퇴적 시키 는 금속 으로서 는 , 예 를 들 면 Al , Sr , Ba , Sc , Y , Ti , Zr , Hf 및 Ta 등 이외 , La 및 Ce 등 의 란타노이드 ( lanthanoid ) 계 금속 등 이 있 다 . 사용 할 금속 은 하프늄 ( Hf ) 및 지르코늄 ( Zr ) 중 적어도 하나 인 것 이 바람직 하 다 . Hf 혹은 Zr 은 , 절 연막 의 형성 후 에 높 은 비유전율 을 얻 을 수 있 을 뿐 만 아니 라 , 열 적 안정 성 에 도 우수 하 다 . 또 , 퇴적 시키 는 금속 은 , 단일 원소 만 으로 이루어진 것 또는 복수 의 금속 원소 로 이루어진 것 이 어도 된다 . 또 , 다른 원소 의 금속 막 을 적층 시킴 으로써 형성 된 것 을 사용 해도 된다 . 금속 및 실리콘 으로 이루어진 막 ( 102 ) 을 퇴적 시키 는 동안 및 퇴적 시킨 후 에 있 어서 는 , 금속 원자 및 실리콘 원자 가 산화 반응 을 생기 기 어렵 게 하 기 위해서 , 예 를 들 면 분위기 의 산소 분압 을 충분히 낮 게 하 는 것 이 바람직 하 다 . 즉 , 제 1 의 공정 의 종료 로부터 후술 의 제 2 의 공정 의 개시 까지 , 금속 및 실리콘 으로 이루어진 막 을 , 그 산화 반응 이 생기 기 어려운 분위기 중 에 보유 하 는 것 이 바람직 하 다 .