본원 제품 의 한 종류 는 스퍼터 타 겟 의 컴포넌트 또는 부분 일 수 있 다 . 다층 화 로 유리 한 상용 부분 의 구체 적 인 예 는 총 두께 가 전형 적 으로 50 미크론 내지 2 . 5 cm 및 5 cm 이하 인 스퍼터 타 겟 을 포함 한다 . 미세 - 그레인 형 미세 구조 ( 그레인 크기 10 미크론 미만 ) 를 갖 는 스퍼터 타 겟 은 이 들 의 화학 적 등가 의 거친 - 그레인 의 스퍼터 타 겟 에 비해 개선 된 전체 스퍼터 균일성 및 감소 된 타 겟 아크 ( arcing ) 를 제공 한다 . 실제로 는 타 겟 총 두께 의 약 1 / 3 만 이 사용 되 기 때문 에 , 단지 스퍼터링 공정 에 사용 된 근접 표면 층 에서 미세 - 그레인 형 미세 구조 의 장점 을 얻 을 필요 가 있 다 . 이러 한 소모 성 근접 - 표면층 은 , 약간 의 텍 스쳐 ( 텍 스쳐 강도 값 이 1 내지 20 배 랜덤 , 바람직 하 게 는 1 내지 10 배 랜덤 ) 를 갖 는 등방성 그레인 과 준 - 등방성 인 , 미세 - 그레인 형 미세 구조 를 가진다 . 따라서 , 스퍼터 타 겟 에 사용 된 구역 에서 랜덤 하 게 배향 된 미세 - 그레인 형 미세 구조 를 갖 는 스퍼터 타 겟 은 균일 한 스퍼터링 을 형성 하 고 , 따라서 균일 하 게 침착 된 필름 을 형성 한다 . 미세 - 그레인 의 스퍼터 타 겟 근접 - 표면층 은 또한 증가 된 스퍼터링 시간 및 허용 가능 한 표면 조도 를 유지 함 으로써 , 결국 타 겟 수명 및 타 겟 물질 의 이용 증가 를 초래 한다 . 한편 , 가동 중 에 실제로 소모 되 는 근접 표면 외 의 나머지 스퍼터 타 겟 은 미세 - 그레인 형 미세 구조 를 가질 필요 는 없 고 , 따라서 비 - 표면 등급 은 더 큰 그레인 구조 를 가지 고 , 이 는 감소 된 전력 소모 로 이어진다 . 따라서 , 한 경우 에 , 스퍼터 타 겟 은 적어도 두 개 별도 의 그레인 크기 를 함유 하 고 , 스퍼터 타 겟 의 표면 층 은 1 내지 10 배 랜덤 텍 스쳐 강도 값 및 50 미크론 내지 2 . 5 cm 두께 를 갖 는 등방성 그레인 의 미세 - 그레인 층 을 포함 한다 . 적절 한 금속 성 스퍼터 타 겟 은 Au , Co , Co , Fe , Ni 및 이 들 의 합금 을 비롯 한 위 에 기재 된 임의 의 금속 성 물질 을 포함 할 수 있 다 . 다층 스퍼터 타 겟 을 재결정 화 열 처리 를 수행 하 여 근접 표면 일관 성 을 유지 하 기 위해 근접 표면 의 응력 및 텍스 쳐 를 감소 시킴 으로써 추가 로 스퍼터 타 겟 성능 을 개선 하 는 것 이 유리 할 수 있 다 .