도 24 내지 도 26 은 예시 적 인 실시 예 들 에 따른 수직 형 메모리 장치 의 제조 방법 을 설명 하 기 위한 단면도 들 로서 , 도 1 에 도시 된 X 영역 에 대한 확대 단면도 들 이 다 . 상기 수직 형 메모리 장치 의 제조 방법 은 도 18 내지 도 22 및 도 17 을 참조 로 설명 한 공정 들 과 실질 적 으로 동일 하 거나 유사 한 공정 들 을 포함 하 므로 , 이 들 에 대한 중복 적 인 설명 은 생략 한다 .