" 도 2 에 도시 한 바 와 같이 화학 기계 적 연마 패드 ( 130 ) 상 에 는 "" B "" 방향 으로 회전 가능 한 컨디 셔 너 중심축 ( 180 S ) 에 설치 된 화학 기계 적 연마 패드 컨디 셔 너 ( 180 ) 를 포함 할 수 있 다 . 화학 기계 적 연마 패드 컨디 셔 너 ( 180 ) 의 일면 에 는 연마 용 입자 ( 180 P ) 가 형성 되 어 있 다 . 화학 기계 적 연마 패드 컨디 셔 너 ( 180 ) 는 "" B "" 방향 """," 즉 시계 방향 으로 회전 하 고 "" C "" 방향 으로 압력 이 가해 지 면서 화학 기계 적 연마 패드 ( 130 ) 를 표면 을 연마 하 여 화학 기계 적 연마 패드 ( 130 ) 의 표면 조도 ( 표면 거칠 기 ", surface roughness ) 를 최적 의 상태 로 유지 시킬 수 있 다 .