디자인 핫 스폿 들 은 소정 임계 치 아래 로 떨어진 PW 영역 , DOF 또는 노광 위도 를 갖 는 패턴 들 로서 수학식 41 을 이용 한 풀 - 칩 분석 으로부터 식별 될 수 있 다 . 그 후 , 이 임계 패턴 들 의 동작 은 전체 - PW 시뮬레이션 들 에 의해 , 즉 반복 된 이미지 에 대한 전체 시뮬레이션 모델 을 이용 하 여 , 또한 PW 에 걸친 많 은 지점 들 에서 의 레지스 트 윤곽 시뮬레이션 에 의해 상세 하 게 조사 될 수 있 다 .