COR 처리 장치 ( 5 ) 를 구성 하 는 챔버 ( 40 ) , 탑재 대 ( 42 ) 등 의 각종 구성 부품 의 재질 로서 는 Al 이 이용 되 고 있 다 . 챔버 ( 40 ) 를 구성 하 는 Al 재 는 무구 ( 無垢 ) 한 것 이 어도 되 고 , 내면 ( 챔버 본체 ( 51 ) 의 내면 , 샤워 헤드 ( 52 b ) 의 하 면 등 ) 에 양극 산화 처리 를 실시 한 것 이 어도 된다 . 한편 , 탑재 대 ( 42 ) 를 구성 하 는 Al 의 표면 은 내마모성 이 요구 되 므로 , 양극 산화 처리 를 실시 하 여 표면 에 내마모성 이 높 은 산화 피막 ( Al 2 O 3 ) 을 형성 하 는 것 이 바람직 하 다 .