상술 한 바 와 같이 , 본 발명 의 웨이퍼 세정 장치 및 세정 방법 에 따르 면 , 처 리조 내부 에서 웨이퍼 를 회전 시켜 세정액 을 웨이퍼 표면 에 골고루 분사 시켜 웨이퍼 세정 효과 를 극대 화 시킬 수 있 다 . 또한 , 지지대 를 회전 시키 기 위한 별도 의 구동 장치 가 필요 하 지 않 아 비용 절감 으로 인한 수 율 이 증대 될 수 있 다 .