이러 한 온도 에서 , 접착제 층 ( 217 ) 의 물질 은 노출 된 물질 과 반응 하 여 추가 의 실리사이드 를 형성 할 수 있 다 . 예 를 들 어 , 영역 ( 50 N ) 에서 , 접착제 층 ( 217 ) 의 물질 은 제 2 상 실리사이드 층 ( 211 ) 과 반응 하 여 제 2 상 실리사이드 층 ( 211 ) 위 에 제 1 접착제 실리사이드 층 ( 219 ) 을 형성 한다 . 접착제 층 ( 217 ) 이 티타늄 이 고 제 2 상 실리사이드 층 ( 211 ) 이 NiSi 인 실시 예 에서 , 제 1 접착제 실리사이드 층 ( 219 ) 은 약 2 nm 내지 약 20 nm , 예컨대 , 약 8 nm 의 두께 를 갖 도록 형성 된 TiNiSi 합금 으로 형성 될 수 있 다 . 그러나 임의 의 적합 한 두께 가 사용 될 수 있 다 .