이러 한 투영 광학계 의 수차 의 감소 에 대한 요청 이 강해 지 는 상태 에서 , 노광 장치 내 에 탑재 된 투영 광학계 의 수차 를 측정 해서 조정 하 는 노광 장치 에 대한 요구 가 증가 되 고 있 다 . 경시 적 인 조건 변화 , 또는 노광 처리 중 의 열 의 영향 으로 인해 수차 의 변화 가 발생 된다 . 따라서 , 노광 장치 상 에서 일정 간격 으로 간단 하 게 투영 광학계 의 수차 상태 의 측정 을 가능 하 게 할 필요 가 있 다 . 즉 , 실제 의 사용 상태 와 일치 하 는 정밀 한 렌즈 조정 은 고집 적도 의 디바이스 에 필수 적 이 다 . 이러 한 조정 은 노광 장치 상 에서 투영 광학계 의 수차 를 측정 할 때 에 가능 해진다 .