이어서 , 후속 하 는 공정 에서 금속 층 ( 118 ) 과 제 2 금속 장벽층 ( 116 ) 을 패 터닝 하 기 위하 여 금속 층 ( 118 ) 상부 에 하드 마스크 ( 120 ) , 아몰 퍼스 카본 마스크 ( 122 ) 및 반사 방지 막 ( 124 ) 을 형성 한다 . 이후 에 , 반사 방지 막 ( 124 ) 상 에 포토 레지스 트 패턴 ( 126 ) 을 형성 한다 . 포토 레지스 트 패턴 ( 126 ) 은 전술 한 공정 에서 형성 된 버퍼 막 ( 114 ) 에 대응 하 는 영역 이 오픈 되 도록 형성 하 는 것 이 바람직 하 다 .