광 확산 층 ( 250 ) 은 그 외 에 도 포토 레지스 트 ( photo resist : PR ) 를 이용 하 여 형성 할 수 있 다 . 전면 기판 ( 200 ) 의 면 중 배면 기판 ( 100 ) 을 향하 는 면 의 반 대면 에 포토 레지스 트 용액 을 도포 한 후 에 마스크 를 이용 한 포토 리소그래피 법 을 이용 하 여 요 철면 의 패턴 을 형성 할 수 있 다 .