평가 기판 A 를 , PdCl 2 를 포함 하 는 무전 해 도금 용 용액 에 40 ℃ 에서 5 분 간 침지 하 고 , 그 다음 에 무전 해 구리 도금액 에 25 ℃ 에서 20 분 간 침지 하 였 다 . 150 ℃ 에서 30 분 간 가열 하 여 어 닐 처리 를 행한 후 에 , 에칭 레지스 트 를 형성 하 고 , 에칭 에 의한 패턴 형성 후 에 , 황산 구리 전해 도금 을 행하 고 , 20 ㎛ 의 두께 로 도체 층 을 형성 하 였 다 . 그 다음 에 , 어 닐 처리 를 200 ℃ 에서 60 분 간 행하 였 다 . 이 기판 을 「 평가 기판 B 」 라고 하 였 다 .