또한 , 상기 한 종래 기술 의 과제 를 해결 하 기 위해 , 본 발명 에서 는 , 플라스마 처리 장치 를 , 시료 가 플라스마 처리 되 는 진공 용기 와 , 플라스마 를 생성 하 기 위한 고주파 전력 을 공급 하 는 고주파 전원 과 , 시료 가 재치 되 는 시료 대 와 , 진공 용기 의 내부 에 자장 을 형성 시켜 진공 용기 의 외측 에 배치 된 자장 형성 부 를 구비 하 고 , 자장 형성 부 는 , 제 1 코일 과 , 제 2 코일 과 , 제 1 코일 을 덮 음 과 함께 진공 용기 의 위쪽 및 측면 을 덮 어 제 1 코일 이 내부 에 배치 된 제 1 요크 와 , 제 2 코일 을 덮 는 제 2 요크 를 구비 하 고 , 제 1 요크 의 한쪽 단부 ( 端部 ) 로부터 발한 자력선 이 제 2 요크 를 통해 제 1 요크 의 다른 쪽 단부 로 돌아가 며 , 또한 제 2 요크 로부터 발한 자력선 이 제 2 요크 로 돌아가 도록 제 2 코일 과 제 2 요크 가 구성 되 도록 했 다 .