본 발명 에 따른 CMP 용 슬러리 조성물 에 함유 되 는 연마제 로서 산화 세륨 은 탄산 세륨 수화물 을 500 ℃ 내지 1200 ℃ 에서 공기 중 에서 하소 하 여 제조 된 것 을 사용 하 며 , 스크래치 를 줄이 기 위해 분쇄 하 고 분급 하 여 사용 하 는 것 이 바람직 하 고 , 상기 분급 법 은 원심 분리 나 중력 침강 법 ( sedimentation ) 을 사용 할 수 있 다 .