상술 한 도 3 의 처리 에서 는 , 가스 도입 샤워 헤드 ( 29 ) 및 서 셉 터 ( 12 ) 를 이용 하 여 발생 시킨 플 라즈 마 에 의해서 웨이퍼 ( W ) 가 가열 되 기 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 를 용이 하 게 가열 할 수 있 다 . 또한 , 가스 도입 샤워 헤드 ( 29 ) 및 서 셉 터 ( 12 ) 는 기판 처리 장치 ( 10 ) 의 필수 구성 요소 이 기 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 를 열팽창 시키 기 위해서 특별 한 장치 를 마련 할 필요 성 을 없앨 수 있 다 .