도 11 을 참조 하 면 , 하드 마스크 막 패턴 ( 308 ) 이 제거 되 어 제 1 도 전막 패턴 ( 310 ) 이 노출 된 부분 을 매립 시키 는 제 2 도 전막 ( 324 ) 을 증착 한다 . 제 2 도 전막 ( 324 ) 은 500 - 1000 ℃ 의 온도 에서 언 도프 트 폴리 실리콘 막 , 도프 트 폴리 실리콘 막 또는 언 도프 트 폴리 실리콘 막 및 도프 트 폴리 실리콘 막 의 적층 구조 로 형성 할 수 있 다 .