상기 실란 화합물 에 의한 산화 규소 쇄 를 갖 는 단분자막 의 형성 방법 에 대해서 는 특허 문헌 3 에서 개시 되 어 있 는 방법 으로 행할 수 있 다 . 즉 , 단분자막 을 형성 하 기 위해서 는 , 예 를 들 면 극성 이 매우 낮 은 용제 를 이용 하 고 , 상기 화학식 5 로 표시 되 는 실란 화합물 또는 화학식 6 의 실란 화합물 과 의 혼합물 을 2 . 0 x 10 - 2 내지 5 . 0 x 10 - 2 몰 / l 로 비교 적 희박 한 용액 으로 만들 어 , 여기 에 피막 하 고 싶 지 않 은 부분 을 레지 스트로 보호 할 수 도 있 는 피막 기판 을 , 예 를 들 면 트리 클로로 실란 의 경우 , 2 내지 3 분 간 , 예 를 들 면 트리 메 톡 시 실란 의 경우 , 2 시간 침지 시킨다 .