먼저 , 도 1 에 예시 되 는 바 와 같이 , 리프터 ( 36 ) 가 강하 됨 으로써 , 기판 ( 12 ) 이 처 리조 ( 14 ) 내 의 처리 위치 에 위치 한다 . 그리고 , 처 리조 ( 14 ) 에 저류 된 처리 액 ( 30 ) 에 기판 ( 12 ) 이 침지 됨 으로써 , 기판 ( 12 ) 의 세정 처리 등 이 실시 된다 . 또 , 처 리조 ( 14 ) 내 의 파티클 을 제거 하 기 위하 여 , 기포 공급 부 ( 18 ) 에 의해 처 리조 ( 14 ) 내 에 기포 ( 18 A ) 가 공급 된다 . 한편 으로 , 처 리조 ( 14 ) 로 의 순수 및 인산 의 공급 에 의해 처 리조 ( 14 ) 로부터 처리 액 ( 30 ) 이 오버 플로 한다 . 그리고 , 처 리조 ( 14 ) 로 부터 오버플로 한 처리 액 ( 30 ) 은 외조 ( 16 ) 에 유입 된다 .