유량 률 제한 을 제공 하 기 위한 배기 매니폴드 ( 72 ) 의 사용 은 , 반응기 ( 10 ) 의 동작 동안 에 포트 들 ( 76 ) 내 에 또는 그 주변 에 형성 된 고형 입자 들 ( 예컨대 , 반응물 들 의 산물 들 ) 의 기생 증착 을 초래 할 수 있 다 . 그러 한 고형 입자 들 은 , 다양 한 포트 들 사이 에서 비 균일 한 유량 률 을 야기 할 수 있 고 기체 유동 에서 바람직 하 지 않 은 변화 들 을 야기 할 수 있 고 따라서 반응기 ( 10 ) 에 의해 생성 된 웨이퍼 ( 58 ) 의 성질 들 에 영향 을 미치 는 , 포트 들 ( 76 ) 의 일부 또는 전부 의 사이즈 를 감소 시키 거나 그 일부 또는 전부 를 완전히 차단 시킬 수 있 다 . 포트 들 ( 76 ) 중 하나 이상 의 부분 적 인 차단 ( blockage ) 은 웨이퍼 들 ( 58 ) 의 비 균일 한 성장 률 을 야기 할 수 있 다 .