도 4 에 는 투명 및 불 투명 피쳐 를 가진 포토 마스크 , 또는 표면 릴리프 를 가진 위상 반전 마스크 , 또는 플라스몬 마스크 , 또는 마스크 의 2 종류 의 또는 3 종류 모두 의 조합 일 수 있 는 광학 마스크 ( 41 ) 를 사용 하 여 패턴 을 생성 하 는 데 접촉 광학 리소그래피 가 사용 되 는 또 다른 구체 예 가 도시 된다 . 광은 접촉 영역 상 의 광학 시스템 ( 44 ) 을 통해 광원 ( 43 ) 으로부터 작용 된다 . 회전 속도 는 감광성 중합체 ( 45 ) 의 바람직 한 노출 을 제공 하 도록 설계 된다 . 노출 공정 후 에 는 ( 중합체 가 포지티브 톤 인 경우 ) 노출 영역 및 ( 네 가티 브 톤 중합체 의 경우 ) 미 노출 영역 을 용해 시키 는 중합체 현상 을 수행 한다 .