여기 서 , 보호 층 ( 160 ) 을 단일 막 으로 구성 하 는 경우 에 제 1 보호 층 ( 160 a ) 의 증착 방법 으로 는 스퍼터링 ( sputtering ) 증착 법 , 전자 빔 증착 법 ( E - beam evaporation ) 등 의 PVD ( 물리 기상 증착 , Physical Vapor Deposition ) 증착 법 과 MOCVD ( Metal Organic CVD ) , PECVD ( Plasma Enhanced CVD ) 등 의 CVD ( 화학 기상 증착 , Chemical Vapor Deposition ) 증착 법 또는 ALD ( 원자 층 증착 , Atomic Layer Deposition ) 증착 법 등 이 이용 될 수 있 다 .