상기 일 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 기판 처리 방법 에 있 어서 , 공정 챔버 내부 에 상호 평행 하 게 배치 되 며 복수 의 관통 홀 들 이 각각 형성 된 복수 의 척 들 의 상면 에 기판 들 을 상기 기판 들 의 이면 과 접촉 한 상태 로 각각 로딩 한 후 , 상기 기판 들 의 상부 에 공정 가스 를 이용 하 여 상기 기판 들 을 처리 한다 . 이후 , 상기 복수 의 관통 홀 들 을 각각 관통 하 는 서포터 를 상부 로 리프트 시켜 , 상기 기판 들 을 상기 척 들 로부터 이격 시킨 후 , 상기 척 들 로부터 이격 된 상기 기판 들 을 언 로딩 한다 .