제 1 촉매 화 단계 에서 , SnCl 2 의 농도 가 0 . 1 g / L 보다 낮 거나 50 g / L 보다 높 거나 중 어느 하나 , 또는 PdCl 2 의 농도 가 0 . 01 g / L 보다 낮 거나 또는 5 g / L 보다 높 거나 중 어느 하나 인 것 을 제외 하 고 , 다양 한 비교 실시 예 들 이 실시 예 1 에 따라 실행 된다 . 이러 한 모든 실시 예 들 에서 , NiP 층 은 좋 지 않 은 두께 균일성 , 좋 지 않 은 접착성 및 / 또는 재현 성 의 부족 를 나타내 는 기판 상 또는 도금 된 NiP 층 상 에 도금 되 지 않 는다 . 따라서 , NiP 층 상 에 성막 된 구리 층 은 어느 쪽 도 만족 스럽 지 않 다 .