장치 : 배양 은 PEEK 헤드 플레이트 를 갖 는 맞춤 - 제작 형 500 mL 유리 발효기 를 사용 하 여 회분 식 으로 재배 되 었 다 . 온도 및 pH 는 시판 되 는 제어기 ( Electrolab , Fermac 360 , 영국 ) 로 조절 되 고 모니터링 되 었 다 . 280 mL / 분 으로 자기 교반 막대 및 연속 적 인 재순환 의 조합 을 혼합 에 사용 하 였 다 . 재순환 은 반응기 의 바닥 액체 섹션 으로부터 나와서 분무기 를 통해 상부 공간 로 돌아가 면서 거품 을 조절 하 거나 역방향 으로 전개 되 어 상부 공간 가스 및 거품 을 배양액 의 바닥 으로 재순환 시킬 수 있 었 다 . 가스 공급 은 압축 된 H 2 , 압축 된 CO 2 및 수용 공기 로부터 이루어지 며 , 각각 20 psi 로 조절 되 었 다 . H 2 및 공기 는 가스 의 상대 분 율 을 설정 하 는 유동 분배 기 ( Matheson G 2 - 4 D 151 - E 401 / E 401 , 20 psi ) 로 전달 되 었 다 . 다음 으로 H 2 / 공기 가스 믹스 는 가변 면적 유량계 를 통해 각각 의 발효기 로 전달 되 었 고 , 동일 한 H 2 / 공기 조성물 의 각각 의 발효 조로 의 유동 속도 는 유량계 의 니들 밸브 에 의해 조정 될 수 있 었 다 . CO 2 가스 는 분리 되 어 각각 의 발효 조 의 개별 가변 면적 유량계 로 전달 되 었 다 . CO 2 및 H 2 / 공기 라인 은 발효기 로 전달 되 는 단일 라인 으로 연결 된다 . 압력 게이지 는 발효기 로 의 가스 전달 압력 을 모니터링 하 는 데 사용 되 었 다 . 가스 는 4 개 의 2 마이크 론 확산 스톤 ( p / n KEG 592 , http : / / morebeer . com / products / diffusion - stone - 2 - micron - oxygen . html ) 을 통해 발효기 배양액 내 로 혼합 되 고 , 콘덴서 를 통해 반응기 로부터 거품 - 오버플로 병 으로 , 다음 으로 배기 시스템 으로 배출 되 었 다 .