상기 한 목적 을 달성 하 기 위하 여 본 발명 에 의한 포토 리소그래피 방법 은 , 도포 모듈 과 현상 모듈 이 설치 된 프로세스 모듈 과 ; 상기 프로세스 모듈 의 일 측 에 배치 되 며 , 상기 도포 모듈 에 기판 을 반 출입 하 는 제 1 이송 모듈 과 ; 상기 제 1 이송 모듈 과 마주 보 는 상기 프로세스 모듈 의 타 측 에 설치 되 며 , 상기 현상 모듈 에 기판 을 반 출입 하 는 제 2 이송 모듈 을 가지 는 포토 리소그래피 설비 를 이용 하 여 포토 리소그래피 공정 을 수행 하 되 , 상기 제 2 이송 모듈 에 인접 하 게 노광 모듈 을 설치 하 여 인라인 ( In - line ) 방식 으로 도포 공정 , 노광 공정 및 현상 공정 을 순차 적 으로 수행 하 거나 , 상기 도포 모듈 과 상기 현상 모듈 을 독립 형 ( Stand - alone ) 방식 으로 이용 하 여 도포 공정 과 현상 공정 을 독립 적 으로 진행 한다 .