또 다른 측면 에서 , 타켓 재료 ; 상기 타 겟 재료 로 빔 경로 를 구축 하 는 적어도 하나 의 광학 기기 ; 상기 빔 경로 를 따라서 배치 되 는 광학 이득 매체 ; 상기 빔 경로 를 따라서 지연 라인 을 구축 하 기 위해 챔버 에 배치 된 복수 의 광학 기기 ; 및 상기 타 겟 재료 로부터 반사 된 적어도 일부 의 광자 를 흡수 하 기 위해 상기 챔버 에 배치 된 가포 화 흡수 가스 ; 를 포함 하 는 디바이스 가 본문 에 기술 된다 .