이러 한 기술 동향 하 에서 , 노광 광원 으로서 EUV 광 ( 극 초자 외광 ) 을 대표 하 는 파장 13 nm 의 광 을 사용 하 는 리소그래피 기술 이 , 32 nm 이후 의 세대 에 걸쳐 적용 가능 하 다고 보여 주목 받 고 있 다 . EUV 리소그래피 ( 이하 , " "" EUVL "" 이라고 약칭 함 ) 의 화상 형성 원리 는 투영 광학계 를 사용 해서 마스크 패턴 을 전사 하 는 점 에서 종래 의 리소그래피 와 같 다 . 그러나 ", EUV 광 의 에너지 영역 에서 는 광 을 투과 할 수 있 는 재료 가 없 기 때문 에 , 굴절 광학계 는 사용 될 수 없 다 . 따라서 , 광학계 는 모두 반사 광학계 이 다 .