포토레지스트 세정 용 신 너 는 반도체 또는 디스플레이 제조 과정 에서 노광 ( Photolithography ) 및 식각 ( Etching ) 공정 을 진행 한 이후 남 아 있 는 포토레지스트 를 세정 하 기 위한 린스 공정 에서 사용 되 는데 , 상기 신 너 는 여러 화학 물질 이 특정 성분비 로 혼합 되 어 다양 하 게 제조 되 나 , 디스플레이 제조 과정 의 린스 공정 에서 는 대표 적 으로 PGME ( Propylene Glycol Methyl Ether , 1 - Methoxy - 2 - Propanol ) 70 중량 % 와 PGMEA ( Propylene Glycol Methyl Ether Acetate , 1 - Methoxy - 2 - Propanol Acetate ) 30 중량 % 로 구성 된 신 너 가 사용 된다 .