패턴 사이즈 가 충분히 큰 시대 에 는 반도체 웨이퍼 상 에 형성 하 고자 하 는 LSI 패턴 의 평면 형상 을 그대로 설계 패턴 으로 하 여 그리고 , 그 설계 패턴 에 충실 한 마스크 패턴 을 작성 하 고 , 그 마스크 패턴 을 투영 광학계 에 의해 반도체 웨이퍼 상 에 전사 하 고 , 지지 기재 를 에칭 함 으로써 거의 설계 패턴 대로 의 패턴 을 반도체 웨이퍼 상 에 형성 할 수 있 었 다 .