도 6 ( a ) 는 , 질화 실리콘 막 의 에칭 레이트 , 석영 의 에칭 레이트 , 선택 비 ( 질화 실리콘 막 의 에칭 레이트 / 석영 의 에칭 레이트 ) 의 온도 의존 성 을 각각 나타내 는 그래프 이 며 , 도 6 ( b ) 는 , 그 근원 이 되 는 데이터 를 나타내 는 표 이 다 . 도 6 ( a ) 에 대해 , 좌측 의 종축 ( 縱軸 ) 은 질화 실리콘 막 및 석영 의 에칭 레이트 ( Å ／ min ) 를 나타내 고 , 우측 의 종축 은 선택 비 ( 질화 실리콘 막 의 에칭 레이트 / 석영 의 에칭 레이트 ) 를 나타낸다 . 또한 , 횡축 은 처리 실 ( 201 ) 내 의 온도 를 나타낸다 . 그래프 중 에서 , 까만 동그라미 는 질화 실리콘 막 의 에칭 레이트 를 나타내 고 , 하얀 동그라미 는 석영 의 에칭 레이트 를 나타내 며 , 십자 마크 는 선택 비 를 나타낸다 . 에칭 대상 의 질화 실리콘 막 은 , 상술 한 실시 형태 에서 예시 한 범위 내 의 처리 조건 으로 성막 했 다 . 에칭 은 , 온도 를 300 ℃, 350 ℃, 400 ℃, 450 ℃, 500 ℃ 로 바꾸 었 다 . 온도 이외 의 에칭 조건 은 , 압력 ： 100 Torr , F 2 유량 ： 2 slm , N 2 유량 ： 8 slm , F 2 농도 [ F 2 / ( F 2 ＋ N 2 ) ] ： 20 % 로 했 다 .