본 발명 의 표시 장치 용 기판 의 제조 방법 은 , 절연 기판 상 에 게이트 배선 층 에 의해 형성 된 배선 을 형성 하 는 게이트 배선 형성 공정 과 , 게이트 배선 층 에 의해 형성 된 배선 을 피복 하 도록 게이트 절연 층 을 형성 하 는 게이트 절연 층 형성 공정 과 , 게이트 절연 층 상 에 산화 인듐 갈륨 아연 으로 이루어진 접속 층 을 형성 하 는 접속 층 형성 공정 과 , 접속 층 상 에 티타늄 또는 티타늄 보다 표준 전극 전위 가 낮 은 금속 으로 이루어진 소스 배선 층 에 의해 형성 된 배선 을 형성 하 는 다른 배선 형성 공정 과 , 게이트 절연 층 , 접속 층 , 및 소스 배선 층 에 의해 형성 된 배선 에 콘택트 홀 을 형성 하 는 콘택트 홀 형성 공정 과 , 콘택트 홀 의 표면 상 에 , 게이트 배선 층 에 의해 형성 된 배선 및 접속 층 과 접하 도록 도전 막 을 형성 함 으로써 , 접속 층 및 도전 막 을 개재 하 고 , 게이트 배선 층 에 의해 형성 된 배선 과 소스 배선 층 에 의해 형성 된 배선 을 전기 적 으로 접속 하 는 도전 막 형성 공정 을 적어도 구비 하 는 것 을 특징 으로 한다 .