일부 실시 형태 에서 , 트랜스 포 좀 복합체 는 특정 밀도 또는 밀도 범위 로 고체 지 지체 , 예컨대 , 비드 상 에 고정 된다 . 비드 상 의 복합체 의 밀도 는 그 용어 가 본 명세서 에서 사용 된 바 와 같이 고정 화 반응 동안 용액 중 의 트랜스 포 좀 복합체 의 농도 를 지칭 한다 . 복합체 밀도 는 고정 화 반응 이 정량 적 이 라고 가정 한다 . 복합체 가 특정 밀도 로 형성 되 면 , 그 밀도 는 표면 - 결합 된 트랜스 포 좀 복합체 의 배 취 에 대해서 일정 하 게 유지 된다 . 생성 된 비드 를 희석 할 수 있 고 , 희석 된 용액 중 의 복합체 의 생성 된 농도 는 비드 에 대해서 제조 된 밀도 를 희석 배수 에 의해서 나눈 것 이 다 . 희석 된 비드 스톡 은 이 의 제조 로부터 복합체 밀도 를 유지 하 지만 , 그 복합체 는 희석 된 용액 중 에서 더 낮 은 농도 로 존재 한다 . 희석 단계 는 비드 상 의 복합체 의 밀도 를 변화 시키 지 않 고 , 따라서 삽 입물 ( 단편 ) 크기 가 아니 라 라이브러리 수율 에 영향 을 준다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 5 nM 내지 약 1000 nM , 또는 약 5 내지 150 nM , 또는 약 10 nM 내지 800 nM 이 다 . 다른 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 10 nM , 또는 약 25 nM , 또는 약 50 nM , 또는 약 100 nM , 또는 약 200 nM , 또는 약 300 nM , 또는 약 400 nM , 또는 약 500 nM , 또는 약 600 nM , 또는 약 700 nM , 또는 약 800 nM , 또는 약 900 nM , 또는 약 1000 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 100 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 300 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 600 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 800 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 100 nM 이 다 . 일부 실시 형태 에서 , 밀도 는 약 1000 nM 이 다 .