본 발명 은 유리 상 에 스퍼터 프로세스 에 의해 도포 될 수 있 고 템퍼링 가능 한 , 유리 를 위한 은 저 방사 율 ( silver low - E ) 코팅 에 관한 것 이 다 . 상기 코팅 의 개개 층 들 은 비용 효율 적 인 표준 재료 들 이 다 . 예 를 들 어 본 발명 의 일 실시 예 는 유리 기판 , 그 위 에 약 15 nm 의 두께 로 배치 된 Si 3 N 4 층 , Si 3 N 4 층 상의 15 nm 두께 의 TiO 2 층 , TiO 2 층 상의 12 . 5 nm 두께 의 Ag 층 , Ag 층 상 의 약 5 nm 두께 의 NiCrOx 층 및 종단 의 45 nm 두께 의 Si 3 N 4 층 을 포함 한다 .