라인 에지 러프 니스 ( LER ) 의 평가 는 길 이 측정 주사 형 전자 현미경 ( SEM ) 을 통해서 120 nm 의 고립 패턴 을 관찰 하 고 , " 5 ㎛ 의 범위 내 의 라인 패턴 의 길 이 방향 의 에지 에 대하 여 상기 에지 가 존재 해야 하 는 기준선 라인 으로부터 의 거리 를 길 이 측정 SEM ( "" S - 8840 """, 상표명 ; Hitachi Ltd . 제품 ) 을 사용 함 으로써 50 곳 에서 측정 하 고 , 표준 편차 를 측정 하 고 , 3 σ 를 산출 함 으로써 행해졌 다 . 단위 는 nm 이 다 . 값 이 작 을수록 우수 한 성능 을 나타낸다 .