도 20 은 실린더 마스크 제작 에 대한 또 다른 접근 법 을 예시 한다 . 우선 , 스텝 - 앤드 - 리피트 나노 임 프린팅 또는 간섭 리소그래피 , 또는 양극 알루미나 다공성 표면 제작 , 또는 후속 에칭 에 의한 구상 또는 나노 입자 의 자 가 조립 , 또는 기타 공지 된 나노 리소그래피 기술 을 사용 하 여 평판 형 기판 ( 201 ) ( 예 , 유리 , 규소 , 금속 또는 중합체 ) 을 패턴 화 함 으로써 특정 한 나노 구조 화 된 패턴 ( 202 ) 을 갖 는 목적 하 는 표면 릴리프 를 생성 할 수 있 다 .