본 발명 에 있 어서 , 지환 식 에폭시 화합물 ( B 2 ) 로서 는 , 입수 가 용이 하 다는 관점 에서 , 3 , 4 - 에폭시 시클 로 헥 실 메틸 3 , 4 - 에폭시 시클로헥산 카르복실 레이트 가 보다 바람직 하 다 . 또한 , 도전 층 의 부식 을 효과 적 으로 억제 할 수 있 다고 하 는 관점 에서 , 2 , 2 - 비스 ( 히드록시 메틸 ) - 1 - 부탄올 의 1 , 2 - 에폭시 - 4 -( 2 - 옥시 라 닐 ) 시클로헥산 부가물 이 바람직 하 다 . 특히 3 , 4 - 에폭시 시클 로 헥 실 메틸 3 , 4 - 에폭시 시클로헥산 카르복실 레이트 와 2 , 2 - 비스 ( 히드록시 메틸 ) - 1 - 부탄올 의 1 , 2 - 에폭시 - 4 -( 2 - 옥시 라 닐 ) 시클로헥산 부가물 을 조합 하 여 지환 식 에폭시 화합물 ( B 2 ) 로서 사용 하 면 , 도전 층 의 부식 을 보다 효과 적 으로 억제 할 수 있 다 . 지환 식 에폭시 화합물 ( B 2 ) 로서 , 1 종 의 지환 식 에폭시 화합물 을 단독 으로 이용 하 여도 , 다른 복수 종 을 조합 하 여 이용 하 여도 좋 다 .