상술 한 전처리 하 는 단계 ( S 10 ) 후 에 비정질 실리콘 막 을 증착 시킬 경우 , 하 부막 이 매끄러워 져 증착 되 는 비정질 실리콘 막 도 함께 표면 조도 가 개선 되 고 증착 시 균 일도 가 향상 되 는 결과 를 얻 을 수 있 었 다 . 또한 , 증착 온도 가 낮 아 질수록 H + 성분 이 증가 하 고 표면 조도 가 좋 지 않 아 증착 시 문제점 이 증가 될 수 있 는데 , 본 실시 예 에 따르 면 H + 성분 을 감소 시키 고 표면 조도 가 개선 되 는 효과 를 얻 을 수 있 다 .