도 2 는 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 의 레이아웃 을 도시 한다 . 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 ( 200 ) 는 웨이퍼 의 중심 에 캐 패 시터 패 턴 을 형성 하 기 위한 필드 샷 영역 ( 220 ) 과 웨이퍼 외각 에 위치 한 넷 다이 영역 에 캐 패 시터 패턴 을 형성 하 기 위한 다이 샷 영역 ( 230 ) 을 포함 한다 . 즉 , 본 발명 의 일 실시 예 에 따른 캐 패 시터 패턴 용 노광 마스크 ( 200 ) 는 프레임 데이터 를 수정 하 여 1 개 의 노광 마스크 에 필드 샷 영역 ( 220 ) 과 다이 샷 영역 ( 230 ) 을 배치 한다 .