표 2 는 300 ㎜ 웨이퍼 에 노 말 샷 만 적용 한 경우 와 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 1 개 노광 마스크 로 필드 샷 과 다 이 샷 을 적용 한 경우 를 비교 한 결과 이 다 . 캐 패 시터 패턴 형성 을 위한 총 샷 수 는 142 % 로 증가 하나 , 총 노광 공정 시간 은 1 . 13 배 증가 하 는 데 그친다 . 표 2 에 제시 한 구체 적 수치 는 일 예 로서 , 노광 마스크 의 레이아웃 에 따라 달라질 수 있 다 . 따라서 , 2 개 마스크 로 캐 패 시터 패턴 을 형성 하 는 노광 공정 에 비해 공정 시간 을 단축 할 수 있 고 , 노광 마스크 를 교체 할 필요 가 없 어 노광 장비 의 수명 을 연장 할 수 있 다 .