박막 트랜지스터 의 채널 부 형성 불량 을 개선 하 기 위한 마스크 및 이 의 제조 방법 이 개시 된다 . 마스크 는 투명 기판 , 차광 층 및 하프톤 층 을 포함 한다 . 차 광층 은 투명 기판 상 에 형성 되 며 제 1 방향 으로 연장 된 제 1 전극 부 , 제 1 전극 부 의 일단 부 로부터 제 1 방향 에 수직 하 는 제 2 방향 으로 절곡 된 제 2 전극 부 및 제 1 전극 부 의 타단 부 로부터 제 2 방향 으로 절곡 된 제 3 전극 부를 포함 하 는 소스 전극 패턴 부 및 제 2 전극 부 와 제 3 전극 부 사이 에 배치 되 며 제 2 방향 으로 연장 된 드레 인 전극 패턴 부를 포함 한다 . 하프톤 층 은 투명 기판 상 에 형성 되 며 소스 전극 패턴 부 와 드레 인 전극 패턴 부 의 이격 부 에 대응 하 는 하프톤 부 및 하프톤 부 에 연결 되 며 제 2 전극 부 및 제 3 전극 부 의 단부 보다 제 2 방향 으로 돌출 된 더미 하프톤 부를 포함 한다 . 더미 하프톤 부 를 형성 함 으로써 하프톤 부 의 단부 에 대응 하 는 영역 이 노광 부 와 인접 함 으로 인한 과잉 노광 을 억제 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 박막 트랜지스터 의 채널 부 에 대응 하 는 포토레지스트 패턴 을 균일 한 두께 로 형성 할 수 있 으므로 채널 부 의 과잉 식각 을 억제 할 수 있 다 .