본 발명 의 포토레지스트 조성물 에 있 어서 , ( e ) 유기 용매 는 프로필렌글리콜 메틸에테르 아세테이트 ( PGMEA ) , 에 틸락 테이트 ( EL ) , 2 - 메 톡 시 에틸 아세테이트 ( MMP ) , 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 ( PGME ) 로 이루어진 군 으로부터 1 종 이상 선택 되 는 것 이 바람직 하 며 , 더욱 바람직 하 게 는 PGMEA 와 MMP 를 혼합비 율 70 내지 90 : 30 내지 10 의 중량 부 로 혼합 사용 한다 .