표면 탄성파 장치 는 압 전 기판 , 지지층 , 커버 층 및 기둥 형 범프 를 구비 하 며 , 상기 지지층 은 압 전 기판 에 설치 되 어 전극 유닛 을 에워싸 고 , 상기 커버 층 은 상기 지지층 을 커버 하 며 , 상기 기둥 형 범프 는 상기 지지층 의 하부 성형 홀 및 상기 커버 층 의 상부 성형 홀 에 형성 되 고 , 상기 상부 성형 홀 은 측면 개구 를 구비 하 며 , 상기 측면 개구 는 상기 커버 층 의 측면 에 위치 하 고 , 상기 커버 층 에 위치 하 는 상기 기둥 형 범프 는 상기 측면 개구 로부터 상기 커버 층 의 측면 에 돌출 된다 .