다음 에 , 도 4 a 는 본 발명 에 따른 최소 단위 의 전자 빔 증착 장치 를 나타낸 것 으로 , 탄소 나노 튜브 로 형성 된 에 미터 ( 302 ) 을 갖 는 하나 의 전계 방출 패널 ( 301 ) 과 하나 의 용기 지지대 ( 121 ) , 용기 ( 122 ) , 그리고 용기 ( 122 ) 에 담긴 증착 물질 ( 124 ) 을 구비 한 증착 부 ( 120 ) 를 나타낸 것 이 고 , 도 4 b 는 상기 도 4 a 와 같 은 전자 빔 증착 장치 다 수개 를 선형 적 으로 배열 한 것 을 나타낸 것 이 며 , 도 4 c 는 도 4 a 와 같 은 전자 빔 증착 장치 다 수개 를 이차원 적 으로 배열 한 것 을 나타낸 것 이 다 . 전자 빔 을 선형 적 으로 배열 하 게 되 는 경우 기판 의 이동 에 의해 대 면적 에 균일 한 증착 이 가능 하 다 . 일반 적 으로 대면 적 증착 을 위해서 기판 과 증착 물 사이 의 간격 을 멀리 하 게 되 는데 , 선형 적 으로 전자 빔 을 배열 시 그 간격 을 가깝 게 가져갈 수 있 어 , 증착 속도 의 향상 과 함께 증착 물 의 이용 효율 을 크 게 향상 시킬 수 있 다 . 또한 이 차원 배열 의 경우 선형 적 인 배열 에 비하 여 기판 의 이동 필요 없이 대면 적 증착 이 가능 하 므로 증착 시간 을 크 게 감소 시킬 수 있 다 .