노광 광원 과 , 노광 광원 으로부터 방출 된 광이 투과 하 는 패턴 이 형성 된 포토 마스크 와 , 포토 마스크 하부 에 배치 되 어 포토 마스크 를 통과 한 광이 투영 되 는 프로 젝 션 렌즈 부 와 , 프로 젝 션 렌즈 부 에 삽입 되 어 , 포토 마스크 를 통과 한 광 의 성분 을 선택 적 으로 조절 하 는 조절 필터 와 , 그리고 조절 필터 에 의해 선택 적 으로 투영 되 는 광이 결상 되 는 웨이퍼 를 구비 하 는 반도체 소자 의 노광 장치 를 제시 한다 .