실제로 KrF ( 248 nm ) 를 시작 으로 ArF ( 198 nm ) , EUV ( extreme ultra violet - 극자외선 , 13 . 5 nm ) 광원 을 이용 한 리소그래피 ( lithography ) , ArF 리소그래피 의 이중 노광 ( 더블 패 터닝 리소그래피 ) 기술 이 개발 되 어 , 현재 상용 화 되 었 거나 상용 화 중 에 있 으며 이 를 이용 하 여 더 미세 한 패턴 을 구현 할 수 있 게 되 었 다 .