일부 예 들 에서 , 시일 링 층 ( 156 ) 은 , " 참조 로서 이전 에 인용 된 명칭 이 "" Remote Plasma Based Deposition of SiOC Class Films "" 인 공동 으로 양도 된 미국 특허 공개 번호 제 2013 / 0330935 호 에 기술 된 바 와 같이 ", PECVD 를 사용 하 여 증착 된 SiOC 를 포함 한다 .