패시 베이 션 막 식각 과정 에서 발생 한 폴리머 는 폴리머 제거 공정 을 통해 제거 된다 . 한 실시 예 에 따르 면 , 폴리머 제거 하 는 단계 에서 사용 되 는 CxFy 계열 의 가스 는 미량 을 사용 한다 . 가령 , 산소 2000 sccm 내지 3000 sccm 이 흘러갈 때 CxFy 계열 의 가스 는 그 수백분 의 일 에 해당 하 는 4 sccm 내지 8 sccm 정도 가 흘러갈 수 있 다 . CxFy 계열 의 가스 로 는 C 3 F 8 이 사용 될 수 있 다 .