도 4 b 는 , 마스크 스테이지 ( 103 ) 가 이동 하 고 있 는 상태 를 도시 하고 있 다 . 도 4 b 에 도시 한 바 와 같이 , 경통 ( 107 ) 에 형성 된 개구 ( 202 ) 의 부근 을 마스크 스테이지 ( 103 ) 가 통과 하 면 , 챔버 ( 110 ) 의 내부 의 기체 ( 205 ) 의 흐름 에 흐트러짐 이 발생 한다 . 따라서 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 증가 시켜서 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 접하 는 오염 물질 의 양 을 저감 시키 고 있 다 . 한편 , 내뿜 기 부 ( 203 ) 가 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 내뿜 는 기체 ( 204 ) 의 유량 을 증가 시키 는 것 으로 소용돌이 ( 206 ) 가 커지 고 , 소용돌이 ( 206 ) 에 의한 기체 ( 205 ) 의 말려드 는 양 이 증가 한다 . 단 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 에 접하 는 오염 물질 의 양 이 저감 되 기 때문 에 , 결과 ( 토털 ) 로서 , 기체 ( 204 ) 의 유량 이 적 은 도 4 a 에 도시 하 는 상태 보다 도 , 광학 부품 ( 201 ) 의 표면 ( 201 A ) 의 청 정도 가 유지 된다 .