본 발명 의 실시 예 에 따른 배선 보정 방법 을 실행 하 기 위해 도 3 에 도시 된 바 와 같 은 보정 시스템 ( 100 ) 을 사용 한다 . 보정 시스템 ( 100 ) 은 반도체 패턴 을 생성 하 기 위한 노광 장치 ( 200 ) 에 일체 로 결합 된 상태 로 사용 될 수 도 있 지만 , 통상 적 인 노광 공정 을 실행 하 기 위한 노광 장치 ( 200 ) 와 별개 로 구성 하 여 작업 의 상태 를 신속 하 게 변경 시킬 수 있 도록 하 는 것 이 바람직 하 다 .