그리고 , 반도체 메모리 가 고집 적 화 되 면서 전원 을 공급 하 는 전원 메탈 라인 패턴 ( 1 ) 폭 ( W ) 이 감소 되 어 전원 공급 이 불 안정 해 지 고 , 플로팅 ( Floating ) 상태 의 바 타입 더미 메탈 라인 패턴 ( 3 ) 을 안정 적 으로 형성 하 기 어려워져 화학 기계 적 연마 ( CMP ) 공정 에서 단차 가 심해 지 는 문제 가 있 다 .