일 실시 예 에 따르 면 , 상기 쉴 딩 라인 및 상기 도전 라인 들 을 형성 하 는 단계 는 상기 활성 영역 상 에 마스크 패턴 을 형성 하 는 단계 , 상기 소자 분리 영역 및 상기 마스크 패턴 상 에 컨 포 멀 하 게 절 연막 을 형성 하 는 단계 , 상기 마스크 패턴 사이 를 매립 하 도록 상기 절 연막 상 에 내부 쉴 딩 막 을 형성 하 는 단계 , 상기 내부 쉴 딩 막 상 에 캡 핑 막 을 형성 하 는 단계 , 상기 마스크 패턴 및 상기 마스크 패턴 상 의 상기 절 연막 을 제거 하 여 상기 기판 을 노출 하 는 개구 영역 을 형성 하 는 단계 및 상기 개구 영역 을 도전 물질 로 매립 하 는 단계 를 포함 할 수 있 다 .