미국 특허 5652021 에서 는 전구체 ( precursor ) 를 유기 용매 에 녹여 산소 혹은 공기 와 연소 시킴 으로서 산화물 피막 을 형성 하 는 CCVD 처리 방법 과 장비 가 제안 되 어 있 다 . 이 방법 에 의하 면 다양 한 형태 의 산화 피막 을 형성 할 수 있 으며 , 산화 피막 이외 여러 물질 의 코팅 도 가능 하 다 . 그러나 이 기술 은 CCVD 의 의해서 형성 된 산화 피막 과 기타 코팅 자체 의 특성 에 초점 을 두 고 있 어 부가 적 인 용액 상 의 코팅 과 접착성 , 부착력 향상 에 관해서 는 문제 해결 방법 을 제시 하 지 못하 고 있 다 .