이러 한 현상 으로부터 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 로부터 광학 부품 ( 201 ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 양 의 최적 값 은 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 상황 , 구체 적 으로 는 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 ( 개구 상 에 있 어서 의 경통 ( 107 ) 의 외부 ) 의 기체 ( 205 ) 의 유량 에 따라 상이 하 다고 생각 된다 . 그래서 , 본 실시 형태 에서 는 , 제 어부 ( 130 ) 에 있 어서 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 ( 경통 ( 107 ) 의 외부 ) 의 기체 ( 205 ) 의 유량 에 근거 하 여 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 제어 한다 . 바꾸 어 말 하 면 , 제 어부 ( 130 ) 는 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 유량 의 변화 ( 흐름 의 흐트러짐 ) 에 따라서 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 변화 시킨다 . 본 실시 형태 는 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 변화 시키 는 점 에서 제 1 실시 형태 와 는 상이 하 다 .