도 6 을 참조 하 면 , 8 각 형 형상 으로 설계 된 콘 택 홀 패턴 ( 10 ) 은 전자 빔 노광 하 기 위해서 , 다수 개 의 분할 된 다각형 폴리곤 들 ( 11 , 12 , 13 , 14 , 15 , 16 , 17 ) 이 요구 되 므로 , 개개 의 다각형 폴리곤 들 을 순차 적 으로 전자 빔 노광 하 는 데 적어도 7 차례 의 전자 빔 노광 이 요구 되 어 , 전체 전자 빔 노광 에 상당히 긴 시간 , 예컨대 , 28 시간 ( hour ) 정도 의 긴 전자 빔 노광 시간 이 소요 된다 . 따라서 , 포토 마스크 의 제작 에 많 은 시간 이 수반 되게 되 고 , 장시간 의 전자 빔 노광 에 의해 레지스 트 층 의 열화 와 같 은 패턴 불량 이 유발 될 수 있 다 . 8 각 형 이 아닌 계단 ( step ) 형상 으로 콘 택 홀 패턴 을 설계 하 더라도 , 다 수개 의 분할 된 다각형 폴리 콘 들 이 요구 되 므로 , 전자 빔 노광 에 상당히 긴 시간 이 소요 된다 .