발광 강도 변환 테이블 ( 80 ) 은 , ＰＥＭ 에 의한 프로세스 중 의 제어 가 어떤 원 하 는 상태 로 안정 되게 제어 되 어 있 는 전제 에 있 어서 , 예 를 들 면 액 티노 메트리 법 이 라고 한 원리 에 근거 해 비교 적 정밀 도 좋 게 성막 속도 Ｒp 를 추정 할 수 있 다 . 그런데 , 프로세스 가 장기 에 달하 면 , 챔버 ( 37 ) 의 벽면 에 의 막 의 부착 에 의해 탈 가스 량 이 변동 하 거나 , 챔버 ( 37 ) 내 의 금속 부품 표면 에 절연 성 의 막 이 부착 되 어서 ＧＮＤ 로부터 전기 적 으로 절연 되 어 , 플라 즈 마 임피던스 가 변동 하 거나 한다 . 이렇게 성막 시 의 상태 가 경시 변화 함 에 의해 , 발광 강도 변환 테이블 ( 80 ) 도 경시 적 으로 변동 해 버린다 .