그리고 상기 반응 챔버 ( 200 ) 에 는 소정 의 산소 를 일정 한 압력 으로 제어 하 여 반응 챔버 ( 200 ) 내부 로 공급 하 기 위한 산 소공 급부 ( 230 ) 가 형성 되 며 , 이 는 기판 상 에 초전도 층 을 증착 시킨 후 초전도 층 의 산소 결핍 현상 을 보강 하 기 위한 것 으로 산소 분위기 ( ~ 5 mTorr ) 에서 초전도 층 의 증착 과 동시 에 산소 열처리 가 가능 하 도록 한 것 이 다 . 여기 에서 산 소공 급부 ( 230 ) 에 의해 산소 가 공급 되 어 열처리 및 초전도 층 의 증착 이 완료 되 면 상기 반응 챔버 ( 200 ) 내부 의 산소 는 후술 할 분리 챔버 ( 300 ) 로부터 펌핑 되 어 다시 진공 상태 를 유지 하 게 된다 .