이것 들 을 받 아서 본원 출원인 은 , 적외선 레이저 등 을 조작 함 으로써 디지털 데 이타 에 기초 해 직접 화상 형성 이 가능 한 도전 성 패턴 재료 및 그 형성 방법 에 대해서 제안 하 고 있 다 ( 예 를 들 면 , 일본 특허 공개 2003 - 114525 공보 참조 ) . 이 도전 성 패턴 재료 는 , 상술 의 표면 그래프트 중합법 을 이용 하 여 지 지체 의 원 하 는 영역 에 그래프트 폴리머 를 생성 시켜 , 그 생 성 영역 에 도전 미립자 를 흡착 시킨 구성 을 갖 는다 . 이 구성 에 의하 면 , 디지털 데 이타 에 대응 한 고 세밀 한 도전 성 패턴 ( 금속 패턴 ) 을 , 보다 간편 하 게 형성 할 수 있 다 .