그리고 본 발명 에서 첨부 되 는 또 하나 의 구성 요소 에 는 , 희석 용제 가 있 는데 이 희석 용제 의 경우 후술 하 겠 지만 1 차 로 화학 적 교반 이 이루 어 졌으나 충분히 화학 반응 을 일으키 지 않 은 물질 들 을 다시 한 번 반응 시키 기 위해서 첨부 하 는 화학 반응 촉진제 이 다 . 상기 희석 용제 는 , 메틸 이소부 틸 케톤 , 메틸 에틸 케톤 , 톨루엔 중 하나 이상 이 선택 적 으로 채택 되 어 사용 될 수 있 다 .