이 에 따라 , 레지스 트 스트립 공정 시 하드 마스크 물질 막 이 손상 되 는 정도 를 예측 하 여 소자 의 페일 이 발생 하 는 것 을 사전 에 방지 할 수 있 다 . 또한 , 하드 마스크 막 이 받 는 영향 을 최소 화 하 여 하부 의 오버레이 키 및 얼라 인 키 가 손상 되 는 것 을 방지 하 여 후속 노광 시 안정 적 으로 오버레이 마진 을 측정 할 수 있 다 .