그런 다음 , 제 2 단계 에서 , 제 2 반응물 펄스 가 상기 가공 대상물 에 공급 된다 . 제 2 화학 작용 ( chemistry ) 은 실리콘 이 산화물 을 형성 하 기 위하 여 , 상기 제 1 반응물 에 의하 여 남겨진 분자 층 위 에 흡착 되 거나 상기 분자 층 과 바람직 하 게 반응 하 는 산소 소스 를 포함 한다 . 일부 구 현예 들 에서 , 상기 제 2 반응물 펄스 는 오존 을 , 예 를 들 면 캐리어 기체 의 도움 을 얻 어 가공 대상물 에 공급 하 는 단계 를 포함 한다 . 일부 구 현예 들 에서 , 오존 은 오존 농도 를 약 5 부피 % 내지 약 40 부피 % 로 포함 하 는 오존 과 산소 ( 또는 불활성 가스 ) 의 혼합물 로서 제공 된다 . 이하 에서 논의 하 는 바 와 같이 , 원자성 산소 , 산소 플라스마 , 또는 산소 라디칼 과 같 은 다른 산소 소스 들 이 사용 될 수 있 다 .