또한 , 투영 계 ( PL ) 에 의 노광 광 ( EL ) 의 조사 , 투영 계 ( PL ) 의 주위 의 환경 변화 ( 온도 변화 , 압력 변화 포함 ) 등 에 의해 투영 계 ( PL ) 의 광학 특성 이 변화 하 여 , 제 1 노광 영역 ( AR 1 ) 과 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 의 상대 위치 관계 에 변화 가 생길 가능 성 이 있 다 . 이 경우 에 는 , 투영 계 ( PL ) 로 의 노광 광 ( EL ) 의 조사량 , 투영 계 ( PL ) 의 주위 의 환경 변화 를 검출 하 여 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 의 제 1 패턴 과 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 제 2 패턴 의 각각 이 쇼트 영역 ( SH ) 내 의 원 하 는 위치 에 형성 되 도록 , 그 검출 결과 에 의거 하 여 제 2 스테이지 ( 62 , 63 ) 및 제 3 스테이지 ( 63 ) 의 적어도 한 쪽 을 움직여서 , 제 1 마스크 ( M 1 ) 및 제 2 마스크 ( M 2 ) 의 적어도 한쪽 의 위치 를 조정 하 여도 좋 다 .