본 발명 에 의한 포토 리소그래피 설비 는 , 도포 모듈 및 현상 모듈 을 포함 하 는 프로세스 모듈 과 ; 상기 프로세스 모듈 의 일 측 에 배치 되 며 , 상기 도포 모듈 에 기판 을 반 출입 하 는 제 1 이송 모듈 과 ; 상기 제 1 이송 모듈 과 마주 보 는 상기 프로세스 모듈 의 타 측 에 설치 되 며 , 상기 현상 모듈 에 기판 을 반 출입 하 는 제 2 이송 모듈 ; 을 포함 하 되 , 도포 공정 을 수행 하 는 도포 유닛 은 상기 도포 모듈 에 설치 되 고 , 현상 공정 을 수행 하 는 현상 유닛 은 상기 현상 모듈 에 설치 된다 .