탑재 대 ( 3 ) 의 상방 에 있 어서 , 처리 용기 ( 21 ) 의 천장 의 하면 에 는 오목 부가 형성 되 고 , 그 오 목부 에 매설 되 도록 탑재 대 ( 3 ) 상 의 기판 ( B ) 에 처리 가스 를 공급 하 기 위한 상부 가스 공급 기구 ( 6 ) 가 마련 되 어 있 다 . 상부 가스 공급 기구 ( 6 ) 는 탑재 대 ( 3 ) 의 표면 과 대향 하 도록 마련 된 상부 전극 ( 61 ) 과 , 그 상부 전극 ( 61 ) 을 지지 하 는 상부 전극 베이스 ( 62 ) 와 , 스 페이서 ( 63 ) 및 절연 부재 ( 65 ) 를 구비 하 고 있 다 . 상부 전극 ( 61 ) 은 예 를 들 면 알루미늄 에 의해 각 진 형상 의 평판 으로서 구성 되 어 있 고 , 다수 의 가스 공급 구멍 ( 61 a ) 이 분산 되 어서 그 두께 방향 으로 천공 되 어 있 다 . 상부 전극 베이스 ( 62 ) 는 상부 전극 ( 61 ) 에 대응 하 는 크기 를 갖 는 각 진 판 형상 으로 형성 되 어 있 고 , 그 하면 에 는 예 를 들 면 가로 방향 으로 복수 의 오 목부 가 형성 되 어 있 으며 , 각 오 목부 는 상기 상부 전극 ( 61 ) 에 커버 됨 으로써 , 처리 가스 의 확산 공간 ( 62 a ) 으로 형성 되 어 있 다 .