예 를 들 어 , 1 - D ( 라인 / 공간 ) 및 2 - D ( 라인 단부 들 등 ) 패턴 들 을 포함 한 여하 한 적절 한 수 및 범위 의 테스트 구조 체 들 에 대한 전체 모델 을 이용 하 여 , ' 올바른 ' 레지스 트 이미지 들 및 윤곽 들 이 여하 한 수 의 PW 지점 들 에 대해 시뮬레이션 될 수 있 다 . 또한 , 미분 이미지 들 ( a 및 b ) 의 값 들 은 레지스 트 윤곽 들 부근 에서 계산 될 수 있 다 . 각각 의 패턴 에 대해 , 패턴 - 특정 게이지 지점 들 , 예 를 들 어 라인 - 단부 테스트 패턴 에 대한 라인 의 선단 ( tip ) 에서 , 또는 NC 레지스 트 윤곽 의 여 하한 의 지점 을 따라 PW 를 통한 R ( x ) 의 변화 가 계산 될 것 이 다 . 이 평가 지점 들 xi 각각 에서 ,