여기 서 , 상기 선행 층 을 패 터닝 을 함 에 이용 되 는 마스크 는 상기 제 1 패턴 ( 401 ) 에 대응 되 는 부위 가 반투 과부 로 정의 되 어 있 다 . 그리고 , 상기 선행 층 을 패 터닝 하 는데 , 이용 되 는 감광막 이 파지 티 브 감광성 인지 네거티브 감광성 인지 에 따라 , 파지 티 브 감광성 일 경우 에 는 상기 제 2 패턴 ( 402 ) 대 응부 가 차 광부 로 가려져 있 고 , 네거티브 감광성 일 경우 에 는 상기 제 2 패턴 ( 402 ) 대 응부 가 투 과부 로 오픈 되 어 있 다 .