상기 목적 을 달성 하 기 위해 , 본 발명 에 따른 플 라즈 마 식각 장치 는 식각 공정 이 이루어지 는 식 각공 간부 가 내부 에 형성 된 챔버 ; 상기 식각 공간 부 에 배치 되 며 , 웨이퍼 가 안착 되 는 웨이퍼 안착 부재 ; 및 상기 챔버 에 결합 되 며 , 상기 식각 공간 부 에 공급 되 는 식각 가스 가 플라 즈 마 상태 로 유도 되 어 상기 웨이퍼 를 식각 하 도록 상기 식각 가스 를 플 라즈 마 화 시키 는 플 라즈 마 형성 유닛 ; 을 구비 하 는 플 라즈 마 식각 장치 에 있 어서 , 상기 플 라즈 마 형성 유닛 은 , 고주파 전원 이 인가 되 는 고주파 인가 부 와 , 상기 고주파 인가 부 로부터 일 방향 을 따라 일정 거리 이격 되게 배치 되 며 래퍼 런 스 전압 이 인가 되 는 래퍼 런 스 인가 부 와 , 각각 의 일 측 은 상기 고주파 인가 부 와 접촉 하 여 전기 적 으로 연결 되 며 각각 의 타 측 은 상기 래퍼 런 스 인가 부 와 접촉 하 여 전기 적 으로 연결 되 며 상기 일 방향 과 교차 하 는 방향 을 따라 상호 이격 되게 병렬 적 으로 배치 되 는 복수 의 코 일부 를 가지 며 , 상기 안착 부재 의 상측 에 배치 되 는 코일 부재 ; 를 포함 하 는 것 을 특징 으로 한다 .