또한 , 림 부 ( 22 ) 를 형성 하 기 위한 림 형성 막 은 , 노광 광 에 대한 위상 시프트 양 이 90 도 이하 이 며 , 3 내지 60 도 인 것 이 보다 바람직 하 다 . 본 발명 에 관한 포토 마스크 는 , 투 광부 ( 10 ) 와 림 부 ( 22 ) 의 투과광 이 서로 의 간섭 에 의해 상쇄 되 는 현상 이 억제 되 어 , 노광 을 위해 필요 한 조사량 ( Dose ) 을 증가 시키 는 문제 가 생기 지 않 는다 .