또 , 프린트 기판 에 있 어서 의 ( 세미 ) 애디 티 브 공법 , 메탈 마스크 에 있 어서 의 애디 티 브 공법 에서 는 , 레지스 트 패턴 의 미세화 가 진행 되 고 있 다 . 그 때문 에 , 고해 상성 을 갖 는 감광성 수지 조성물 이 요구 되 고 있 다 . 그리고 , 이 들 공법 에서 는 , 도금 레지스 트 를 사용 하 여 , 감광성 수지 조성물 을 함유 하 는 감광성 수지 층 을 기재 상 에 형성 하 고 , 다음 으로 패턴 노광 을 실시 하 여 노광 부를 경화 시키 며 , 이어서 알칼리 현상 을 실시 하 여 비노 광부 의 감광성 수지 층 을 제거 하 여 경화 된 감광성 수지 층 을 포함 하 는 레지스 트 패턴 을 형성 한 후 , 노출 되 어 있 는 기재 상 에 전해 도금 으로 좁 은 피치 의 금속 패턴 을 형성 함 으로써 , 좁 은 레지스 트 스페이스 에 두꺼운 금속 층 을 형성 한다 . 그러나 , 전해 도금 후 에 행해 지 는 레지스 트 박리 의 공정 에 있 어서 , 도금 레지스 트 가 정상 적 으로 박리 되 지 않 아 , 기재 상 에 레지스 트 박리 편 이 잔류 해 버리 는 문제 가 있 었 다 . 이 와 같 은 문제 를 해결 하 기 위해서 , 에칭 의 경우 와 마찬가지 로 , 레지스 트 박리 액 에 용해 되 는 특성 과 고해 상성 을 양립 시키 는 감광성 수지 조성물 이 요망 되 고 있 다 .