여기 에서 는 , 화소 전극 ( 77 ) 으로서 는 , 스퍼터링 법 에 의해 ITO 를 성막 한 후 , ITO 위 에 레지스 트 를 도포 한다 . 다음 에 , 제 6 포토 마스크 를 사용 하 여 레지스 트 를 노광 및 현상 하 여 , 레지스 트 마스크 를 형성 한다 . 다음 에 , 레지스 트 마스크 를 사용 하 여 ITO 를 에칭 하 여 화소 전극 ( 77 ) 을 형성 한다 .