샤워 헤드 ( 253 ) 는 챔버 플 라즈 마 구역 ( 220 ) 과 기판 공정 처리 구역 ( 270 ) 사이 에 위치 될 수 있 고 , 플라 즈 마 유출물 들 또는 전 구체 들 의 여기 된 유도체 들 또는 챔버 플 라즈 마 구역 ( 220 ) 내 에 생성 된 다른 가스 들 이 , 샤워 헤드 에 포함 된 평판 또는 평판 들 의 두께 를 가로지르 는 복수 의 관통 홀 들 ( 256 ) 을 통과 할 수 있 게 할 수 있 다 . 전 구체 들 및 / 또는 플 라즈 마 유도체 들 은 , 기판 지지 부 ( 275 ) 상 에 위치 된 기판 ( 280 ) 상 에 증착 될 수 있 는 막 들 을 생성 하 기 위해 공정 처리 구역 ( 270 ) 에서 결합 될 수 있 다 . 샤워 헤드 ( 253 ) 는 또한 , 증기 또는 가스 의 형태 로 전구체 로 채워질 수 있 고 기판 공정 처리 구역 ( 270 ) 내 로 작 은 홀 들 ( 255 ) 을 통과 하 지만 챔버 플 라즈 마 구역 ( 220 ) 내 로 는 직접 통과 하 지 못하 는 하나 이상 의 중공 체적 ( 251 ) 을 가질 수 있 다 . 샤워 헤드 ( 253 ) 는 , 개시 된 실시 예 들 에서 관통 홀 들 ( 256 ) 의 최소 직경 ( 250 ) 의 길이 보다 더 두 꺼 울 수 있 다 . 상당 한 농도 의 여기 된 종 들 이 챔버 플 라즈 마 구역 ( 220 ) 으로부터 기판 공정 처리 구역 ( 270 ) 으로 침투 하 는 것 을 유지 하 기 위해 , 관통 홀 들 의 최소 직경 ( 250 ) 의 길이 ( 226 ) 는 샤워 헤드 ( 253 ) 를 통해 부분 적 으로 관통 홀 들 ( 256 ) 의 더 큰 직경 부분 들 을 형성 함 으로써 제한 될 수 있 다 . 관통 홀 들 ( 256 ) 의 최소 직경 ( 250 ) 의 길이 는 개시 된 실시 예 들 에서 관통 홀 들 ( 256 ) 의 최소 직경 과 동일 한 자릿수 이 거나 그 미만 일 수 있 다 .