가스 도입 샤워 헤드 ( 29 ) 는 , 내부 에 다수 의 가스 구멍 ( 32 ) 을 갖 는 천장 전 극판 ( 33 ) 과 , 그 천장 전 극판 ( 33 ) 을 착 탈 가능 하 게 지지 하 는 전극 지 지체 ( 34 ) 를 갖 는다 . 그 전극 지 지체 ( 34 ) 의 내부 에 는 버퍼 실 ( 35 ) 이 마련 된다 . 이 버퍼 실 ( 35 ) 에 는 처리 가스 도입 관 ( 36 ) 이 접속 되 어 있 다 . 가스 도입 샤워 헤드 ( 29 ) 는 , 처리 가스 도입 관 ( 36 ) 으로부터 버퍼 실 ( 35 ) 로 공급 된 처리 가스 를 , 가스 구멍 ( 32 ) 을 거쳐서 반응 실 ( 17 ) 내 로 공급 한다 .