이상 과 같 은 순서 에 따라 , 콘택트 홀 을 형성 하 고 , 콘택트 홀 을 거쳐 Al - Ni 계 합금 막 으로 이루어지 는 회로 와 투명 전극 층 이 직접 접합 된 평가 샘플 에 대하 여 , 그 콘택트 저항 값 을 측정 했 다 . 그 측정 결과 를 표 2 에 나타낸다 . 이 콘택트 저항 값 의 측정 은 , 도 1 에 나타내 는 바 와 같 은 4 단자 법 에 의거 하 여 , 평가 샘플 인 소자 를 대기 ( 大氣 ) 중 , 250 ℃, 30 분 간 의 어닐링 처리 후 , 각 평가 샘플 의 저항 값 측정 을 행했 다 . 또 , 이 도 1 에 나타내 는 4 단자 법 은 , 열처리 후 의 평가 샘플 의 단자 부분 에서 연속 통전 ( 3 mA ) 하 여 , 그 저항 을 측정 하 는 것 이 다 .