또한 , 본 발명 은 수직 형 시모스 이미지 센서 에서 금속 이온 의 게 더 링 을 위해 추가 적 인 패턴 공정 없이 간단 하 게 기존 의 제로 ( Zero ) 패턴 으로 생성 하 는 방법 ( pattern generation or mask tooling method ) 에 대한 것 이 다 . 종래 기술 은 추가 적 인 2 번 의 P + S / D 패턴 을 사용 하 기 때문 에 복잡 한 공정 으로 인해 효율 적 이 지 못하 다 . 이 를 위해 동일 한 게 더 링 효과 를 갖 고 보다 간단 한 공정 이 가능 하 도록 더미 패턴 ( dummy pattern ) 을 추가 한 제로 ( Zero ) 마스크 제작 방법 을 새롭 게 제안 하 였 다 .