본 발명 은 반도체 제조 장치 및 그 를 이용 한 반도체 제조 방법 에 관한 것 으로 , 종래 기술 에 따른 웨이퍼 세정 장치 는 고정 형 의 세정 노즐 을 사용 하 여 세정 공정 의 효율 이 감소 되 는 문제 를 해결 하 기 위하 여 , 웨이퍼 의 중심부 에서부터 외곽 영역 까지 자유 롭 게 왕복 운동 하 되 세정 노즐 의 에 지부 를 웨이퍼 의 외곽 쪽 으로 꺾인 모양 으로 형성 하 고 , 세정 노즐 을 복수 개 로 구비 하 되 웨이퍼 의 중심부 에 위치 한 세정 노즐 유량 을 중심부 에서부터 외곽 으로 갈수록 감소 시킴 으로써 , 세정액 이 웨이퍼 의 외곽 으로 원활 하 게 배출 되 면서 웨이퍼 표면 의 결함 물질 들 을 안정 적 으로 제거 할 수 있 도록 하 는 발명 에 관한 것 이 다 .