또한 , 본 발명 에서 는 RF 전력 을 변조 시킴 으로써 필요 한 시간 만큼 펄스 파 의 듀티 레이쇼 ( duty ratio ) 나 사인파 의 주기 를 변화 시켜 줌 으로써 , 종래 라디칼 증착 장치 와 는 달리 , 공정 단계 에서 RF 전력 을 짧 은 시간 ( 수 밀리 초 ~ 수 초 ) 동안 인가 시켜 줄 수 있 다 . 이 를 이용 하 여 짧 은 시간 의 공정 단계 들 을 갖 는 RA - ALD 공정 과 RA - 싸이클 릭 CVD 공정 에 적용 할 수 있 다 .