본 발명 의 또 다른 형태 에 의하 면 , 기판 상 에 박막 을 형성 하 는 처리 를 수행 하 는 처리 실과 , 상기 박막 을 형성 하 는 처리 가스 를 상기 처리 실 내 에 공급 하 는 처리 가스 공급계 와 , 상기 처리 실 내 에 퍼지 가스 를 공급 하 는 퍼지 가스 공급계 와 , 상기 처리 실 내 를 클리닝 하 는 클리닝 가스 를 상기 처리 실 내 에 공급 하 는 클리닝 가스 공급계 와 , 상기 처리 실 내 를 배기 하 는 배 기계 와 , 상기 처리 실 내 를 가열 하 는 히터 와 , 상기 처리 실 의 외측 에 상기 처리 실 을 덮 도록 설치 되 고 상기 처리 실 내 를 강제 냉각 하 는 강제 냉각 기구 와 , 상기 처리 실 내 에 기판 이 없 는 상태 에서 , 상기 처리 실 내 를 강제 냉각 함 으로써 상기 처리 실 내 의 온도 를 강하 시켜 상기 처리 실 내 에 퇴적 한 상기 박막 에 열 충격 을 주 어 강제 적 으로 크랙 을 발생 시키 며 , 부착력 이 약한 부착물 을 강제 적 으로 박리 시키 고 , 상기 처리 실 내 를 가스 퍼지 하 도록 , 상기 강제 냉각 기구 와 상기 히터 와 상기 퍼지 가스 공급계 와 상기 배 기계 를 제어 함 과 동시 에 , 상기 처리 실 내 를 클리닝 할 때 , 상기 처리 실 내 를 제 1 온도 로 가열 하 면서 상기 처리 실 내 에 상기 클리닝 가스 로서 불소 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 불소 가스 를 단독 으로 공급 하 고 , 상기 처리 실 내 에 퇴적 한 상기 박막 을 제거 하 고 , 그 후 , 상기 처리 실 내 를 제 2 온도 로 가열 하 면서 상기 처리 실 내 에 상기 클리닝 가스 로서 불소 가스 를 단독 으로 , 또는 불활성 가스 로 희석 된 불소 가스 를 단독 으로 공급 하 고 , 상기 박막 의 제거 후 에 상기 처리 실 내 에 잔류 한 부착물 을 제거 하 도록 , 상기 히터 와 상기 클리닝 가스 공급계 와 상기 배 기계 를 제어 하 는 컨트롤러 를 포함 하 는 기판 처리 장치 가 제공 된다 .