또한 , 본 실시 형태 의 노광 장치 ( 100 ) 에 의하 면 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 각 쇼트 영역 에 대한 주사 노광 시 에 , 주제 어 장치 ( 20 ) 는 , 레티 클 간섭계 ( 16 ) 와 인코더 ( 50 A , 50 C ) ( 및 50 B 및 50 D ) 의 계측 값 에 기초 하 여 , 레티 클 ( R ) ( 레티 클 스테이지 ( RST ) ) , 웨이퍼 ( W ) ( 웨이퍼 스테이지 ( WST ) ) 를 주사 방향 ( Y 축 방향 ) 을 따라 양호 한 정밀도 로 구동 할 수 있 음 과 함께 , 비 주사 방향 ( X 축 방향 ) 으로 도 웨이퍼 ( W ) ( 웨이퍼 스테이지 ( WST ) ) 를 양호 한 정밀도 로 구동 할 수 있 어 , 비 주사 방향 에 관한 레티 클 ( R ) ( 레티 클 스테이지 ( RST ) ) 과 웨이퍼 ( W ) ( 웨이퍼 스테이지 ( WST ) ) 의 고 정밀 한 위치 결정 ( 얼라이먼트 ) 도 가능 해진다 . 이 로써 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 복수 의 쇼트 영역 에 레티 클 ( R ) 의 패턴 을 양호 한 정밀도 로 형성 할 수 있 게 된다 .