본 발명 의 ( 메트 ) 아크릴 계 중합체 는 포지티브 형 포토레지스트 로서 사용 할 수 있 다 . 즉 , 반응 성 이 높 은 식 ( I ) 의 호모 아 다만 탄 유도체 로부터 , 호모 아 다만 탄 골격 을 , PAG , 저 분자 포지티브 형 포토레지스트 또는 포지티브 형 포토레지스트 모노머 에 도입 할 수 있 고 , 나아가 서 는 포지티브 형 포토레지스트 중합체 에 도입 할 수 있 다 .