본 발명 은 상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 고자 안출 된 것 으로서 , 상세 하 게 는 급속 성형 이 가능 한 미세 임프 린트 리소그래피 장치 및 가열 방법 을 제공 하 여 나노 임프 린트 리소그래피 공정 의 싸이클 타임 을 축소 하 는 기술 적 과제 를 달성 하 는 발명 으로 , 특히 표피 효과 ( skin effect ) 를 이용 하 여 금속 스탬프 의 표면 만 급속 가열 함 과 동시 에 고분자 레지스 트 의 표면 만 열 을 유리 전이 온도 ( Tg ) 이상 으로 순간 적 으로 전도 시켜 성형 함 으로써 가열 시간 뿐 만 아니 라 냉각 하 는 시간 의 비용 도 줄여 생산 성 을 향상 시키 고 , 금속 몰드 의 대면 적 온도 분포 를 일정 하 게 하 여 생산품 의 품질 을 개선 하 는 데 에 목적 이 있 다 .