다음 으로 , 도 14 에 도시 하 는 바 와 같이 , 예컨대 불화 수소산 등 의 약액 을 공급 하 여 , 습식 에칭 에 의해 , 산화 막 ( 7 ) 을 제거 한다 . 이때 , 제 1 , 제 2 영역 ( R 1 , R 2 ) 에 형성 된 산화 막 ( 5 ) 은 서로 다른 에칭 률 로 에칭 된다 . 그러나 , 본 실시 형태 에서 는 , 상기 에칭 률 의 편차 를 고려 하 여 , 사전 에 제 2 영역 ( R ) 에 형성 된 산화 막 ( 5 ) 을 후퇴 시키 고 있 기 때문 에 , 산화 막 ( 7 ) 의 제거 가 종료 된 시점 에서 는 , 제 1 , 제 2 영역 ( R 1 ) 에 형성 된 산화 막 ( 5 ) 의 높이 가 일치 하 게 된다 . 이 와 같이 , 제 1 영역 ( R 1 ) 과 제 2 영역 ( R 2 ) 에서 , 산화 막 ( 5 ) 의 높이 의 편차 를 억제 할 수 있 다 .