이러 한 고밀 도 플 라즈 마 화학 기상 증착 방법 을 수행 하 기 위한 노벨 러스 ( Novellas ) HDP ( High density plasma ) CVD 설비 와 같 은 화학 기상 증착 설비 는 반도체 제조 용 실리콘 기판 ( silicon substrate ) 과 같 은 소형 기판 상부 에 특정 박막 을 형성 하 는 데 이용 되 며 , 근래 에 는 액정판 같 은 상대 적 으로 면적 이 큰 기판 에 도 적용 되 고 있 다 .