화상 형성 장치 는 , 광 주사 장치 를 가질 뿐 만 아니 라 , 근방 에 , 내부 에 제공 되 는 , 용지 의 반송 을 행하 는 용지 반송 롤러 , 화상 형성 부 의 감광체 및 중간 전사체 , 정착 벨트 및 롤러 등 의 가동 부 ; 및 가동 부 를 구동 하 는 구동 계 를 갖 는다 . 인쇄 작업 이 실행 되 면 , 이 들 의 가동 부 를 구동 하 는 모터 등 의 구동 계 가 동작 하 고 , 구동 계 로부터 발생 하 는 진동 이 가동 부 를 통해 광 주사 장치 에 도 전파 되 고 , 반사 미러 ( 162 ) 가 진동 할 가능 성 이 있 다 . 반사 미러 ( 162 ) 가 진동 하 면 , 반사 미러 ( 162 ) 의 진동 에 수반 하 여 , 반사 미러 ( 162 ) 에 의해 반사 된 레이저 광 의 방향 이 바뀌 어 버리 고 , 감광 드럼 상 에서 의 결상 위치 가 본래 의 위치 로부터 어긋나 버리 며 , 형성 되 는 화상 에 줄무늬 패턴 등 의 화상 불 균일 이 발생 하 는 경우 가 있 다 . 그래서 , 반사 미러 ( 162 ) 에 진동 감쇠 부재 를 부착 하 거나 , 탄성 부재 에 의해 부분 적 으로 압박 력 을 가하 거나 , 그 일부 를 접착 하 거나 하 는 대책 에 의해 , 구동 계 에 의해 발생 하 는 진동 의 주파수 와 반사 미러 ( 162 ) 와 의 공진 주파수 를 시프트 시키 는 것 이 검토 되 고 있 다 . 예 를 들 어 , 일본 특허 출원 공개 제 2014 - 209161 호 에서 는 , 반사 미러 의 반사면 에 대하 여 수직 인 저 면부 를 지지 하 는 미러 지지 시트 면 을 , 반사 미러 의 길 이 방향 으로 이동 시킬 수 있 는 구성 이 제안 되 고 있 다 . 이 구성 에 따르 면 , 반사 미러 가 광 주사 장치 의 하우징 에 설치 된 상태 에서 반사 미러 의 고유 진동수 를 화상 형성 장치 의 가동 부 로부터 전파 되 는 진동 주파수 로부터 시프트 시킬 수 있 고 , 반사 미러 의 공진 을 억제 할 수 있 다 .