상기 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 다른 측면 에 따르 면 , 반도체 소자 는 웨이퍼 상 에 포토레지스트 막 을 형성 하 고 상기 포토레지스트 막 을 액체 조성물 을 사용 하 여 액침 노광 하 면서 , 상기 포토레지스트 막 상 으로 제 1 기체 를 분사 하 여 , 상기 포토레지스트 막 상 에 잔류 한 상기 액체 조성물 을 분쇄 및 제거 하 여 제조 할 수 있 다 .