이 구성 에 의하 면 , 고 압수 분사 장치 를 스테이지 와 평행 한 제 1 방향 을 따라서 스테이지 에 대해 상대 이동 가능 하 게 하 고 , 또한 노즐 헤드 를 제 1 방향 과 교차 되 는 제 2 방향 으로 직선 형태 로 진동 가능 하 게 되 어 있 기 때문 에 고압 수 는 피 처리 물 에 대해 정현파 커브 의 궤적 을 그리 도록 분사 된다 . 이 로써 부착물 이 제거 된 부위 에 대해 다시 고압 수 를 분사 하 지 않 게 되 므로 피 처리 물 의 손상 을 방지 할 수 있 다 .