기판 ( 110 ) 의 최 상부 표면 에 간섭 패턴 ( 112 ) 이 형성 된다 . 예 를 들 어 , 리소그래피 에 사용 될 때 , 간섭 패턴 ( 112 ) 은 묘화 이미지 로 포토레지스트 층 ( 도 1 에 표시 되 지 않 음 ) 을 노광 한다 . 예 를 들 어 , 2 개 의 방사선 빔 들 ( 106 A 및 106 B ) 간 의 상쇄 간섭 ( destructive interference ) 에 의해 유도 된 최소치 들 에 의해 분리 되 고 , 방사선 빔 들 ( 106 A 및 106 B ) 간 의 보강 간섭 ( constructive interference ) 에 의해 유도 된 최대치 들 의 라인 들 에 대응 하 는 , 기판 ( 110 ) 상 의 복수 의 라인 들 을 노광 시키 기 위해 간섭 하 도록 , 제 1 및 제 2 빔 들 ( 106 A 및 106 B ) 이 기판 ( 110 ) 상 으로 투영 될 수 있 다 .