한편 , PET 단계 에서 는 식각 장비 에서 주로 웨이퍼 에 인가 되 는 바이어스 파워 ( bias power ) 는 인가 하 지 않 고 , 주로 챔버 의 탑 ( top ) 에 인가 되 는 소스 파워 ( source power ) 만 인가 한다 . 여기 서 , 바이어스 파워 는 주로 식각 의 직진 성 과 식각 률 에 영향 을 주 는 것 으로 실질 적 으로 식각 이 이루어지 게 하 는 것 이 고 , 소스 파워 는 주로 플 라즈 마 농도 를 증가 시키 는 역할 을 하 는 것 으로서 식각 특성 을 저하 시키 고 식각 의 직진 성 도 상실 시킨다 . 따라서 , PET 단계 에서 는 바이어스 파워 는 인가 하 지 않 고 , 소스 파워 만 인가 하 는 것 에 의해서 금속 배선 및 층간 절 연막 을 거의 식각 하 지 않 고 , 금속 배선 상부 와 챔버 의 측벽 에 있 는 PR 과 이 물질 만 을 제거 하 게 된다 .