잔류물 은 무기 - 기반 , 유기 - 기반 , 또는 양자 의 조합 일 수 도 있 다 . 예컨대 , 실리콘 에칭 프로세스 로부터 의 무기 - 기반 잔류물 은 실리콘 및 산소 를 함유 할 수 도 있 거나 , 또는 구리 프로세싱 단계 로부터 의 무기 - 기반 잔류물 은 구리 및 산소 를 함유 할 수 도 있 다 . 유기 - 기반 잔류물 의 예 들 은 , 예컨대 탄소 , 수소 , 및 불소 의 조합 들 과 같 은 , 유전체 에칭 단계 로부터 의 증착 된 재료 들 을 포함 하 고 / 하 거나 , 리소그래피 단계 로부터 의 잔류 포토레지스트 를 포함 한다 . 또한 , 잔류물 은 , 노듈 ( nodule ) 들 과 같 은 분리 된 오브젝트 들 의 형태 또는 코 히 어 런 트 ( coherent ) 막 의 형태 를 취할 수 도 있 거나 , 또는 양자 의 조합 을 취할 수 도 있 다 .