본 발명 의 일 형태 에 관한 표면 처리 조성물 은 , 질화규소 , 산화 규소 및 폴리 실리콘 으로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 적어도 1 종 을 포함 하 는 연마 완료 연마 대상물 의 표면 에 잔류 하 는 잔사 를 저감 하 기 위해 사용 되 는 것 이 바람직 하 다 . 즉 , 본 발명 의 일 형태 에 있 어서 , 연마 완료 연마 대상물 은 , 질화규소 , 산화 규소 및 폴리 실리콘 으로 이루어지 는 군 으로부터 선택 되 는 적어도 1 종 을 포함 하 는 것 이 바람직 하 다 . 산화 규소 를 포함 하 는 연마 완료 연마 대상물 로서 는 , 예 를 들 어 오르토 규산 테트라에틸 을 전구체 로서 사용 하 여 생성 되 는 TEOS 타입 산화 규소 면 ( 이하 , 간단히 「 TEOS 」 라고 도 칭함 ) , HDP 막 , USG 막 , PSG 막 , BPSG 막 , RTO 막 등 을 들 수 있 다 .