본 발명 의 제 6 양태 에 따른 발광 장치 는 발광 층 및 광 출사 층 을 포함 하 고 , 이때 광 출사 층 에 또는 광 출사 층상 에 복수 의 이방성 산란 입자 가 배치 되 며 , 상기 산란 입자 는 발광 장치 의 측 방향 을 따라 정렬 된다 . 산란 입자 의 정렬 은 상기 입자 의 이방성 특징 과 조합 되 어 발광 장치 로부터 의 출사 시 광이 이방성 으로 산란 되 도록 한다 . 따라서 , 상기 발광 장치 의 방출 프로파일 은 랑베르 방출 프로파일 과 는 다르 며 , 이때 상기 방출 프로파일 은 산란 입자 의 산란 거동 및 이방성 정도 에 의존 한다 .