일본국 특개 2009 - 54736 에 는 , 검출 영역 을 이동 가능 한 복수 의 마크 검출 계 각각 에 대해 동일 한 마크 를 정렬 하 고 , 계측 결과 에 근거 하 여 복수 의 마크 검출 계 의 계측 오프셋 을 구하 는 방법 이 기재 되 어 있 다 . 이 기술 에 따르 면 , 복수 의 마크 검출 계 의 성능 의 차이 에 기인 하 는 계측 위치 의 시프트 가 보정 되 어 , 기판 위 의 복수 의 얼라인먼트 마크 를 효율 적 이 고 고정 밀도 로 계측 할 수 있 다 .