본원 에서 사용 되 는 용해 저 지제 는 , 분자량 이 100 ∼ 1 , 000 , 바람직 하 게 는 150 ∼ 800 이 면서 , 분자 내 에 페놀 성 히드록실기 를 2 개 이상 포함 하 는 화합물 의 상기 페놀 성 히드록실기 의 수소 원자 를 산불 안정기 에 의해서 평균 0 ∼ 100 몰 % 의 비율 로 치환 한 화합물 , 또는 분자 내 에 카르복실기 를 포함 하 는 화합물 의 상기 카르복실기 의 수소 원자 를 산불 안정기 에 의해서 평균 50 ∼ 100 몰 % 의 비율 로 치환 한 화합물 이 다 . 구체 적 으로 는 비스 페놀 A , 트리스 페놀 , 페놀프탈레인 , 크레졸 노볼락 , 나프탈렌 카르복실 산 , 아 다만 탄 카르복실 산 , 및 콜산 의 히드록실기 , 카르복실기 의 수소 원자 를 산불 안정기 로 치환 한 화합물 등 을 들 수 있 으며 , 예컨대 USP 7 , 771 , 914 호 ( JP - A 2008 - 122932 호 , [ 0155 ] ∼[ 0178 ] ) 에 기재 되 어 있 다 .