상술 한 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 기판 처리 장치 는 , 기판 을 처리 하 는 기판 처리 장치 에 있 어서 , 내부 에 기판 이 처리 되 는 처리 공간 을 가지 는 공정 챔버 , 상기 처리 공간 내 에서 기판 을 지지 하 도록 제공 된 기판 지지 유닛 및 상기 처리 공간 내 에서 기판 의 처리 상태 를 모니터링 하 는 검출 유닛 을 포함 하 되 , 상기 검출 유닛 은 , 상기 처리 공간 에서 생성 되 는 광 을 수신 하 여 상기 처리 공간 내 에서 기판 의 처리 상태 를 검출 하 는 검출 부재 , 상기 공정 챔버 와 상기 검출 부재 사이 에 제공 되 고 상기 공정 챔버 에서 의 광 을 상기 검출 부재 로 전달 하 는 광로 를 가지 는 연결 부재 및 상기 광로 상 에 설치 되 어 상기 광이 상기 검출 부재 에 입사 되 는 입사 광량 을 조절 하 는 조절 부재 를 포함 한다 .