본 발명 의 일실 시예 에 따라 , 본 발명 은 환자 의 피부 에 병변 을 생성 하 기 위한 과정 을 포함 한다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 에너지 가 가해질 때 에 요구 된 조직 이 영향 을 받 도록 하 기 위해서 는 어 플리 케 이터 ( 2320 ) 의 적절 한 위치 설정 이 중요 할 것 이 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 어 플리 케 이터 ( 2320 ) 및 디스포저 블 ( 2363 ) 이 피부 표면 에 기대 어 위치 될 때 , 조직 을 조직 챔버 ( 2338 ) 내 로 잡아당김 으로써 조직 이 획득 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 조직 획득 은 예컨대 조직 챔버 ( 2338 ) 에 진공 을 형성 함 으로써 달성 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 조직 챔버 ( 2338 ) 에 조직 이 있 게 된 후 , 치료 장치 의 원거리 단부 로부터 마이크로파 에너지 가 조직 내 로 방사 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 방사 된 마이크로파 에너지 의 적어도 일부분 이 표피 및 진피 를 통과 할 수 있 고 , 그 마이크로파 에너지 의 적어도 일부분 이 예컨대 진피 - 하피 인터페이스 또는 진피 와 선 부위 ( glandular region ) 간 의 계면 과 같 은 피부 내 의 중요 한 계면 으로부터 반사 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 마이크로파 에너지 가 획득 된 조직 내 로 방사 되 고 , 중요 계면 으로부터 반사 되 기 때문 에 , 중요 인터페이스 에 인접 한 진피 에서 피크 SAR 영역 을 발생 시키 는 정재파 가 생성 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 피크 SAR 영역 내 의 조직 은 유전 적 으로 가열 되 어 , 피크 SAR 영역 내 의 조직 을 손상 시키 거나 파괴 하 고 , 예컨대 전도 또는 방사 를 통해 중요 인터페이스 아래 에 있 는 조직 을 포함 한 주변 조직 에 전달 될 수 있 는 열 을 생성 한다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 이러 한 전달 된 열 은 이 열 의 경로 에 위치 된 예컨대 땀샘 또는 모낭 을 포함 한 구조물 을 손상 시키 거나 파괴 하 도록 작용 할 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 전달 된 열 에 의해 야기 된 손상 은 손상 된 조직 내로 의 마이크로파 에너지 의 전달 에 의해 야기 된 직접 적 인 유전 가열 에 의해 증가 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 예컨대 전달 된 열 에 의해 기인 하 는 진피 의 상위 층 과 진피 에서 의 조직 손상 은 예컨대 획득 된 조직 의 표면 에서 의 온도 를 제어 함 으로써 감소 되 거나 제거 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 획득 된 조직 의 온도 는 예컨대 획득 된 조직 의 표면 에 인접 한 어 플리 케 이터 ( 2320 ) 의 원거리 단부 를 통해 냉각 유체 ( 2361 ) 를 통과 함 으로써 제어 될 수 있 다 . 본 발명 에 따른 과정 의 일실 시예 에 따라 , 획득 된 조직 의 표면 에서 의 온도 는 , 예컨대 마이크로파 에너지 를 가하 기 전 에 피부 표면 을 냉각 시키 거나 , 마이크로파 에너지 가 가해질 때 에 피부 표면 을 냉각 시키 거나 , 또는 마이크로파 에너지 가 가해진 후 에 피부 표면 을 냉각 시킴 으로써 제어 될 수 있 다 .