이 와 같이 회절 격자 는 , 입사 되 는 광 의 파장 에 맞추 어 , 격자 피치 를 예 를 들 어 10 ㎛ 이하 ( 수 ( 數 ) ㎛) 로 함 으로써 회절 각 을 크 게 할 수 있 다 . 그러나 , 종래 의 러 빙 방법 에 의해 회절 격자 에 배향 막 을 형성 하 고자 하 면 , 격자 피치 가 좁 기 때문 에 러 빙용 섬유 가 투명 기판 ( 11 a ) 의 홈 ( 액정 층 의 볼록 부 ( 16 ) 에 접촉 하 는 부분 ) 에 충분히 닿 지 않 게 되 기 때문 에 배향 규제 력 이 불 충분 해져 , 액정 층 볼록 부 ( 16 ) 의 표면 의 액정 분자 가 충분히 배향 되 지 않 아 배향 불 균일 이 발생 한다 . 또 , 러 빙 천 의 섬유 는 일반 적 으로 수십 ㎛ 이 고 , 이 와 같이 격자 피치 가 수십 ㎛, 특히 20 ㎛ 이하 가 되 는 회절 격자 구조 에 대해 러 빙 을 하 여 액정 분자 의 배향 을 제어 하 는 것 은 곤란 하 였 다 . 이 때문 에 , 액정 소자 에 입사 되 는 광 의 회절 효율 및 회절 되 는 광 의 편광 상태 등 의 광학 특성 이 안정 적 으로 얻 어 지 지 않 는다는 문제 가 있 었 다 .