여기 서 , 본 발명 의 제 1 실시 예 에 따른 상기 액티브 패턴 ( 124 ) 과 소오 스 / 드레 인 전극 ( 122 , 123 ) 및 데이터 라인 ( 117 ) 은 하프 - 톤 마스크 를 이용 함 으로써 한 번 의 마스크 공정 ( 제 2 마스크 공정 ) 을 통해 동시 에 형성 할 수 있 게 되 는데 , 이하 도면 을 참조 하 여 상기 제 2 마스크 공정 을 상세히 설명 한다 .