종래 기술 에 따른 폴리 싱 헤드 에 관해서 살펴보 면 , 우선 종래 의 폴리 싱 헤드 의 몸체 내부 에 는 폴리 싱 헤드 에 가해진 회전력 과 수직 압력 , CMP 장비 에서 발생 한 미세 한 진동 이나 기울어짐 을 흡수 하 고 완화 시켜 웨이퍼 의 전면 에 고르 게 힘 이 가해 지 도록 탄 성막 이나 탄성 층 으로 이루어진 에어백 ( air bag ) 또는 에 어 실린더 ( air cylinder ) 가 구비 된다 .