6 . 상기 세 척 단계 후 의 고분자 지 지체 상면 에 상기 스핀코팅 단계 와 동일 하 게 스핀코팅 을 진행 하 여 지 지체 상면 에 이 황화몰리브덴 층 을 형성 하 고 , 이 황화몰리브덴 층 이 형성 된 지 지체 상면 에 제 1 증착 단계 와 동일 하 게 금 을 층 착하 여 이 황화몰리브덴 층 의 상면 에 제 1 금 층 을 형성 하 여 , 고분자 지 지체 상면 에 이 황화몰리브덴 층 , 제 1 금 층 이 차례 로 형성 된 전극 ( 전극 6 ) 을 제조 하 였 다 .