상기 과제 를 달성 하 기 위한 본 발명 의 기판 처리 장치 의 일 면 ( aspect ) 은 , 챔버 ; 상기 챔버 내 에 기판 을 지지 하 는 지지 모듈 ; 상기 챔버 내 에 설치 되 고 , 상기 기판 을 세정 하 기 위해서 , 제 1 기간 동안 제 1 세정액 을 제 1 방식 으로 상기 기판 에 제공 하 고 , 상기 제 1 기간 이후 의 제 2 기간 동안 제 2 세정액 을 제 2 방식 으로 상기 기판 에 제공 하 는 노즐 구 조체 ; 상기 챔버 와 연결 되 어 설치 되 고 , 상기 세정 에 사용 된 제 1 세정액 과 상기 제 2 세정액 이 배출 되 는 배수로 ; 및 상기 배수로 와 연결 되 고 , 상기 세정 에 사용 된 제 1 세정액 을 제 1 탱크 에 , 상기 세정 에 사용 된 제 2 세정액 을 제 2 탱크 에 선택 적 으로 저장 하 는 회수 시스템 을 포함 한다 .