본 발명 의 정공 주입 층 ( 3 ) 은 본 기술 분야 에서 알려진 재료 를 사용 할 수 있 으며 , 제한 되 지 않 으나 PEDOT / PSS 또는 구리 프탈 로 시아닌 ( CuPc ) , 4 , 4 '," 4 ""- 트리스 ( 3 - 메틸 페닐 페닐 아미노 ) 트리 페닐 아민 ( m - MTDATA ) 등 의 물질 을 5 nm ~ 40 nm 두께 로 형성 한다 . "