상기 보강 층 은 산화알루미늄 ( Al 2 O 3 ) 으로 이루어진 적어도 하나 의 세라믹 층 을 구비 하 고 , 상기 스퍼터링 단계 에서 상기 산화알루미늄 의 입자 를 공급 하 기 위해 사용 되 는 타 겟 ( target ) 은 , 분말 형태 의 산화알루미늄 ( Al 2 O 3 ) 을 분말 소결 ( powder sintering ) 하 여 형성 된 산화알루미늄 세라믹 타 겟 ( ceramic target ) 일 수 있 다 .