상기 제 어부 는 , 상기 토출 시 공부 ( 20 ) 에서 토출 되 는 돌출부 조성물 과 이웃 하 는 다른 돌출부 조성물 의 사이 에 토출 간격 ( a ) 이 형성 되 도록 제어 하 고 , 상기 메인 분 사시 공부 ( 30 ) 에서 분사 되 는 표면 부 조성물 과 이웃 하 는 다른 표면 부 조성물 의 사이 에 분사 간격 ( c ) 이 형성 되 도록 제어 하 되 , 복수 의 토출 간격 ( a ) 의 사이 에 는 적어도 상기 토출 간격 ( a ) 보다 큰 간격 을 갖 도록 구성 되 는 정지 간격 ( b ) 이 형성 되 도록 제어 할 수 있 다 .