본 발명 은 다수 의 플 라즈 마 토출 영역 을 구비 하 는 세정 장치 에 관한 것 으로 , 더욱 상세 하 게 는 반도체 웨이퍼 , 액정 표시 소자 ( LCD 등 ) , 인쇄 회로 기판 등 과 같 은 처리 대상물 의 표면 에 형성 된 유기물 및 탄화물 을 다수 의 플 라즈 마 토출 영역 으로부터 토출 되 는 플 라즈 마 를 통해 수회 에 걸쳐 세정 함 으로써 처리 대상물 의 표면 에 대한 세정 효과 를 배가 시킬 수 있 도록 한 다수 의 플 라즈 마 토출 영역 을 구비 하 는 세정 장치 에 관한 것 이 다 .