또한 , 리소그래피 장치 설정 또는 제어 는 하나 이상 의 수학 적 모델 을 이용 하 여 각각 의 교정 또는 제 어 보정 을 결정 할 수 있 다 . 그러나 , 이러 한 하나 이상 의 모델 은 비 - 제 로 잔류 오차 로 이어지 는 내재 된 ( built - in ) 추정 또는 한계 를 가질 수 있 다 . 이러 한 모델 잔차 는 어떤 CD , 오버레이 및 / 또는 초점 오 차 가 만들 어 졌 는지 , 즉 CD , 오버레이 및 / 또는 초점 핑거 프린트 에 대한 모델 의 기여 도 를 계산 하 기 위하 여 사용 될 수 있 다 . 인식 될 바 와 같이 , 패 터닝 공정 에 사용 되 는 다른 장치 는 유사 한 모델 정보 를 가질 수 있 다 .