또한 , 도 13 및 도 15 에 도시 된 제 1 실시 형태 에 대한 2 개 의 변형 예 와 유사 하 게 , 도 23 에 도시 된 바 와 같이 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 상 에 2 D 헤드 ( E 1 및 E 2 ) 에 근접 하 여 2 D 헤드 ( E 3 및 E 4 ) 를 설치 할 수 있 다 . 2 D 스케일 ( S 1 , S 2 , SE , 및 SA ) 은 각각 개별 적 으로 만들 어 지 고 , 또한 2 D 스케일 ( S 1 및 S 2 ) 에 대해서 는 주 영역 과 부 영역 ( 연장 된 영역 ) 이 개별 적 으로 만들 어 지 며 , 이 들 각 영역 을 반사 플레이트 ( 25 C ) 상 에서 함께 이음 으로써 , 일체 의 2 D 스케일 ( S 1 , S 2 , SE , SA ) 이 형성 된다 . 따라서 , 상기 2 개 의 변형 예 와 유사 하 게 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 상 에 서로 근접 하 여 배치 되 는 각 2 개 의 2 D 헤드 ( E 1 및 E 2 와 E 3 및 E 4 ) 의 결합 된 사용 에 의해 , 각 2 D 헤드 가 2 D 스케일 ( S 1 , S 2 , SE , 및 SA ) 의 이 음부 를 지날 때 , 또는 , 2 D 스케일 ( S 1 및 S 2 ) 의 주 영역 과 부 영역 의 이 음부 를 지날 때 , 서로 근접 하 는 2 개 의 2 D 헤드 사이 에서 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 위치 계측 의 결과 를 연결 할 수 있 다 . 도 23 은 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 ) 상의 2 D 헤드 ( E 1 및 E 3 와 E 2 및 E 4 ) 가 2 D 스케일 ( SA 및 S 1 ) 의 이 음부 를 지나 고 , 웨이퍼 스테이지 ( WST 2 ) 상의 2 D 헤드 ( E 1 및 E 3 와 E 2 및 E 4 ) 가 2 D 스케일 ( SE 및 S 2 ) 의 이 음부 를 지나 는 상태 를 도시 한다 . 이 상태 에서 , 전술 한 이음 오차 의 보정 이 수행 된다 . 이 는 2 D 스케일 의 이음 오 차 를 보정 하 고 , 이 는 고정 밀도 로 웨이퍼 스테이지 ( WST 1 및 WST 2 ) 의 위치 계측 을 가능 하 게 한다 .