도 28 에 도시 된 바 와 같이 , 마스크 층 ( 19 ) 이 형성 될 수 있 다 . 마스크 층 ( 19 ) 은 포토레지스트 패턴 을 포함 할 수 있 다 . 마스크 층 ( 19 ) 는 복수 의 오프닝 ( 19 H ) 을 포함 할 수 있 다 . 탑 뷰 로 볼 때 , 오프닝 ( 19 H ) 의 횡단면 은 사각형 형상 또는 원형 형상 일 수 있 고 , 복수 의 오프닝 ( 19 H ) 은 규칙 적 인 어레이 로 형성 될 수 있 다 .