한편 , 상기 한 바 와 같 은 노광 기술 ( 광 리 소그라 피 ) 의 문제점 을 해결 하 기 위한 대체 기술 로서 는 전자 빔 리 소그라 피 ( e - beam lithography ) , X 선 리 소 그라피 ( X - ray lithography ) , 주사 탐침 리 소그라 피 ( scanning probe lithography ) 등 의 방법 이 개발 되 었 다 . 그러나 , 이러 한 대체 기술 들 은 고가 의 장비 를 요구 할 뿐 만 아니 라 공정 시간 이 상대 적 으로 많이 소요 되 어 경제 성 이 현저 하 게 떨어지 는 문제 가 있 다 .