앞서 유의 된 바 와 같이 , 리소그래피 디자인 검증 의 목적 은 프린트 된 레지스 트 에지 들 및 라인 폭 들 이 디자인 타 겟 으로부터 의 사전 - 명시 된 거리 내 에 있 을 것 을 보장 하 는 것 이 다 . 이 와 유사 하 게 , 공정 윈도우 - 노광 위도 및 초점 심도 - 의 크기 가 명시 된 범위 에 포함 되 는 CD 들 또는 에지 배치 들 에 의해 정의 된다 . 앞서 설명 된 다양 한 방법 들 은 포커스 및 노광 도즈 또는 다른 일반 화 된 PW 파라미터 들 의 변 동 을 이용 하 여 레지스 트 이미지 신호 레벨 의 변화 를 결정 하 기 위한 매우 효율 적 인 방식 들 을 제공 한다 . 각각 의 방법 은 NC ( 공칭 조건 ) 이미지 R 0 의 섭동 으로서 스루 - PW 레지스 트 이미지 변동 들 Δ R 의 근사 표현 을 유도 하 였 다 .