상기 과제 를 달성 하 기 위한 본 발명 의 기판 처리 시스템 의 일 면 ( aspect ) 은 , 하우징 ; 상기 하우징 의 내부 상측 에 설치 되 며 , 기판 을 식각 하 기 위한 공정 가스 를 상기 하우징 의 내부 로 유입 시키 는 샤워 헤드 유닛 ; 및 상기 하우징 의 내부 하측 에 설치 되 며 , 상기 기판 이 안착 되 는 정전 척 을 포함 하 며 , 상기 샤워 헤드 유닛 은 복수 개 의 영역 에 면상 발열체 로 설치 되 어 영역 별 로 온도 를 제어 한다 .