다음 으로 , 처리 유닛 ( 60 ) 내 에서 1 장 의 웨이퍼 ( W ) 에 대하 여 건조 처리 가 실시 된다 . 이 공정 중 에 , 처리 대상 웨이퍼 ( W ) 는 유지 기구 ( 62 ) 에 의해 고속 으로 회전 하 면서 유지 된다 . 또한 , 상방 공급 밸브 ( 69 ) 가 조작 되 어 상방 노즐 ( 64 ) 로부터 불활성 가스 가 1 장 의 웨이퍼 ( W ) 를 향하 여 토출 된다 . 이때 , 상방 노즐 ( 64 ) 은 웨이 퍼 ( W ) 의 판면 의 중심 영역 으로부터 웨이퍼 ( W ) 의 판면 의 둘레 가장자리 영역 을 향하 여 이동 하 면서 , 웨이퍼 ( W ) 의 판면 의 각 영역 을 향하 여 불활성 가스 를 토출 해 가 는 것 이 바람직 하 다 . 이러 한 불활성 가스 의 토출 및 웨이퍼 ( W ) 의 회전 에 의해 , 웨이퍼 ( W ) 상 의 순수 가 웨이퍼 ( W ) 의 표면 상 에서 외방 으로 날아간다 .