하 기 실시 예 에 논의 된 바 와 같이 , " 본 발명 의 흡착제 의 성능 에서 측정 가능 한 인자 는 "" 중심 "" 질소 와 구별 되 는 "" 에지 ( edge ) "" 질소 의 양 인 것 으로 고려 되 고 ", 여기 서 , " "" 에지 "" 질소 원자 는 흑연 시트 또는 평면 의 에지 에 위치 하 는 피롤 또는 피리딘 그룹 의 부분 이 다 . 이 들 질소 원자 는 가장 불 안정 성 ( labile ) 이 고 ", 클로라민 및 염소 원자 와 같 은 흡착제 와 접촉 하 는 다양 한 화합물 과 상호 작용 한다 . 에지 질소 의 양 은 X - 선 광전자 분광계 ( XPS ) 와 같 은 표면 분석 기술 으로 확인 할 수 있 다 . XPS 또는 임의 의 다른 표면 분석 기술 로 측정 된 에지 질소 의 양 은 약 0 . 1 at . % 내지 약 1 . 2 at . %, 약 0 . 2 at . % 내지 약 1 . 0 at . %, 약 0 . 2 at . % 내지 약 0 . 8 at . %, 또는 약 0 . 2 at . % 내지 약 0 . 6 at . %, 또는 상기 한 범위 의 임의 의 조합 일 수 있 다 . 에지 질소 의 양 은 또한 약 0 . 1 at . %, 약 0 . 2 at . %, 약 0 . 3 at . %, 약 0 . 4 at . %, 약 0 . 5 at . %, 약 0 . 6 at . %, 약 0 . 7 at . %, 약 0 . 8 at . %, 약 0 . 9 at . %, 약 1 . 0 at . %, 약 1 . 1 at . %, 약 1 . 2 at . %, 또는 XPS 또는 임의 의 다른 표면 분석 기술 로 다시 측정 된 범위 의 종점 으로서 이 들 2 개 의 값 의 조합 으로 형성 된 임의 의 범위 일 수 있 다 .