본 발명 의 1 측면 에 의하 면 , 원판 상 에 형성 된 패턴 의 상 을 투영 광학계 를 통해서 기판 에 전사 하 는 노광 장치 의 상기 투영 광학계 의 구면 수차 의 측정 방법 은 , 제 1 조명 조건 및 제 2 조명 조건 각각 하 에서 의 상기 투영 광학계 의 초점 위치 와 , 상기 투영 광학계 의 구면 수차 간 의 관계 를 나타내 는 초점 위치 데이터 를 취득 하 는 스텝 ; 상기 제 1 조명 조건 하 에서 상기 투영 광학계 의 초점 위치 를 계측 하 는 제 1 계측 스텝 ; 상기 제 2 조명 조건 하 에서 상기 투영 광학계 의 초점 위치 를 계측 하 는 제 2 계측 스텝 ; 상기 제 1 조명 조건 하 에서 계측 한 상기 초점 위치 와 상기 제 2 조명 조건 하 에서 계측 한 상기 초점 위치 간 의 차이 를 취득 하 는 스텝 ; 및 상기 초점 위치 데이터 로부터 , 상기 초점 위치 들 간 의 상기 차이 에 대응 하 는 상기 투영 광학계 의 구면 수차 를 취득 하 는 스텝 을 포함 하 고 , 상기 제 1 조명 조건 은 , 상기 투영 광학계 의 구면 수차 의 변화 에 따라 상기 투영 광학계 의 초점 위치 가 둔감 하 게 변화 하 는 조건 이 고 , 상기 제 2 조명 조건 은 , 상기 투영 광학계 의 구면 수차 의 변화 에 따라 상기 투영 광학계 의 초점 위치 가 민감 하 게 변화 하 는 조건 인 것 을 특징 으로 한다 . 본 발명 의 다른 측면 에 의하 면 , 상기 노광 장치 의 투영 광학계 의 코마수차 의 측정 방법 은 , 제 1 조명 조건 하 에서 상기 투영 광학계 의 초점 위치 에서 의 상기 원판 측 에 배치 된 마크 와 상기 기판 측 에 배치 된 마크 의 상대 위치 와 , 상기 투영 광학계 의 코마수차 간 의 관계 를 나타내 는 제 1 시프트 위치 데이터 를 취득 하 는 스텝 ; 제 2 조명 조건 하 에서 상기 초점 위치 로부터 디 포커스 한 위치 에서 의 상기 상대 위치 와 , 상기 투영 광학계 의 코마수차 간 의 관계 를 나타내 는 제 2 시프트 위치 데이터 를 취득 하 는 스텝 ; 상기 초점 위치 에 있 어서 의 상기 상대 위치 를 , 상기 제 1 조명 조건 하 에서 상기 투영 광학계 를 개재 하 여 계측 하 는 제 1 계측 스텝 ; 상기 초점 위치 로부터 디 포커스 한 위치 에 있 어서 의 상기 상대 위치 를 , 상기 제 2 조명 조건 하 에서 상기 투영 광학계 를 개재 하 여 계측 하 는 제 2 계측 스텝 ; 상기 제 1 계측 스텝 에서 계측 한 상기 상대 위치 와 , 상기 제 2 계측 스텝 에서 계측 한 상기 상대 위치 간 의 차이 를 취득 하 는 스텝 ; 및 상기 제 1 시프트 위치 데이터 및 제 2 시프트 위치 데이터 로부터 , 상기 상대 위치 들 간 의 상기 차이 에 대응 하 는 상기 투영 광학계 의 코마수차 를 취득 하 는 스텝 을 포함 하 고 , 상기 제 1 조명 조건 은 , 상기 투영 광학계 의 코마수차 의 변화 에 따라 상기 상대 위치 가 둔감 하 게 변화 하 는 조건 이 고 , 상기 제 2 조명 조건 은 , 상기 투영 광학계 의 코마수차 의 변화 에 따라 상기 상대 위치 가 민감 하 게 변화 하 는 조건 인 것 을 구비 하 는 것 을 특징 으로 한다 .