기판 ( 800 ) 상 에 균일 한 박막 을 형성 하 기 위해서 는 , 기판 ( 800 ) 전면 에 걸쳐 균일 한 공정 가스 가 공급 되 는 것 이 중요 하 다 . 이 를 위해서 는 가스 도입부 ( 210 ) 를 통해 샤워 헤드 ( 400 ) 상측 으로 공급 되 는 공정 가스 가 샤워 헤드 ( 400 ) 전면 에 걸쳐 고르 게 분포 될 필요 가 있 는데 , 도 7 에 도시 된 바 와 같이 , 종래 기술 에 따르 면 , 직육면체 형상 을 갖 는 공정 챔버 ( 100 ) 에 있 어서 , 중앙부 에 위치 한 가스 도입부 ( 210 ) 부터 공정 챔버 ( 100 ) 의 모서리 부분 ( 102 ) 까지 의 거리 가 멀 기 때문 에 , 공정 챔버 ( 100 ) 전체 에 걸쳐 고른 공정 가스 의 분포 를 갖 기 에 는 한계 가 존재 하 였 다 .