도 8 ( a ) 에 나타내 는 바 와 같이 , 게이트 ( 5 ) 의 노출 상면 , 제 1 및 제 2 게이트 측벽 절 연막 ( 6 - 1 , 6 - 2 ) 상 , 제 3 및 제 4 게이트 측벽 절 연막 ( 7 - 1 , 7 - 2 ) 상 , 제 1 및 제 2 절연성 커버 막 ( 12 - 1 , 12 - 2 ) 상 , 제 1 및 제 2 게이트 측벽 도전 막 ( 10 - 1 , 10 - 2 ) 의 측면 , 드레 인 ( 11 - 1 ) 의 노출 상면 , 소스 ( 11 - 2 ) 의 노출 상면 , 필드 산화 막 ( 2 ) 상 에 기지 의 방법 , 예 를 들 어 , 스퍼터링 에 의해 Co ( 코발트 ) 막 ( 60 ) 을 퇴적 한다 .