상기 2 차원 전극 장치 의 제조 방법 은 웨이퍼 의 일면 에 금속 층 을 증착 시키 고 , 금속 층 을 기 설정 된 형상 으로 패 터닝 하 는 단계 ( S 510 ) , 금속 층 이 패 터닝 된 웨이퍼 의 일면 에 가공 홀 을 형성 하 는 단계 ( S 520 ) , 형성 된 가공 홀 에 기판 부 를 형성 하 는 단계 ( S 530 ) , 기판 부 가 형성 된 웨이퍼 의 타면 을 그라인딩 및 식각 하 여 기판 부 를 노출 시켜 전극 부 를 형성 하 는 단계 ( S 540 ) 및 형성 된 전극 부 의 상단 부 에 증착 층 을 형성 하 는 단계 ( S 550 ) 를 포함 한다 .