이 에 따라 , 가스 분배 판 ( 100 ) 과 샤워 헤드 ( 200 ) 가 서로 다른 열팽창 계수 를 가질 경우 라도 , 공정 진행 시 열전달 부재 ( 300 ) 를 통해 샤워 헤드 ( 200 ) 의 열 을 가스 분배 판 ( 100 ) 측 으로 전달 하 여 샤워 헤드 ( 200 ) 의 과도 한 온도 상승 을 억제 할 수 있 다 . 또한 , 가스 분배 판 ( 100 ) 과 샤워 헤드 ( 200 ) 사이 에 이격 공간 이 없 도록 상호 밀착 됨 으로써 열전달 부재 ( 300 ) 가 공정 가스 에 노출 됨 으로 인해 발생 할 수 있 는 파티클 문제 등 을 해결 할 수 있 다 .