다음 에 , 무 처리 및 열처리 의 Al － Ni － La 합금 층 에 , 포토 리소그래피 및 에칭 에 의해 패 터닝 한 후 , 그 위 에 ITO 막 을 스 패 터 증착 에 의해 성막 하 였 다 . 스 패 터 증착 조건 은 Ar 분위기 하 , 압력 : 1 mTorr , 파워 : 100 W 로 하 였 다 . 각 시료 에 있 어서 , ITO 막 ( 투명 화소 전극 ) 의 두께 는 약 50 ㎚ 로 하 였 다 .