따라서 , 상기 문제점 을 해결 하 기 위해 비정질 탄소막 ( amorphous carbon ) 을 하드 마스크 로 이용 한다 . 비정질 탄소막 은 하부 재료 층 과 의 높 은 식각 선택 비 를 갖 는 것 을 물론 이 고 얇 은 막 으로 도 높 은 해상도 를 갖 을 수 있 으며 , 감광막 의 식각 속도 에 관계없이 정교 한 패 터닝 이 가능 하 다 . 그러나 , 이러 한 비정질 탄소막 을 제작 하 기 위해서 는 높 은 온도 , 예 를 들 어 350 ∼ 450 ℃ 의 기판 온도 에서 비정질 탄소막 을 증착 하 기 때문 에 이 를 다시 냉각 시켜야 한다 . 따라서 , 보다 많 은 공정 시간 이 필요 하 게 되 고 , 그 에 따라 생산 성 이 저하 된다 .