이때 , 저장 전극 마스크 를 이용 한 사진 식각 공정 은 전체 표면 상부 에 감광막 ( 미 도시 ) 을 도포 하 고 저장 전극 마스크 를 이용 한 노광 및 현상 공정 으로 감광막 패턴 ( 미 도시 ) 을 형성 한 다음 , 이 를 마스크 로 하 여 상기 저장 전극 용 희생 산화 막 ( 65 ) 및 식각 장벽층 ( 63 ) 을 순차 적 으로 식각 하 고 감광막 패턴 을 제거 하 여 형성 한 것 이 다 .