제 2 라인 및 공간 마스크 가 제 1 마스크 에 수직 으로 형성 된다 . IBE 프로세스 는 반복 된다 . 일부 예 들 에서 , 스퍼터링 조건 들 은 MRAM 스택 과 유전체 충 진 재료 사이 에 1 : 1 선택 도 그리고 동시 에 내화 재료 로 이루어진 마스크 에 최대 선택도 를 부여 하 도록 선택 된다 . IBE 후 , 구조 체 는 봉지 층 으로 시일 링 되 고 ( sealed ) 갭 은 충 진 된다 .