이어서 , 도 2 f 에 도시 된 바 와 같이 , 트렌치 ( 104 , 도 2 a 참조 ) 가 완전히 매립 되 도록 소자 분리 막 용 제 2 절 연막 ( 107 ) 을 증착 한 후 평탄 화 공정 , 예컨대 CMP 공정 을 실시 한다 . 이때 , 도 2 c 에서 일정 두께 로 잔류 된 하드 마스크 ( 103 , 도 2 b 참조 ) 이 연마 정지 막 으로 기능 하 기 때문 에 플로팅 게이트 ( 102 ) 의 손상 은 거의 발생 되 지 않 는다 .