처리 실 ( 201 ) 내 에 는 웨이퍼 ( 200 ) 를 지지 하 는 기판 지지 부 ( 서 셉 터 ) ( 210 ) 가 설치 된다 . 서 셉 터 ( 210 ) 는 웨이퍼 ( 200 ) 를 재치 하 는 재치 면 ( 211 ) 을 포함 하 는 기판 재 치대 ( 212 ) 를 구비 한다 . 기판 재 치대 ( 212 ) 는 적어도 재치 면 ( 211 ) 상 의 웨이퍼 ( 200 ) 의 온도 를 조정 ( 가열 또는 냉각 ) 하 는 히터 ( 213 a , 213 b ) 를 내장 한다 . 히터 ( 213 a , 213 b ) 에 는 각각 으로 의 공급 전력 을 조정 하 는 온도 조정부 ( 213 c , 213 d ) 가 개별 로 접속 된다 . 각 온도 조정부 ( 213 c , 213 d ) 는 후술 하 는 컨트롤러 ( 260 ) 로부터 의 지시 에 따라 각각 이 독립 해서 제어 된다 . 이 에 의해 히터 ( 213 a , 213 b ) 는 재치 면 ( 211 ) 상 의 웨이퍼 ( 200 ) 에 대하 여 각 영역 별 로 독자 적 인 온도 조정 을 수행 하 는 존 제어 가 가능 해 지 도록 구성 된다 . 또한 기판 재 치대 ( 212 ) 에 는 리프트 핀 ( 207 ) 이 관통 하 는 관 통공 ( 214 ) 이 리프트 핀 ( 207 ) 과 대응 하 는 위치 에 각각 설치 된다 .