본 발명 의 구 현예 는 본 발명 의 금속 막 을 형성 하 도록 구성 된 반응 시스템 을 또한 포함 할 수 있 다 . 보다 구체 적 으로 는 , 도 3 은 소정 의 압력 , 온도 , 및 주변 조건 하 에 기판 ( 도시 되 지 않 음 ) 을 유지 하 기 위한 , 그리고 다양 한 가스 에 기판 을 선택 적 으로 노출 시키 기 위한 메커니즘 을 추가 로 포함 하 는 반응 챔버 ( 302 ) 를 포함 하 는 반응 시스템 ( 300 ) 을 도식 적 으로 예시 한다 . 전 구체 반응물 공급원 ( 304 ) 은 도관 또는 다른 적절 한 수단 ( 304 A ) 에 의해 반응 챔버 ( 302 ) 에 연결 될 수 있 고 , 매니폴드 , 밸브 제어 시스템 , 질량 유량 제어 시스템 , 또는 전 구체 반응물 공급원 ( 304 ) 으로부터 유래 되 는 가스 전구체 를 제어 하 기 위한 메커니즘 에 추가 로 연결 될 수 있 다 . 전 구체 반응물 공급원 ( 304 ) 에 의해 공급 되 는 전구체 ( 도시 되 지 않 음 ) , 반응물 ( 도시 되 지 않 음 ) 은 실온 및 표준 대기압 조건 하 에 액체 또는 고체 일 수 있 다 . 이러 한 전구체 는 , 전 구체 공급원 챔버 내 에서 증기 화 온도 또는 그 이상 으로 유지 될 수 있 는 반응물 공급원 진공 밸브 내 에서 증기 화 될 수 있 다 . 이러 한 구 현예 에서 , 기화 된 전구체 는 캐리어 가스 ( 예컨대 , 비활성 또는 불활성 가스 ) 와 함께 이동 된 다음 도관 ( 304 A ) 을 통해 반응 챔버 ( 302 ) 내 로 공급 될 수 있 다 . 다른 구 현예 에서 , 전 구체 는 표준 조건 하의 증기 일 수 있 다 . 이러 한 구 현예 에서 , 전 구체 는 증기 화 될 필요 가 없 으며 , 캐리어 가스 를 요구 하 지 않 을 수 있 다 . 예 를 들 면 , 일 구 현예 에서 , 전 구체 는 가스 실린더 내 에 저장 될 수 있 다 . 반응 시스템 ( 300 ) 은 추가 의 전구체 반응물 공급원 을 또한 포함 할 수 있 으며 , 이러 한 전구체 반응물 공급원 ( 306 ) 은 또한 본원 에 기재 된 바 와 같이 도관 ( 306 A ) 에 의해 반응 챔버 로 연결 될 수 있 다 .