도 4 를 참조 하 면 , 노출 된 식각 정지 패턴 ( 도 3 의 111 ) 를 제거 하 여 제 1 리 세스 트렌치 ( 131 ) 를 형성 한다 . 식각 정지 패턴 은 인산 ( H 3 PO 4 ) 을 포함 한 식각 용액 을 이용 하 여 제거 할 수 있 다 . 제 1 리 세스 트렌치 ( 131 ) 는 패드 기판 ( 130 ) 이 형성 된 두께 , 즉 1000 ~ 1500 Å 두께 의 깊이 로 형성 되 며 , 이 에 따라 리 세스 트렌치 ( 131 ) 바닥 면 의 깊이 는 균일 하 게 형성 된다 .