이 와 같 은 반도체 제조 설비 는 플 라즈 마 환경 에서 일어나 는 반응 에 의해 반응 부산물 을 생성 시킨다 . 이 반응 부산물 중 펌핑 되 지 않 고 챔버 내 에 남 아 있 는 성분 은 프로세스 중 파티클 로 작용 하 여 에칭 을 방해 하 는 요소 로 작용 할 수 있 다 . 이러 한 현상 을 예방 하 기 위해 플 라즈 마 크린 이 라는 기술 을 활용 하 며 , 플라 즈 마 클린 은 반응 부산물 과 잘 반응 하 는 개스 를 활성 화 시킨 플 라즈 마 를 이용 하 여 챔버 내 에 잔류 하 고 있 는 반응 부산물 을 제거 하 는 기술 적 인 방법 을 나타낸다 .