구체 적 으로 , 상기 펄스 레이저 증착 법 을 이용 한 유전체 박막 의 제조 공정 은 다음 과 같 다 . 분당 10 ℃ 상승 시켜 증착 시 의 증착 온도 를 400 ℃ 내지 600 ℃ 범위 내 에서 설정 한다 . 산소 분압 은 1 mTorr 내지 300 mTorr 범위 내 에서 설정 된 값 으로 유지 하 여 공정 분위기 를 조성 한다 . 10 rpm 내지 12 rpm 범위 내 에서 설정 된 회전 속도 로 기판 을 회전 시킨다 . 레이저 소스 로서 KrF 가스 를 사용 하 여 248 nm 의 파장 길이 를 갖 고 30 ns 의 펄스 를 갖 는 레이저 에 대해 6 mm × 1 mm 의 크기 를 갖 도록 포 커싱 한다 . 상기 레이저 의 파워 강도 를 2 J / cm 2 로 설정 하 여 순도 99 . 9 % 의 PbZrO 3 과 PbTiO 3 타깃 을 기판 에 입사 시킨다 . PbZrO 3 층 은 7 ( pulse / 1 단위격자 ) 내지 9 ( pulse / 1 단위격자 ) 범위 내 에서 설정 한다 . PbTiO 3 층 은 6 ( pulse / 1 단위격자 ) 내지 8 ( pulse / 1 단위격자 ) 범위 내 에서 설정 한다 . 레이저 를 초당 1 펄스 로 타깃 에 입사 시켜 증착 공정 을 진행 한다 . PbZrO 3 과 PbTiO 3 에 의해 인공 격자 가 소정 폭 으로 형성 되 면 , 챔버 내 의 산소 분압 을 400 Torr 로 유지 하 면서 챔버 내 에서 분당 8 ℃ 내지 12 ℃ 범위 내 에서 정해진 속도 로 온도 를 상온 까지 하강 시킨다 .