도시 된 바 와 같이 , 조명 시스템 ( 41 ) 은 기판 ( 13 ) 을 직접 조사 할 수 있 지만 , 반응 챔버 는 또한 조명 시스템 과 기판 ( 13 ) 사이 의 공정 튜브 에 의해 제한 될 수 있 다 . 공정 튜브 는 가스 를 공정 처리 하 기 위한 장벽 을 형성 하 고 적어도 부분 적 으로 복사선 투과 표면 으로서 기능 할 수 있 다 . 조명 시스템 ( 41 ) 은 반응 챔버 외부 에 제공 될 수 있 고 , 복사선 투과 표면 을 통해 반응 챔버 내 로 자외선 을 조사 하 도록 구성 되 고 배열 될 수 있 다 . 공정 튜브 는 반응 챔버 내 에 제공 된 증착 생성물 및 완화 된 온도 로부터 조명 시스템 ( 41 ) 을 보호 할 수 있 다 .