본 발명 의 실시 예 에 따른 기판 처리 장치 에 따르 면 , 기판 ( S ) 이 출입 하 도록 챔버 ( 10 ) 에 형성 되 는 출입구 ( 11 ) 주위 의 유해 가스 를 흡입 하 여 배출 하 는 가스 배출 유닛 ( 60 ) 이 구비 된다 . 따라서 , 기판 ( S ) 을 챔버 ( 10 ) 의 내부 공간 으로 반입 하 거나 챔버 ( 10 ) 의 내부 공간 으로부터 반출 하 기 위해 출입구 ( 11 ) 가 개방 되 는 경우 , 가스 배출 유닛 ( 60 ) 에 의해 출입구 ( 11 ) 주위 의 유해 가스 가 흡입 되 어 배출 될 수 있 으므로 , 챔버 ( 10 ) 내 에 잔존 하 는 유해 가스 가 출입구 ( 11 ) 를 통하 여 챔버 ( 10 ) 의 외부 로 누출 되 는 것 이 방지 될 수 있 다 . 따라서 , 챔버 ( 10 ) 내 에 잔존 하 는 유해 가스 가 외부 로 누출 되 는 것 으로 인해 챔버 ( 10 ) 외부 의 환경 이 유해 가스 로 인해 오염 되 는 것 을 방지 할 수 있 다 .