도 10 g 를 참조 하 면 , 도 10 f 에 예시 된 적층 부 는 이어서 도 10 g 에 도시 된 바 와 같 은 PV 장치 ( 1000 g ) 를 형성 하 도록 , 예 를 들 어 , 포토 리소그래피 패턴 화 및 에칭 혹은 기타 적절 한 수법 을 이용 해서 패턴 화 된다 . 얻 어 지 는 간섭계 변조기 ( IMOD ) 마스크 ( 300 ) 는 반사체 ( 303 ) ( PV 장치 용 의 전방 전도체 혹은 전극 으로서 도 역할 함 ) , 광학 공명 공동 부 ( 302 ) ( 패턴 화 전 의 참조 번호 ( 1060 ) 으로 표시 됨 ) 및 패턴 화 된 흡 수체 ( 301 ) 를 포함 한다 . 도 10 g 의 실시 형태 에서 , 반사체 ( 303 ) , 광학 공명 공동 부 ( 302 ) 및 흡 수체 ( 301 ) 가 함께 패턴 화 되 고 , 따라서 서로 정렬 된다 . 다른 실시 형태 에서 , IMOD 마스크 ( 300 ) 의 구성 요소 들 은 , 이하 의 도 12 의 설명 으로부터 더욱 잘 이해 될 수 있 는 바 와 같이 , IMOD 마스크 반사체 ( 303 ) 로서 역할 하 는 전도체 의 패턴 과 는 소정 의 방식 으로 상이 한 패턴 을 지닐 수 있 다 . IMOD 마스크 ( 300 ) 는 이 와 같이 해서 전방 전극 혹은 반사체 ( 303 ) 를 피복 한다 . PV 장치 용 의 전방 전극 으로서 역할 하 는 반사체 ( 303 ) 와 의 IMOD 마스크 ( 300 ) 의 정렬 은 정확 한 시야각 에서 반사체 ( 303 ) 의 측면 들 로부터 일부 의 최소한 의 반사 의 위험 이 있 다 . 한편 , 흡 수체 ( 301 ) 는 , 이미 설명 한 바 와 마찬가지 로 , 어쨌든 전방 전극 으로서 존재 하 는 반사체 ( 303 ) 보다 PV 활성 층 에 보다 많 은 광이 도달 하 는 것 을 방지 하 는 방식 으로 패턴 화 된다 . 이 와 같이 해서 , 흡 수체 ( 301 ) 는 PV 효율 의 더 이상 의 어떠 한 저감 도 방지 하 는 방식 으로 패턴 화 된다 .