발 명재 3 은 전로 에서 래들 로 출강 하 는 중 에 생석회 1 ton 과 형석 0 . 2 ton 을 투입 하 고 , RH 설비 에서 탈산 및 탈탄 을 실시 한다 . RH 설비 에서 처리 개시 후 20 ~ 25 분 이 되 는 시점 ( 도 3 의 B 구간 ) 에 합금 원소 ( Al , Mn , Si 등 ) 을 투입 하 고 , 처리 개시 후 27 ~ 29 분 이 되 는 시점 ( C 구간 ) 에 100 torr 의 진공도 에서 용강 300 ton 기준 으로 생석회 1 ton 을 투입 하 고 , 처리 개시 후 29 분 이후 ( E 구간 ) 에 100 torr 의 진공도 에서 180 Nm 3 / hr 의 유량 으로 환류 하 고 , RH 설비 에서 의 처리 를 종료 한다 . 결과 적 으로 발명 재 3 은 생석회 투 입량 및 나머지 처리 공정 은 발 명재 1 에서 와 동일 하 며 , RH 설비 에서 탈류 반응 표면적 을 증대 시키 기 위해 입 도 3 ~ 8 mm 의 미세 한 분 말 로 된 생석회 를 투입 한다 .