따라서 본 발명 의 반도체 제조 설비 예 를 들 어 , 화학 기상 증착 ( CVD ) 설비 , 식각 설비 ( Etcher ) 는 복수 개 의 센서 들 로부터 복수 영역 들 에 대한 감지 온도 를 다중 입력 받 아서 복수 개 의 히터 들 을 PID 제어기 를 통해 제어 하 도록 출력 함 으로써 , 정전 척 에 안착 된 웨이퍼 에 대한 전 영역 의 온도 를 균일 하 게 조절 할 수 있 다 .