리소그래피 장치 는 기판 상 에 , 통상 적 으로 는 기판 의 타 겟 부 상 에 원하 는 패턴 을 적용 시키 는 기계 이 다 . 리소그래피 장치 는 , 예 를 들 어 집 적 회로 ( IC ) 의 제조 시 에 사용 될 수 있 다 . 그 경우 , 대안 적 으로 마스크 또는 레티 클 이 라 칭하 는 패 터닝 디바이스 가 IC 의 개별 층 상 에 형성 될 회로 패턴 을 생성 하 기 위해 사용 될 수 있 다 . 이 패턴 은 기판 ( 예컨대 , 실리콘 웨이퍼 ) 상의 ( 예 를 들 어 , 한 개 또는 수 개 의 다이 의 부분 을 포함 하 는 ) 타 겟 부 상 으로 전사 ( transfer ) 될 수 있 다 . 패턴 의 전사 는 통상 적 으로 기판 상 에 제공 된 방사선 - 감응 재 ( 레지스 트 ) 층 상 으로 의 이미 징 ( imaging ) 을 통해 수행 된다 . 일반 적 으로 , 단일 기판 은 연속 하 여 패 터닝 되 는 인접 한 타 겟 부 들 의 네트워크 를 포함 할 것 이 다 . 공지 된 리소그래피 장치 는 , 한 번 에 타 겟 부 상 으로 전체 패턴 을 노광 함 으로써 각각 의 타 겟 부 가 조사 ( irradiate ) 되 는 소위 스 테퍼 , " 및 방사선 빔 을 통해 주 어 진 방향 ( "" 스캐닝 ""- 방향 ) 으로 패턴 을 스캐닝 하 는 한편 ", 이 방향 과 평행 한 방향 ( 같 은 방향 으로 평행 한 방향 ) 또는 역 - 평행 방향 ( 반대 방향 으로 평행 한 방향 ) 으로 기판 을 동기 적 으로 스캐닝 함 으로써 각각 의 타 겟 부 가 조사 되 는 소위 스캐너 를 포함 한다 . 또한 , 기판 상 에 패턴 을 임프 린트 ( imprint ) 함 으로써 패 터닝 디바이스 로부터 기판 으로 패턴 을 전사 할 수 도 있 다 .