2 층 프로세스 용 규소 함유 레지스 트 조성물 로 는 산소 가스 에칭 내성 의 점 으로부터 베이스 폴리머 로서 폴리 실세 스 퀴옥산 유도체 또는 비닐 실란 유도체 등 의 규소 원자 함유 폴리머 를 사용 하 고 , 추가 로 유기 용매 , 산 발생 제 , 필요 에 따라 염기 성 화합물 등 을 포함 하 는 포지티브 형 포토레지스트 조성물 이 사용 된다 . 또한 , 규소 원자 함유 폴리머 로 는 이런 종류 의 레지스 트 조성물 에 이용 되 는 공지 의 폴리머 를 사용 할 수 있 다 .