따라서 인라인 타입 의 기판 처리 장치 는 기판 억 세 스 에 따라 공정 처 리부 의 모서리 부분 에 베 이크 유닛 을 배치 할 수 없 으므로 레이아웃 ( layout ) 에 제약 을 받 는 다 . 그 결과 , 베 이크 유닛 에서 180 도 방향 또는 360 도 방향 으로 기판 을 억 세 스 함 에 따라 , 인라인 타입 의 기판 처리 장치 는 풋 프린트 ( footprint ) 가 증가 되 어 전체 시스템 에서 기판 이송 을 위한 처리 시간 ( TACT time ) 이 증가 되 는 문제점 이 있 다 .