하드 마스크 막 의 PR strip 특성 을 평가 하 기 위해 , 포토레지스트 에 PR strip 공정 을 수행 하 여 포토레지스트 를 제거 한다 ( S 6 ) . 포토레지스트 패턴 의 제거 는 실제 PR strip 공정 이나 이 에 대등 한 과정 으로 수행 될 수 있 다 . 예컨대 , PR strip 공정 은 산소 플 라즈 마 를 이용 하 여 포토레지스트 를 제거 하 는데 , 산소 플라 즈 마는 내부 에서 활성산소 를 발생 시켜 유기 물질 인 레지스 트 를 산화 시켜 수증기 와 이산화 탄소 와 같 은 휘발 성 가스 의 형태 로 배출 시켜 제거 한다 .