본 발명 은 베 이크 유닛 을 구비 하 는 인라인 타입 의 기판 처리 장치 및 그 의 베 이크 유닛 에서 의 기판 억세 스 방법 에 관한 것 이 다 . 평판 디스플레이 패널 이 대형 화 됨 에 따라 제조 라인 이 대형 화 되 어 , 평판 디스플레이 패널 용 글 래스 기판 의 이송 이나 핸드 링 이 더욱 어려워 지 고 있 다 . 기판 처리 장치 는 글래스 기판 의 포 토리 소그라 피 공정 을 처리 하 는 인라인 타입 의 장치 로 , 인덱스 와 , 공정 처 리부 및 , 노광 시스템 을 포함 한다 . 공정 처 리부 는 복수 개 의 프로세스 유닛 들 을 포함 하 며 , 프로세스 유닛 은 적어도 하나 의 베 이크 유닛 을 포함 한다 . 기판 처리 장치 는 노광 시스템 이 근접 되 는 공정 처 리부 의 모서리 부분 에 적어도 하나 의 베 이크 유닛 이 배치 된다 . 이러 한 베 이크 유닛 은 수직 방향 으로 기판 을 억세 스 한다 . 따라서 본 발명 에 의하 면 , 전체 시스템 의 풋 프린트 를 줄일 수 있 으며 , 처리 시간 을 단축 시킬 수 있 다 .