일반 적 으로 , 이 피처 들 의 치수 들 은 크 고 , 예 를 들 면 , 광 의 파장 의 몇 배 이 고 , 따라서 그것 들 은 광 을 기하학 적 방식 으로 반사 하 게 된다 . 피처 들 의 측벽 각도 는 그 들 의 효율 을 최대 화 하 기 위하 여 선택 된다 . 스침 각도 광 은 재료 내 에서 90 ° 근처 에서 전파 되 기 때문 에 , 45 ° 근처 의 , 예 를 들 면 , 35 ° 와 55 ° 사이 의 측벽 각도 들 을 갖 는 피처 가 스침 각도 광 을 효율 적 으로 추출 할 것 으로 기대 된다 . 상부 표면 ( 34 ) 에 형성 된 광 결정 의 경우 에 , 피처 들 의 특성 들 은 또한 광 을 선택 적 인 방향 들 로 추출 하 도록 그 들 의 측벽 각도 들 및 그 들 의 면내 분포 ( in - plane distribution ) 를 최적 화 함 으로써 장치 의 방향 성 을 증가 시키 도록 최적 화 될 수 있 다 .