이어서 , 정석 공정 에 있 어서 비스 페놀 A 와 페놀 의 부가물 의 결정 을 함유 하 는 슬러리 를 얻 는다 . 정석 공정 에 제공 하 는 비스 페놀 A 와 페놀 을 함유 하 는 성분 의 비스 페놀 A 의 농도 는 , 얻 어 지 는 슬러리 의 취급 의 용이 함 등 면 에서 10 ∼ 30 ％ 가 바람직 하 다 . 또 정석 방법 으로 는 , 비스 페놀 A 와 페놀 을 함유 하 는 성분 을 직접 냉각 시키 는 방법 , 물 등 의 다른 용매 를 혼합 하 고 , 당해 용매 를 증발 시킴 으로써 냉각 시키 는 방법 , 또한 페놀 을 제거 하 고 농축 시키 는 방법 및 이 들 을 조합 하 는 방법 등 을 들 수 있 고 , 원 하 는 순도 의 부가물 을 얻 기 위하 여 1 회 혹은 2 회 이상 정석 시켜도 된다 . 당해 정석 공정 에서 얻 어 진 슬러리 는 , 회수 공정 에 있 어서 감압 여과 , 가압 여과 , 원심 여과 등 에 의해 부가물 의 결정 과 모액 으로 고액 분리 되 고 , 비스 페놀 A 와 페놀 의 부가물 의 결정 이 회수 된다 .