포토 리소그래피 장치 는 대 상체 에 패턴 을 결상 한다 . 예 를 들 어 , 패턴 은 전자 회로 ( 회로 의 네거티브 ) 의 요소 에 대응 할 수 있 다 . 결상 후 에 , 포토레지스트 부분 을 제거 해서 , 제거 한 포토 레지스터 아래 의 기판 을 노출 시킨다 . 노출 된 기판 은 에칭 을 행하 고 , 증착 재료 로 피복 하 거나 다른 방식 으로 변경 할 수 있 다 . 남 은 포토레지스트 는 기판 의 다른 부분 을 이러 한 변경 으로부터 보호 한다 .