도 13 및 도 14 에 도시 된 배향 에서 , 자성 액체 ( 557 ) 는 전자석 ( 578 ) 에 의해 인가 된 자기력 에 의해 챔버 ( 550 ) 로부터 저 장소 내 로 끌어들여 지 고 , 중력 의 영향 하 에서 챔버 ( 550 ) 내 로 다시 흐를 수 도 있 음 을 이해 해야 할 것 이 다 . 또한 , 펌프 냉각 시스템 ( 512 ) 이 도 13 및 도 14 에 도시 된 배향 으로부터 180 ° 회전 하 여 챔버 ( 550 ) 가 액체 저 장소 ( 555 ) 위 에 있 는 경우 , 전자석 ( 578 ) 은 자성 액체 ( 557 ) 를 액체 저 장소 ( 555 ) 로부터 챔버 ( 550 ) 로 끌어들이 는 자기력 을 가할 수 있 는 위치 에 배치 될 수 있 고 , 액체 는 전자석 에 대한 통전 이 해제 될 때 중력 의 영향 하 에서 액체 저 장소 로 되돌 아 갈 수 있 음 을 이해 해야 할 것 이 다 . 따라서 , 예컨대 , 그 배향 에서 의 작동 을 위해 , 전자석 ( 578 ) 은 펌프 하우징 ( 514 ) 에 배치 될 수 도 있 다 . 그러나 , 이 는 그것 이 영구 적 으로 냉각 될 수 있 고 펌프 하우징 ( 514 ) 에 나타날 수 도 있 는 고온 에 노출 되 지 않 을 수 있 도록 전자석 ( 578 ) 을 냉 각체 ( 524 ) 상 에 장착 하 는 것 이 가능 한 경우 에 유리 할 수 도 있 다 . 도 13 및 도 14 에 도시 되 지 는 않 았 지만 , 리 세스 ( 552 ) 는 챔버 ( 550 ) 가 액체 저 장소 ( 555 ) 로부터 멀리 떨어져 배치 된 하나 이상 의 ' 최저 위치 ' 를 가짐 으로써 자성 액체 가 액체 저 장소 로부터 흘러서 챔버 를 충전 할 수 있 게 하 도록 구성 될 수 있 음 을 이해 해야 할 것 이 다 . 또한 , 챔버 ( 550 ) 를 충전 할 때 자성 액체 ( 557 ) 에 의해 이동하 는 공기 를 수용 하 기 위해 리세 스 ( 559 ) 가 제공 될 수 도 있 다 .