스 페이서 는 샤워 헤드 바로 아래 그리고 샤워 헤드 와 하부 챔버 부분 의 챔버 벽 사이 에 배치 된다 . 스 페이서 는 환형 바디 에 의해 형성 되 고 수직 컴포넌트 및 측면 연장 부를 포함 한다 . 스 페이서 의 수직 컴포넌트 는 프로세스 챔버 내 에서 프로세싱 영역 을 둘러싸 는 측벽 을 형성 한다 . 측면 연장 부 는 , 측면 연장 부가 프로세싱 영역 외부 에 배치 되 도록 수직 컴포넌트 로부터 방사상 외측 으로 연장 한다 . 스 페이서 의 수직 컴포넌트 는 샤워 헤드 의 하단 표면 에 부착 되 고 측면 연장 부 는 하부 챔버 부분 의 챔버 벽 의 상단 부 상 에 놓이 도록 구성 된다 . 홈 부가 측면 연장 부 의 상단 표면 상 에 형성 된다 . 열 소스 에 커플링 된 가열 엘리먼트 가 스 페이서 의 홈 부 내 에 임 베 딩 된다 . 프로세싱 영역 의 측벽 의 표면 온도 는 스 페이서 의 수직 컴포넌트 로 가열 엘리먼트 에 의해 제공 된 열 을 제어 함 으로써 제어 된다 . 최적 의 열 적 조건 으로 스 페이서 의 측벽 을 유지 하 는 것 은 응력 및 증착 물 들 의 박리 ( peel off ) 를 최소 화 하 고 , 플라 즈 마 플로우 윤곽 들 을 개선 하 고 , 입자 퍼포먼스 를 향상 시키 는 것 을 발생 시킨다 . 본 발명 의 보편 적 인 이해 와 함께 , 구체 적 인 실시 예 들 은 다양 한 도면 들 을 참조 하 여 이제 기술 될 것 이 다 .