도 1 d 내지 1 f 를 참조 하 면 , 결합 부분 의 노출 된 포토레지스트 필름 ( 144 ) 에 빛 으로 노광 공정 ( 150 ) 을 수행 하 여 포토레지스트 필름 ( 144 ) 을 경화 시킨 후 , 노광 되 지 않 은 포토레지스트 필름 ( 144 ) 을 현상 하 여 건식 필름 포토레지스트 패턴 ( 160 ) 을 형성 한다 . 다음 으로 , 남 은 건식 필름 포토레지스트 패턴 ( 160 ) 에 열 을 가하 여 경화 시켜 리페 어 패턴 ( 170 ) 을 포함 하 는 노광 마스크 를 형성 한다 . 본 발명 의 일 실시 예 에 따르 면 , 포토레지스트 필름 ( 144 ) 은 염료 , 필러 ( Filler ) 및 광 개시제 ( Photoinitiator ) 를 다수 포함 하 여 빛 을 차단 하 며 , 노광 시 발생 하 는 열 에 도 견디 는 내열 성 을 갖 게 하 는 것 이 바람직 하 다 .