도 1 은 실시 형태 에 따른 플 라즈 마 처리 장치 ( 100 ) 의 구성 의 일례 를 나타내 는 개략 단면도 이 다 . 플 라즈 마 처리 장치 ( 100 ) 는 기밀 하 게 구성 되 고 , 전기 적 으로 접 지 전위 가 된 처리 용기 ( 1 ) 를 가지 고 있 다 . 처리 용기 ( 1 ) 는 원통 형상 으로 되 고 , 예 를 들 면 알루미늄 등 으로 구성 되 어 있 다 . 처리 용기 ( 1 ) 는 플 라즈 마가 생성 되 는 처리 공간 을 획정 한다 . 처리 용기 ( 1 ) 내 에 는 기판 인 반도체 웨이퍼 ( 이하 , 단순히 ' 웨이퍼 ' 라고 함 ) ( 8 ) 를 수평 으로 지지 하 는 배 치대 ( 2 ) 가 마련 되 어 있 다 . 본 실시 형태 에서 는 , 배치 대 ( 2 ) 가 온도 조정 장치 에 대응 한다 .