본 발명 은 반도체 기판 을 건조 하 는 장치 를 제공 한다 . 상기 장치 는 반도체 기판 을 수용 하 고 건조 공정 이 수행 되 는 공간 을 제공 하 는 배스 와 그 상부 를 개폐 하 는 커버 를 가지 는 처리 실 을 가진다 . 상기 배스 내 상부 에 는 상기 배스 내 상부 로 이동 되 는 건 조 가스 를 냉각 하 는 냉각 부재 와 상기 건조 가스 가 상기 배스 외부 로 유출 되 는 것 을 방지 하 기 위해 상기 배스 내 에서 상기 냉각 부재 상부 에 차 단막 을 형성 하 는 차단 가스 를 공급 하 는 차단 가스 공급 부재 가 제공 된다