여기 서 , 상기 공정 챔버 는 상기 웨이퍼 를 상기 가속기 에서 가속 된 도전 성 불순물 의 이온 빔 이 진행 되 는 방향 에 수직 하 는 방향 으로 위치 시켜 상기 도전 성 불순물 이 주입 되 도록 한다 . 예컨대 , 상기 공정 챔버 내 에 투입 되 는 웨이퍼 의 개수 에 따라 싱글 타입 과 배치 타입 으로 나누 어 지 기 도 한다 . 이때 , 상기 공정 챔버 에서 상기 도전 성 불순물 의 이온 빔 이 공기 중 에 산란 되 어 상기 웨이퍼 의 표면 으로 입사 되 는 것 을 방지 하 기 위해 상기 공정 챔버 내부 의 공기 를 펌핑 하 는 진공 펌프 가 상기 공정 챔버 와 연통 되 는 배기관 에 형성 되 어 있 다 . 또한 , 상기 공정 챔버 의 일 측 측벽 에 형성 된 포트 를 통해 상기 챔버 내부 로 삽입 되 어 상기 공정 챔버 내부 의 진공도 를 계측 하 는 진공 센서 가 더 형성 되 어 있 다 .