노광 에 의해 산 을 발생 하 고 , 또한 , 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 레지스 트 조성물 . 산 의 작용 에 의해 현상액 에 대한 용해 성 이 변화 하 는 기재 성분 ( A ) 와 , 노광 에 의해 산 을 발생 하 는 산 발생 제 성분 ( B ) 를 함유 하 고 , 상기 기재 성분 ( A ) 가 , 하 기 일반식 ( a 01 - r - 1 ) 로 나타내 는 산 해리 성기 를 포함 하 는 구성 단위 ( a 0 ) 을 갖 는 고분자 화합물 ( A 1 ) 을 포함 하 고 , 상기 산 발생 제 성분 ( B ) 가 , 하 기 식 ( b 1 ) 로 나타내 는 화합물 ( B 1 ) 을 포함 하 고 , 또한 아니 온부 에 할로겐 원자 를 함유 하 는 오늄 염 을 포함 하 지 않 는다 . 식 중 , R 01 은 탄 소수 4 이상 의 알킬기 . n 은 1 ∼ 4 의 정수 , Rb 1 은 치환기 를 가지 고 있 어도 되 는 탄화수소기 이 고 , 할로겐 원자 를 함유 하 지 않 는다 . Mm ＋ 는 m 가의 유기 카 티온 을 나타낸다 .