도 5 에 도시 된 바 와 같이 , 과도기 간 에서 는 도 2 에 도시 된 리셋 기간 에서 주사 전극 , 유지 전극 및 어 드레스 전극 ( Y , X , A ) 에 인가 된 리셋 파형 과 유사 한 형태 의 파형 을 주사 전극 , 유지 전극 및 어 드레스 전극 ( Y , X , A ) 에 적어도 1 회 인가 한다 . 도 5 에서 는 벽 전하 제어 기간 에서 리셋 파형 과 유사 한 형태 의 파형 이 3 회 반복 하 여 인가 되 는 것 으로 도시 하 였 다 . 즉 , 어 드레스 전극 ( A ) 및 유지 전극 ( X ) 의 전압 을 0 V 로 유지 한 상태 에서 , 주사 전극 ( Y ) 의 전압 을 Vs ' 전압 에서 Vset ' 전압 까지 점진 적 으로 증가 시킨다 . 그러면 , 주사 전극 ( Y ) 의 전압 이 증가 하 는 중 에 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 사이 및 주사 전극 ( Y ) 과 어드레스 전극 ( A ) 사이 에서 약 방전 이 일 어 나 면서 , 주사 전극 ( Y ) 에 는 ( -) 벽 전하 가 형성 되 고 유지 전극 ( X ) 및 어 드레스 전극 ( A ) 에 는 ( +) 벽 전하 가 형성 된다 . 이어서 , 유지 전극 ( X ) 을 Ve ' 전압 으로 유지 한 상태 에서 주사 전극 ( Y ) 의 전압 을 Vs ' 전압 에서 Vnf ' 전압 까지 점진 적 으로 감소 시킨다 . 그러면 , 주사 전극 ( Y ) 의 전압 이 감소 하 는 중 에 주사 전극 ( Y ) 과 유지 전극 ( X ) 사이 및 주사 전극 ( Y ) 및 어 드레스 전극 ( A ) 사이 에서 약 방전 이 일어나 면서 주사 전극 ( Y ) 에 형성 된 ( -) 벽 전하 와 유지 전극 ( X ) 및 어 드레스 전극 ( A ) 에 형성 된 ( +) 벽 전하 가 소거 된다 . 이러 한 파형 을 반복 하 여 인가 하 면 , 모든 셀 의 벽 전하 의 상태 가 균일 해진다 . 이 로 인하 여 과도 기간 동안 벽 전하 가 소실 되 지 않 고 프라이밍 입자 또한 많 아 지 게 되 므로 , 이어지 는 프레임 의 구동 이 정상 적 으로 이루어질 수 있 다 . 여기 서 , Vs ', Vset ', Vnf ' 및 VscH ' 전압 이 각각 Vs , Vset , Vnf 및 VscH 전압 과 동일 할 수 있 다 .