기판 을 처리 하 기 위한 플 라즈 마 시스템 으로서 , 하나 또는 둘 이상 의 기판 ( d ) 이 상부 에 유지 될 수 있 는 전도성 전극 ( b , bb ) ; 상기 기판 이 유지 되 는 면 으로부터 떨어진 면 상 에서 상기 기판 을 유지 하 는 전극 에 가까이 배치 되 지만 이 로부터 분리 되 어 있 는 제 2 전도성 전극 ( a ) ; 및 상기 기판 을 균일 하 게 처리 하 는 데 필요 한 가스 혼합물 ( f ) 을 공급 하 기 위해 상기 기판 이 유지 되 는 면 상 에서 상기 전도성 전극 으로부터 떨어져서 배치 되 는 가스 혼합물 분배 샤워 헤드 ( e ) ; 를 포함 하 여 , 상기 기판 을 유지 하 는 전도성 전극 과 상기 제 2 전도성 전극 사이 에서 , 개시 되 고 형성 된 플 라즈 마 형태 는 상기 기판 을 유지 하 는 전극 을 감싸 며 , 상기 샤워 헤드 내 의 구멍 ( ee ) 을 통해 상기 가스 혼합물 을 활성 화 하 고 분배 하 는 상기 샤워 헤드 로부터 떨어져서 유지 됨 으로써 , 처리 의 균일성 , 수율 및 신뢰 성 에 대한 이점 을 제공 하 는 기판 을 처리 하 기 위한 플 라즈 마 시스템 이 개시 된다 .