본 발명 을 따르 는 제 1 방법 의 제 1 방법 단계 ( 100 ) 에서 , 제 1 최하 부 기판 은 정렬 마크 를 이용 하 여 하부 기판 홀더 에 고정 된다 . 이 에 따라 , 상기 정렬 마크 들 이 하부 기판 홀더 의 리세 스 를 통해 관찰 되 고 특히 측정 될 수 있 도록 제 1 기판 은 기판 홀더 에 고정 된다 . 정렬 마크 는 외부 정렬 마크 이 다 . 상기 정렬 마크 들 은 구체 적 으로 아래쪽 을 향한다 . 하부 기판 홀더 의 특정 실시 예 에 의하 면 , 기판 홀더 가 렌즈 위 로 들어올려 져서 하부 렌즈 들 이 리세 스 속 으로 가라앉 을 수 있 다 . 특히 , 기판 홀더 가 공정 영역 을 완전히 벗어나 서 x 및 y 방향 으로 제 1 위치 설정 이 수행 된 후 에 z 방향 으로 만 더 이상 이동 하 지 못할 때 들어올려 져야 ( lifting ) 한다 . 본 발명 을 따르 는 기판 홀더 의 특히 바람직 한 실시 예 에 의하 면 , 렌즈 와 하부 기판 홀더 가 서로 무 접촉 상대 운동 을 할 수 있 는 렌즈 의 접근 경로 가 제공 된다 . 이제 정렬 마크 가 하부 렌즈 의 좌측 또는 우측 시야 에 위치 할 때 까지 하부 기판 홀더 는 대략 적 으로 위치 한다 .