처리 유닛 ( 60 ) 은 웨이퍼 ( W ) 의 판면 이 수평면 을 따르 게 하 여 1 장 의 웨이퍼 ( W ) 를 유지 하 는 유지 기구 ( 62 ) 와 , 유지 기구 ( 62 ) 에 유지 된 웨이퍼 의 외방 에 위치 하 는 컵 ( 63 ) 과 , 유지 기구 ( 62 ) 에 유지 된 웨이퍼 ( W ) 의 표면 ( 상면 ) 에 처리 액 및 기체 를 토출 하 는 상방 노즐 ( 64 ) 과 , 상방 노즐 ( 64 ) 을 지지 하 는 아암 ( 65 ) 과 , 유지 기구 ( 62 ) 에 편입 되 어 유지 기구 ( 62 ) 에 유지 된 웨이퍼 ( W ) 의 이면 에 처리 액 을 토출 하 는 하방 노즐 ( 66 ) 을 갖 고 있 다 . 유지 기구 ( 62 ) 는 웨이퍼 ( W ) 를 회전 가능 하 게 유지 할 수 있 다 . 아암 ( 65 ) 은 상방 노즐 ( 64 ) 을 이동 시킬 수 있 으며 , 이 에 따라 , 상방 노즐 ( 64 ) 은 유지 기구 ( 62 ) 에 유지 된 웨이퍼 ( W ) 의 상방 에서 상기 웨이퍼 ( W ) 의 판면 을 따라 이동 한다 . 이 결과 , 상방 노즐 ( 64 ) 을 통하 여 , 웨이퍼 ( W ) 의 판면 상 의 원 하 는 위치 를 향해 처리 액 및 기체 를 토출 하 는 것 이 가능 하 게 된다 . 또한 , 웨이퍼 ( W ) 에 공급 된 처리 액 은 웨이퍼 ( W ) 의 회전 에 따라 비산 하 여 컵 ( 63 ) 에 회수 된다 . 이 들 유지 기구 ( 62 ) , 컵 ( 63 ) , 상방 노즐 ( 64 ) , 아암 ( 65 ) , 및 하방 노즐 ( 66 ) 은 처리 유닛 용 격벽 ( 61 ) 에 의해 형성 되 는 처리 실 내 에 배치 되 어 있 다 .