본 발명 은 디스플레이 소자 및 인쇄 회로 기판 제조 분야 에서 박막 형태 의 필름 을 적정 수단 을 이용 하 여 고체 기판 에 형성 시키 고 소정 패턴 을 형성 시키 는 라미 네 이 팅 공정 에 있 어서 , 패턴 형성 을 위해 수행 되 는 포토 리소그래피 공정 의 감광성 재료 사용 에 따른 고 비용 및 공정 유지 비용 발생 의 단점 을 해소 하 기 위한 필름 라미 네 이 팅 장치 및 공정 에 관한 것 으로 , 패턴 형성 수단 을 구비 하 여 상기 고체 기판 에 필름 전사 가 수행 되 는 단계 이전 에 특정 영역 에서 만 전사 가 이루어질 수 있 도록 상기 필름 에 패턴 을 형성 시키 고 , 패턴 형성 시 상기 패턴 형성 수단 의 교체 를 최소 화 하 며 유지 및 보수 를 용이 하 게 할 수 있 는 필름 패턴 형성 수단 을 구비 한 필름 라미 네 이 팅 장치 및 방법 에 관한 것 이 다 .