반도체 기술 의 진보 와 더불 어 , 반도체 소자 의 고속화 , 고집 적 화 가 급속 하 게 진행 되 고 있 고 , 이 에 수반 해서 패턴 의 미세 화 및 패턴 칫 수 의 고정 밀화 에 대한 요구 가 점점 높 아 지 고 있 다 . 이러 한 요구 는 소자 분리 막 에 도 적용 된다 . 이것 은 소자 영역 의 폭 이 감소 되 고 있 는 추세 에서 소자 분리 영역 의 폭 역시 함께 감소 시켜야 만 하 기 때문 이 다 .