한편 , 반응 챔버 ( 100 ) 로부터 반출 된 기판 ( 10 ) 들 은 기판 보관 부 ( 400 ) 에 수용 된 후 일정 시간 동안 냉각 과정 을 거친다 ( S 130 ) . 일정 온도 로 냉각 된 기판 ( 10 ) 들 은 제 2 이송 장치 ( 700 ) 에 의해 스테이션 부 ( 200 ) 밖 으로 인출 되 어 회수 부 ( 600 ) 로 이동 된다 ( S 140 ) . 회수 부 ( 600 ) 에서 탄소 나노 튜브 의 회수 를 마친 기판 ( 10 ) 은 다시 촉매 도포 부 ( 500 ) 로 이동 되 고 , 촉매 도포 부 ( 500 ) 에서 촉매 가 도포 된 기판 ( 10 ) 은 기판 보관 부 ( 400 ) 에 수용 된다 . 반응 챔버 ( 100 ) 에서 공정 을 마친 기판 ( 10 ) 들 이 반응 챔버 ( 100 ) 로부터 인출 되 어 기판 보관 부 ( 400 ) 에 수용 된 후 , 앞서 설명 한 과정 을 반복 실시 하 여 탄소 나노 튜브 합성 공정 을 연속 적 으로 진행 한다 .