이것 에 의해 , 공간 ( A ) 의 임피던스 를 최적 화 하 고 , 기판 ( W ) 외 주부 의 에칭 특성 을 조정 할 수 있 다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 면내 의 에칭 의 균일성 을 도모 하 여 , 기판 ( W ) 의 최 외주 의 에칭 을 개선 할 수 있 다 . 또한 , 제 1 환형 부재 ( 26 a ) 를 둘레 방향 으로 분할 하 고 , 기판 ( W ) 의 외주 부 의 에칭 특성 에 따라 둘레 방향 으로 분할 한 복수 의 제 1 환형 부재 ( 26 a ) 의 유전율 을 제어 하 여도 좋 다 . 이것 에 의해 , 기판 ( W ) 에서 의 에칭 의 면내 균일성 을 더욱 높일 수 있 다 .