또한 , 본 실시 형태 에 따른 유지 보수 장치 ( 100 ) 는 플 라즈 마 에칭 장치 ( 10 ) 의 제 2 게이트 ( 95 ) 에 대응 하 는 사이즈 의 개구부 ( 101 A ) 가 형성 되 고 , 제 2 게이트 ( 95 ) 에 대하 여 기밀 성 을 유지 하 면서 상기 개구부 를 장착 가능 하 게 된 케이스 ( 101 ) 를 갖 는다 . 또한 , 유지 보수 장치 ( 100 ) 는 , 케이스 ( 101 ) 내부 에 수용 되 고 , 개구부 ( 101 A ) 를 거쳐서 , 처리 용기 ( 30 ) 내 의 포커스 링 ( 35 ) 의 분리 , 처리 용기 ( 30 ) 내 에 의 포커스 링 ( 35 ) 의 장착 , 처리 용기 ( 30 ) 내 의 청소 중 적어도 하나 를 실행 하 는 유지 보수 기구 를 갖 는다 . 이것 에 의해 , 유지 보수 장치 ( 100 ) 는 웨이퍼 ( W ) 를 반송 하 는 반송 계 를 거치 지 않 고 포커스 링 ( 35 ) 을 교환 할 수 있 다 . 이 결과 , 유지 보수 장치 ( 100 ) 는 웨이퍼 ( W ) 를 반송 하 는 반송 계 의 오염 을 억제 하 여 포커스 링 ( 35 ) 을 교환 할 수 있 다 .