일부 다단계 예 에서 는 , 리소그래피 관련 및 / 또는 스캐너 관련 처리 요소 가 , S - D 및 / 또는 N - S - D 일 수 있 는 마스크 층 증착 프로시저 , 마스크 층 노광 프로시저 , 및 / 또는 현상 프로시저 를 수행 할 수 있 고 , S - D 평가 요소 는 S - D 및 / 또는 N - S - D 일 수 있 는 마스크 층 증착 프로시저 , 마스크 층 노광 프로시저 , 및 / 또는 현상 프로시저 를 검증 하 는 데 이용 될 수 있 다 . 또한 , 하나 이상 의 층 은 에칭 관련 처리 요소 를 이용 하 여 에칭 될 수 있 고 , 에칭 된 특징 부 는 하나 이상 의 S - D 평가 요소 를 이용 하 여 평가 될 수 있 다 .