포토 마스크 ( 330 ) 는 콘덴서 렌즈 하부 에 위치 하 여 임의 의 패턴 ( 331 ) 이 형성 되 어 있 다 . 포토 마스크 ( 330 ) 상 에 형성 된 패턴 ( 331 ) 은 밀집 된 패턴 , 반 - 밀집 된 패턴 , 반 - 고립 된 패턴 , 고립 된 패턴 으로 구분 될 수 있 으며 , 이러 한 간격 차이 에 의해 광원 으로부터 방출 된 광 의 성분 은 다르 게 나타난다 . 고립 된 패턴 일수록 광원 으로부터 회절 된 광 의 성분 은 많 아 지 게 된다 .