본 발명 은 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 관한 것 으로 , 웨이퍼 식각 공정 시 웨이퍼 의 전면 이 균일 하 게 식각 되 지 못하 여 불량 이 발생 하 는 문제 를 해결 하 기 위하 여 , 식각 챔버 내 에 구비 되 는 웨이퍼 스테이지 의 중심부 에 진공 회전 핀 ( Vacuum Rotation Pin ) 을 구비 시키 고 , 각 식각 단계 마다 웨이퍼 를 회전 시킴 으로써 , 웨이퍼 전면 에 걸쳐서 균일 한 식각 비율 이 나타나 도록 하 고 , 반도체 소자 의 공정 수율 을 증가 및 반도체 소자 의 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 도록 하 는 발명 에 관한 것 이 다 .