본 발명자 는 ULTIMATM 시스템 ( Santa Clara , Calif . 의 APPLIED MATERIALS , INC . 에 의해 제조 됨 ) 으로 본 발명 의 구체 예 를 실행 하 였 다 , 이 의 일반 적 기재 는 , Fred C . Redeker , Farhad Moghadam , Hirogi Hanawa , Tetsuya Ishikawa , Dan Maydan , Shijian Li , Brian Lue , Robert Steger , Yaxin Wang , Manus Wong and Ashok Sinha 에 의해 1996 년 7 월 15 일 에 공동 출원 된 , 미국 특허 제 6 , 170 , " 428 호 "" SYMMETRIC TUNABLE INDUCTIVELY COUPLED HDP - CVD REACTOR "," 에 제공 되 어 있 다 , 이 의 전체 내용 은 참조 로서 본원 에 통합 되 어 있 다 . 이 시스템 의 개관 은 도 6 A 및 6 B 에 제공 되 어 있 다 . 도 6 A 는 일 구체 예의 이러 한 HDP - CVD 시스템 ( 610 ) 의 구조 를 개략 적 으로 예시 한다 . 시스템 ( 610 ) 은 챔버 ( 613 ) , 진공 시스템 ( 670 ) , 공급원 플라스마 시스템 ( 680 A ) , 바이 아스 플라스마 시스템 ( 680 B ) , 가스 전달 시스템 ( 633 ) , 및 원격 플라스마 세척 시스템 ( 650 ) 을 포함 한다 .