노광 장치 ( 1 ) 는 , 조명 광학계 IL 과 , 투영 광학계 PO 와 , 마스크 M 을 유지 해서 이동 가능 한 마스크 스테이지 MS 와 , 기판 W 를 유지 해서 이동 가능 한 기판 스테이지 WS 를 포함 한다 . 또한 , 노광 장치 ( 1 ) 는 , 기판 W 에 대한 노광 처리 를 제어 하 는 제 어부 C 를 포함 하 고 , 기판 위 의 레지스 트 막 ( 감광제 ) 에 , 투영 광학계 PO 를 거쳐 마스크 M 의 패턴 을 투영 해서 잠상 ( 잠상 패턴 ) 을 형성 하 는 노광 처리 를 행한다 .