도 7 은 본 발명 의 다른 실시 형태 에 따른 오버레이 타 겟 ( 700 ) 의 상면 도 이 다 . 여기 에서 , 타 겟 ( 700 ) 의 각 타 겟 구조물 은 적당 한 레벨 의 정보 내용 ( 즉 , 콘트 라스트 ) 을 달성 하 는 데 필요 한 수 의 패턴 요소 를 포함 하 는 것 으로 예상 된다 . 이 방식 으로 , 하나 이상 의 타 겟 구조물 의 정보 내용 은 콘트 라스트 가 부족 한 타 겟 구조물 의 전체 타 겟 구조물 면적 을 증가 시킴 으로써 만족 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 도 7 에 도시 된 것 처럼 , 타 겟 ( 700 ) 의 제 1 구조물 , 제 2 구조물 , 제 3 구조물 및 제 4 구조물 은 다양 한 정도 의 정보 결핍 을 가질 수 있 다 . 그래서 , 설계자 는 이러 한 결핍 을 메우 기 위해 각 타 겟 구조물 의 패턴 요소 의 수 를 조정 할 수 있 다 . 예 를 들 면 , 최저 레벨 의 콘트 라스트 를 가진 제 1 구조물 은 12 개 의 패턴 요소 ( 702 a , 702 b , 702 c , 702 d , 702 e , 702 f , 702 g , 702 h , 702 i , 702 j , 702 k , 702 l ) 를 포함 할 수 있 다 . 마찬가지 로 , 제 2 및 제 3 구조물 은 유사 한 레벨 의 콘트 라스트 가 필요 할 수 있 고 , 각각 총 8 개 의 패턴 요소 를 포함 한다 . 제 2 구조물 은 패턴 요소 ( 704 a , 704 b , 704 c , 704 d , 704 e , 704 f , 704 g , 704 h ) 를 포함 하 고 , 제 3 구조물 은 패턴 요소 ( 706 a , 706 b , 706 c , 706 d ) 를 포함 한다 . 이 와 대조 적 으로 , 타 겟 ( 700 ) 의 제 4 타 겟 구조물 은 콘트 라스트 향상 을 거의 요구 하 지 않 거나 잔여 정보 내용 을 가질 수 있 다 . 이 방식 으로 , 제 4 표면 구조 용 으로 정상 적 으로 지정 된 표면적 은 오버레이 타 겟 ( 700 ) 의 전체 표면 적 필요 조건 을 유지 하 면서 상기 결핍 타 겟 구조물 에서 의 콘트 라스트 를 구축 하 기 위해 다른 타 겟 구조물 중 의 하나 에 재 할당 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 제 4 타 겟 구조물 은 4 개 의 패턴 요소 ( 708 a , 708 b , 708 c , 708 d ) 만 을 포함 할 수 있 다 .