여기 서 , 상기 위상 반전 포토 마스크 역시 상술 한 실시 예 들 및 도 3 d , 3 e , 3 f 및 도 4 와 동일 하 게 투명 기판 상 에 위상 반 전막 패턴 만 이 형성 되 는 형태 , 요구 되 는 위상 반 전막 패턴 의 일부분 상 에 금속 막 패턴 이 잔류 하 는 형태 , 메인 영역 에 위상 반 전막 패턴 만 이 잔류 하 는 형태 등 의 다양 한 형태 로 형성 가능 하 다 .