도 3 을 참조 하 면 , D 1 RIE 를 수행 하 는 것 으로서 , D 1 RIE 시 기존 의 공정 조건 ( Process of recording , 이하 POR 이 라 한다 ) ( Main Etch 60 sec / Over Etch 28 sec ) 보다 소정 의 오버 식각 시간 을 증가 시킨 조건 ( Main Etch 60 sec / Over Etch 32 sec ) 으로 진행 한다 . 즉 , 소정 의 오버 식각 시간 은 POR 조건 보다 3 ~ 5 sec 정도 의 시간 이 될 수 있 다 .