도 3 b 에 도시 한 실시 예 에서 , 외측 시일 링 구 조체 ( 220 ) 는 금속 층 ( 212 a ) 을 갖 는 외측 부분 ( 220 a ) , 및 금속 층 ( 212 b ) 을 갖 는 내측 부분 ( 220 b ) 을 구비 한다 . 외측 시일 링 구 조체 ( 220 ) 는 직선 형 구역 들 을 갖 는 것 으로 , 칩 의 코너 에서 직각 을 형성 한다 . 내측 시일 링 구 조체 ( 210 ) 는 금속 층 ( 212 c ) 을 갖 는 외측 부분 ( 210 a ) , 및 금속 층 ( 210 d ) 을 갖 는 내측 부분 ( 210 b ) 을 구비 한다 . 다중 시일 링 구조 체 는 코너 구역 에서 시일 링 구 조체 ( 210 , 220 ) 들 사이 에 삼각형 의 내측 시일 링 구 조체 ( 270 ) 를 더 포함 한다 . 하나 의 실시 예 에서 , 내측 시일 링 구 조체 ( 270 ) 는 삼각형 의 변이 외측 시일 링 구 조체 ( 220 ) 의 변 에 평행 하 게 연장 하 고 삼각형 의 빗변 은 내측 시일 링 구 조체 ( 210 ) 에 인접 하 게 된 이등변 삼각형 으로서 형성 된다 . 다른 실시 예 에서 , 다른 삼각형 형상 도 이용 될 수 있 다 . 삼각형 외 에 도 , 내측 시일 링 구 조체 ( 270 ) 는 다양 한 적층 전도 층 , 및 유전 층 을 통과 해 배치 된 비어 층 을 포함 한 구조 와 실질 적 으로 유사 할 수 있 다 . 내측 시일 링 구 조체 ( 210 ) 는 금속 층 ( 212 d ) 을 갖 는 내측 부분 ( 210 b ) 을 구비 한다 . 내측 시일 링 구 조체 ( 210 ) 는 외측 시일 링 구 조체 ( 220 ) 의 직선형 변 들 과 삼각형 내측 시일 링 구 조체 ( 270 ) 의 빗변 에 평행 하 게 배치 된 직선형 변 들 을 구비 한다 . 본 발명 의 범위 내 에 는 기타 금속 층 의 형태 및 기하학 적 형상 이 포함 된다 . 따라서 , 도 3 b 에 도시 한 실시 예 는 적어도 기하학 적 형상 의 측면 에서 서로 상이 한 시일 링 구 조체 ( 210 , 220 ) 들 을 나타낸다 . 하나 의 예 에서 , " 외측 시일 링 구 조체 ( 220 ) 는 "" A 형 "" 시일 링 으로 지칭 할 수 있 는 한편 ", 내부 시일 링 구 조체 ( 210 , " 270 ) 는 "" B 형 "" 시일 링 으로 지칭 할 수 있 다 . 유리 하 게 는 ", 그러 한 A 형 과 B 형 시일 링 들 의 조합 이 , 종래 에 기계 적 다 이싱 프로세스 로 인해 층 의 박리 가 발생 하 기 가 보다 쉬웠 던 칩 의 코너 에서 의 층 의 박리 의 방지 를 향상 시킨다 .