상기 지문 이미지 의 보정 과 관련 하 여 , 후술 되 는 전자 장치 ( 도 9 의 100 ) 의 프로세서 ( 도 9 의 150 ) 는 다양 한 온도 환경 에 대응 하 는 복수 의 배경 이미지 를 주기 적 또는 비 주기 적 으로 생성 할 수 있 다 . 상기 복수 의 배경 이미지 각각 은 예컨대 , 커버 글라스 ( 110 ) 에 사용 자 신체 가 접촉 되 지 않 은 상태 의 임의 의 온도 환경 에서 , 지문 센서 층 ( 126 ) 의 음파 조사 및 수신 에 의하 여 수집 되 는 정보 를 기반 으로 생성 될 수 있 다 . 일 실시 예 에 따르 면 , 프로세서 ( 150 ) 는 상기 다양 한 온도 환경 에서 생성 되 는 복수 의 배경 이미지 각각 을 해당 온도 환경 의 온도 값 과 매핑 하 여 룩 업 테이블 의 형태 로 저장 하 고 , 상기 지문 이미지 에 대한 보정 에 참조 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 프로세서 ( 150 ) 는 지문 정보 획득 시점 ( time ) 에 복수 의 서미스터 중 적어도 일부 에 의해 측정 되 는 온도 값 에 매핑 된 배경 이미지 를 상기 룩 업 테이블 로부터 획득 하 고 , 획득 된 배경 이미지 를 사용 자 지문 정보 에 기초 하 여 생성 된 지문 이미지 와 비교 할 수 있 다 . 상기 비교 동작 에서 , 룩 업 테이블 로부터 획득 된 배경 이미지 는 지문 이미지 상 에서 노이즈 를 제거 하 기 위한 기준 이미지 로 참조 될 수 있 다 .