또한 , 상기 의 실시 형태 에서 는 , 금속 염화물 가스 로서 WCl 6 가스 를 사용 해서 텅스텐 막 을 성막 하 는 경우 를 예 로 들 어 설명 했 지만 , 금속 염화물 가스 와 환원 가스 를 교대 로 복수 회 공급 해서 금속 막 을 성막 하 는 경우 라면 , 본 발명 을 적용 할 수 있 다 . 금속 염화물 가스 로서 는 , WCl 5 가스 등 의 다른 염화 텅스텐 가스 를 사용 할 수 있 고 , WCl 5 가스 를 사용 해도 WCl 6 가스 와 거의 동일 한 거동 을 나타낸다 . 또한 , 예 를 들 어 염화 몰리브덴 가스 와 환원 가스 를 사용 해서 몰리브덴 막 을 성막 하 는 경우 나 , 염화 탄탈 가스 와 환원 가스 를 사용 해서 탄 탈막 을 성막 하 는 경우 에 도 본 발명 을 적용 할 수 있 다 .