이 이유 는 이하 와 같이 추측 하 고 있 다 . 정전 적 으로 또는 소수성 상호 작용 에 의해 표면 처리 대상물 또는 잔사 에 대하 여 이온 성 관능기 함유 고분자 가 흡착 될 때 , 다른 구성 단위 의 존재 에 의해 이 들 표면 의 습윤성 이 보다 향상 된다 . 그 결과 , 표면 처리 조성물 과 잔사 의 사이 에 물 이 들어가 기 쉬운 상태 로 되 고 , 표면 처리 대상물 과 잔사 의 사이 의 흡착 력 이 보다 저감 되 어 , 잔사 의 제거 가 보다 용이 한 상태 로 된다 . 또한 , 상기 메커니즘 은 추측 에 기초 하 는 것 이 며 , 그 정오 가 본 발명 의 기술 적 범위 에 영향 을 미치 는 것 은 아니 다 .