또한 , 도 2 와 같이 , 기판 ( P ) 위 의 하나 의 쇼트 영역 ( SH ) 을 다중 노광 하 고 있 을 때 , 기판 스테이지 ( 4 ) 와 제 1 스테이지 ( 61 ) 의 상대 위치 , 즉 기판 ( P ) 과 제 1 , 제 2 마스크 ( M 1 , M 2 ) 의 적어도 한쪽 의 상대 위치 가 목표 상대 위치 로부터 어긋날 가능 성 이 있 다 . 본 실시 형태 에서 는 , 그 상대 위치 의 차이 를 레이저 간섭계 ( 4 L , 71 ) 의 계측 결과 로부터 검지 할 수 있 다 . 그리하여 , 제 어 장치 ( 7 ) 는 , 그 상대 위치 의 차 이 를 검지 했 을 경우 에 는 , 레이저 간섭계 ( 4 L , 71 ) 의 계측 결과 에 의거 하 여 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 적어도 한 쪽 을 이동하 여 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 적어도 한쪽 의 위치 를 조정 한다 . 이것 에 의해 , 제 1 , 제 2 마스크 ( M 1 , M 2 ) 와 쇼트 영역 ( SH ) 의 각 위치 관계 가 항상 원 하 는 상태 로 조정 되 고 , 제 1 패턴 의 상 과 제 2 패턴 의 상 을 쇼트 영역 ( SH ) 내 에 원하 는 위치 관계 로 형성 할 수 있 다 .