본 발명 은 종래 불 균일 한 음압 분포 에 따른 초음파 세정 효율 의 저하 문제 를 개선 하 기 위해 안출 된 것 으로 세정액 내 에 잠기 는 웨이퍼 를 세정액 의 액면 ( 수면 ) 에 대해 수직 방향 으로 회전 시켜 세 정조 의 바닥 가까이 에 위치 해 있 던 웨이퍼 의 하단 부분 이 일정 시간 경과 후 에 는 바닥 으로부터 의 거리 가 가장 먼 상단 부분 이 되 도록 위치 이동 을 시킴 으로써 , 웨이퍼 의 전 표면 에 걸쳐 거의 균일 한 음압 이 가해 지 게 하 여 종래 보다 웨이퍼 의 세정 효율 이 향상 되 도록 한 자전 형 웨이퍼 캐리어 와 이 를 구비 한 초음파 세정 장치 를 제공 함 에 목적 이 있 다 .