그 후 , 도 1 g 에서 볼 수 있 는 바 와 같이 , 상기 범프 형성 용 전도성 박막 ( 108 ) 상부 에 제 2 포토레지스트 층 ( 110 ) 을 형성 한다 . 이러 한 제 2 포토레지스트 층 ( 110 ) 의 두께 는 후술 될 범프 의 높이 내지 는 길이 에 대응 하 는 바 , 발명 의 목적 에 따라 적절 하 게 설정 할 수 있 다 . 구체 적 으로 , 미세 피치 프로브 를 사용 하 여 프로브 카드 를 형성 하 고자 하 는 경우 에 는 제 2 포토레지스트 층 ( 110 ) 을 두껍 게 적층 하 여 범프 의 높이 를 높 게 하 여 프로브 와 범프 와 의 접촉 면 을 수직 방향 으로 증가 시킬 수 있 다 .