상술 한 종래 기술 에 따른 중첩 마크 용 노광 마스크 및 이 를 이용 한 중첩 마크 형성 방법 에서 , 하드 마스크 층 으로 사용 되 는 비정질 탄소 층 의 스텝 커 버리 지 특 성 이 취약 하 여 , 단차 가 구비 된 정렬 키 및 오버레이 버니어 의 측벽 이 어택 을 받 아 상기 비정질 탄소 층 이 일부 제거 되 며 , 이 로 인해 반짝임 디 펙 트 가 발생 하 는 문제 가 있 다 .