본 발명 은 배양액 을 사용 하 여 세포 가 배양 되 는 세포 배양 챔버 및 이 를 포함 한 세포 배양 장치 에 관한 것 으로서 , 특히 배양 되 는 세포 가 세포 배양 챔버 내 에 배양액 이 유출 입 되 는 것 에 영향 받 지 않 고 균일 하 게 분포 된 상태 에서 배양 될 수 있 는 세포 배양 챔버 및 이 를 포함 한 세포 배양 장치 에 관한 것 이 다 .