본 실시 예 에 관한 성막 장치 에서 는 , 진공 챔버 ( 200 ) 내 로 반입 되 는 기판 ( 10 ) 에 대해 , 통상 대로 성막 을 행하 는 제 1 동작 모드 와 , 성막 을 하 지 않 고 마스크 ( 220 ) 를 클리닝 하 기 위한 제 2 동작 모드 를 스위칭 가능 하 도록 구성 되 어 있 다 . 이 스위칭 은 , 제 어부 ( 270 ) 에 의해 행해진다 . 한편 , 편의 상 , 적절히 , 제 1 동작 모드 에서 성막 이 행해 지 는 기판 ( 성막 대상 기판 ) 을 제 1 기판 ( 10 X ) 이 라고 칭하 고 , 제 2 동작 모드 에서 클리닝 을 위해 사용 되 는 기판 ( 클리닝 용 기판 ) 을 제 2 기판 ( 10 Y ) 이 라고 칭한다 .