상기 식각 대상 막 ( 102 ) 상 에 희생 마스크 막 ( 도시 안함 ) 을 형성 한다 . 상기 희생 마스크 막 은 단일 층 으로 형성 할 수 도 있 고 , 2 층 이상 의 적층 구조 를 가질 수 도 있 다 . 상기 희생 마스크 막 은 스핀 코팅 으로 형성 될 수 있 는 반사 방지 막 및 포토레지스트 막 일 수 있 다 . 상기 희생 마스크 막 을 패 터닝 함 으로써 , 제 1 내지 제 3 희생 마스크 패턴 ( 104 a , 104 b , 104 c ) 을 각각 형성 한다 .