이 와 같이 하 여 상기 포토레지스트 패턴 ( 106 ) 을 마스크 로 하 여 노출 된 제 2 폴리 실리콘 층 ( 104 ) 이 제거 되 어 , 상기 포토레지스트 패턴 ( 106 ) 으로 가려진 부분 에 는 콘트롤 게이트 ( 114 ) 가 형성 된다 . 여기 서 , 상기 포토레지스트 패턴 ( 106 ) 을 마스크 로 하 여 노출 된 반사 방지 막 ( 105 ) 도 제거 된다 .