이상 에서 설명 한 바 와 같이 , 본 발명 에 따르 면 새로운 3 매 마스크 공정 에 따라서 소스 금속 층 아래 에 형성 되 는 채널 층 을 스위칭 소자 의 채널 부 영역 이외 에 는 형성 시키 는 않 도록 한다 . 이 에 의해 상기 채널 부 이외 의 소스 금속 층 아래 에 는 채널 층 이 형성 되 지 않 으므로 잔상 현상 및 플리커 현상 과 같 은 표시 불량 을 제거 할 수 있 다 .