마찬가지 로 , 제 2 액침 시스템 ( 1 B ) 은 그 구성 이 제 1 액침 시스템 ( 1 A ) 과 동일 하 고 , 액체 ( LQ ) 를 공급 하 기 위한 공 급구 ( 12 B ) 를 가지 는 공급 부재 ( 13 B ) 및 액체 ( LQ ) 를 회수 하 기 위한 회수 구 ( 22 B ) 를 가지 는 회수 부재 ( 23 B ) 를 가지 고 있 으며 , 제 2 투영 계 ( PL 2 ) 의 종단 광학 소자 ( FL 2 ) 의 하면 과 기판 스테이지 ( 4 ) 위 의 기판 ( P ) 의 표면 과 의 사이 의 노광 광 ( EL ) 의 광로 를 액체 ( LQ ) 로 채우 도록 , 기판 ( P ) 위 의 일부 에 액체 ( LQ ) 의 제 2 액침 영역 ( LR 2 ) 을 국소 적 으로 형성 한다 . 제 2 액침 영역 ( LR 2 ) 은 기판 ( P ) 위 의 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 보다 크 게 형성 된다 . 즉 , 제 2 액침 영역 ( LR 2 ) 은 제 2 노광 영역 ( AR 2 ) 의 모두 를 덮 도록 형성 된다 . 또한 , 제 1 , 제 2 액침 시스템 ( 1 A , 1 B ) 은 각각 그 일부 ( 예 를 들 면 , 액체 공급 장치 및 / 또는 액체 회수 장치 를 구성 하 는 부재 ) 가 노광 장치 에 설치 되 어 있 을 필요 는 없 고 , 예 를 들 면 노광 장치 가 설치 되 는 공장 등 의 설비 를 대용 해도 된다 . 또 , 액침 시스템 ( 100 ) 의 구조 는 상술 의 구조 에 한정 되 지 않 고 , 예 를 들 면 , 유럽 특허 공개 제 1420298 호 공보 , 국제 공개 제 2004 / 055803 호 팜플렛 , 국제 공개 제 2004 / 057590 호 팜플렛 , 국제 공개 제 2005 / 029559 호 팜플렛 ( 대응 미국 특허 공개 제 2006 / 0231206 호 ) , 국제 공개 제 2004 / 086468 호 팜플렛 ( 대응 미국 특허 공개 제 2005 / 0280791 호 ) , 일본국 특개 2004 - 289126 호 공보 ( 대응 미국 특허 제 6 , 952 , 253 호 ) 등 에 기재 되 어 있 는 것 을 이용 할 수 있 다 . 액침 노광 장치 의 액침 기구 및 그 부속 기기 에 대해서 , 지 정국 또는 선택 국 의 법령 이 허락 하 는 범위 에 있 어서 상기 의 미국 특허 또는 미국 특허 공개 등 의 개시 를 원용 하 여 본문 의 기재 의 일부 로 한다 .