현재 고규 소화 제품 으로서 양산 중 인 기술 은 3 % 급 무방향성 제품 을 SiCl 4 가스 를 이용 한 화학 증착 법 ( CVD 법 ) 으로 , 규소 성분 을 소재 표면 에 부화 시킨 후 확산 소둔 시켜 고규 소강 을 제조 하 는 기술 로서 , 일본 특개소 62 - 227078 호 및 미국 특허 US 3 , 423 , 253 호 등 으로 잘 알려져 있 다 . 그러나 상기 기술 은 화학 증착 기술 자체 의 어려움 으로 인해 기존 3 % Si 강 제품 에 비해 약 5 배 이상 의 고 가격 판매 가 불가피 하 여 , 우수 한 자기 적 특성 을 갖 고 있 는 제품 임 에 도 불구 하 고 대중 화 및 실용화 에 어려움 을 겪 고 있 다 .