도 1 에 는 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 배기 라인 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치 가 설치 된 반도체 제조 설비 의 개략 적 인 구성 이 블록 도로 서 도시 되 어 있 다 . 도 1 을 참조 하 면 , 반도체 제조 설비 는 다양 한 공정 가스 를 이용 한 반도체 제조 공정 이 진행 되 는 공정 챔버 ( C ) 와 , 공정 챔버 ( C ) 에서 발생 한 잔류 가스 를 배출 시키 기 위한 진공 펌프 ( V ) 와 , 공정 챔버 ( C ) 와 진공 펌프 ( V ) 를 연결 하 는 연결 관 ( D 1 ) 과 , 진공 펌프 ( V ) 에 의해 공정 챔버 ( C ) 로부터 배출 되 는 배기가스 를 처리 하 는 스 크 러버 ( S ) 와 , 진공 펌프 ( V ) 와 스 크 러버 ( S ) 를 연결 하 는 배기관 ( D 2 ) 과 , 배기관 ( D 2 ) 상 에 설치 되 어서 배기가스 로부터 파우더 를 포집 하 는 트랩 ( A ) 과 , 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치 ( 100 ) 를 포함 한다 . 본 발명 에서 배기 라인 은 공정 챔버 에서 발생 한 잔류 가스 가 배출 되 는 라인 을 의미 하 며 , 도 1 에서 는 배기 방향 을 따라서 연속 되 는 연결 관 ( D 1 ) , 진공 펌프 ( V ) , 배기관 ( D 2 ) , 스 크 러버 ( S ) 및 배기관 ( D 2 ) 에 설치 되 는 트랩 ( A ) 을 포함 한다 . 도 1 에 도시 된 실시 예 에서 는 트랩 ( A ) 이 배기관 ( D 2 ) 상 에 설치 되 는 것 으로 설명 하 지만 , 이 와 는 달리 연결 관 ( D 1 ) 에 설치 될 수 도 있 으며 , 이 또한 본 발명 의 범위 에 속하 는 것 이 다 . 본 발명 의 특징 은 배기 라인 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치 ( 100 ) 로서 , 도 1 에 도시 된 반도체 제조 설비 에서 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치 ( 100 ) 를 제외 한 나머지 구성 들 인 공정 챔버 ( C ) , 진공 펌프 ( V ) , 연결 관 ( D 1 ) , 스 크 러버 ( S ) , 배기관 ( D 2 ) 및 트랩 ( A ) 는 본 발명 과 관련 된 통상 의 기술 범위 내 에서 변경 되 고 수정 될 수 있 다 .