이러 한 제 3 실시 예 에 따른 구조 는 과잉 액정 이 충 진 되 는 공간 을 더 확보 한 것 으로 , 상술 한 제 1 실시 예 에 비해 우측 변 에 연장 된 부위 의 공간 에 과잉 액정 이 충 진 될 공간 을 확보 하 게 된다 . 이 경우 에 도 , 상기 연결 패턴 의 수 를 가감 하 여 액정 충 진 공간 을 수 를 조절 할 수 있 으며 , 리페 어 과정 에서 액정 과잉 량 에 대응 하 여 점차 적 으로 그 외측 변 에서 중심 으로 레이저 조사 부위 를 늘려 충 진 영역 을 늘릴 수 있 게 된다 .