본 발명 의 일 실시 예 에 있 어서 , 기판 처리 장치 는 챔버 의 내부 에 공정 가스 를 공급 하 는 공정 가스 공급 유닛 ( 190 ) 을 더 포함 할 수 있 다 . 공정 가스 공급 유닛 ( 190 ) 은 공정 가스 를 수용 하 는 공정 가스 탱크 ( 미 도시 ) , 상기 공정 가스 탱크 로부터 공정 가스 를 제공 하 기 위한 공정 가스 공급 라인 ( 191 ) 및 상기 공정 가스 의 유량 을 제어 하 기 위한 공정 가스 제어 밸브 ( 193 ) 를 포함 할 수 있 다 .