종래 HACD 으로 포접 한 화장료 조성물 이 알려져 있 었 다 . 예 를 들 면 , 한국 특허 등록 10 - 0159271 이나 10 - 0415430 등 에 는 HACD 을 이용 하 여 포접 하 는 방법 이 공개 되 어 있 다 . 그러나 이 들 의 포접 방법 은 2 내지 24 시간 의 교반 이 라는 많 은 시간 과 에 너지 를 필요 로 하 는 결점 이 있 으며 , HACD 만 으로 안정 화 시킨 조성물 은 안정 화 시키 지 않 은 조성물 에 비해서 는 안정 한 편 이 지만 시간 이 경과 함 에 따라 서서히 산화 되 는 문제점 이 있 다 . 이 에 본 발명자 는 시간 과 에너지 를 절약 할 수 있 는 방법 과 더욱 안정 화 시킬 수 있 는 방법 을 집중 적 으로 연구 하 던 중 저급 알콜 에 HACD 를 녹인 후 , 물 에 는 잘 안 녹 지만 저급 알콜 에 는 잘 녹 는 포접 시킬 활성 물질 ( 게스트 물질 ) , 예 를 들 면 , 인돌초산 , 에 피갈 롤 카테킨 갈 레이트 ( EGCG ) , α - 리포산 등 을 넣 어 녹인 후 그 용액 을 정제 수 에 넣 고 교반 해 준 후 리포 좀 으로 나노 캡슐 화 하 게 되 면 시간 과 에너지 도 절약 되 고 안정 성 도 개선 된다는 것 을 발견 하 고 본 발명 을 완성 하 기 에 이르 렀다 .