상기 촉매 금속 층 ( 122 ) 을 에 미터 형성 부분 에 만 남기 기 위한 패 터닝 방법 은 , 상기 촉매 금속 층 ( 122 ) 상부 에 포토레지스트 ( 124 ) 를 형성 한 후 리 소그라 피 공정 으로 원 하 는 부위 를 패 터닝 한 후 에칭 하 여 패 터닝 되 지 않 는 부분 을 제거 하 는 방법 을 사용 하 거나 , 상기 촉매 금속 층 ( 122 ) 을 형성 하 기 전 에 포토레지스트 를 도포 하 고 필요 없 는 부분 을 에칭 하 여 제거 한 다음 , 패턴 닝 된 포토레지스트 층 상부 에 촉매 금속 층 을 형성 하 고 포토레지스트 층 과 그 상부 에 형성 된 촉매 금속 층 을 제거 하 는 리프트 오프 ( lift - off ) 방법 이 사용 한다 . 또한 , 상기 포토레지스트 를 프린팅 방법 이나 스프레이 방법 등 을 이용 하 여 탄소 나노 튜브 를 이용 한 에 미터 가 형성 될 위치 에 만 도포 할 수 도 있 다 .