일본 특허 공개 공보 제 2016 - 219679 호 는 , 토포 그래피 를 갖 는 기판 상 에 레지스 트 를 적하 하 고 , 블랭크 템플 릿 의 압인 면 을 레지스 트 에 가압 하 고 , 레지스 트 를 경화 시키 며 , 그 후 에 레지 스트로 부터 블랭크 템플 릿 을 이 형 하 는 기판 평탄 화 방법 을 기재 하 고 있 다 . 기판 의 평탄 화 는 , 후속 의 포토 리소그래피 단계 에서 , 포토레지스트 층 을 투영 광학계 의 초점 심도 ( DOF ) 에 맞추 는 것 을 보장 하 는 데 유용 하 다 .