상기 피복 패턴 들 ( 10 B ) 및 상기 포토레지스트 패턴 들 ( 27 ) 은 마스크 패턴 들 ( 31 ) 을 구성 할 수 있 다 . 즉 , 상기 하드 마스크 막 ( 25 ) 상 에 상기 마스크 패턴 들 ( 31 ) 및 상기 제 2 개 구부 ( 31 H ) 가 형성 될 수 있 다 . 상기 제 2 개 구부 ( 31 H ) 에 상기 하드 마스크 막 ( 25 ) 이 노출 될 수 있 다 .