도 13 에 도시 된 바 와 같이 , 제 2 열처리 공정 에 의해 예비 고농 도 보론 층 ( 120 b ) 의 보론 이 인접 영역 으로 확산 됨 에 따라 , 보론 농도 의 피크 값 ( Rp ) 이 낮 아 진다 . 이 와 함께 , 예비 고농 도 보론 층 ( 120 b ) 보다 두꺼운 영역 에 걸쳐 고농 도 보론 층 ( 120 ) 이 형성 될 수 있 다 . 나아가 , 고농 도 보론 층 ( 120 ) 은 제 1 표면 ( FS ) 으로부터 약 3 내지 10 um 의 깊이 에 형성 될 수 있 다 .