본 발명 의 다른 특징 에 따르 면 , 반도체 제조 설비 의 온도 조절 장치 의 기판 온도 를 전 영역 에서 균일 하 게 조절 하 기 위한 처리 방법 이 제공 된다 . 이 방법 에 의하 면 , 기판 이 안착 되 는 플 래 이 트 의 복수 영역 에 배치 되 는 복수 개 의 센서 들 로부터 온도 를 감지 한다 . 이어서 상기 플 래 이 트 의 상기 복수 영역 에 구비 되 어 상기 플 래 이 트 의 온도 를 조절 하 는 복수 개 의 히터 들 을 제어 하 여 상기 플 래 이 트 에 안착 된 기판 의 온도 를 균일 하 게 조절 한다 .