또한 금속 산화 물막 ( 108 f ) 을 성막 하 기 전 에 절연 층 ( 103 ) 표면 에 흡착 된 물 이나 수소 , 유기물 등 을 이탈 시키 기 위한 처리 , 및 절연 층 ( 103 ) 내 에 산소 를 공급 하 는 처리 중 적어도 하나 를 수행 하 는 것 이 바람직 하 다 . 예 를 들 어 감압 분위기 하 에서 70 ℃ 이상 200 ℃ 이하 의 온도 에서 가열 처리 를 수행 할 수 있 다 . 또는 산소 를 포함 한 분위기 하 에서 플라스마 처리 를 수행 하 여도 좋 다 . 또는 , 일산 화 이질소 ( N 2 O ) 등 의 산화 성 가스 를 포함 한 분위기 하 에서 의 플라스마 처리 에 의하 여 절연 층 ( 103 ) 에 산소 를 공급 하 여도 좋 다 . 일산 화 이질소 가스 를 포함 한 플라스마 처리 를 수행 하 면 절연 층 ( 103 ) 표면 의 유기물 을 적합 하 게 제거 하 면서 산소 를 공급 할 수 있 다 . 이 와 같 은 처리 를 수행 한 후 , 절연 층 ( 103 ) 표면 을 대기 에 노출 시키 지 않 고 연속 적 으로 금속 산화 물막 ( 108 f ) 을 성막 하 는 것 이 바람직 하 다 .