또한 , 본 발명 의 식별 마크 의 판독 장치 에 있 어서 는 적 외광선 의 광로 를 규정 하 는 반사 미러 가 설치 되 어 있 는 것 에 의해 , 그 설치 각도 를 조정 함 으로써 광원 으로부터 출사 한 적 외광선 의 광축 을 임의 의 방향 으로 향하 게 할 수 있 으므로 광원 을 임의 의 위치 에 설치 하 는 것 이 가능 해 지 는 동시 에 , 취득 화상 에 식별 마크 만 을 찍 어 내 거나 , 식별 마크 에 더 하 여 주 면 에 형성 된 예 를 들 어 IC 의 패턴 등 을 찍 어 내 는 것 을 선택 적 으로 행할 수 있 게 된다 .