예 를 들 어 , 고 에너지 보론 이온 주입 공정 은 초기 웨이퍼 ( 100 ) 의 제 1 표면 ( FS ) 에 대하 여 약 15 내지 약 50 MeV 의 강도 로 , 단위 면적 당 약 1 × 1015 내지 약 5 × 1015 atom / cm 2 의 이온 농도 하 에서 진행 할 수 있 다 . 그러나 , 이러 한 수 치 는 하나 의 예시 에 불과 할 뿐 , 예비 고농 도 보론 층 ( 120 b ) 의 두께 및 보론 농도 에 따라 다양 하 게 변형 하 여 적용 할 수 있 음 은 물론 이 다 .