즉 , 전극 패드 분리 홈 ( 114 ) 은 가스 감응 막 ( 213 ) 을 형성 시 정확히 정렬 되 지 않 은 상태 로 가스 감응 막 ( 213 ) 을 적정 할지 라도 부양 된 미세 구 조체 바깥 의 전극 패드 ( 212 ) 부위 에 떨어진 ( 도 1 및 도 2 참조 ) 가스 감응 막 ( 213 ) 형성 용 액체 전구체 ( precursor ) 는 표면장력 에 의해 하부 의 실리콘 기판 과 접촉 하 지 않 고 전극 패드 분리 홈 ( 114 ) 사이 에 걸쳐진 ( pending ) 상태 에서 건조 되 게 되 어 결국 최종 형성 되 는 가스 감응 막 ( 213 ) 은 전극 패드 ( 212 ) 의 가장자리 ( edge ) 부위 가 그 형성 경계 가 된다 . 따라서 가스 감응 막 ( 213 ) 은 넓 은 전극 패드 ( 212 ) 부위 보다 보다 미세 하 게 패턴 된 부양 구조 체 위 에서 만 상호 도통 되게 된다 .