상기 각 실시 형태 에서 는 제 1 패턴 의 상과 , 제 2 패턴 의 상 에 의해 기판 ( P ) 의 각 쇼트 영역 ( S ) 을 각각 이중 노광 하 였으나 , 본 발명 의 원리 에 따라 , 삼중 이상 의 다중 노광 을 행하 는 것 도 가능 하 다 . 삼중 노광 을 행하 는 경우 에 는 , 제 1 패턴 과 제 2 패턴 에 더 하 여 제 3 패턴 을 사용 하 고 , 제 1 패턴 및 제 2 패턴 과 동일 하 게 기판 ( P ) 의 이동과 동기 하 여 제 3 패턴 의 상 을 기판 위 에 생성 시킬 수 있 다 . 제 3 패턴 은 , 그것 을 물리 적 으로 형성 한 마스크 또는 , 그것 을 전자 패턴 으로 형성 하 는 DMD 를 사용 해도 된다 . 삼중 노광 의 경우 , 제 3 패턴 에 조명 광이 조사 되 어서 그 상 이 형성 되 는 제 3 노광 영역 ( AR 3 ) 을 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 및 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 과 는 별도 로 , 혹은 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 및 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 의 적어도 한쪽 과 그 일부 가 중복 하 도록 설정 할 수 있 다 . 이 경우 , 투영 계 는 각각 의 노광 영역 에 따라 독립 하 여 3 개 설 치 해도 되 며 , 혹은 도 5 에 나타낸 바 와 같 은 투영 계 ( PL ) 에 , 다시 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 에 대응 하 는 제 1 및 제 2 광학계 ( 31 , 32 ) 와 동일 하 게 , 제 3 마스크 에 대응 하 는 광학계 를 설치 하 는 동시 에 , 이 광학계 로부터 의 빛 을 제 3 광학계 에 유도 하 는 반사 및 / 또는 굴절계 를 설치 할 수 있 다 . 또한 , 제 3 마스크 를 사용 하 는 경우 는 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 가 탑재 되 는 마스크 스테이지 ( 6 ) 에 탑재 해도 되 며 , 제 3 실시 형태 에 나타낸 바 와 같이 별도 의 마스크 스테이지 에 탑재 해도 된다 .