노광 장치 ( EX ) 는 제 1 , 제 2 액침 영역 ( LR 1 , LR 2 ) 을 형성 한 상태 로 , 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 에 대해 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 Y 축 방향 으로 이동 하 면서 , 제 1 , 제 2 노광 영역 ( AR 1 , AR 2 ) 의 각각 에 노광 광 ( EL ) 을 조사 하 는 것 에 의해 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 에 액체 ( LQ ) 를 통하 여 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 1 패턴 의 상과 , 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 에 액체 ( LQ ) 를 통하 여 조사 되 는 노광 광 ( EL ) 으로 형성 되 는 제 2 패턴 의 상 으로 기판 ( P ) 위 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 ( 이중 노광 ) 한다 .