플 라즈 마 강화 ALD ( PEALD ) 를 전극 들 간 의 3 . 5 mm 고정 된 간격 을 갖 는 27 . 1 MHz 직접 플 라즈 마 출력 을 갖춘 상업 용 측면 흐름 반응기 ( ASM 에 의해 제작 된 300 mm PEALD 툴 ) , 또는 13 . 56 MHz 직접 플 라즈 마 출력 을 갖춘 샤워 헤드 반응기 ( ASM 에 의해 제작 된 300 mm PEALD 툴 ) 상 에서 수행 하 였 다 . 층류 챔버 디자인 은 독립 적 압력 설정 을 갖 는 외부 챔버 및 내부 챔버 를 사용 한다 . 내부 챔버 는 증착 반응기 이 며 , 여기 에서 , 모든 반응물 가스 ( 예 를 들 어 , 전 구체 , 아르곤 ) 는 매니폴드 에서 혼합 되 고 , 공정 반응기 로 전달 된다 . 외부 챔버 에서 반응기 압력 을 유지 하 기 위해 아르곤 가스 를 사용 하 였 다 . 샤워 헤드 챔버 는 단지 하나 의 챔버 를 가지 며 , 이 는 대개 2 Torr 에서 작동 된다 . 전 구체 는 스테인 레 스강 버 블러 에서 실온 으로 유지 된 액체 이 고 , Ar 운반 가스 ( 통상 적 으로 200 sccm 흐름 으로 설정 됨 ) 또는 증기 드로우 와 함께 챔버 로 전달 된다 . 본 연구 에서 보고 된 모든 증착 을 8 내지 12 Ohm - cm 의 천연 옥사이드 ( native oxide ) 함유 Si 기판 상 에서 수행 하 였 다 . 막 의 두께 및 굴절 률 을 , 막 으로부터 의 반사 데 이타 를 사전 - 설정 된 물리 적 모델 ( 예 를 들 어 , Lorentz Oscillator 모델 ) 에 피팅 시킴 으로써 FilmTek 2000 SE 엘 립 소 미터 ( ellipsometer ) 를 이용 하 여 측정 하 였 다 . 얻 어 진 산화 규소 막 의 측정 된 두께 를 전체 ALD / PEALD 사이클 의 수 로 나눔 으로써 사이클 당 성장 률 을 계산 하 였 다 . 습식 에칭 률 ( WER ) 측정 을 1 : 99 묽 은 불화 수소 ( HF ) 산 용액 을 이용 하 여 수행 하 였 다 . 에치 용액 의 활성 을 확인 하 기 위하 여 각 실험 세트 에 대한 표준물 로서 열 옥사이드 웨이퍼 를 사용 하 였 다 . 벌크 막 의 WER 의 수집 을 시작 하 기 전 에 임의 의 표면 층 을 제거 하 기 위해 샘플 모두 를 15 초 동안 에칭 하 였 다 . 1 : 99 dHF 수용액 에 대한 통상 적 인 열 옥사이드 웨이퍼 습식 에칭 률 은 이러 한 절차 에 의해 0 . 5 Å / s 이 었 다 . 모든 밀도 측정 을 x - 선 반사율 ( x - ray reflectivity , XRR ) 방법 에 의해 측정 하 였 다 . 조성 분석 을 2 차 이온 질량 분광법 ( D - SIMS ) 또는 X - 선 광전자 분광법 ( XPS ) 을 이용 하 여 수행 하 였 다 .