도 3 에서 , 웨이퍼 처리 챔버 들 ( 1 , 2 ) 및 웨이퍼 처리 챔버 들 ( 3 , 7 ) 은 각 쌍 의 처리 챔버 들 사이 를 지나 는 중심선 을 기준 으로 서로 에 대해 각각 선형 적 으로 대칭 되 며 , 또한 2 쌍 의 처리 챔버 들 에 의해 형성 되 는 각도 동일 하 다 . 이것 은 웨이퍼 처리 챔버 ( 1 ) 의 단부 와 웨이퍼 처리 챔버 ( 2 ) 의 단부 ( 또는 웨이퍼 처리 챔버 ( 3 ) 의 단부 및 웨이퍼 처리 챔버 ( 7 ) 의 단부 ) 모두 가 상기 중심선 과 직교 하 는 선 ( 도 3 에 도시 된 직선 ) 을 통과 하 는 경우 , 즉 상기 단부 들 이 상기 장치 의 단부 들 이 되 는 경우 에 , 그 폭 이 최소 화 되 기 때문 이 다 . 이 경우 , 길이 ( W 5 ) 는 각 웨이퍼 처리 챔버 가 곁 에 설치 되 는 각 측면 에 대하 여 동일 하 며 , 각도 또한 인접 하 는 웨이퍼 처리 챔버 들 의 각 쌍 에 대하 여 동일 하 다 . 따라서 , 도 3 에서 블랭크 측면 ( 18 ) 의 길이 ( W 7 및 W 4 ) 는 동일 해진다 . 여기 서 , 길이 ( W 7 ) 은 길이 ( W 5 ) 보다 더 길 다 .