도 1 및 도 2 에 도시 하 는 바 와 같이 , 기판 처리 장치 ( 10 ) 는 전달 부 ( 10 b ) 와 의 사이 에서 웨이퍼 ( W ) 를 전달 하 는 전달 유닛 ( 25 ) 과 , 격벽 ( 22 ) 에 의해 구획 된 공간 ( S ) 내 에서 웨이퍼 ( W ) 를 반송 할 수 있 는 반송 장치 ( 30 ) 와 , 몇 장 또는 수십 장 의 웨이퍼 ( W ) 를 동시 에 수용 할 수 있 으며 처리 액 을 저류 할 수 있 는 처 리조 ( 40 ) 와 , 1 장 이상 의 웨이퍼 ( W ) 를 수용 할 수 있 으며 순수 ( 純水 ) 를 저류 할 수 있 는 린스 장치 ( 50 ) 와 , 하나 의 기판 ( W ) 을 유지 하 고 , 유지 한 하나 의 기판 을 처리 하 는 매 엽 식 의 처리 유닛 ( 60 ) 을 격벽 ( 22 ) 에 의해 구획 된 공간 ( S ) 내 에 갖 고 있 다 . 본 실시 형태 에 있 어서 는 , 2 개 의 전달 유닛 ( 25 ) 이 상하 로 중첩 되 어서 공간 ( S ) 내 에 배치 되 어 있 다 . 또한 , 합계 4 개 의 처리 유닛 ( 60 ) 이 전달 유닛 ( 25 ) 의 양 옆 에 상하 중첩 되 어서 공간 ( S ) 내 에 배치 되 어 있 다 . 처 리조 ( 40 ) 와 린스 장치 ( 50 ) 는 나란히 늘어서 서 배치 되 어 있 다 . 반송 장치 ( 30 ) 는 , 처 리조 ( 40 ) 의 웨이퍼 수용 가능 매수 미만 의 매수 이 며 1 장 이상 의 웨이퍼 ( W ) 를 한 번 에 반송 할 수 있 고 , 처 리부 ( 10 c ) 내 에서 의 웨이퍼 ( W ) 의 반송 을 전부 담당 하 고 있 다 . 이하 , 각 장치 에 대하 여 차례 대로 상세히 설명 한다 .