도 20 은 , 프로세스 챔버 에서 작업 물 을 처리 하 기 위한 방법 ( 630 ) 의 흐름 도 이 다 . 방법 ( 630 ) 은 본원 에 개시 된 시스템 들 ( 100 , 400 , 470 , 480 , 490 , 500 , 550 및 560 ) 중 하나 이상 을 사용 하 여 구현 될 수 있 다 . 방법 ( 620 ) 의 제 1 단계 ( 622 ) 는 작업 물 을 프로세스 챔버 ( 예 를 들 어 , 프로세스 챔버 ( 130 또는 430 ) ) 에 배치 한다 . 프로세스 챔버 는 도파 로 공동 ( 예 를 들 어 , 공동 ( 167 또는 467 ) ) 에 인접 하 여 배치 되 고 , 도파 로 공동 은 , 도파 로 공동 내 의 전자기 방사선 이 프로세스 챔버 내 로 전파 되 는 것 을 차단 하 지 않 고 프로세스 챔버 로부터 분리 된다 . 방법 ( 630 ) 의 제 2 단계 ( 634 ) 는 제 1 플 라즈 마 ( 예 를 들 어 , 플 라즈 마 ( 60 ) ) 를 이용 하 여 프로세스 챔버 에서 작업 물 을 처리 한다 . 단계 ( 634 ) 는 , 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 내 에 도입 하 고 , 전자기 방사선 을 ( 예 를 들 어 , 전자 장치 세트 들 ( 225 ( 2 ) , 225 ( 2 ) ) 로부터 ) 도파 로 공동 내 에 전파 하 고 , 프로세스 가스 들 로부터 플 라즈 마 를 점 화 하 고 , 도파 로 공동 으로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 된 전자기 방사선 에 의해 공급 된 전력 으로 플 라즈 마 를 유지 하 는 것 을 포함 한다 . 제 1 플 라즈 마 를 위한 전력 의 적어도 일부 는 , 도파 로 공동 내 에서 제 1 TE 모드 로 공진 하 는 전자기 방사선 에 의해 공급 된다 . 방법 ( 630 ) 의 제 3 단계 ( 636 ) 는 제 2 플 라즈 마 ( 예 를 들 어 , 플 라즈 마 ( 60 ) ) 를 이용 하 여 프로세스 챔버 에서 작업 물 을 처리 한다 . 단계 ( 636 ) 는 , 하나 이상 의 프로세스 가스 를 프로세스 챔버 내 에 도입 하 고 , 전자기 방사선 을 ( 예 를 들 어 , 전자 장치 세트 들 ( 225 ( 2 ) , 225 ( 2 ) ) 로부터 ) 도파 로 공동 내 에 전파 하 고 , 프로세스 가스 들 로부터 플 라즈 마 를 점 화 하 고 , 도파 로 공동 으로부터 프로세스 챔버 내 로 전파 된 전자기 방사선 에 의해 공급 된 전력 으로 플 라즈 마 를 유지 하 는 것 을 포함 한다 . 제 1 플 라즈 마 를 위한 전력 의 적어도 일부 는 , 도파 로 공동 내 에서 제 2 TE 모드 로 공진 하 는 전자기 방사선 에 의해 공급 된다 . 제 1 TE 모드 는 제 2 TE 모드 와 상이 한 차수 이 다 .