이 단계 에서 , 제 1 영역 ( AR 21 ) , 제 2 영역 ( AR 22 ) 및 제 3 영역 ( AR 23 ) 으로 구분 되 는 제 2 반도체 패턴 ( SP 2 ) 이 형성 될 수 있 다 . 제 1 영역 ( AR 21 ) 및 제 3 영역 ( AR 23 ) 각각 은 제 2 도전 패턴 ( CP 2 ) 과 중첩 하 고 , 제 2 영역 ( AR 22 ) 은 제 2 도전 패턴 ( CP 2 ) 에 의해 노출 된다 . 제 2 영역 ( AR 22 ) 은 채널 영역 으로 정의 될 수 있 다 .