다음 으로 , 노광 후 의 조성물 층 에 있 어서 의 미노 광부 의 조성물 층 을 현상 제거 하 여 패턴 을 형성 한다 . 미노 광부 의 조성물 층 의 현상 제거 는 , 현상액 을 이용 하 여 행할 수 있 다 . 이 로써 , 노광 공정 에 있 어서 의 미노 광부 의 조성물 층 이 현상액 에 용출 되 고 , 광경 화 된 부분 만 이 지 지체 상 에 남 는다 . 현상액 으로서 는 , 하지 의 고체 촬상 소자 나 회로 등 에 대미지 를 주 지 않 는 , 알칼리 현상액 이 바람직 하 다 . 현상액 의 온도 는 , 예 를 들 면 20 ~ 30 ℃ 가 바람직 하 다 . 현상 시간 은 , 20 ~ 180 초간 이 바람직 하 고 , 20 ~ 90 초간 이 보다 바람직 하 다 .