본 발명 의 청구 항 8 의 광학 막 평면 화 방법 은 청구 항 7 에 기재 된 광학 막 평면 화 방법 으로서 , 상기 슬라이딩 면 형성 공정 에서 슬라이딩 면 을 형성 한 입도 보다 거친 입 도 또는 세밀 한 입도 로 상기 슬라이딩 면 을 문지름 으로써 , 상기 성막 면 을 더욱 평면 에 가깝 게 하 는 미세 조정 을 행하 는 미세 조정 공정 을 행하 는 것 을 특징 으로 한다 .