따라서 , 상기 실시 예 들 은 광원 으로부터 다중 미러 어레이 ( MMA ) 까지 조명 광 방향 및 조명 광선 다발 의 발산 을 갖 는 마이크 로 리소그래피 용 투사 노광 장치 용 의 조명 광학 기기 의 다중 미러 어레이 의 조명 을 균질 화 하 기 위한 발명 에 따르 는 광학 시스템 을 도시 하고 , 광학 시스템 이후 의 조명 광 방향 에서 의 조명 광선 다발 의 발산 은 광학 시스템 이전 의 조명 광선 다발 의 발산 의 5 배 미만 이 다 .