샤워 헤드 ( 430 ) 는 , 처리 용기 ( 410 ) 내 에 처리 가스 를 샤워 상 으로 공급 한다 . 샤워 헤드 ( 430 ) 는 금속제 이 며 , 스테이지 ( 420 ) 에 대향 하 도록 마련 되 어 있 고 , 스테이지 ( 420 ) 와 거의 동일 한 직경 을 갖 고 있 다 . 샤워 헤드 ( 430 ) 는 , 처리 용기 ( 410 ) 의 천장 벽 ( 414 ) 에 고정 된 본 체부 ( 431 ) 와 , 본 체부 ( 431 ) 아래 에 접속 된 샤워 플레이트 ( 432 ) 를 갖 고 있 다 . 본 체부 ( 431 ) 와 샤워 플레이트 ( 432 ) 사이 에 는 , 가스 확산 공간 ( 433 ) 이 형성 되 어 있 고 , 가스 확산 공간 ( 433 ) 에 는 처리 용기 ( 410 ) 의 천장 벽 ( 414 ) 및 본 체부 ( 431 ) 의 중앙 을 관통 하 도록 가스 도입 구멍 ( 436 ) 이 마련 되 어 있 다 . 샤워 플레이트 ( 432 ) 의 주연 부 에 는 , 하방 으로 돌출 되 는 환상 돌기 부 ( 434 ) 가 형성 되 어 있 다 . 환상 돌기 부 ( 434 ) 의 내측 의 평탄면 에 는 , 가스 토출 구멍 ( 435 ) 이 형성 되 어 있 다 . 스테이지 ( 420 ) 가 처리 위치 에 존재 한 상태 에서 는 , 스테이지 ( 420 ) 와 샤워 플레이트 ( 432 ) 사이 에 처리 공간 ( 438 ) 이 형성 되 고 , 커버 부재 ( 422 ) 의 상면 과 환상 돌기 부 ( 434 ) 가 근접 해서 환상 간극 ( 439 ) 이 형성 된다 .