상기 흡광 막 패턴 들 ( 119 ) 은 고밀도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 a ) 및 저밀 도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 b ) 으로 분리 되 어 배치 된다 . 상기 흡광 막 패턴 들 의 폭 들 이 동일 한 경우 에 , 상기 고밀도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 a ) 내 의 흡광 막 패턴 들 의 간격 은 상기 저밀 도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 b ) 내 의 흡광 막 패턴 들 의 간격 에 비해 상대 적 으로 작 다 . 즉 , 노광 패턴 의 임계 치수 의 변화 가 발생 할 수 있 다 . 이 에 따라 , 상기 고밀도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 a ) 을 통해 반사 된 광 의 강도 와 상기 저밀 도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 b ) 을 통해 반사 된 광 의 강도 가 서로 다를 수 있 다 . 예 를 들 면 , 상기 고밀도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 a ) 을 통해 반사 된 광 의 강도 가 상기 저밀 도 흡광 막 패턴 영역 ( 120 b ) 을 통해 반사 된 광 의 강도 에 비해 상대 적 으로 작 을 수 있 다 . 즉 , 상기 흡광 막 패턴 들 의 정렬 밀도 에 따라 상기 주 포토 마스크 ( 114 ) 로부터 반사 되 는 광 의 반 사량 이 다르 게 나타날 수 있 다 .