이러 한 포스트 베 이크 공정 을 거친 경우 에 도 , 상기 적층 구조물 은 , 향상 된 안정 성 을 나타내 므로 광 변환 율 을 초기 값 의 90 % 이상 유지 할 수 있 다 . 일 구 현예 에 따른 적층 구조물 은 , 소정 의 환경 ( 예컨대 , 65 도씨 의 온도 및 85 % 의 상대 습도 ) 하 에서 여기 광 을 조사 할 경우 광 변환 율 의 감소 를 나타내 지 않 을 수 있 거나 혹은 증가 된 광 변환 율 을 나타낼 수 있 다 .