표시 장치 에 포함 되 는 박막 ( 즉 절 연막 , 반도체 막 , 및 도전 막 등 ) 은 스퍼터링 법 , CVD ( chemical vapor deposition ) 법 , 진공 증착 법 , PLD ( pulsed laser deposition ) 법 , 및 ALD ( atomic layer deposition ) 법 등 중 임의 의 것 에 의하 여 형성 될 수 있 다 . CVD 법 의 예 로서 는 , PECVD ( plasma - enhanced CVD ) 법 또는 열 CVD 법 을 들 수 있 다 . 열 CVD 법 의 예 로서 는 , MOCVD ( metal organic CVD ) 법 을 들 수 있 다 .