표 1 에 나타내 는 바 와 같이 , 헥사 메틸 다 이 실라 제인 을 이용 한 시료 A 1 과 , 3 - 아미노 프로필 트라이 메 톡 시실 레인 및 헥사 메틸 다 이 실라 제인 을 이용 한 시료 A 2 와 , 3 - 아미노 프로필 트라이 메 톡 시실 레인 을 이용 한 시료 A 3 에 있 어서 의 , 베이스 수지 의 결정 화도 는 , 3 - 메타크릴 옥시 프로필 트라이 메 톡 시실 레인 을 이용 한 시료 A 4 의 그것 보다 도 낮 았 다 . 이 에 의해 , 시료 A 1 ∼ A 3 에 있 어서 의 파장 500 nm 투과율 은 , 시료 A 4 의 그것 보다 도 높 았 다 .