본 발명 의 실시 예 에 따른 마스크 설계 방법 은 제 1 메인 패턴 이 형성 된 셀 을 형성 하 는 단계 ; 메인 칩 내 에 제 2 메인 패턴 을 형성 하 는 단계 ; 상기 메인 칩 내 에 상기 셀 을 삽입 하 는 단계 ; 상기 제 1 메인 패턴 과 상기 제 2 메인 패턴 을 기준 으로 더미 패턴 금지 영역 을 형성 하 는 단계 ; 상기 셀 이 삽입 된 메인 칩 의 전체 영역 에 더미 패턴 을 형성 하 는 단계 ; 및 상기 더미 패턴 금지 영역 과 겹치 는 더미 패턴 을 제거 하 는 단계 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .