처리 스테이션 ( 3 ) 은 예 를 들 면 Y 방향 ( 도 1 의 좌우 방향 ) 으로 연장 하 는 2 열 의 반송 라인 ( A , B ) 를 갖추 고 있 다 . 이 반송 라인 ( A , B ) 에 있 어서 는 회전자 반송 이나 아암 에 의한 반송 등 에 의해 유리 기판 ( G ) 를 반송 할 수 있 다 . 처리 스테이션 ( 3 ) 의 정면 측 인 X 방향 부 방향 측 ( 도 1 의 하측 ) 의 반송 라인 ( A ) 에 는 , 카 셋 트 스테이션 ( 2 ) 측 으로부터 인터페이스 스테이션 ( 5 ) 측 에 향하 여 차례 로 예 를 들 면 유리 기판 ( G ) 상 의 유기물 을 제거 하 는 엑 시머 UV 조사 유 니트 ( 20 ) , 유리 기판 ( G ) 를 세정 하 는 스 크 러버 세정 유 니트 ( 21 ) , 제 1 의 열처리 유 니트 군 ( 22 ) , 제 2 의 열처리 유 니트 군 ( 23 ) , 유리 기판 ( G ) 에 레지스 트 액 을 도포 하 는 레지스 트 도포 처리 유 니트 ( 24 ) , 유리 기판 ( G ) 를 감압 건조 하 는 감압 건조 유 니트 ( 25 ) 및 제 3 의 열처리 유 니트 군 ( 26 ) 이 직선 적 으로 일렬 로 배치 되 고 있 다 .