고온 가열 과 플 라즈 마 보충 을 통해 니켈 기판 상 에 성장 한 그래핀 의 주름 을 감소 및 제거 하 며 ( 본 실시 예 에서 기판 에 니켈 , 백금 , 금 , 은 , 로듐 , 이리듐 , 루테늄 등 기타 금속 및 합금 필름 을 사용 하 며 니켈 을 예시 로 사용 함 ) 구체 적 으로 , 먼저 니켈 기판 상 에 주름 진 그래핀 필름 을 플 라즈 마 보조 화학 기상 증착 시스템 에 넣 고 수소 를 주입 하 며 , 압력 조절 밸브 를 통해 반응 챔버 압력 을 10 Pa 로 안정 화 시키 고 , 500 내지 800 ℃ 로 가열 하 여 1 내지 10 분 동안 유지 한다 . 유도 결합 플 라즈 마 발생기 를 가동 하 고 전력 을 10 내지 50 W 로 조정 한다 . 일반 적 으로 1 내지 5 분 이 면 그래핀 필름 의 주름 을 효과 적 으로 감소 및 제거 할 수 있 다 . 처리 가 완료 된 후 온도 를 자연 적 으로 냉각 하 며 , 온도 가 실온 에 가까워 지 면 가스 를 차단 한다 .