주 반송 기구 ( Ｔ ２ ) 는 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ２ ) 으로부터 현상 된 기판 ( Ｗ ) 을 반출 함 과 아울러 , 냉각 된 기판 ( Ｗ ) 을 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ２ ) 의 회전 지지 부 ( 77 ) 에 둔다 . 현상 처리 유닛 ( ＤＥＶ ２ ) 은 회전 지지 부 ( 77 ) 에 두 어 진 기판 ( Ｗ ) 을 현상 한다 ( 스텝 Ｓ １８ ａ - 현상 처리 ( Ｔ １２ ｕ ) ) . 구체 적 으로 는 , 회전 지지 부 ( 77 ) 가 기판 ( Ｗ ) 을 수평자세 로 회전 시키 면서 , 어느 하나 의 슬릿 노즐 ( 81 a ) 로부터 기판 ( Ｗ ) 에 현상액 을 공급 해서 기판 ( Ｗ ) 을 현상 한다 .