이러 한 종류 의 플 라즈 마 처리 장치 는 , 처리 용기 내 의 처리 공간 에 하부 전극 을 구성 하 는 탑재 대 와 , 그 탑 재 대 의 상부 에 평행 하 게 마련 되 고 처리 가스 의 공급 구멍 을 구비 한 상부 전극 을 구비 하 고 있 다 . 그리고 기판 처리 시 에 는 처리 공간 이 진공 배기 됨 과 동시 에 상기 가스 공급 구멍 을 거쳐서 처리 가스 가 처리 용기 내 로 공급 되 어 처리 공간 이 소정 의 압력 으로 되 고 , 상부 전극 에 고주파 가 인가 되 어 , 이 들 상부 전극 과 하부 전극 사이 에 전계 가 형성 된다 . 이 전계 에 의해 형성 된 처리 가스 의 플 라즈 마 에 의해 상기 탑재 대 상 의 기판 에 처리 가 실시 된다 .