상기 의 기판 과 , 반 투광 성막 ( 몰리브덴 실리사이드 의 산화 막 ) 과 , 차광성 막 ( Cr 막 ) 의 막 구성 으로 이루어지 는 포토 마스크 블랭크 는 몰리브덴 실리사이드 계 의 반 투광 성 막 은 크롬 의 에칭 액 에 대해 내성 이 높 기 ( 거의 에칭 되 지 않 기 ) 때문 에 , 차광성 막인 Cr 막 을 웨트 에칭 하 는 프로세스 를 채용 하 는 경우 유리 하 다 .