플라 즈 마를 간헐 적 으로 생성 시키 는 방법 에 대해 , 보다 구체 적 으로 설명 하 면 , 게이트 절 연막 ( 130 ) , 활성 층 ( 140 ) 및 보호막 ( 160 ) 중 적어도 하나 를 형성 하 는데 있 어서 , 소스 원료 와 반응 원료 를 상호 반응 시켜 형성 하 는데 , 도 2 와 같이 소스 원료 와 반응 원료 가 챔버 의 반응 공간 으로 공급 되 는 동안 플 라즈 마 생 성 을 위한 전원 즉 , RF 전원 을 연속 으로 인가 하 지 않 고 , 간헐 적 으로 인가 시킨다 . 즉 , RF 전원 의 인가 ( on ) 및 중단 ( off ) 을 일정 주기 로 교번 하 여 복수 번 반복 하 는 화학 기상 증착 ( CVD ) 방법 으로 형성 할 수 있 다 .