도 4 는 제 3 에칭 모드 를 나타내 고 , 여기 서 펄스 의 제 3 유형 또는 형상 이 반응기 ( 5 ) 로 전달 된다 . 도 4 에 나타낸 제 3 모드 에서 , V 1 및 V 2 둘 모두 는 펄스 동안 개방 되 고 , 이 는 기화 된 반응물 을 공급원 ( 3 ) 으로부터 중간 챔버 ( 4 ) 를 통해 반응기 ( 5 ) 로 이송 한다 . 펄스 시간 동안 에 반응물 의 부분 압력 은 , 적어도 부분 적 으로 공급원 용기 ( 3 ) 의 압력 및 니 들 밸브 ( V 3 ) 의 컨 던 턱스 에 의해 결정 될 수 있 다 . 공급원 용기 ( 3 ) 내 의 전구체 의 기화 속도 및 컨덕턴스 가 펄스 동안 일정 한 경우 , 부분 압력 은 펄스 동안 일정 하 게 유지 될 수 도 있 다 . 도 4 에 도시 된 바 와 같이 , 도 2 의 전구체 꼬리 와 연결 하 여 전술 한 것 과 일반 적 으로 유사 한 이유 로 , 펄스 의 종료 시점 에 전구체 꼬리 가 또 한 존재 할 수 있 다 . 예시 된 펄스 는 펄스 화 또는 주기 적 화학 기상 에칭 공정 에서 주기 적 으로 반복 될 수 있 다 . 이러 한 제 3 에칭 모드 의 작동 은 , 이러 한 챔버 가 없 는 장치 에 비해 , 중간 챔버 의 존재 에 영향 을 받 지 않 을 수 있 지만 , 이 들 및 다른 원 하 는 모드 를 달성 하 기 위한 장치 의 작동 의 유연 성 을 입증 하 고 , 반응 챔버 내 에서 기판 전체 에 걸쳐 원 하 는 에칭 분포 및 효과 를 달성 하 도록 조절 하 기 위한 추가 변수 를 제공 한다 . 다른 구 현예 에서 , 이러 한 제 3 에칭 모드 의 작동 은 , 이러 한 챔버 가 없 는 장치 에 비해 중간 챔버 의 존재 에 영향 을 받 을 수 있 지만 , 이 들 및 다른 원 하 는 모드 를 달성 하 기 위한 장치 의 작동 의 유연 성 을 입증 하 고 , 반응 챔버 내 에서 기판 전체 에 걸쳐 원 하 는 에칭 분포 및 효과 를 달성 하 도록 조절 하 기 위한 추가 변수 를 제공 한다 .