본 발명 의 조성물 에 존재 할 때 , 본원 에서 개시 된 바 와 같 은 지베 렐 산 및 자스몬산 은 조성물 의 약 0 . 001 내지 약 90 중량 %, 약 0 . 001 내지 약 50 중량 %, 또는 약 0 . 01 내지 약 20 중량 %, 또는 약 0 . 01 내지 약 10 중량 %, 또는 약 0 . 05 내지 ㅇ약 5 중량 %, 또는 약 0 . 05 내지 약 2 중량 % 의 양 으로 존재 할 수 있 다 . 본 발명 의 한 실시 태양 에 따르 면 , 개시 된 화합물 을 포함 하 는 조성물 은 약 10 - 4 M 내지 약 10 - 6 M 범위 의 양 의 활성 지베 렐 산 화합물 및 / 또는 자스몬산 화합물 을 포함 할 수 있 다 .