또한 노광 마스크 의 리페 어 공정 은 패턴 간 의 브리지 ( Bridge ) 성 결함 이나 홀 크기 가 작아지 는 결함 의 경우 , 결함 이 발생 한 부분 의 패턴 을 제거 하 여 결함 을 치유 할 수 있 다 . 그러나 , 상당히 많 은 면적 의 패턴 이 손실 된 노광 마스크 에 적용 할 수 없 어 노광 마스크 를 재 제작 해야 하 는 문제점 이 있 다 .