이때 , 상기 사진 식각 기술 에 는 회절 마스크 가 ( 229 ) 사용 되 게 되 는데 , 상기 회절 마스크 ( 229 ) 는 , 소스 / 드레 인 전극 ( 213 a , 213 b ) 부분 과 데이터 패드 ( 215 ) 부분 은 차단 영역 ( 229 a ) 으로 이루어지 고 , 채널 부분 은 회절 영역 ( 229 b ) 으로 이루어지 며 , 나머지 부분 은 투과 영역 ( 229 c ) 으로 이루어지 는 것 을 특징 으로 한다 . 상기 회절 마스크 ( 229 ) 를 사용 한 공정 에 대해 좀 더 구체 적 으로 설명 하 면 다음 과 같 다 .