근접 헤드 는 헤드 표면 을 포함 한다 . 헤드 표면 은 제 1 평탄 영역 및 복수 의 제 1 도관 을 포함 한다 . 복수 의 제 1 도관 의 각각 의 도관 은 복수 의 제 1 이산 홀 의 대응 하 는 홀 에 의해 정의 된다 . 복수 의 제 1 이산 홀 은 헤드 표면 에 존재 하 며 제 1 평탄 영역 을 통하 여 연장 된다 . 헤드 표면 은 또한 제 2 평탄 영역 및 복수 의 제 2 도관 을 포함 한다 . 복수 의 제 2 도관 은 헤드 표면 에 존재 하 며 제 2 평탄 영역 을 통해 연장 되 는 대응 하 는 복수 의 제 2 이 산 홀 에 의해 정의 된다 . 헤드 표면 은 또한 제 1 평탄 영역 및 제 2 평탄 영역 사이 에 그리고 제 1 평탄 영역 과 제 2 평탄 영역 에 인접 하 여 배치 된 제 3 평탄 영역 및 복수 의 제 3 도관 을 포함 한다 . 복수 의 제 3 도관 은 헤드 표면 에 존재 하 며 제 3 평탄 영역 을 통해 연장 되 는 대응 하 는 복수 의 제 3 이 산 홀 에 의해 정의 된다 . 제 3 도관 은 제 3 평탄 영역 에 대해 제 1 각도 로 형성 된다 . 제 1 각도 는 30 도 와 60 도 사이 이 다 . 근접 헤드 를 사용 하 여 기판 을 처리 하 는 시스템 및 방법 이 또한 설명 된다 .