이 에 따라 , 수분 및 암모니아 의 흡착 을 방지 할 수 있 는 고가 의 감광막 ( photoresist ) 을 사용 할 필요 가 없 기 때문 에 비용 을 절감 할 수 있 고 , 공정 에 사용 될 감광막 선택 의 폭 이 넓 어 진다 . 또한 , 캐 핑 층 형성 공정 이 필요 하 지 않 아 캐 핑 층 에 의한 기생 케 패 시턴 스 가 없 으므로 생산 성 향상 을 가지 고 온다 .