일부 구 현예 에서 , 본원 에 기재 된 탄소 나노 입자 및 탄소 응 집체 를 생성 하 기 위한 전구체 재료 ( 즉 , 공정 재료 ) 는 C 2 H 2 , C 2 H 4 , C 2 H 6 와 같 은 탄화수소 가스 를 포함 하 는 가스 , 물 과 함께 이산화 탄소 , 트리 메틸 알루미늄 ( TMA ) , 트리 메틸 갈륨 ( TMG ) , 글리 시 딜 메타크릴 레이트 ( GMA ) , 메틸 아세틸렌 - 프로판 디 엔 , 프로파 디엔 , 프로판 , 프로 핀 , 아세틸렌 , 또는 이 의 임의 의 혼합물 또는 조합 물 이 고 , 일부 구 현예 에서 , 전 구체 는 금속 및 유전체 의 침 적 및 에칭 을 위한 반도체 산업 에 사용 되 는 다른 재료 이 다 . 일부 구 현예 에서 , 본원 에 기재 된 탄소 나노 입자 및 탄소 응 집체 를 제조 하 기 위한 전구체 재료 ( 즉 , 공정 재료 ) 는 액체 혼합물 이 고 , 이 는 이소프로필 알콜 ( IPA ) , 에탄올 , 메탄올 , 응축 된 탄화수소 ( 예 를 들 어 , 헥산 ) , 또는 다른 액체 탄화수소 를 포함 한다 .