예 를 들 면 , 특허 문헌 3 에서 는 , 포토레지스트 층 에 대하 여 , 선폭 제어 성 이 엄격 한 개소 의 패턴 을 위상 시프트 패턴 을 이용 해서 전사 하 는 고해상도 노광 과 , 고해상도 노광 에 의해 이미 패턴 전사 된 포토레지스트 층 의 부분 을 마스크 패턴 의 차 광부 에 의해 보호 하 면서 , 포토레지스트 층 에 대하 여 선폭 제어 성 이 엄하 지 않 은 개소 의 패턴 을 , 위상 시프트 패턴 을 이용 하 지 않 고 전사 하 는 통상 노광 을 포함 하 는 노광 방법 이 개시 되 어 있 다 .