빔 스폿 처리 모듈 ( 506 ) 은 빔 스폿 의 경 계부 를 축소 함 으로써 중첩 영역 의 영향 을 완화 시킬 수 있 다 . 단계 712 에서 , 빔 스폿 처리 모듈 ( 506 ) 은 결정 된 중첩 영역 에 기초 하 여 업데이트 된 제 1 경 계부 와 업데이트 된 제 2 경 계부 를 결정 할 수 있 다 . 빔 스폿 처리 모듈 ( 506 ) 은 , 예 를 들 어 도 4 b 를 참조 하 여 업데이트 된 제 1 경 계부 ( 312 ee ) 와 업데이트 된 제 2 경 계부 ( 312 ff ) 를 결정 할 수 있 다 . 수축 률 은 다양 한 고려 사항 에 기초 하 여 결정 될 수 있 다 . 일부 실시 예 에서 , 수축 률 은 단계 710 에서 결정 된 중심 들 간 의 제 1 거리 와 제 2 거리 사이 의 비율 에 기초 할 수 있 다 . 또한 , 결정 된 중첩 영역 내 의 전자 감지 요소 로부터 의 출력 을 배제 하 는 것 은 빔 스폿 의 결정 된 세기 값 을 감소 시킬 수 있 다 . 이 감소 는 ( 예 를 들 어 , 암전 류 , 간섭 소스 등 으로부터 의 ) 노이즈 성분 에 대한 세기 값 을 감소 시켜 낮 아 진 신호 대 노이즈 비 로 이어질 수 있 다 . 감소 된 신호 대 노이즈 로 , 빔 스폿 으로부터 생성 된 세기 분포 는 노이즈 신호 에 영향 을 더 받 기 쉬워질 수 있 으며 , 이 는 이미지 재 구성 의 충실 도 를 저하 시킬 수 있 다 . 따라서 , 일부 실시 예 에서 , 수축 률 은 또한 결과 적 인 신호 대 노이즈 비 가 설정 임계 값 과 같 거나 이 를 초과 하 도록 결정 될 수 있 다 .