단계 1 : 상기 단계 1 에서 회수 된 실리콘 입자 의 크기 를 미세 화 하 기 위하 여 분쇄 를 수행 하 였 다 . 분쇄 과정 에서 산화 방지 및 탄소 전구체 의 코팅 을 위하 여 글루코스 를 주입 하 였 다 . 분쇄 공정 에 사용 된 장비 는 비즈 밀 ( ultra apex mill , UAM - 015 , kotobukilnd . Co . Ltd . ) 이 다 . 이것 은 실린더 내부 와 로터 로 구성 되 어 있 으며 분쇄 에 사용 한 비드 는 0 . 05 mm 지르 코니아 ( ZrO 2 ) 를 사용 하 였 다 . 로터 의 회전 속도 는 4500 rpm , 전 구체 이 송유 랑 은 90 ml / min 으로 고정 하 여 분쇄 하 였 다 . 이때 실리콘 농도 는 5 wt % 로 고정 하 고 글루코스 / 실리콘 의 중량 비 를 0 . 1 로 하 여 분쇄 를 거쳐 모든 조건 에서 1 ㎛ 이하 의 입자 크기 를 갖 는 실리콘 - 글루코스 현탁액 을 얻 었 다 . 즉 , 탄소 화합물 인 글루코스 수용액 이 분쇄 공정 에서 실리콘 의 표면 을 감싸 는 동시 에 고속 분쇄 시 발생 하 는 산화 과정 으로 인한 실리콘 표면 의 산화 실리콘 생성 을 방지 해 주 고 글루코스 가 실리콘 입자 표면 에 고르 게 분포 된 실리콘 - 글루 코즈 현탁액 을 제조 하 였 다 .