이 와 같이 , 연삭 장치 ( 2 ) 라도 , 보호 테이프 ( T 2 ) 의 하면 에 있 어서 의 유지 면 ( 63 ) 으로부터 의 이격 부분 의 면적 을 서서히 크 게 하 면서 , 이 부분 으로 , 이오 나이저 ( 51 ) 가 이온 화 에어 ( A 2 ) 를 내뿜 음 으로써 , 보호 테이프 ( T 2 ) 에 대전 되 는 정전기 를 제거 한다 . 이 때문 에 , 척 테이블 ( 60 ) 의 유지 면 ( 63 ) 으로부터 이격 되 는 보호 테이프 ( T 2 ) 가 대전 되 는 것 을 억제 하 면서 , 또한 , 보호 테이프 ( T 2 ) 에 대전 된 정전기 를 제거 하 면서 , 유지 면 ( 63 ) 으로부터 웨이퍼 ( W ) 를 반출 할 수 있 다 . 이 에 의해 , 유지 면 ( 63 ) 으로부터 이격 된 보호 테이프 ( T 2 ) 가 , 정전기 로 대전 되 기 어렵 다 . 이 때문 에 , 웨이퍼 ( W ) 에 형성 된 디바이스 의 품질 의 저하 를 억제 할 수 있 다 .