200 초 , 레이저 입사각 : 90 °, Intensity ( 산란 강도 , 탁도 ( 濁度 ) 에 상당 ) : 5 E + 04 ∼ 4 E + 05 의 범위 에서 측정 가능 하 며 , Intensity 가 4 E + 05 보다 높 은 경우 에 는 물 에서 희석 하 여 측정 할 수 있 다 .