상기 문제점 을 해결 하 기 위한 기술 적 인 방법 은 , 대량 생산 및 저 코스트 로 제조 가능 한 습식 중화 반응 상 에 산화 인듐 분말 의 1 차 입자 의 미세화 와 균일 한 분산 성 의 제어 의 수단 으로 초음파 화학 적 반응 ( Ultrasonic Chemistry Reacton ) 에 의해 생성 되 는 분말 내부 의 공동 현상 을 파괴 하 는 초음파 기술 을 사용 한다 . 상기 분말 의 형성 은 1 단계 의 수 나노미터 크기 의 미세 한 핵 입자 의 형성 후 , 2 단계 입자 가 성장 과정 , 3 단계 1 차 입자 들 과 의 충돌 에 의한 표면 응집 과정 의 관여 하 게 되 는데 이 중 2 단계 와 3 단계 를 초음파 에 의해 억제 함 으로 입자 를 50 ㎚ 이하 의 크기 로 균일 하 게 분산 된 산화 인듐 분말 을 제조 할 수 있 음 을 알아내 었 다 .