상기 하드 마스크 층 ( 124 ) 의 상면 에 상기 낮 은 표면 부 ( 124 a ) 를 형성 하 기 위하 여 건식 식각 공정 을 행할 수 있 다 , 예 를 들 면 , 도 1 d 를 참조 하 여 설명 한 상기 제 1 마스크 패턴 ( 130 a ) 및 버퍼 마스크 패턴 ( 132 a ) 형성 을 위한 건식 식각 공정 시 상기 제 1 마스크 패턴 ( 130 a ) 이 형성 된 후 연속 적 으로 과도 식각 을 행하 여 상기 낮 은 표면 부 ( 124 a ) 가 형성 되 도록 할 수 있 다 . 다른 방법 으로서 , 상기 낮 은 표면 부 ( 124 a ) 를 형성 하 기 위한 별도 의 건식 식각 공정 을 행할 수 도 있 다 .