라디칼 증착 ( Radical Assisted - CVD ) 장치 및 라디칼 증착 방법 을 제공 한다 . 본 발명 에 따른 라디칼 증착 장치 는 , 제 1 샤워 헤드 및 제 2 샤워 헤드 를 포함 하 는 2 단계 구조 의 샤워 헤드 를 채용 하 여 상기 제 1 샤워 헤드 에 전력 을 인가 함 으로써 상기 제 1 샤워 헤드 와 제 2 샤워 헤드 사이 의 공간 에서 플라 즈 마를 발생 시키 는 라디칼 증착 장치 에 있 어서 , 상기 전력 인가 를 위한 RF 전원 부 가 , 고정 주파수 를 가진 신호 를 출력 하 는 표준 신호 발생기 , 가변 주파수 를 가진 신호 를 출력 하 는 가변 신호 발생기 , 표준 신호 발생기 및 가변 신호 발생기 로부터 신호 를 입력 받 아 합성 변조 하 여 출력 하 는 변조기 , 변조기 로부터 출력 된 변조 신호 를 입력 받 아 증폭 출력 하 는 앰프 , 및 앰프 의 출력 신호 에 대해 최대 전력 전송 을 위한 매칭 박스 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 . 본 발명 에 따르 면 고주파 전압 의 진폭 이나 주기 를 변조 하 여 플 라즈 마의 안정 성 을 확보 하 여 , 막 의 증착 속도 및 막 질 을 향상 시킬 수 있 다 . 본 발명 에 따른 이러 한 변조 방식 은 RA - ALD ( Radical Assisted - ALD ) 공정 과 RA - 싸이클 릭 CVD ( Radical Assisted - cyclic CVD ) 공정 에 도 적용 할 수 있 다 .