일부 경우 에 , UV 광 형태 의 전자기 복사 가 표면 패턴 화 에 사용 된다 . 일부 경우 에 , 램프 가 표면 패턴 화 에 사용 되 고 , 마스크 는 표면 에 대한 UV 광 의 노출 위치 를 조정 한다 . 일부 경우 에 , 레이저 가 표면 패턴 화 에 사용 되 고 , 셔터 개방 / 폐쇄 상태 가 표면 에 대한 UV 광 의 노출 을 조절 한다 . 레이저 배열 은 이동 할 수 있 는 가요 성 구조물 와 함께 사용 될 수 있 다 . 이러 한 배열 에서 , 레이저 노출 및 가요 성 구조물 이동의 조정 이 상이 한 뉴클레오시드 커플링 능력 을 갖 는 하나 이상 의 제제 의 패턴 을 생성 하 는 데 이용 된다 .