그리고 , 공정 챔버 에 공급 되 는 고주파 와 는 별도 로 셀프 플라 즈 마 챔버 에 공급 되 는 고주파 를 고주파 프로브 를 사용 하 여 측정 하 기 때문 에 메인 장비 의 고주파 구동 에 전혀 영향 을 주 지 않 고 측정 이 가능 하 다 . 더 나아가 고주파 프로브 , 분광 분석기 , 광학 프로브 와 같이 복합 적 인 측정 결과 를 사용 하 여 상태 를 확인 하 게 때문 에 데이터 의 신뢰도 , 정확도 가 향상 되 는 효과 가 있 다 .