또한 , 본 발명 은 마이크 로 패턴 용 제 1 니켈 기판 제작 을 위한 제 1 포토 마스크 를 제작 하 는 제 1 - 1 단계 ; 노광용 기판 에 감광제 도포 후 상단 에 상기 제 1 포토 마스크 를 위치 시키 고 , 노광 공정 을 이용 해 마이크 로 미터 크기 를 갖 는 제 1 감광제 패턴 을 구현 하 는 제 1 - 2 단계 ; 상기 제 1 감광제 패턴 위 에 전주 도금 공정 을 이용 해 마스터 패턴 금형 을 구현 하 고 , 상기 마스터 패턴 금형 을 통해 제 1 니켈 기판 을 제작 하 는 제 1 - 3 단계 ; 나노 패턴 용 위상 마스크 제작 을 위한 제 2 포토 마스크 를 제작 하 는 제 1 - 4 단계 ; 노광용 기판 에 감광제 도포 후 상단 에 상기 제 2 포토 마스크 를 위치 시키 고 , 노광 공정 을 이용 해 나노 미터 크기 를 갖 는 제 2 감광제 패턴 을 구현 하 는 제 1 - 5 단계 ; 상기 제 2 감광제 패턴 위 에 위상 마스크 용 투명 한 고분자 액상 을 도포 한 후 열 또는 자외선 경화 시켜 위상 마스크 를 제작 하 는 제 1 - 6 단계 ; 상기 제 1 니켈 기판 에 감광제 도포 후 상단 에 상기 위상 마스크 를 위치 시키 고 , 노광 공정 을 이용 해 나노 미터 크기 를 갖 는 제 3 감광제 패턴 을 구현 하 는 제 1 - 7 단계 ; 상기 제 3 감광제 패턴 위 에 전주 도금 공정 을 이용 해 제 2 니켈 기판 을 제작 하 는 제 1 - 8 단계 ; 및 상기 제 2 니켈 기판 을 통해 복합 패턴 데코 필름 을 제작 하 는 제 1 - 9 단계 ; 로 이루어지 는 것 을 발명 의 요지 로 한다 .