한편 , 본 예의 성막 장치 는 3 개 의 가스 유로 ( 411 ( 412 ) , 421 ( 422 ) , 431 ( 432 ) ) 가 관통 되 며 , 비교 적 큰 접속 면 ( 단부 면 및 대향 면 ) 을 갖 는 복수 의 부재 ( 제 1 배관 부재 ( 4 A ) , 제 2 배관 부재 ( 4 B ) ) 를 접속 하 여 구성 한 가스 공급 배관 ( 4 ) 을 거쳐서 각 가스 를 진공 챔버 ( 10 ) 에 공급 한다 . 이 와 같 은 구성 의 가스 공급 배관 ( 4 ) 을 이용 하 는 것 에 관계없이 , 상술 의 시일 구 조체 를 이용 하 여 대기 의 진입 이 억제 되 어 있 기 때문 에 , 진공 챔버 ( 10 ) 내로 의 대기 의 진입 이 적 어 , TiN 막 의 산화 등 의 막 질 의 저하 를 억제 할 수 있 다 .