절연 물질 ( 15 A ) 의 평탄 화 공정 시 에 하드 마스크 층 ( 14 ) 이 잔류 할 수 있 다 . 따라서 , 제 1 분리 층 ( 15 ) 의 상부 표면 과 하드 마스크 층 ( 14 ) 의 상부 표면 은 동일 레벨 일 수 있 다 . 즉 , 제 1 분리 층 ( 15 ) 의 상부 표면 과 하드 마스크 층 ( 14 ) 의 상부 표면 사이 에 단차 가 발생 하 지 않 을 수 있 다 . 제 1 분리 층 ( 15 ) 은 이웃 하 는 제 1 반도체 필라 ( 13 N ) 를 서로 분리 시킬 수 있 다 .