방법 은 반도체 웨이퍼 에 대한 노 출시 플 라즈 마 프로세싱 가스 를 플 라즈 마로 변형 하 기 위해 플 라즈 마 프로세싱 체적 에 RF 전력 을 전송 하 는 동작 ( 507 ) 을 더 포함 한다 . 일 실시 형태 에 있 어서 , 반도체 웨이퍼 를 홀딩 하 는 척 은 플 라즈 마 프로세싱 체적 에 RF 전력 을 전송 하 기 위해 전극 으로서 동작 된다 . 또한 , 이 방법 에 있 어서 , 가스 분배 유닛 으로부터 의 플 라즈 마 프로세싱 가스 의 배출 플로우 는 배출 영역 내부 로 수용 된다 . 펌프 는 배출 영역 에 유체 적 으로 연결 된 밸브 에 흡입력 을 제공 하 도록 동작 된다 . 그리고 , 밸브 는 배출 영역 으로부터 의 배출 플로우 를 제어 하 도록 동작 되 고 , 이 로써 가스 분배 유닛 을 통한 플 라즈 마 발생 체적 으로부터 배출 영역 으로 의 배출 플로우 를 제어 한다 .