또한 상기 각 실시 형태 에서 는 , 예 를 들 어 국제 공개 제 2005 / 074014 호 팜플렛 ( 대응 미국 특허 출원 공개 제 2007 / 0127006 호 명세서 ) 등 에 개시 되 어 있 는 바 와 같이 , 웨이퍼 스테이지 와 는 별도 로 계측 스테이지 를 형성 하 고 , 웨이퍼 의 교환 동작 시 등 에 웨이퍼 스테이지 와 의 교환 으로 계측 스테이지 를 투영 광학계 ( PL ) 의 바로 아래 에 배치 하 고 , 노광 장치 의 특성 ( 예 를 들 어 투영 광학계 의 결상 특성 ( 파면 수차 ) , 조명 광 ( IL ) 의 편광 특성 등 ) 을 계측 하 는 것 으로 해도 된다 . 이 경우 , 계측 스테이지 에 도 헤드 를 배치 하 고 , 전술 한 스케일 부재 를 사용 하 여 계측 스테이지 의 위치 제어 를 실시 하 도록 해도 된다 . 또한 , 웨이퍼 스테이지 에 탑재 한 웨이퍼 의 노광 동작 중 , 계측 스테이지 는 웨이퍼 스테이지 와 간섭 하 지 않 는 소정 위치 로 퇴피 되 어 있 고 , 이 퇴피 위치 와 노광 위치 사이 에서 이동 되 게 된다 . 이 때문 에 , 그 퇴피 위치 에서 도 , 혹은 그 퇴피 위치 와 노광 위치 의 일방 으로부터 타방 으로 의 이동 중 에 도 , 웨이퍼 스테이지 와 동일 하 게 , 계측 스테이지 의 이동 범위 도 고려 하 여 , 인코더 시스템 에 의한 위치 계측 이 불 가능 해져 계측 스테이지 의 위치 제어 가 중단 되 는 경우 가 없 도록 전술 과 동일 하 게 헤드 및 / 또는 스케일 부재 의 배치 등 을 설정 하 는 것 이 바람직 하 다 . 또는 , 그 퇴피 위치 에서 , 또는 그 이동 중 에 전술 한 인코더 시스템 에 의한 계측 스테이지 의 위치 제어 가 중단 될 때 에 는 , 그 인코더 시스템 과 는 별도 의 계측 장치 ( 예 를 들 어 간섭계 , 인코더 등 ) 를 사용 하 여 계측 스테이지 의 위치 제어 를 실시 하 는 것 이 바람직 하 다 . 혹은 , 계측 스테이지 의 위치 제어 는 , 전술 한 간섭계 시스템 만 으로 실시 해도 된다 .