리소그래피 장치 는 기판 상 에 , 일반 적 으로 기판 의 타 겟 부분 상 에 소망 되 는 패턴 을 적용 하 는 머신 이 다 . 리소그래피 장치 는 , 예 를 들 면 , 집 적 회로 ( integrated circuit ; IC ) 의 제조 에서 사용 될 수 있 다 . 그 경우 , 대안 적 으로 마스크 또는 레티 클로 지칭 되 는 패턴 화 디바이스 ( patterning device ) 는 , IC 의 개개 의 층 상 에 형성 될 회로 패턴 을 생성 하 기 위해 사용 될 수 도 있 다 . 이 패턴 은 기판 ( 예 를 들 면 , 실리콘 웨이퍼 ) 상 의 타 겟 부분 ( 예 를 들 면 , 하나 의 , 또는 여러 개 의 다이 의 부분 을 포함 함 ) 상 으로 전사 될 수 있 다 . 패턴 의 전사 는 통상 적 으로 기판 상 에 제공 되 는 방사선 감응 재료 ( 레지스 트 ) 의 층 상 으로 의 이미 징 을 통한다 . 일반 적 으로 , 단일 의 기판 은 , " 연속 적 으로 패턴 화 되 는 인접 한 타 겟 부분 의 네트워크 를 포함 할 것 이 다 . 이 들 타 겟 부분 은 일반 적 으로 "" 필드 "" 로 칭해진다 . "