노즐 부 ( 110 ) 는 세정 공정 을 처리 하 기 위하 여 서로 다른 약액 들 예 를 들 어 , 세정액 , 식각 액 및 / 또는 순수 를 각각 공급 하 는 제 1 내지 제 3 노즐 ( 112 a ~ 112 c ) 들 을 포함 한다 . 제 1 내지 제 3 노즐 ( 112 a ~ 112 c ) 들 은 회전축 ( 도 4 의 116 ) 에 의해 각각 독립 적 으로 회전 가능 하 고 안정 적 인 설치 를 위하 여 기판 처리 장치 ( 100 ) 의 프레임 ( frame ) ( 미도 시 됨 ) 에 브래킷 , 자석 등 을 이용 하 여 기판 ( W ) 과 수직 위치 로 설치 되 며 , 하나 의 회전축 ( 116 ) 에 체결 되 고 회전축 ( 116 ) 에 의해 수직 위치 와 기판 ( W ) 사이 를 독립 적 으로 회전 된다 . 제 1 내지 제 2 노즐 ( 112 a ~ 112 c ) 들 은 공정 처리 에 따라 해당 약액 을 공급 하 도록 선택 부 ( 180 ) 에 의해 하나 의 노즐 이 선택 된다 . 따라서 선택 된 노즐 은 수직 위치 에서 기판 ( W ) 의 중심 방향 으로 회전 하 며 , 이 때 회전축 ( 116 ) 의 회전각 ( θ ) 을 조절 하 여 기판 ( W ) 의 여러 영역 들 로 균일 하 게 약액 을 공급 한다 .