또한 , 주 노광 장치 , 종 노광 장치 ( 또는 제 1 노광 장치 , 제 2 노광 장치 ) 로 는 , 멀티 렌즈 타입 의 투영 광학계 를 구비 하 는 노광 장치 뿐 만 아니 라 , 예 를 들 어 1 개 의 노광 영역 을 갖 는 투영 광학계 를 구비 한 노광 장치 를 사용 해도 된다 . 또한 , 주 노광 장치 , 종 노광 장치 ( 또는 제 1 노광 장치 , 제 2 노광 장치 ) 에서 는 , 제 1 패턴 및 제 2 패턴 을 형성 하 기 위해 마스크 ( M ) 를 사용 하 였 지만 , 이 들 대신 에 , 액정 마스크 또는 가변 의 패턴 을 생성 하 는 전자 마스크 ( 가변 성형 마스크 ) 를 사용 할 수 있 다 . 이 와 같 은 전자 마스크 로서 , 예 를 들 어 비 발광 형 화상 표시 소자 ( 공간 광 변조기 : Spatial Light Modulator ( SLM ) 라고 도 불린다 ) 의 일종 인 DMD ( Deformable Micro - mirror Device 또는 Digital Micro - mirror Device ) 를 사용 할 수 있 다 . DMD 는 , 소정 의 전자 데이터 에 기초 하 여 구동 하 는 복수 의 반사 소자 ( 미소 미러 ) 를 갖 고 , 복수 의 반사 소자 는 , DMD 의 표면 에 2 차원 매트릭스 형상 으로 배열 되 고 , 또한 소자 단위 로 구동 되 어 노 광광 ( EL ) 을 반사 , 편향 시킨다 . 각 반사 소자 는 그 반사면 의 각도 가 조정 된다 . DMD 의 동작 은 , 예 를 들 어 주제 어부 , 종제 어부 에 의해 제어 될 수 있 다 . 주제 어부 , 종제 어부 는 , 기판 ( P ) 상 에 형성 해야 할 제 1 패턴 및 제 2 패턴 에 따른 전자 데이터 ( 패턴 정보 ) 에 기초 하 여 각각 의 DMD 의 반사 소자 를 구동 하 고 , 조명계 ( IL ) 에 의해 조사 되 는 노 광광 ( EL ) 을 반사 소자 로 패턴 화 한다 . DMD 를 사용 함 으로써 , 패턴 이 형성 된 마스크 ( 레티 클 ) 를 사용 하 여 노광 하 는 경우 에 비해 , 패턴 이 변경 되 었 을 때 에 , 마스크 의 교환 작업 및 마스크 스테이지 에 있 어서 의 마스크 의 위치 맞춤 조작 이 불 필요 해 지 기 때문 에 , 상이 한 패턴 의 로트 가 디바이스 제조 라인 에 공급 된 경우 에 한층 더 효율 적 으로 실시 할 수 있 다 . 또한 , DMD 를 사용 한 노광 장치 는 , 예 를 들 어 일본 특허 공개 공보 평 8 - 313842 호 , 일본 특허 공개 공보 제 2004 - 304135 호 , 미국 특허 제 6 , 778 , 257 호 에 개시 되 어 있 다 . 지 정국 또는 선택 국 의 법령 이 허용 하 는 범위 에서 미국 특허 제 6 , 778 , 257 호 의 개시 를 원용 하 여 , 본문 기재 의 일부 로 한다 .