실시 예 1 에서 제조 된 제 2 중간체 ( = 도 4 의 ( a ) 및 ( b ) 에서 Cu NWs 로 표시 ) 및 전기 화학 적 물분 해 촉매 ( = 도 4 의 ( a ) 및 ( b ) 에서 Pt - Cu @ CuxO NWs / 3 DF 로 표시 ) 각각 의 분말 X 선 회절 패턴 ( X - ray diffraction patterns , XRD ) 을 측정 하 였으며 , XRD 패턴 을 도 4 의 ( a ) 및 ( b ) 에 나타내 었 다 . 이 때 , XRD 패턴 은 2 θ ( theta ) = 5 °~ 80 °, Cu 타 겟 ( λ = 0 . 154 nm ) , 2 ° min - 1 의 스캔 속도 의 D / Max 2500 V / PC ( Rigaku Co . , Japan ) 를 통해 측정 하 였 다 .