본 스텝 에서 형성 되 는 보호막 ( 200 e ) 의 막 두께 는 10 Å 정도 이 고 , 이 막 두께 는 , DHF 세정 전 에 하 지 ( 200 c ) 의 표면 에 형성 되 어 있 던 자연 산화 막 ( 200 d ) 의 막 두께 에 비해서 얇 다 . 이렇게 보호막 ( 200 e ) 의 막 두께 가 얇 아도 , 보호막 ( 200 e ) 의 막 두께 균일성 이 자연 산화 막 의 막 두께 균일성 보다 도 훨씬 높 으므로 , 후술 하 는 스텝 C 의 F 2 가스 공급 시 에 있 어서 의 하지 ( 200 c ) 의 표면 에 의 F 2 가스 의 접촉 을 충분히 억제 하 는 것 이 가능 하 게 된다 .