4 . 제 1 항 에 있 어서 , 상기 하이 - k 유전체 는 실리콘 질화물 ( SiNx ) , 실리콘 산화물 ( SiO 2 ) , 실리콘 산질 화물 ( SiONx ) , 하프늄 산화물 ( HfOx ) , 하프늄 실리케이트 ( HfSiOx ) , 티탄 산화물 ( TiO 2 ) , 탄탈 산화물 ( TaOx ) , 폴리 벤 족 사졸 ( PBO ) , 폴리 이미드 ( PI ) , 스핀 온 글래스 ( SOG ) , 액상 실리콘 산화물 ( SiO 2 ) , 스트론튬 산화물 ( SrTiO 3 ) , 바륨 - 티탄 산화물 ( BaTiO 3 ) , 바륨 - 스트론튬 - 티탄 산화물 ( BaSrTiO 3 ) , 납 - 지르코늄 - 티탄 산화물 ( PbZrTiO 3 ) , 또는 이 들 의 조합 을 포함 하 는 , 방법 .