도면 부호 150 으로 나타낸 평가 서브시스템 은 편광 반사 측정 , 분광 두께 측정 ( spectroscopic ellipsometry ) , 반사 측정 , 또는 기타 광학 적 측정 기술 을 이용 하 여 정확 한 디바이스 프로파일 , 정확 한 임계 치수 ( CD ) 및 웨이퍼 의 다층막 두께 를 측정 할 수 있 다 . 통합 계측 프로세스 ( iODP ) 를 인라인 으로 실행 하 여 , 분석 용 웨이퍼 를 분해 하 거나 외부 툴 로부터 의 데이터 를 장기간 대기 할 필요 성 을 없앨 수 있 다 . 이 ODP 기술 은 인라인 프로파일 에 대한 기존 의 박막 계측 툴 및 CD 측정 과 함께 ODP 기술 을 이용 할 수 있 으며 , " TEL 처리 툴 및 / 또는 리소그래피 시스템 과 통합 되 어 실시간 프로세스 모니터링 및 제어 를 제공 할 수 있 다 . 예 시 적 인 광학 계측 시스템 은 2005 년 9 월 13 일자 로 Niu 등 에게 허여 된 발명 의 명칭 이 "" GENERATION OF A LIBRARY OF PERIODIC GRATING DIFFRACTION SIGNAL "" 인 미국 특허 제 6 ", 913 , 900 호 에 개시 되 어 있 다 .