상기 와 같 은 문제점 을 해결 하 기 위한 본 발명 의 목적 은 , 상기 메인 세정 가스 밸브 의 리크 에 의해 반응 가스 가 세정 가스 공 급단 으로 역류 되 는 것 을 막 아 상기 메인 세정 가스 밸브 자체 또는 상기 메인 세정 가스 밸브 전 후단 의 가스 공급 라인 에서 파우더 가 발생 되 는 것 을 방지 토록 하 고 , 상기 파우더 에 의한 웨이퍼 오염 을 방지 토 록 하 여 생산 수율 을 증대 또는 극대 화 할 수 있 는 반도체 제조 설비 의 밸브 리크 검출 방법 을 제공 하 는 데 있 다 .