또한 , 본 실시 형태 에서 는 건조 공정 에서 는 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 를 유지 함 과 함께 웨이퍼 ( W ) 의 하면 을 흡인 유지 하 는 유지 테이블 ( 53 ) 과 , 유지 테이블 ( 53 ) 을 스핀 회전 시켜 웨이퍼 ( W ) 를 건조 시키 는 회 전부 ( 57 ) 를 사용 하 고 있 다 . 이 로써 , 웨이퍼 ( W ) 를 용이 하 게 건조 시킬 수 있 다 . 특히 , 본 실시 형태 에서 는 유지 테이블 ( 53 ) 의 지지 기둥 쌍 ( 55 ) 이 , 웨이퍼 지지 부재 ( 3 ) 의 다리 ( 8 ) 를 사이 에 두 고 있 다 . 이 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 가 스핀 회전 시 에 원심력 의 영향 을 받 아 , 유지 테이블 ( 53 ) 로부터 낙하 하 는 것 을 용이 하 게 억제 할 수 있 다 .