상기 실리콘 나노 입자 ( 11 ) 와 상기 비정질 탄소 의 함량 은 8 : 2 내지 2 : 8 중량 비 , 예컨대 , 7 : 3 내지 3 : 7 중량 비 , 6 : 4 내지 4 : 6 중량 비 6 : 4 내지 5 : 5 중량 비 또는 4 : 3 내지 3 : 4 중량 비 일 수 있 다 . 실리콘 나노 입자 와 비정질 탄소 의 함량 이 상기 범위 내인 경우 내부 기공 부피 를 감소 시키 고 음극 활물질 복합체 의 내부 및 표면 에 비정질 탄소 를 균일 하 게 분산 시킬 수 있 다 . 그 결과 로서 전해액 과 의 부반응 을 억제 하 고 음극 활물질 복합체 의 성능 을 개선 시킬 수 있 다 .