따라서 상기 샤워 헤드 부 ( 200 ) 는 도 1 및 도 2 에 도시 된 바 와 같이 , 제 1 확산 공간 ( DS 1 ) 을 형성 하 고 저면 에 다 수개 의 분사 돌기 ( 211 ) 들 이 형성 되 며 , 제 1 확산 공간 ( DS 1 ) 으로부터 처리 공간 ( S ) 으로 제 1 가스 를 분사 하 도록 제 1 분 사공 ( 212 ) 이 각 분사 돌기 ( 211 ) 를 관통 하 여 형성 된 확산 플레이트 ( 210 ) 와 ; 제 2 확산 공간 ( DS 2 ) 을 형성 하 고 제 2 확산 공간 ( DS 2 ) 으로부터 처리 공간 ( S ) 으로 제 2 가스 를 분사 하 도록 다 수개 의 제 2 분 사공 ( 222 ) 들 이 형성 되 며 확산 플레이트 ( 210 ) 에 형성 된 각 분사 돌기 ( 211 ) 들 이 관통 하 여 삽입 되 도록 각 분사 돌기 ( 211 ) 들 에 대응 되 는 다 수개 의 끼움 공 ( 221 ) 들 이 형성 된 분사 플레이트 ( 220 ) 를 포함 하 여 구성 된다 .