오프라인 과정 ( S 110 내지 S 130 ) 은 , 원통 형 또는 원형 으로 배열 된 복수 의 센서 에 의해 감지 되 는 음향 신호 의 주파수 별 짝수 번 째 ( even ) 빔 의 빔 패턴 및 홀수 번 째 ( odd ) 빔 의 빔 패턴 을 획득 하 고 ( S 110 ) , 주파 수별 even 빔 의 빔 패턴 및 odd 빔 의 빔 패턴 을 이용 하 여 주파 수별 주엽 ( main lobe ) 과 부엽 ( side lobe ) 의 빔 인덱스 와 해당 빔 인덱스 의 빔 패턴 크기 ( amplitude ) 를 추출 하 여 ( S 120 ) . 추출 된 주엽 과 부엽 의 빔 인덱스 및 빔 패턴 크기 값 에 기초 하 여 신호 마스크 ( 가중치 ) 및 잡음 마스크 ( 가중치 ) 를 추정 하 는 ( S 130 ) 과정 이 며 , 마스크 의 크기 는 고속 푸리에 변환 ( FFT ) 의 크기 와 빔 수 에 의존 적 이 다 .