한편 , 보조 포토 마스크 와 주 포토 마스크 는 서로 대향 되 도록 배치 될 수 있 다 . 이 경우 에 , 상기 주 포토 마스크 로부터 반사 된 광 의 경로 상 에 상기 보조 포토 마스크 가 배치 될 수 있 다 . 즉 , 상기 보조 포토 마스크 가 상기 주 포토 마스크 로부터 반사 된 광 의 진행 을 방해 할 수 있 다 . 이러 한 현상 을 방지 하 기 위하 여 , 상기 보조 포토 마스크 를 상기 주 포토 마스크 로부터 먼 위치 에 배치 한다 . 상기 주 포토 마스크 로부터 먼 위치 에 상기 보조 포토 마스크 를 배치 하 는 경우 에 상기 보조 포토 마스크 로부터 상기 주 포토 마스크 로 입사 하 는 광 의 분산 현상 또는 회절 현상 이 노광 공정 의 광 투과율 조절 을 어렵 게 하 는 문제점 들 을 발생 할 수 있 다 .