처리 실 ( 201 ) 은 , 주위 에 코일 전극 ( 이하 , 간단히 「 코일 」 이 라고 도 함 ) ( 212 ) 이 마련 되 어 있 는 플라스마 생성 공간 ( 201 a ) 과 , 플라스마 생성 공간 ( 201 a ) 에 연통 하 는 기판 처리 공간 ( 201 b ) 을 갖 는다 . 플라스마 생성 공간 ( 201 a ) 은 , 플라스마 가 생성 되 는 공간 이 며 , 처리 실 내 의 공간 중 , 코일 ( 212 ) 의 하단 보다 상방 이 며 또 한 코일 ( 212 ) 의 상단 보다 하방 의 공간 을 말 한다 . 한편 , 기판 처리 공간 ( 201 b ) 은 , 플라스마 를 사용 해서 기판 을 처리 하 는 공간 이 며 , 코일 ( 212 ) 의 하단 보다 하방 의 공간 을 말 한다 . 본 실시 형태 에서 는 , 플라스마 생성 공간 ( 201 a ) 과 기판 처리 공간 ( 201 b ) 의 수평 방향 의 직경 은 대략 동일 해 지 게 구성 되 어 있 다 .