임프 린트 장치 ( 100 ) 는 , 기판 상 에 공급 된 임프 린트 재 에 몰드 를 접촉 시키 고 , 임프 린트 재 에 경화 에너지 를 부여 함 으로써 , 몰드 의 요철 패턴 으로부터 전사 되 는 경화 된 패턴 을 형성 하 도록 구성 되 는 장치 이 다 . 임프 린트 장치 ( 100 ) 는 , 패턴 이 형성 된 패턴 영역 ( 1 a ) 을 갖 는 몰드 ( 1 ) 를 사용 하 여 , 기판 ( 2 ) 의 샷 영역 상 에 임프 린트 재의 패턴 을 형성 하 는 임프 린트 처리 를 행함 으로써 반도체 디바이스 등 을 제조 하 는 데 사용 된다 . 예 를 들 어 , 임프 린트 장치 ( 100 ) 는 , 패턴 이 형성 된 몰드 ( 1 ) 를 기판 ( 2 ) 상 의 임프 린트 재 에 접촉 시킨 상태 를 유지 하 면서 당해 임프 린트 재 를 경화 시킨다 . 그 후 , 임프 린트 장치 ( 100 ) 는 , 몰드 ( 1 ) 를 기판 ( 2 ) 으로부터 멀리 이동 시켜 몰드 ( 1 ) 를 경화 된 임프 린트 재로 부터 제거 한다 . 결과 적 으로 , 임프 린트 재의 패턴 이 기판 ( 2 ) 상 에 형성 된다 .