종래 웨트 세정 공정 은 도 1 에 도시 된 바 와 같이 , 로딩 된 다수 의 웨이퍼 를 배치 방식 으로 소정 케미컬 배 쓰 ( Chemical bath ) 에 담그 는 케미컬 공정 ( 10 ) 과 , 이러 한 케미컬 공정 ( 10 ) 에 의해 소정 케미컬 이 묻 은 웨이퍼 를 QDR ( Quick Dump Rinse ) 배 쓰 에 담금 으로써 디아이 워터 ( Deionized water : DI water ) 등 을 통해 웨이퍼 에 묻 은 소정 케미컬 을 세정 하 는 QDR 공정 ( 20 ) 과 , QDR 공정 ( 20 ) 에 의해 세정 된 웨이퍼 를 다시 한 번 파이널 린스 배 쓰 ( Final rinse bath ) 에 담금 으로써 웨이퍼 를 최종 세정 하 는 파이널 린스 공정 ( 30 ) 및 , 파이널 린스 공정 ( 30 ) 에 의해 최종 세정 된 웨이퍼 를 드라이 시키 는 드라이 공정 ( 40 ) 로 이루어지 며 , 각 웨트 스테이션 설비 에 의해 구현 된다 .