이 배열 에서 , 축 적 사이클 동안 더 많 은 가스 가 가스층 ( 14 ) 으로 전송 되 고 , 그 압력 이 증가 함 에 따라 , 대안 적 으로 약간 의 수층 ( 16 ) 내 의 물 이 변위 되 어 샤프트 ( 18 ) 내 물 ( 20 ) 의 압력 에 대항 하 여 샤프트 ( 18 ) 내 로 액체 도관 ( 40 ) 을 통과 하 여 상방 으로 가압 될 수 있 다 . 보다 상세 하 게 는 , 물 은 바람직 하 게 는 축압기 ( 12 ) 의 바닥 으로부터 샤프트 ( 18 ) 내 로 자유 롭 게 유동 할 수 있 고 , 궁극 적 으로 보충 도관 ( replenishment conduit ) ( 58 ) 을 통해 물 의 소스 / 싱크 ( 150 ) 와 교환 될 수 있 다 . 대안 적 으로 , 임의 의 적절 한 유형 의 유량 제한 또는 조절 디바이스 ( 예 를 들 어 , 펌프 , 밸브 , 오리피스 플레이트 등 과 같 은 ) 가 수관 ( 40 ) 에 제공 될 수 있 다 . 가스 가 가스층 ( 14 ) 으로부터 제거 될 때 , 수층 ( 16 ) 을 재충전 하 기 위해 물 은 샤프트 ( 18 ) 로부터 보충 도관 ( 58 ) 을 통과 하 여 가압 될 수 있 다 . 보충 도관 ( 58 ) 을 통한 유동 은 물 이 수층 ( 16 ) 내외 로 강제 될 때 , 과량 의 물 ( 20 ) 이 배출 될 수 있 고 보충 수 가 샤프트 ( 18 ) 에 공급 될 수 있 기 때문 에 원하 는 양 의 물 ( 20 ) 이 샤프트 ( 18 ) 내 에 유지 될 수 있 는 것 을 보장 하 는 데 도움 이 될 수 있 다 . 이러 한 배열 은 축압기 ( 12 ) 및 샤프트 ( 18 ) 의 압력 이 가스 가 축압기 ( 12 ) 내 로 강제 될 때 적어도 부분 적 으로 자동 적 으로 재 평형 을 유지 하 도록 할 수 있 다 .