또한 , 특허 문헌 2 에서 개시 된 에칭 제 와 같 은 염화수소 를 함유 하 지 않 는 에칭 액 을 사용 하 여 , ITO 층 또는 ITO 층 과 구리 층 을 포함 하 는 적층 체 를 일괄 적 으로 에칭 하 면 , 형성 되 는 세선 의 가늘 어 짐 이 커서 , 원 하 는 폭 의 세선 을 형성 하 는 것 이 곤란 한 동시 에 , 세선 의 직선 성 이 저하 되 는 것 이 문제 로 되 어 있 었 다 .