도 2 a 에 나타낸 바 와 같이 , 일부 구 현예 에 따른 마이크로파 화학 적 가공 처리 반응기 200 은 일반 적 으로 FEWG 205 , 공급 가스 를 수용 하 도록 구성 된 하나 이상 의 주입구 202 및 / 또는 FEWG 205 로 흐르 는 공정 재료 208 a , 및 단순히 하 기 위해 나타내 지 않 은 다른 요소 들 중 에서 FEWG 205 에 커플링 된 마이크로파 에너지 공급원 204 를 포함 한다 . “ 공정 재료 ” 는 또한 “ 전구체 재료 ” 로서 , 또는 일부 구 현예 에서 , “ 공정 가스 ” 로서 언급 될 수 있 다 . 주입구 202 는 가스 또는 액체 혼합물 전구체 재료 를 수용 하 도록 디자인 될 수 있 다 . 액체 전구체 의 경우 에 , 일부 구 현예 에서 , 주입구 202 는 반응기 에서 액체 전구체 를 효과 적 으로 분해 하 기 위해 분무기 ( 또는 다른 어셈블리 ) 를 포함 할 수 있 다 . 일부 구 현예 에서 , 기포 발생기 를 사용 하 여 액체 를 증발 시킬 수 있 고 증기 는 주입구 202 에 제공 된다 .