도 15 에 도시 된 마스크 ( 850 ') 에서 제 1 간격 ( z ) 이 제 2 간격 ( z ) 이 동일 하 지만 , 포토레지스트 층 ( 830 ) 으로 조사 되 는 자외선 의 출광 패턴 이 비대칭형 출광 패턴 이 기 때문 에 , 도 14 의 ( a ) 에서 포토레지스트 층 ( 830 ) 에 형성 되 는 복수 의 공동 ( 835 ') 의 곡 률 이 포토레지스트 층 ( 830 ) 의 가로 방향 과 세로 방향 에 따라 달라진다 . 예 를 들 어 , 공동 ( 835 ') 을 세로 방향 으로 잘랐 을 때 의 곡면 의 곡 률 이 공동 ( 835 ') 을 가로 방향 으로 잘랐 을 때 의 곡면 의 곡률 과 다르 게 된다 .