스피너 장치 ( 10 ) 는 노광 장치 ( 20 ) 에 인접 하 여 배치 될 수 있 다 . 기판 ( W ) 은 스피너 장치 ( 10 ) 및 노광 장치 ( 20 ) 사이 에 전달 될 수 있 다 . 기판 ( W ) 은 실리콘 웨이퍼 를 포함 할 수 있 다 . 스피너 장치 ( 10 ) 및 노광 장치 ( 20 ) 는 기판 ( W ) 상 에 포토레지스트 패턴 을 형성 할 수 있 다 . 스피너 장치 ( 10 ) 는 포토레지스트 의 도포 공정 , 베 이크 공정 및 현상 공정 을 수행 할 수 있 다 . 노광 장치 ( 20 ) 는 레티 클 ( R ) 을 이용 하 여 포토레지스트 의 노광 공정 을 수행 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 노광 장치 ( 20 ) 는 EUV ( Extreme Ultraviolet light ) 노광 장치 이 고 , 레티 클 ( R ) 은 EUV 레티 클 일 수 있 다 .