이러 한 폴리 싱 조성물 및 방법 에 도 불구 하 고 , 원소 규소 를 포함 하 는 막 에 대한 높 은 제거율 , 및 원소 규소 를 포함 하 는 막 과 산화 규소 및 질화규소 와 같 은 다른 막 간 에 제거율 의 제어 된 선택 성 을 제공 할 수 있 는 , 폴리 싱 조성물 및 방법 이 당해 분야 에 요구 되 고 있 다 . 본 발명 의 조성물 및 방법 은 본원 에 제공 된 본 발명 의 설명 으로부터 명백 해 지 는 바 와 같이 이러 한 독창 적 인 특징 들 을 제공 한다 .