제 1 샤워 헤드 ( 15 ) 의 제 1 버퍼 부 ( 15 a ) 에 분포 되 었 다가 유도관 ( 20 ) 을 통과 한 원료 가스 와 , 제 2 샤워 헤드 ( 18 ) 의 분사 홀 ( 18 c ) 을 통과 한 플 라즈 마 발생 가스 의 중성 라디칼 은 서로 분리 된 상태 로 기판 ( 32 ) 상 에 분사 되 고 , 이 과정 에서 상기 원료 가스 와 중성 라디칼 의 반응 이 방지 되 어 파티클 발생 의 주원인 이 되 는 기상 반응 을 억제 하 여 기판 ( 32 ) 에 박막 을 형성 할 수 있 다 .