금속 막 성막 장치 ( 200 ) 는 , 금속 막 성막 처리 를 행하 는 장치 이 다 . 금속 막 성막 처리 에서 는 , 기판 W 의 트렌치 ( 403 ) 저부 의 실리콘 부분 에 텅스텐 막 ( 406 ) ( 후술 하 는 도 4 의 ( d ) 참조 ) 을 성막 한다 . 금속 막 성막 장치 ( 200 ) 는 , 예 를 들 어 CVD ( Chemical Vapor Deposition ) 장치 , ALD ( Atomic Layer Deposition ) 장치 등 에 의해 구성 된다 .