도 2 에서 , 전 구체 는 캐리어 가스 의 도움 으로 제공 된다 . ALD 는 자기 - 제한 흡착 반응 공정 이 므로 , 증착 된 전구체 분자 들 의 개수 는 반응 성 표면 사이트 의 개수 에 의해 결정 되 며 포화 후 전구체 의 노출 과 는 무관 하 고 , " 전구체 의 공급 은 사이클 마다 반응 성 표면 사이트 가 포화 되 도록 한다 . 증착 반응 을 위한 반응물 은 펄스 ( "" 리 액트 ( React ) "") 로 반응 챔버 에 공급 되 는 데 ", 이 때 반응물 은 기판 상 에 흡착 된 전구체 의 표면 상 에 노출 된 사이트 ( 예컨대 , - CH 3 ) 와 반응 하 기 위해 열 적 으로 활성 화 ( 예컨대 , 증기 H 2 O ) 되 고 , 반면 에 불활성 가스 는 전구체 의 공급 없이 연속 적 으로 반응 챔버 에 공급 되 어 단층 을 형성 한다 .