일 실시 예 에 있 어서 , 상기 확산 방지 박막 ( 140 ’ 은 물리 기상 증착 ( PVD ) 방법 으로 형성 될 수 있 다 . 예 를 들 면 , 물리 기상 증착 챔버 내부 에 상기 제 1 도 전체 ( 110 ) , 상기 캡 핑 층 ( 120 ) 및 상기 유전체 층 ( 130 ) 이 형성 된 구조 체 , 탄탈럼 ( Ta ) 타 겟 및 망가니즈 ( Mn ) 타 겟 을 장착 한 후 진공 상태 에서 상기 증착 챔버 내부 에 아르곤 가스 를 주입 하 여 아르곤 플 라즈 마 를 발생 시키 고 , 이어서 , 상기 아르곤 플 라즈 마 를 상기 탄탈럼 및 망가니즈 타 겟 들 에 충돌 시켜 상기 타 겟 들 로부터 튀어나온 탄탈럼 및 망가니즈 원자 들 을 상기 유전체 층 ( 130 ) 표면 에 증착 시키 고 , 이어서 이 를 산화 시킴 으로써 상기 확산 방지 박막 ( 140 ’ 을 형성 할 수 있 다 . 상기 구조 체의 유전체 층 ( 130 ) 표면 이 상기 탄탈럼 타 겟 및 상기 망가니즈 타 겟 과 일정 한 간격 을 유지 하 면서 평행 하 도록 상기 구조 체 , 상기 탄탈럼 타 겟 및 상기 망가니즈 타 겟 이 상기 증착 챔버 내부 에 장착 될 수 있 다 .