여기 서 , 일반 적 으로 진행 되 는 비트 라인 형성 방법 을 설명 하 면 , 먼저 , 비트 라인 형성 영역 을 한정 하 는 콘 택 홀 이 구비 된 층간 절 연막 상 에 베리 어 막 ( barrier layer ) 으로 티타늄 ( Ti ) 막 과 제 1 티타늄 질화 ( TiN ) 막 을 차례 로 증착 한다 . 그런 다음 , 후속 비트 라인 용 금속 막인 텅스텐 ( W ) 막 의 증착 을 용이 하 게 수행 하 기 위해 , 상기 제 1 티타늄 질화 막 상 에 글 루 막 ( glue layer ) 인 제 2 티타늄 질화 막 을 증착 한다 .