가스 전달 시스템 ( 20 ) 이 프로세싱 챔버 ( 12 ) 에 하나 이상 의 가스 혼합물 들 을 선택 적 으로 전달 한다 . 가스 전달 시스템 ( 20 ) 은 프로세싱 챔버 ( 12 ) 와 유체 로 연통 하 는 하나 이상 의 가스 소스 들 ( 22 ) , 밸브 들 ( 24 ) , MFC ( mass flow controllers ) ( 26 ) 및 혼합 매니폴드 ( 28 ) 을 포함 한다 . 유도 코일 ( 32 ) 이 프로세싱 챔버 ( 12 ) 의 일 단부 에서 프로세싱 챔버 ( 12 ) 의 외측 벽 둘레 에 배치 될 수 도 있 다 . 플 라즈 마 생성기 ( 34 ) 가 유도 코일 ( 32 ) 에 RF 전력 을 선택 적 으로 공급 한다 . 플 라즈 마 생성기 ( 34 ) 는 RF 소스 ( 36 ) 및 매칭 네트워크 ( 38 ) 를 포함 할 수 도 있 다 . 사용 시 , 가스 혼합물 이 프로세싱 챔버 ( 12 ) 로 공급 되 고 RF 전력 이 프로세싱 챔버 ( 12 ) 내 에서 플라 즈 마를 스트라이킹 하 도록 ( strike ) 유도 코일 ( 32 ) 에 공급 된다 . 플라 즈 마는 이온 들 을 생성 한다 .