물론 폴리곤 미러 ( 30 ) 에서 반사 된 레이저 빔 이 바로 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 상 에 도달 할 수 도 있 지만 , 도 1 에 도시 된 것 과 같이 제 1 광학 소자 ( 41 ) 를 이용 하 여 폴리곤 미러 ( 30 ) 에서 반사 된 레이저 빔 의 경로 를 조절 한 후 레이저 빔 이 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 상 에 도달 하 도록 할 수 도 있 다 . 도 1 에서 는 제 1 광학 소자 ( 41 ) 가 볼록 반사면 을 갖 는 제 1 미러 ( 411 ) 와 오목 반사면 을 갖 는 제 2 미러 ( 412 ) 를 가져 , 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 1 반사면 ( 31 ) 내 의 지점 중 제 2 반사면 ( 32 ) 에서 먼 지점 에서 레이저 빔 이 반사 될 시 에 는 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 의 - y 방향 의 가장자리 근방 에 레이저 빔 이 조사 되 고 , 폴리곤 미러 ( 30 ) 의 제 1 반사면 ( 31 ) 내 의 지점 중 제 2 반사면 ( 32 ) 에 인접 한 지점 에서 레이저 빔 이 반사 될 시 에 는 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 의 + y 방향 의 가장자리 근방 에 레이저 빔 이 조사 되 는 것 으로 도시 하고 있 다 . 이 에 따라 폴리곤 미러 ( 30 ) 가 회전 하 면서 제 1 반사면 ( 31 ) 상 에서 레이저 빔 이 반사 될 시 , 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 의 레이저 빔 이 조사 된 영역 의 길이 가 비정질 실리콘 층 ( 2 ) 의 y 축 방향 의 폭 에 대략 대응 하 게 된다 .