본원 에 개시 된 구 현예 는 , 반도체 처리 장치 에서 사용 하 기 위한 반응물 액체 를 기화 시키 기 위해 , 개선 된 액체 기화기 ( 예 , 직접 식 액체 주입 기화기 ) 에 관한 것 이 다 . 본원 에 개시 된 구 현예 는 임의 의 적합 한 유형 의 반도체 처리 장치 와 함께 사용 될 수 있 고 , 이 는 원자 층 증착 ( ALD ) 장치 , 화학 기상 증착 ( CVD ) 장치 , 금속 유기 CVD ( MOCVD ) 장치 , 물리 기상 증착 장치 ( PVD ) 등 을 포함 한다 .