그 다음 , 상기 제 4 감광막 패턴 을 상기 금속 도 전 물질 층 을 선택 적 으로 식각 하 여 소스 스 / 드레 인 전극 ( 21 a ) ( 21 b ) 을 형성 한다 . 이때 , 상기 채널 영역 위 에 위치 하 는 투명 도 전 물질 층 부분 도 함께 제거 되 는데 , 이 투명 도 전 물질 층 아래 에 는 에치 스톱 퍼 패턴 ( 19 a ) 이 존재 하 기 때문 에 , 채널 의 데미지 ( damage ) 가 방지 된다 .