1 A … 제 1 액침 ( 液浸 ) 시스템 , 1 B … 제 2 액침 시스템 , 2 … 반사 소자 , 3 A … 제 1 패턴 형성 장치 , 3 B … 제 2 패턴 형성 장치 , 4 … 기판 스테이지 , 6 … 마스크 스테이지 , 7 … 제어 장치 , 12 … 공 급구 , 22 … 회수 구 , 30 … 중간 광학계 , 30 A … 제 1 반사면 , 30 B … 제 2 반사면 , 31 … 제 1 광학계 , 32 … 제 2 광학계 , 33 … 제 3 광학계 , 51 a ~ 51 h … 조사 ( 照射 ) 영역 , 52 a ~ 52 h … 조사 영역 , 61 … 제 1 스테이지 , 62 … 제 2 스테이지 , ( 62 , 63 ) … 제 3 스테이지 , 70 … 계측 시스템 , 71 … 레이저 간섭계 , 72 … 반사 부재 , 73 … 반사 부재 , 80 … 검출 시스템 , 81 … 조사 장치 , 82 … 수광 장치 , 341 , 342 … 오 목면 ( 凹面 ) 미러 , AR 1 … 제 1 노광 영역 , AR 2 … 제 2 노광 영역 , EL … 노광 광 , EX … 노광 장치 , FL ( FL 1 , FL 2 ) … 종단 ( 終端 ) 광학 소자 , IA 1 … 제 1 조명 영역 , IA 2 … 제 2 조명 영역 , IA 3 … 제 3 조명 영역 , IA 4 … 제 4 조명 영역 , K 1 … 하 면 ( 下面 ) , K 2 … 하 면 , LQ … 액체 , LR 1 … 제 1 액침 영역 , LR 2 … 제 2 액침 영역 , Ls … 검 출광 , M 1 … 제 1 마스크 , M 2 … 제 2 마스크 , P … 기판 , ( PLa ~ PLh ) … 투영 모듈 , RM 1 … 제 1 얼라이먼트 마크 , RM 2 … 제 2 얼라이먼트 마크 , SH … 쇼트 영역 , U … 광학 유 니트