상기 도 2 a 내지 도 2 f 의 방법 으로 패턴 구조물 을 형성 하 는 과정 에서 , 상기 마스크 패턴 이 정 위치 에 위치 하 지 못하 고 미스 얼라인 이 발생 될 수 있 다 . 상기 도 2 c 에서 설명 한 것 과 같이 , 상기 마스크 패턴 이 좌 , 우 1 . 5 F 까지 미스 얼라인 되 더라도 완성 된 상기 제 1 라인 패턴 은 절단 된 형상 을 갖 고 , 제 2 및 제 3 라인 패턴 이 정상 적 인 동작 을 할 수 있 다 . 또한 , 상기 제 2 라인 패턴 중 적어도 하나 는 돌출 패턴 을 포함 하 는 형상 을 갖 는다 .