도 1 b 에 도시 된 바 와 같이 , 하부 전극 ( 15 ) 을 둘러싸 고 있 는 희생 막 ( 13 ) 을 습식 식각 을 이용 하 여 제거 한다 . 이때 , 습식 식각 은 버퍼 된 옥사이드 식각 액 ( BOE : Bufferred Oxide etchant ) 혹은 HF 용액 에 담가서 진행 한다 . 습식 식각 이 완료 되 면 잔류 하 는 식각 액 을 증류수 ( Deionized water ) 에 린스 처리 하 고 건조 공정 을 진행 한다 .