잘 알려진 바 와 같이 , 반도체 공정 등 에서 이용 되 는 리 소 그라피 공정 인 노광 기술 은 투사 인쇄 ( projection printing ) 기법 에 바탕 을 두 고 있 으며 , 단파장 의 광원 과 수 많 은 광학 렌즈 를 사용 함 으로써 형상 ( 패턴 ) 을 축소 인쇄 하 여 원 하 는 크기 의 미세 형상 을 간접 적 으로 웨이퍼 상 에 전사 하 는 기술 이 다 .