예 로서 , 상기 CNT 시 딩 층 ( 210 ) 은 연산 평균 표면 거칠 기 Ra 가 약 850 내지 약 4000 옹스트롬 , 및 더 바람직 하 게 는 약 4000 옹스트롬 을 갖 는 티타늄 또는 탄탈 질화물 과 같 은 금속 질화물 약 1000 내지 약 5000 옹스트롬 일 수 있 다 . 몇몇 실시 예 에서 약 1 내지 약 200 옹스트롬 , 더 바람직 하 게 는 약 20 옹스트롬 이하 의 금속 촉매 층 , 예 를 들 어 니켈 , 코발트 , 철 등 을 CNT 형성 이전 에 표면 이 거친 금속 질화물 층 상 에 증착 시킬 수 있 다 . 또 다른 실시 예 에서 , 상기 CNT 시 딩 층 ( 210 ) 은 약 1 내지 약 200 옹스트롬 , 더 바람직 하 게 는 약 20 옹스트롬 이하 의 금속 촉매 층 , 예 를 들 어 니켈 , 코발트 , 철 등 으로 코팅 된 비 - 거칠 음 또는 매끄러운 티타늄 , 탄탈 또는 유사 한 금속 질화물 약 20 내지 약 500 옹스트롬 을 포함 할 수 있 다 . 임의 의 실시 예 에서 니켈 , 코발트 , 철 또는 기타 금속 촉매 층 은 연속 또는 비 - 연속 필름 일 수 있 다 .