또 , 본 발명자 의 지견 에 의하 면 , 종래 에 는 문제 가 되 지 않 았 던 새로운 문제 도 출현 하 고 있 다 . 구체 적 으로 , 주사 형 노광 장치 의 주사 속도 는 , 전술 대로 생산 성 을 향상 시키 기 위해서 , 세대 를 쫓 을 때 마다 빨라 지 고 있 다 . 게다가 , 패턴 의 중첩 정밀도 의 요구 도 해 마다 높 아 지 고 있 다 . 이 2 개 의 기술 적 트랜드 에 의해 , 과거 에 는 문제 가 되 지 않 았 던 빛 의 전파 지연 의 영향 이 문제 가 되 고 있 다 . 노광 광 이 레티 클 을 투과 해 렌즈 를 통해서 웨이퍼 상 에 도달 하 는 동안 , 웨이퍼 스테이지 는 노광 광 이 레티 클 에서 웨이퍼 로 이동 하 는 데 걸리 는 시간 과 같 은 시간 분 만큼 이동 한다 . 그 때문 에 , 비록 레티 클 스테이지 및 웨이퍼 스테이지 는 , 그 스테이지 의 제어 편차 가 모두 제로인 이상 적 인 제어 상태 여도 , 여전히 그 이동 속도 에 의존 한 위치 어긋남 이 생기 게 된다 . 이 위치 어긋남 은 광 속도 와 스테이지 속도 에 의해 유일 하 게 정해 지 는 확정 적 오차 가 된다 .