또한 상기 합성 스킴 ( C - 1 ) 및 합성 스킴 ( C - 2 ) 에서 팔라듐 촉매 를 사용 한 부흐 발트 하트 위그 ( Buchwald - Hartwig ) 반응 을 수행 하 는 경우 , 팔라듐 화합물 로서 비스 ( 다이 벤질 리덴 아세톤 ) 팔라듐 ( 0 ) , 아세트산 팔라듐 ( II ) , [ 1 , 1 - 비스 ( 다이페닐 포스 피노 ) 페로 센 ] 팔라듐 ( II ) 다 이 클로라이드 , 테트라 키스 ( 트라이 페닐 포스핀 ) 팔라듐 ( 0 ) , 아릴 팔라듐 ( II ) 클로라이드 ( 다이 머 ) 등 을 사용 할 수 있 다 . 또한 배위자 로서 , 트라이 ( tert - 뷰 틸 ) 포스핀 , 트라이 ( n - 헥 실 ) 포스핀 , 트라이 사이클 로 헥 실포 스핀 , 다이 ( 1 - 아 다만 틸 ) - n - 뷰 틸 포스핀 , 2 - 다이사이클로헥실 포스 피노 - 2 ', 6 '- 다 이메 톡 시바이 페닐 , 트라이 ( 오쏘 - 톨 릴 ) 포스핀 , ( S ) -( 6 , 6 '- 다 이메 톡 시바이 페닐 - 2 , 2 '- 다 이 일 ) 비스 ( 다이아 이소프로필 포스핀 ) ( 약칭 : cBRIDP ) 등 을 사용 할 수 있 다 .