예 를 들 면 , 그 와 같 은 피 처리 체 에 소정 의 처리 를 실행 하 는 반도체 제조 장치 는 , 반도체 제조 장치 의 상태 를 모니터 하 는 센서 와 , 센서 의 출력 에 의거 한 반도체 제조 장치 의 상태 의 전자 데이터 를 기록 하 는 기록부 와 , 반도체 제조 장치 의 상태 에 관한 전자 데이터 를 이용 하 여 연산 을 행하 는 연산 부를 포함 하 고 , 연산 부 는 , 연산 에 이용 하 는 특징 량 선택 부 를 구비 하 고 , 특징 량 선택 부 는 , 특징 량 선택 에 있 어서 , 특징 량 에 순위 매김 을 행하 고 , 상위 의 것 부터 재 배열 하 는 제 1 공정 과 , 순위 에 따라서 일부 의 특징 량 만 을 이용 한 데이터 그룹 을 복수 개 작성 하 는 제 2 공정 과 , 일부 의 특징 량 만 을 이용 한 데이터 그룹 의 각각 을 사용 해서 , 회귀 혹은 분류 문제 의 예측 성능 을 평가 하 는 지표 로 되 는 값 을 계산 하 는 제 3 공정 과 , 계산 된 예측 성능 지표 를 기초 로 해서 특징 량 을 삭제 하 는 제 4 공정 과 , 삭제 된 특징 량 이외 의 특징 량 에 관해서 , 예측 성능 지표 를 이용 해서 특징 량 의 순위 를 갱신 하 는 제 5 공정 을 구비 하 고 , 제 2 공정 내지 제 5 공정 을 , 제 3 공정 에서 계산 되 는 예측 성능 지표 의 가장 좋 은 값 이 갱신 되 지 않 을 때 까지 반복 하 는 구성 으로 된다 .