제 1 처리 장치 에서 는 , 다 이싱 테이프 의 하면 에 있 어서 의 유지 수단 의 유지 면 으로부터 이격 되 는 부분 의 면적 을 서서히 크 게 하 면서 , 이 부분 으로 , 이오나 이 저 가 이온 화 에어 를 내뿜 음 으로써 , 다 이싱 테이프 에 대전 되 는 정전기 를 제거 한다 . 이 때문 에 , 유지 수단 의 유지 면 으로부터 이격 되 는 다 이싱 테이프 가 대전 되 는 것 을 억제 하 면서 , 또한 , 다 이싱 테이프 에 대전 된 정전기 를 제거 하 면서 , 유지 면 으로부터 워크 셋 트 를 반출 할 수 있 다 . 이 에 의해 , 유지 수단 의 유지 면 으로부터 이격 된 다 이싱 테이프 가 , 정전기 로 대전 되 기 어렵 다 . 이 때문 에 , 워크 셋 트 의 피 가 공물 에 형성 된 디바이스 의 품질 의 저하 를 억제 할 수 있 다 .