이 에 따라 , 반도체 산업 에서 경쟁력 강화 를 위한 일환 으로 높 은 생산 수율 을 보장 할 수 있 는 각각 의 단위 공정 이 개발 되 고 있 으며 , 동시 에 각 단위 공정 에서 의 공정 에러 를 측정 하 는 방법 및 장치 도 활발 하 게 연구 되 고 있 다 . 특히 핵심 반도체 제조 공정 들 중 의 하나 인 사진 공정 ( Photo - lithographic Process ) 의 경우 에 도 공정 조건 의 변화 가 빈번 하 여 이 에 대처 할 수 있 는 공정 개발 및 이 를 수행 하 기 위한 장치 가 필요 한 실정 이 다 .