이 경우 , 도 2 에 도시 하 는 바 와 같이 , 제 1 세트 ( G 1 ) 및 제 2 세트 ( G 2 ) 에서 는 , 각각 웨이퍼 ( W ) 를 스핀 척 ( 도시 하 지 않 음 ) 에 올려 놓 고 소정 의 처리 를 행하 는 레지스 트 도포 유닛 ( COT ) 과 , 컵 [ 용기 ] ( 23 ) 내 에서 웨이퍼 ( W ) 와 현상액 공급 수단 ( 도시 하 지 않 음 ) 을 대치 시켜 레지스 트 패턴 을 현상 하 는 현상 유닛 ( DEV ) 이 수직 방향 의 아래 로부터 순서 대로 2 단 으로 배치 되 어 있 다 .