더미 활성 영역 ( 45 ) 을 설정 함 으로써 , 제 1 패턴 대 응부 ( 43 a ) 는 , 예 를 들 면 , 게이트 전극 이 형성 되 는 것 으로 판단 되 어 , 제 1 패턴 대 응부 ( 43 a ) 가 레벤 손 형 마스크 로 형성 될 패턴 으로 식별 된다 . 레벤 손 형 마스크 에서 , 제 1 패턴 대 응부 ( 43 a ) 의 양측 에 동 위상 개구부 및 반전 위상 개구부 가 설정 되 어야 한다고 판단 된다 . 도 30 에 도시 한 반전 위상 개구부 ( 31 b ) 및 동 위상 개구부 ( 31 c ) 를 투과 하 는 노광 에 의해 제 1 패턴 ( 13 a ) 이 형성 되 도록 , 반전 위상 개구부 ( 31 b ) 및 동 위상 개구부 ( 31 c ) 가 확장 된다 . 동 위상 개구부 및 반전 위상 개구부 의 데이터 에 기초 하 여 , 도 28 에 도시 한 레벤 손 형 마스크 가 제조 된다 .