오존 및 라디칼 발생 부 ( 200 ) 은 전체 적 으로 직육면체 형 의 본체 를 가지 며 , 그 본체 가 지표면 에 대해 수평 으로 설치 되 어 오존 및 라디칼 분사 부 ( 200 ) 의 필터 ( 210 ) 에서 먼지 및 이 물질 을 제거 하 고 , 제 1 오존 및 라디칼 분사 부 ( 215 ) 에 유입 된 악취 및 오염 가스 는 오존 및 라디칼 분사 용 노즐 ( 220 ) 에서 분사 된 오존 및 라디칼 과 접촉 1 차 산화 및 분해 반응 을 하 고 악취 및 오염 가스 와 오존 및 라디칼 과 의 접촉 성 을 좋 게 하 는 다공판 ( 230 ) 을 거쳐 제 1 오존 및 라디칼 분사 부 에 인접 되 어 설치 된 제 2 오존 및 라디칼 분사 부 ( 216 ) 에 유입 되 어 분 사용 노즐 ( 220 ) 에서 분사 된 오존 및 라디칼 과 접촉 하 여 2 차 산화 및 분해 반응 을 하 고 접촉 성 을 좋 게 하 는 다공판 을 거쳐 제 3 차 오존 및 라디칼 분사 부 에 유입 되 어 분 사용 노즐 ( 220 ) 에서 분사 된 오존 및 라디칼 에 의해 3 차 분해 및 산화 반응 을 하 고 접촉 성 을 좋 게 하 는 다공판 ( 230 ) 을 통과 한다 . OH 라디칼 을 분사 시 에 는 수분 및 응 결수 가 발생 되 는 데 수증기 는 제 3 차 오존 및 라디칼 분사 부 제 3 다공판 에 인접 하 여 설치 된 수분 제거 용 데 미스터 에 유입 되 어 수증기 는 제거 하 고 응 결수 는 제 1 , 제 2 , 제 3 오존 및 라디칼 분사 부 바닥 에 고이 며 바닥 에 고인 잔류 라디칼 수용액 은 자동 배 수변 ( 240 ) 에 의해 자동 배수 된다 . 악취 및 오염 가스 는 제 1 , 제 2 , 제 3 의 오존 및 라디칼 분 사실 에서 분사 된 오존 및 라디칼 과 1 차 , 2 차 , 3 차 산화 및 분해 반응 은 하 고 수분 은 데 미스터 ( 250 ) 에서 제거 되 어 음 이온 발생 부 ( 300 ) 로 유입 되 어 공기 의 1 차 음 이온 접촉 반응 을 위해 음 이온 을 발생 시키 는 제 1 음이온 발생 부 ( 312 ) 와 , 그 제 1 음이온 발생 부 ( 312 ) 와 일정 거리 이격 되 어 위치 되 며 , 제 1 음이온 발생 부 ( 312 ) 를 거쳐 1 차 음 이온 접촉 반응 을 한 공기 의 2 차 음 이온 접촉 반응 을 위해 음 이온 을 발생 시키 는 제 2 음이온 발생 부 ( 313 ) 와 , 그 제 2 음이온 발생 부 ( 313 ) 와 일정 거리 이격 되 어 위치 되 며 , 제 2 음이온 발생 부 ( 313 ) 를 거쳐 2 차 음 이온 접촉 반응 을 한 공기 의 3 차 음 이온 접촉 반응 을 위해 음 이온 을 발생 시키 는 제 3 음이온 발생 부 ( 314 ) 가 잔류 오존 을 제거 하 기 위한 카본 충 진부 ( 315 ) 를 순차 적 으로 통과 하 여 배출 한다 . 여기 서 , 이 와 같 은 제 1 ～ 제 3 음이온 발생 부 ( 312 ) ( 313 ) ( 314 ) 에 있 어서 의 음 이온 발생 을 위한 무기질 로 는 천연 암염 ( rock salt ) , 수정 ( 자수정 ) , 의왕 석 , 맥반석 , 장석 , 실리케이트 ( silicate ) , 황토 , 운모 ( 흑운모 , 견운모 ) , 세라믹 ( seramic ) ( 토르 마린 ) , 호박돌 , 게르마늄 , 천 연옥 , 산 호석 , 귀 양석 , 제올라이트 ( zeolite ) , 일 라이트 ( ilite ) , 카본 ( 숯 ) 등 이 사용 될 수 있 다 .