또한 , 선택 적 산화 공정 중 에 수증기 ( H 2 O ) 와 텅스텐 막 ( 14 ) 의 반응 이 일어나 WH 2 O 4 증기 ( Vapor ) 와 같 은 텅스텐산 화물 ( 17 ) 이 형성 되 는데 , 이러 한 텅스텐 산화물 ( 17 ) 은 웨이퍼 와 챔버 를 오염 시킬 뿐 아니 라 , 실리콘 물질 의 산화 균일 도 ( Oxidation Uniformity ) 를 저하 시키 는 역할 을 하 여 소자 의 신뢰 성 에 치명 적 인 문제 를 발생 시킨다 .