피막 ( 41 ) 으로서 도너 로서 기능 하 는 불순물 원소 를 함유 하 는 절 연막 을 형성 하 는 방법 으로서 는 , 절 연막 의 원료 기체 와 함께 , 도너 로서 기능 하 는 불순물 원소 를 함유 하 는 기체 를 사용 하 여 절 연막 을 형성 하 면 좋 다 . 예 를 들 어 , 실란 , 암모니아 , 및 포스핀 을 사용 한 플 라즈 마 CVD 법 에 의하 여 인 을 함유 하 는 질화 실리콘 막 을 형성 할 수 있 다 . 또한 , 실란 , 일산화이질소 , 암모니아 , 포스핀 을 사용 한 플 라즈 마 CVD 법 에 의하 여 , 인 을 함유 하 는 산질 화 실리콘 막 을 형성 할 수 있 다 .