본 고안 에 있 어서 는 냄비 본체 의 바닥 면 에 별도 의 바닥 판 이 그 주연 측 에서 접착 결합 되 어 열전도 가 냄비 바닥 의 주연 부근 에서 집중 적 으로 이루어지 도록 함 으로서 냄비 내 에서 조리 되 는 내용물 이 끓 는 동안 에 일어나 는 비등 에 의한 내용물 유동 이 주연 부 에서 중심 부측 을 향하 여 일어나 내용물 전체 가 균일 하 게 조리 될 수 있 도록 하 고 비등 에 의하 여 내용물 이 냄비 의 외측 으로 넘치 는 넘침 현상 을 줄일 수 있 도록 한 이중 바닥 냄비 를 제공 한다 .