이상 과 같 은 목적 을 달성 하 기 위한 본 발명 의 일 측면 에 따르 면 , 복수 의 광원 으로부터 방출 된 광선 에 대한 정보 데이터 의 집합 인 레이 맵 이 저장 되 는 저 장부 ; 복수 의 광원 중 하나 또는 그 이상 의 광원 에 대한 조건 이 변경 되 면 , 조건 에 대응 하 는 정보 데이터 를 입력 받 는 입력 부 ; 및 복수 의 광원 에 대한 광선 추적 방법 을 수행 하 여 저 장부 에 레이 맵 을 저장 하 고 , 입력 된 정보 데이터 에 기초 하 여 레이 맵 에서 변경 된 광원 에 대응 하 는 정보 데이터 를 변경 하 고 , 변경 된 레이 맵 에 기초 하 여 , 배광 특성 을 산출 하 는 제 어부 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 하 는 조명 시스템 특성 측정 장치 가 제공 된다 .