노광 장치 ( 1 ) 는 , 조명 부 ( 10 ) 과 , 레티 클 ( 20 ) 을 탑재 한 레티 클 스테이지 ( 25 ) 와 , 투영 광학계 ( 30 ) 와 , 웨이퍼 ( 40 ) 를 탑재 한 웨이퍼 스테이지 ( 기판 스테이지 ; 45 ) 와 , 액체 지지 판 ( 천판 ; 50 ) 과 , 액체 공급 및 회수 기구 ( 60 ) 를 포함 한다 . 또 , 노광 장치 ( 1 ) 는 , ( 도시 하 지 않 은 ) 측 거부 와 ( 도시 하 지 않 은 ) 제 어부 를 더 포함 한다 . 측 거부 는 , 레티 클 스테이지 ( 25 ) 및 웨이퍼 스테이지 ( 45 ) 의 2 차원 적 인 위치 를 , 참조 미러 및 레이저 간섭계 를 이용 해서 실시간 으로 측정 한다 . 제 어부 는 , CPU ( central processing unit ) 및 메모리 를 포함 한다 . 제 어부 는 , 노광 장치 ( 1 ) 에 의해 행해진 동작 을 제어 하 고 , 특히 , 레티 클 스테이지 ( 25 ) 및 웨이퍼 스테이지 ( 45 ) 의 구동 을 제어 한다 .