오브젝트 필드 를 가로지르 는 조명 광 의 강도 분포 의 조정 을 위해 역할 을 하 도록 그리고 강도 설정 면 으로서 사용 되 도록 된 , 중첩 면내 에 배열 된 필드 강도 설정 디바이스 에 의한 방사 서브 다발 들 의 중첩 은 , 중첩 된 방사 서브 다발 들 의 에지 들 이 그것 들 이 필드 강도 설정 디바이스 에 의해 영향 을 받 을 수 있 는 포인트 에서 일치 한다는 점 에서 , 필드 강도 설정 디바이스 의 사실 상 의 조명 - 각도 - 독립 효과 를 제공 한다 . 이러 한 경우 에 , 중첩 면 은 강도 설정 면 으로서 역할 을 한다 . 필드 강도 설정 디바이스 는 중첩 의 그 포인트 에서 조명 광 방사 다발 의 중첩 된 방사 서브 다발 들 에 영향 을 준다 . 따라서 , 필드 강도 설정 디바이스 는 동일 한 방식 으로 이 포인트 에서 중첩 되 는 모든 방사 서브 다발 들 에 영향 을 준다 ; 환언 하 면 , 필드 강도 설정 디바이스 는 이 들 방사 서브 다발 들 에 관하 여 그리고 따라서 이 들 방사 버스 다발 들 에 할당 된 조명 각도 들 에 관하 여 독립 된 효과 를 갖 는다 . 방사 서브 다발 들 의 중첩 은 , 적어도 필드 강도 설정 디바이스 가 조명 광 방사 다발 에 영향 을 주 는 포인트 에서 일어난다 . 대략 적 으로 직사각 형 의 방사 서브 다발 들 의 경우 에 있 어서 , 예컨대 , 필드 강도 설정 디바이스 에 의해 영향 을 받 는 , 에지 에서 의 중첩 이 충분 하 다 . 물론 , 방사 서브 다발 들 또는 서브 다발 에지 부분 들 의 중첩 은 필드 강도 설정 디바이스 에 의해 영향 을 받 지 않 는 영역 들 에서 일어날 수 도 있 다 . 필드 강도 설정 디바이스 의 조명 각도 영향 을 감소 시키 거나 사실상 회피 하 기 위한 중첩 면 또는 강도 설정 면내 에서 의 방사 서브 다발 들 의 중첩 은 , 다른 것 들 중 에서 도 , 필드 강도 설정 디바이스 가 2 개 의 측 으로부터 중첩 된 방사 서브 다발 들 에 영향 을 줄 수 있 는 , 시스템 내 에 적용 될 수 있 다 . 이것 들 은 중간 이미지 ( intermediate image ) 를 가진 조명 광학 소자 또는 트랜스미션 마스크 ( transmission mask ) 를 가진 조명 광학 소자 일 수 있 다 . 필드 강도 설정 디바이스 는 오브젝트 면내 에서 의 조명 광 의 강도 를 규정 한다 . 조명 광 을 생성 하 는 데 사용 되 는 광원 의 변위 는 , 만일 있 었 다면 , 필드 강도 설정 디바이스 의 효과 에 작 은 영향 만 을 가질 것 이 기 때문 에 , 필드 강도 설정 디바이스 의 영향 의 범위 내 에 있 는 , 포인트 에서 의 방사 서브 다발 들 의 중첩 은 , 달성 될 오브젝트 필드 조명 의 증가 된 안정 성 을 또한 가능 케 한다 . 이것 은 , EUV 플 라즈 마 소스 가 사용 될 때 , 특히 유리 하 다 .