보상 단계 에서 마스크 ( 20 ) 의 구역 ( 21 ) 내 에 위치 하 는 비아 패턴 ( 22 ) 의 사이즈 는 대응 하 는 블록 ( 12 ) , 즉 비아 패턴 ( 22 ) 에 의해 노광 되 는 블록 ( 12 ) 의 패턴 조 밀도 에 비례 하 여 증가 시킨다 . 따라서 , 패턴 조 밀도 가 클수록 CMP 시 단차 가 크 게 발생 하 게 되 며 , 이 로 인해 단차 발생 영역 에 노광 으로 인해 형성 되 는 비아 가 작아지 기 때문 에 이 를 보상 하 기 위해 비아 패턴 ( 22 ) 의 사이즈 를 패턴 조 밀도 에 비례 하 여 증가 시키 게 된다 .