모듈 에 탱크 가 위치 하 고 각 헹굼 단계 후 에 탱크 를 비운다 . 세정제 는 40 - 80 ℃ 의 따듯 한 초 순수 ( DI water ) 이 다 . 메 가 어쿠스틱 ( megaacoustic ) 소스 로 웨이퍼 를 헹구 는 동안 선택 적 으로 음향 방사 ( acoustic irradiation ) 가 일어난다 . 음향 방사 ( acoustic irradiation ) 주파수 는 1 MHz 이 다 . 프로세스 기간 은 바람직 하 게 6 ½ 분 이 다 .