본 발명 에 의하 면 , 높 은 연마 속도 로 TEOS 막 및 SiH 4 막 을 제거 할 수 있 는 연마제 를 제공 할 수 있 다 . 또한 , 본 발명 에 의하 면 , 상기 연마제 를 얻 기 위한 연마제 용 저장액 을 제공 할 수 있 다 . 또한 , 본 발명 에 의하 면 , 상기 연마제 를 사용 한 연마 방법 을 제공 할 수 있 다 . 본 발명 에 의하 면 , 산화 규소 막 의 연마 에 대한 연마제 의 응용 을 제공 할 수 있 다 . 본 발명 에 의하 면 , TEOS 막 및 SiH 4 막 으로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 적어도 1 종 을 포함 하 는 산화 규소 막 의 연마 에 대한 연마제 의 응용 을 제공 할 수 있 다 .