또한 , 상술 한 양태 에서 는 , 선택 성장 을 행하 기 전 에 , 웨이퍼 ( 200 ) 에 대하 여 DHF 세정 을 행하 는 예 에 대해서 설명 했 지만 , 본 개시 는 이러 한 양태 에 한정 되 는 것 은 아니 다 . 예 를 들 어 , 하 지 ( 200 a ) 를 성막 한 후 , 하 지 ( 200 a , 200 c ) 를 대기 에 노출 시키 지 않 고 , 상술 한 선택 성장 을 행하 는 경우 와 같이 , 하 지 ( 200 a , 200 c ) 의 표면 에 자연 산화 막 ( 200 d ) 이 형성 되 는 경우 가 없 을 경우 에 는 , DHF 세정 을 불 실시 로 해도 된다 .