제 1 전극 ( 120 ) 은 MOCVD ( Metal Organic Chemical Vapor Deposition ) 공정 , PECVD ( Plasma - Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 공정 , 스퍼터링 ( Sputtering ) 공정 , 이 빔 ( e - beam ) 공정 또는 열적 ( Thermal ) 공정 등 에 의해 형성 한다 . 제 1 전극 ( 120 ) 은 Ag , Al , Ag + Al , Ag + Mg , Ag + Mn , Ag + Sb , Ag + Zn , Ag + Mo , Ag + Ni , Ag + Cu , 또는 Ag + Al + Zn 등 과 같 은 금속 물질 을 이용 하 여 형성 하 거나 , ITO ( indium tin oxide ) , FTO ( fluorine doped tin oxide ) , ZnO , ZnO : B , ZnO : Al , Ag , SnO 2 , SnO 2 : F , ZnO : Ga 2 O 3 , ZnO : Al 2 O 3 , SnO 2 : Sb 2 O 3 등 과 같 은 투명 한 도전 물질 ( transparent conductive oxide ) 을 이용 하 여 형성 할 수 있 다 .