일부 실시 예 에서 , 스 페이서 재료 는 유전체 이 다 . 실시 예 에서 , 스 페이서 재료 는 산화물 유전체 이 고 , 제 2 에칭 프로세스 는 제어 게이트 유전체 층 의 질화물 층 에서 또는 이 질화물 층 상 에서 정지 한다 . 실시 예 에서 , 스 페이서 재료 는 질화물 유전체 이 고 , 제 2 에칭 프로세스 는 제어 게이트 유전체 층 의 산화물 층 에서 또는 이 산화물 층 상 에서 정지 한다 . 임의 의 적합 한 유전체 가 스 페이서 재료 에 사용 될 수 있 고 , 제 어 게이트 유전체 층 의 임의 의 적합 한 부분 이 에칭 정지 를 제공 할 수 있 다 .