상기 한 과제 를 실현 하 기 위한 본 발명 의 일 측면 에 따른 전자 부품 가공 장비 용 화학 물질 누설 차단 트레이 는 , 화학 물질 을 이용 한 전자 부품 가공 장비 와 상기 가공 장비 를 지지 하 는 액세스 플 루 어 사이 에 배치 되 는 사이즈 로 형성 되 며 상기 가공 장비 의 화학 물질 배출관 을 통과 시켜 상기 액세스 플 루 어 하측 으로 연장 하 도록 허용 하 는 통과 홀 을 구비 하 는 바닥 판과 , 상기 바닥 판 에서 돌출 형성 되 어 상기 바닥 판과 함께 상기 전자 부품 가공 장비 에서 누설 되 는 화학 물질 을 받 아 내 는 수용 공간 을 형성 하 는 벽판 을 구비 하 고 , 내부 식성 재질 로 형성 되 는 차단 베이스 ; 상기 통과 홀 에 대응 하 는 영역 을 둘러싸 도록 형성 되 고 , 상기 벽판 이 한정 하 는 영역 내 에 위치 하 며 , 상기 벽판 으로부터 이격 배치 되 는 내부 식성 재질 의 댐 부재 ; 상기 화학 물질 배출관 과 상기 댐 부재 사이 의 갭 을 채우 도록 배치 되 는 내부 식성 재질 의 갭 채움 부재 ; 상기 화학 물질 배출관 을 둘러싸 도록 배치 되 고 , 상기 갭 채움 부재 를 지지 하 는 지지 부재 ; 및 상기 화학 물질 배출관 과 상기 갭 채움 부재 와 상기 댐 부재 및 상기 지지 부재 에 의해 한정 된 한정 공간 에 내부 식성 재질 인 실링제 가 부 어 진 채 로 경화 되 어 형성 된 실링 부재 를 포함 할 수 있 다 .