본 발명 은 , 챔버 를 관통 하 여 설치 되 며 다수 의 내부 유로 를 가지 는 축 에 연결 되 는 가스 분사 장치 에 있 어서 , 상기 축 의 하단 에 연결 되 는 다수 의 가스 분사 부 ; 상기 다수 의 가스 분사 부를 상기 다수 의 내부 유로 에 각각 연결 하 는 다수 의 가스관 ; 상기 다수 의 가스관 중 에서 적어도 하나 의 가스관 을 통과 하 는 원료 물질 을 가열 시키 는 가열 수단 ; 상기 가열 수단 과 외부 전원 을 연결 하 는 전력선 을 포함 하 는 가스 분사 장치 와 이 를 포함 하 는 기판 처리 장치 에 관한 것 이 다 .