열처리 장치 는 전기로 에 한정 되 지 않 고 , 가열 된 가스 등 의 매체 로부터 의 열전도 , 또는 열복사 에 의해 , 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 를 이용 하 여도 좋 다 . 예 를 들 면 , GRTA ( Gas Rapid Thermal Anneal ) 장치 , LRTA ( Lamp Rapid Thermal Anneal ) 장치 등 의 RTA ( Rapid Thermal Anneal ) 장치 를 이용 할 수 가 있 다 . LRTA 장치 는 , 할로겐 램프 , 메탈 할 라이드 램프 , 크세논 아크 램프 , 카본 아크 램프 , 고압 나트륨 램프 , 고압 수은 램프 등 의 램프 로부터 발하 는 빛 ( 전자파 ) 의 복사 에 의해 , 피 처리 물 을 가열 하 는 장치 이 다 . GRTA 장치 는 , 고온 의 가스 를 이용 하 여 열처리 를 실시 하 는 장치 이 다 . 가스 로서 는 , 아르곤 등 의 희가스 , 또는 질소 와 같 은 , 열처리 에 의해 피 처리 물 과 반응 하 지 않 는 불활성 가스 가 이용 된다 .