상기 식각 정지 막 을 식각 하 여 상기 제 1 고전압 콘 택 을 노출 시키 는 단계 와 , 상기 제 1 고전압 콘 택 을 포함 한 전체 구조 상 에 도전 막 을 형성 하 는 단계 와 , 상기 식각 정지 막 이 노출 되 도록 CMP 공정 을 실시 하 여 상기 제 1 고전압 콘 택상 에 상기 도전 막 을 잔류 시키 는 단계 , 및 건식 식각 공정 을 이용 하 여 상기 도전 막 의 상부 를 식각 하 여 상기 도전 막 과 상기 식각 정지 막 의 단차 를 형성 하 여 상기 금속 패드 를 형성 하 는 단계 를 포함 한다 .