이때 , 상기 하드 마스크 질화 막 ( 108 ) 은 건식 식각 공정 으로 제거 되 고 , 식각 공정 에 사용 되 는 가스 와 상기 감광막 패턴 ( 110 ) 및 하드 마스크 질화 막 ( 108 ) 이 반응 하 여 생성 된 무기물 을 함유 한 폴리머 ( 112 ) 물질 이 감광막 패턴 ( 110 ) 과 하드 마스크 질화 막 ( 108 ) 의 측면 에 재 증착 ( Redeposition ) 된다 .