정보 처리 장치 ( 1200 ) 는 , 원판 의 패턴 을 기판 상 의 레지스 트 층 에 투영 하 고 해당 레지스 트 층 을 노광 하 는 노광 장치 로부터 얻 어 지 는 제 1 정보 및 해당 노광 장치 에 의해 처리 된 해당 기판 으로부터 얻 어 지 는 제 2 정보 중 적어도 하나 를 처리 하 도록 구성 될 수 있 다 . 정보 처리 장치 ( 1200 ) 는 , 제 1 정보 및 제 2 정보 중 적어도 하나 에 기초 하 여 , 해당 노광 장치 의 상면 형상 을 나타내 는 형상 정보 를 취득 하 는 단계 와 , 해당 형상 정보 가 물품 제조 용 의 기판 의 복수 의 샷 영역 에 매핑 된 맵 정보 를 생성 하 는 단계 를 실행 할 수 있 다 . 제 1 정보 는 , 예 를 들 어 샷 배열 정보 및 상면 형상 정보 또는 맵 정보 일 수 있 다 . 해당 제 2 정보 는 , 예 를 들 어 해당 노광 장치 에 의한 노광 단계 를 거친 기판 을 계측 함 으로써 얻 어 진 정보 ( 예 를 들 어 , 상면 형상 을 실측 해서 얻 어 지 는 정보 ) 일 수 있 다 .