본 발명 의 일 양태 에서 , 상기 N - 에틸 포름 아마이드 함량 은 제한 되 는 것 은 아니 나 전체 조성물 함량 중 10 내지 90 중량 % 를 포함 할 수 있 다 . 보다 바람직 하 게 20 내지 85 중량 %, 더욱 좋 게 는 40 내지 85 중량 % 를 포함 할 수 있 다 . 상술 한 범위 에서 박리 력 을 향상 시켜 포토레지스트 제거 시간 을 현저히 단축 시킬 수 있 으며 , 하 부막 부식 을 최소 화 할 수 있 다 .