본 개시 의 실시 예 들 은 기판 의 표면 상 에서 하나 이상 의 제조 동작 들 을 수행 하 도록 사용 된 프로세스 챔버 내 에 임 베 딩 된 고전 력 튜브 형 가열 엘리먼트 를 갖 는 스 페이서 를 채용 함 으로써 입자 퍼포먼스 를 개선 하 기 위한 방법 들 을 제공 하 는 시스템 들 , 장치 들 , 및 방법 들 을 포함 한다 . 튜브 형 가열 엘리먼트 가 다양 한 제조 프로세스 들 동안 프로세스 챔버 내 에서 최적 의 온도 프로 파일 을 제공 하 도록 이상 적 인 온도 범위 에서 스 페이서 의 내측 벽 온도 를 제어 하 도록 사용 된다 . 스 페이서 의 구조 및 치수 들 은 챔버 내 에서 열 전달 을 개선 하 고 , 샤워 헤드 , 페데 스탈 및 스 페이서 사이 에서 가스 플로우 프로파일 을 평탄 화 하 고 , 측벽 들 상 의 반응 라디칼 들 의 재결합 을 감소 시키 고 , 불 균일 도 를 감소 시키 고 , 증착 레이트 를 상승 시키 고 그리고 그 결과 입자 퍼포먼스 를 전반 적 으로 향상 시키 도록 규정 된다 . 스 페이서 의 구조 및 치수 는 또한 스 페이서 로부터 의 열 손실 을 감소 시키 고 스 페이서 로부터 스 페이서 가 커플링 되 는 샤워 헤드 로 의 열 전달 을 감소 시키 도록 구성 된다 .