본 발명 의 하나 의 실시 양태 에 따른 금속 또는 금속 산화물 박막 증착 용 장치 를 도 1 에 나타내 었 다 . 도 1 을 살펴보 면 , 본 발명 의 유기 금속 전구체 - 함유 원료 용액 을 캐 니 스터 ( 2 ) 에 담 고 이 캐니 스터 ( 2 ) 를 고 순도 의 고압 아르곤 가스 봄베 ( 1 ) 에 연결 시킨다 . 캐니 스터 ( 2 ) 안 의 원료 용액 을 고압 아르곤 가스 로 밀 어서 고압 완충 영역 ( 3 ) 으로 이송 한 다음 유속 조절 장치 로 유속 을 조절 하 면서 분사기 ( 4 ) 에 유입 시킨다 . 분사기 에서 발생 하 는 증발열 로 인한 온도 의 감소 를 충분히 감안 하 여 분사기 이후 의 기체 의 온도 를 용매 의 비등점 보다 충분히 높여서 기체 가 초임계 또는 이 에 준하 는 상태 를 유지 하 도록 한다 . 종전 에 는 완충 영역 이나 분사기 의 온도 를 높일 때 유기 금속 전구체 의 낮 은 열안 정성 때문 에 많 은 제한 을 받 았 으나 , 본 발명 에서 는 , 사용 하 는 염기 성 용매 가 유기 금속 전구체 의 안정 성 을 획기적으로 높여 주 기 때문 에 완충 영역 이나 분사기 의 온도 를 원하 는 만큼 충분히 올려 주 어도 용액 안 에서 는 아무런 문제 ( 전구체 의 열분해 및 분말 생성 ) 가 발생 하 지 않 는다 . 분사기 ( 4 ) 를 통해 박막 증착 챔버 ( 5 ) 내 로 주입 된 기체 상태 의 용매 는 유기 금속 전구체 의 주변 에 충분 한 농도 로 존재 하 면서 분자 상태 전구체 의 생명 기간 을 기체 상태 에서 도 상당 시간 연장 시킬 수 있 다 . 따라서 , 박막 증착 챔버 안 의 대상 기재 에 도달 하 는 과정 에서 유기 금속 전구체 의 미세 비말 의 생 성 이 다량 의 염기 성 용매 분자 들 에 의해 상당 시간 지연 되 고 , 미세 비말 이 생성 되 는 경우 에 도 다량 의 염기 성 용매 분자 들 이 이 미세 비말 의 안정 성 을 증가 시켜 종전 미세 분사 상태 의 불 안정 성 으로 인한 문제점 을 완전히 없앨 수 있 다 .