본 발명 의 포토레지스트 제거 용 박리 액 조성물 은 환경 과 인체 에 유해 한 N - 메틸 포름 아미드 ( N - methylforamide ; NMF ) 및 N - 메틸 피 롤리 돈 ( N - methylpyrrolidone ; NMP ) 를 주 용매 로 사용 하 지 않 고 도 , 포토레지스트 를 신속 하 게 박리 시킬 수 있 다 . 또한 , 본 발명 의 포토레지스트 제거 용 박리 액 조성물 은 건식 또는 습식 에칭 후 에 도 변성 된 포토레지스트 를 신속 하 게 박리 시킬 수 있 다 .