도 5 를 참조 하 여 , 분할 전극 ( 31 , 33 ) 은 복수 개 의 가스 분사 홀 ( 73 ) 이 길 이 방향 을 따라 구성 될 수 있 다 . 전극 장착 판 ( 34 ) 의 일부 가스 분사 홀 ( 32 - 1 ) 은 용량 결합 전극 ( 31 , 33 ) 의 가스 분사 홀 ( 73 ) 과 연결 되 며 다른 일부 의 가스 분사 홀 ( 32 - 2 ) 은 연결 되 지 않 는다 . 가스 공급 부 ( 20 ) 는 일부 의 가스 분사 홀 ( 32 - 1 ) 을 통하 여 공정 챔버 의 몸체 내부 로 제 1 가스 를 공급 하 는 제 1 가스 공급 경로 와 다른 일부 의 가스 분사 홀 ( 32 - 2 ) 을 통하 여 공정 챔버 의 몸체 내부 로 가스 를 공급 하 는 제 2 가스 공급 경로 를 구비 할 수 있 다 . 가스 공급 부 ( 20 ) 가 갖 는 제 1 및 제 2 가스 공급 경로 는 독립 적 인 가스 공급 경로 로 서로 다른 종류 의 공정 가스 를 분리 공급 할 수 있 도록 구성 된다 . 도면 에 구체 적 으로 도시 하 지 않 았 으나 , 다른 예 로서 용량 결합 전극 ( 31 , 33 ) 에 구비 된 가스 분사 홀 ( 73 ) 을 통해서 만 반응 가스 를 반응기 몸체 ( 11 ) 의 내부 로 공급 하 는 단일 가스 공급 채널 을 구성 하 는 것 도 가능 하 다 . 또는 제 1 및 제 2 가스 공급 경로 는 동일 한 종류 의 공정 가스 가 공급 될 수 도 있 다 .