먼저 , 본 실시 예 에 있 어서 는 , 고체 촬상 장치 ( 1 ) 는 , 컬럼 회로 ( 400 ) ( 410 ) 의 비교기 ( 401 ) ( 411 ) 의 기준 레벨 을 , 전 라인 ( preceding line ) 의 리셋 레벨 을 이용 해서 대 광량 내성 ( large light amount resistance ) 을 향상 시키 는 프리 라인 세트 기능 을 가지 고 있 다 .