가스 공급 수단 ( 408 ) 은 실란 으로 대표 되 는 반도체 재료 가스 혹은 희소 가스 등 프로세스 에 사용 하 는 가스 가 충전 되 는 실린더 ( 410 ) , 스톱 밸브 ( 412 ) , 마스 플로 컨트롤러 ( 413 ) 등 으로 구성 된다 . 가스 공급 수단 ( 408 g ) 은 제 1 반응 실 ( 400 a ) 에 접속 되 고 게이트 절 연막 을 형성 하 기 위한 가스 를 공급 한다 . 가스 공급 수단 ( 408 i ) 은 제 2 반응 실 ( 400 b ) 에 접속 되 고 , 미결정 반도체 막 용 의 가스 를 공급 한다 . 가스 공급 수단 ( 408 b ) 은 제 3 반응 실 ( 400 c ) 에 접속 되 고 버퍼 층 용 의 가스 를 공급 한다 . 가스 공금 수단 ( 408 n ) 은 제 4 반응 실 ( 400 d ) 에 접속 되 고 , 예 를 들 어 , n 형 반도체 막 용 의 가스 를 공급 한다 . 또한 , 도너 로서 기능 하 는 불순물 원소 를 함유 하 는 기체 의 하나 인 포스핀 은 제 1 반응 실 ( 400 a ) , 제 2 반응 실 ( 400 b ) 에 접속 되 어 공급 되 어도 좋 다 . 가스 공급 수단 ( 408 a ) 은 아르곤 을 공금 하 고 , 가스 공급 수단 ( 408 f ) 은 반응 실 내 의 클리닝 에 사용 되 는 에칭 가스 를 공급 하 는 계통 이 며 , 이 들 은 각 반응 실 공통 의 라인 으로서 구성 된다 .