이러 한 잠재 적 인 오차 원인 을 해결 하 기 위해 , 일 실시 형태 에서 , 기판 위 의 증착 공급원 의 높이 도 증착 동안 교정 , 측정 및 제어 된다 . 일 실시 형태 에서 , 이러 한 교정 은 센서 ( 227 , 229 ) 및 정렬 시스템 의 기준점 ( 예 를 들 어 , 레티 클 ( 235 ) ) 을 사용 하 여 수행 된다 . 다른 실시 형태 에서 ( 도 4 a - c 와 관련 하 여 이하 에서 소개 됨 ) , 다른 센서 시스템 ( 즉 , 절대 위치 센서 ) 은 높이 를 측정 하 는 데 사용 될 수 있 다 . 도시 된 시스템 의 경우 에서 , 프린트 헤드 어셈블리 상 의 카메라 에 대한 프린트 헤드 높이 의 차이 는 정확 하 게 알려 지 지 않 을 수 있 고 , " 결과 적 으로 높이 "" h 0 "" 및 "" h 1 "" 모두 를 측정 하 여 "," 높이 "" h 2 "" 가 센서 ( 227 ) 를 사용 하 여 측정 된 높이 "" h 0 "" 으로부터 쉽 게 추론 될 수 있 는 것 이 바람직 하 다 ( 즉 "," "" h 2 "" = "" h 0 "" - "" h 1 "" 에 따라 ) . 프린터 실시 형태 에서 "," 일부 구 현예 에서 는 프린트 헤드 에 대한 하나 의 높이 를 간단히 "" 인지 "" 만 해도 충분 할 수 있 지만 ( 예 를 들 어 ", 프린트 헤드 노즐 플레이트 에 대한 레벨 제어 가 합리 적 인 정확도 를 허용 한다면 ) , 다른 실시 형태 에서 는 , 각각 의 프린트 헤드 의 각각 의 노즐 오리피스 의 절대 높이 를 측정 하 는 것 이 바람직 할 수 있 고 , 즉 이 는 노즐 로부터 노즐 까지 의 액 적 겉보기 속도 에서 의 차이 가 정확 하 게 이해 될 수 있 고 그렇 지 않 으면 감소 될 수 있 기 위함 이 다 . 참조 로 포함 된 특허 및 특허 공보 , 예 를 들 어 특히 미국 특허 제 9352561 호 에서 논의 된 바 와 같이 , 각각 의 노즐 은 제조 공정 코너 로 인해 , " 노즐 위치 ( "" 노즐 보우 "")", 액 적 분사 량 , 액 적 궤 적 및 / 또는 액 적 속도 에서 의 오차 를 제공 할 수 있 고 , 이러 한 오차 는 통계 적 변동 을 제공 할 수 있 음 을 유의 하 며 ; 따라서 , 하나 의 고려 된 구 현예 에서 , 각각 의 노즐 은 예상 된 액 적 착지 위치 로 요인 으로 포함 된 노즐 당 높이 를 측정 하 여 액적 에 대해 개발 된 통계 모델 ( 즉 , 미국 특허 제 9352561 호 에 의해 논의 된 바 와 같이 ) 을 가질 수 있 어 , 각각 의 노즐 로부터 의 액적 이 노즐 높이 및 특정 노즐 에 영향 을 미치 는 공정 코너 에 대해 착지 되 도록 정확 한 예상 을 전개 할 수 있 다 . 전술 한 바 와 같이 , 이러 한 정보 는 예 를 들 어 , 프린트 헤드 높이 를 조정 하 거나 ( 일 실시 형태 에서 프린트 헤드 , " 프린트 헤드 캐리지 또는 "" 잉크 스틱 "" 은 전자 적 으로 작동 되 는 z - 축 모터 를 가짐 ) ", 액 적 속도 , 분사 시간 , 기판 위치 , 증착 에 사용 되 는 노즐 , 액 적 타이밍 , 크로스 - 스캔 피치 및 / 또는 다른 프린트 파라미터 를 조정 함 으로써 구현 예 에 따라 바람직 한 높이 로부터 의 편차 를 보정 하 는 데 사용 될 수 있 다 .