이 와 같 은 공정 챔버 의 내부 에 는 반도체 제조 공정 중 또는 그 후 에 발생 하 는 공정 부산물 들 이 발생 되 고 , 상기 공정 부산물 들 은 케이스 ( 190 ) 의 내부 로 유입 되 어 배출구 로 배기 될 수 있 다 . 그러나 , 이 와 같 은 공정 부산물 은 회전축 ( 110 ) 의 외면 과 돌출부 들 ( 120 ) 의 외면 에 누적 될 수 있 다 .