또 , 대기 중 , 또는 산소 분위기 중 에서 행하 기 때문 에 , 레이 저광 의 조사 에 의해 표면 에 산화 막 이 형성 된다 . 또 , 본 실시 형태 에서 는 펄스 레이저 를 사용 한 예 를 개시 하 였 지만 , 연속 발진 의 레이저 를 사용 하 여도 좋 다 . 반도체 막 의 결정 화 에 있 어서 , 대 입경 으로 결정 을 얻 기 위해서 는 연속 발진 이 가능 한 고체 레이저 를 사용 하 고 , 기본파 의 제 2 고조파 내지 제 4 고조파 를 적용 하 는 것 이 바람직 하 다 . 대표 적 으로 는 연속 발진 의 레이 저광 으로서 , Nd : YVO 4 레이저 ( 기본파 1064 nm ) 의 제 2 고조파 ( 532 nm ) 나 제 3 고조파 ( 355 nm ) 를 적용 하 면 좋 다 .