위 와 같이 형성 된 막 에 소정 패턴 마스크 ( pattern mask ) 를 사용 하 여 Broadband 에서 의 강도 가 20 ㎽/㎠ 인 자외선 을 감도 가 10 ㎛ Contact Hole CD 기준 Dose 량 을 조사 한 후 , 테트라메틸 암모늄 히드록시 드 2 . 38 중량 % 의 수용액 으로 23 ℃ 에서 1 분 간 현상 한 후 , 초 순수 로 1 분 간 세정 하 였 다 .