스 페이서 ( 212 ) 는 샤워 헤드 ( 112 ) 바로 아래 그리고 샤워 헤드 ( 112 ) 와 하부 챔버 부분 ( 101 ) 의 챔버 벽 ( 101 a ) 사이 에 배치 된다 . 스 페이서 ( 212 ) 는 페데 스탈 ( 204 ) 과 마주 보 는 샤워 헤드 ( 112 ) 의 하단 표면 상 에서 외측 주변 부 를 따라 배치 되 는 환형 바디 를 포함 한다 . 일 실시 예 에서 , 스 페이서 ( 212 ) 는 기계 적 수단 을 사용 하 여 샤워 헤드 ( 112 ) 의 하단 표면 에 부착 된다 . 대안 적 인 실시 예 에서 , 스 페이서 ( 212 ) 는 비 기계 적 수단 을 사용 하 여 샤워 헤드 ( 112 ) 의 하단 표면 에 부착 된다 . 프로세싱 영역 ( 234 ) 과 마주 보 는 스 페이서 ( 212 ) 의 환형 바디 의 측벽 ( 212 a ) 은 내측 측벽 을 형성 한다 . 스 페이서 ( 212 ) 는 측면 연장 부 ( 218 ) 가 프로세싱 영역 ( 234 ) 외부 에 형성 되 도록 스 페이서 ( 212 ) 의 환형 바디 의 측벽 ( 212 a ) 으로부터 방사상 외측 으로 연장 하 는 측면 연장 부 ( 218 ) 를 포함 한다 . 일 실시 예 에서 , 측면 연장 부 ( 218 ) 는 스 페이서 ( 212 ) 의 중심 영역 으로부터 외측 으로 연장 한다 . 다른 실시 예 들 에서 , 측면 연장 부 ( 218 ) 는 스 페이서 ( 212 ) 의 상단 영역 또는 하단 영역 으로부터 외측 으로 연장 할 수 도 있 다 . 측면 연장 부 ( 218 ) 는 상부 챔버 부분 ( 102 ) 이 하강 될 때 , 챔버 의 하부 챔버 부분 ( 101 ) 의 챔버 벽 ( 101 a ) 의 상단 부 상 에 놓이 도록 구성 된다 . 일 실시 예 에서 , 홈 부 ( 230 ) 가 하부 챔버 부분 ( 101 ) 의 챔버 벽 ( 101 a ) 의 상단 표면 상 에 형성 된다 . 일 실시 예 에서 , O - 링 ( 231 ) 의 일부 가 홈 부 ( 230 ) 외부 로 연장 하 도록 O - 링 ( 231 ) 이 홈 부 ( 230 ) 내 에 임 베 딩 된다 . 상부 챔버 부분 이 하강 될 때 , 측면 연장 부 ( 218 ) 가 하부 챔버 부분 ( 101 ) 의 챔버 벽 ( 101 a ) 상 에 놓이 기 때문 에 , 스 페이서 ( 212 ) 의 측면 연장 부 ( 218 ) 로 하여금 O - 링 ( 231 ) 상 으로 눌리 게 함 으로써 O - 링 ( 231 ) 은 프로세싱 영역 ( 234 ) 을 시일 링 하 도록 사용 된다 .