본 발명자 들 은 , 상기 과제 를 감안 하 여 , 예의 검토 를 진행 시켰 다 . 그 결과 , pKa 및 중량 평균 분자량 이 특정 범위 이 며 , 술폰산 ( 염 ) 기 , 인산 ( 염 ) 기 , 포스폰산 ( 염 ) 기 , 카르복실 산 ( 염 ) 기 및 아미노기 로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 적어도 1 종 의 이온 성 관능기 를 갖 는 고분자 화합물 을 포함 하 는 표면 처리 조성물 이 , 연마 완료 연마 대상물 표면 의 잔사 를 제거 하 는 효과 를 현저 하 게 향상 시킨다는 것 을 알아내 어 , 본 발명 을 완성 시켰 다 .