기준 공정 모델 ( 371 ) 이 앞선 절차 들 을 이용 하 여 , 또는 여 하한 의 다른 적절 한 방법 들 에 의해 얻 어 진 후 , 이 는 공정 모델 ( 34 ) 의 결정 에 사용 될 수 있 다 . 공정 모델 ( 34 ) 의 입력 들 의 제 2 값 들 ( 310 ) 및 제 2 값 들 ( 310 ) 에 의해 표현 되 는 처리 조건 하 에서 기판 상 에 형성 되 는 이미지 의 1 이상 의 특성 의 제 2 세트 의 값 들 ( 320 ) 이 얻 어 진다 . 이미지 의 특성 의 제 2 세트 의 값 들 ( 320 ) 은 , 예 를 들 어 메트 롤로 지 툴 을 사용 하 여 기판 상 의 이미지 를 측정 함 으로써 얻 어 진다 . 공정 모델 ( 34 ) 의 입력 들 의 제 2 값 들 ( 310 ) 은 조명 의 1 이상 의 특성 ( 31 ) ( 예 를 들 어 , 방사선 세기 분포 및 / 또는 위상 분포 ) , 투영 광 학기 의 1 이상 의 특성 ( 32 ) ( 예 를 들 어 , 투영 광 학기 에 의해 야기 되 는 방사선 세기 분포 및 / 또는 위상 분포 에 대한 변화 ) , 패 터닝 디바이스 의 1 이상 의 특성 ( 33 ) , 및 / 또는 1 이상 의 노광 - 후 절차 의 1 이상 의 특성 ( 30 ) 의 값 들 을 가질 수 있 다 . 제 2 값 들 ( 310 ) 및 값 들 ( 320 ) 은 샘플 로서 트레이닝 데이터 ( 340 ) 에 포함 된다 . 제 2 값 들 ( 310 ) 은 샘플 의 피처 벡터 이 고 , 값 들 ( 320 ) 은 샘플 의 감시 신호 이 다 . 트레이닝 데이터 ( 340 ) 는 다수 의 패턴 들 및 / 또는 다수 의 처리 조건 들 을 나타내 는 입력 들 의 값 들 을 포함 하 는 샘플 들 을 가질 수 있 다 . 절차 ( 360 ) 에서 , 공정 모델 ( 34 ) 은 트레이닝 데이터 ( 340 ) 및 기준 공정 모델 ( 371 ) 에 기초 하 여 결정 된다 . 예 를 들 어 , 기준 공정 모델 ( 371 ) 은 절차 ( 360 ) 에서 시작 으로서 사용 될 수 있 다 . 예 를 들 어 , 기준 공정 모델 ( 371 ) 은 절차 ( 360 ) 에서 제약 으로서 사용 될 수 있 다 . 일 예시 에서 , 공정 모델 ( 34 ) 은 절차 ( 360 ) 에서 공정 모델 ( 34 ) 이 기준 공정 모델 ( 371 ) 로부터 임계 치 를 넘 어 벗어나 지 않 는다는 조건 하 에 결정 될 수 있 다 . 일 예시 에서 , 공정 모델 ( 34 ) 은 절차 ( 360 ) 에서 기준 공정 모델 ( 371 ) 의 출력 으로부터 공정 모델 ( 34 ) 의 출력 의 편차 들 을 나타내 는 비용 함수 를 이용 하 여 결정 될 수 있 다 .