분산 판 ( 234 b ) 의 지지 부재 ( 231 b ) 에 는 정합 기 ( 251 ) 와 고주파 전원 ( 252 ) 이 접속 되 고 , 전자파 ( 고주파 전력 이나 마이크로파 ) 가 공급 가능 하 도록 구성 된다 . 이 에 의해 분 산판 ( 234 b ) 을 통해서 처리 실 ( 201 ) 내 에 공급 되 는 가스 를 여기 ( 勵 起 ) 하 여 플 라즈 마 화 할 수 있 도록 이루어진다 . 즉 분산 판 ( 234 b ) , 지지 부재 ( 231 b ) , 정 합기 ( 251 ) 및 고주파 전원 ( 252 ) 은 후술 하 는 제 1 처리 가스 및 제 2 처리 가스 를 플 라즈 마 화 하 는 것 이 며 , 플 라즈 마 화 한 가스 를 공급 하 는 제 1 가스 공급 부 ( 상세 는 후술 ) 의 일부 및 제 2 가스 공급 부 ( 상세 는 후술 ) 의 일부 로서 기능 한다 .