도 20 에 도시 된 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 , 기판 Wf 를 부분 연마 할 때 에 는 , 연마 패드 ( 502 ) 를 회전축 ( 502 A ) 을 중심 으로 회전 시키 면서 , 연마 패드 ( 502 ) 를 기판 Wf 에 가압 한다 . 이때 , 아암 ( 600 ) 에 기판 Wf 의 반경 방향 으로 요동 시켜도 된다 . 또한 , 회전축 ( 400 A ) 을 중심 으로 스테이지 ( 400 ) 를 회전 시켜도 된다 . 또한 , 컨 디셔 닝 부 ( 800 ) 는 , 드레서 ( 820 ) 를 보유 지지 하 는 드레스 스테이지 ( 810 ) 를 구비 한다 . 드레스 스테이지 ( 810 ) 는 , 회전축 ( 810 A ) 을 중심 으로 회전 가능 하 다 . 도 20 의 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 , 연마 패드 ( 502 ) 를 드레서 ( 820 ) 에 가압 하 고 , 연마 패드 ( 502 ) 및 드레서 ( 820 ) 를 회전 시킴 으로써 , 연마 패드 ( 502 ) 의 컨 디셔 닝 을 행할 수 있 다 . 도 20 에 도시 된 부분 연마 장치 ( 1000 ) 에 있 어서 , 제 어 장치 ( 900 ) 에 의해 , 스테이지 ( 400 ) 의 회전 속도 , 연마 패드 ( 502 ) 의 회전 속도 , 연마 패드 ( 502 ) 의 가압 력 , 아암 ( 600 ) 의 요동 속도 , 처리 액 공급 계통 ( 700 ) 으로부터 의 처리 액 의 공급 및 처리 시간 등 을 제어 함 으로써 , 기판 Wf 위 의 임의 의 영역 을 부분 연마 할 수 있 다 .