DMD ( 50 ) 는 도 6 에 도시 된 바 와 같이 SRAM 셀 ( 메모리 셀 ) ( 60 ) 상 에 미소 미러 ( 마이크 로 미러 ) ( 62 ) 가 지주 에 의해 지 지 되 어 배치 된 것 이 며 , 화소 ( 픽셀 ) 를 구성 하 는 다수 의 ( 예 를 들 면 , 600 개 × 800 개 ) 의 미소 미러 ( 62 ) 를 격자 상 으로 배열 하 여 구성 된 미러 디바이스 이 다 . 각 픽셀 에 는 최 상부 에 지주 로 지지 된 마이크 로 미러 ( 62 ) 가 설치 되 어 있 고 , 마이크 로 미러 ( 62 ) 의 표면 에 는 알루미늄 등 의 반사 율 이 높 은 재료 가 증착 되 어 있 다 . 또한 , 마이크 로 미러 ( 62 ) 의 반사율 은 90 % 이상 이 다 . 또한 마이크 로 미러 ( 62 ) 의 바로 아래 에 는 힌지 및 요크 를 포함 하 는 지주 를 통해 통상 의 반도체 메모리 의 제조 라인 에서 제조 되 는 실리콘 - 게이트 의 CMOS 의 SRAM 셀 ( 60 ) 이 배치 되 어 있 어 , 전체 는 모놀리식 ( 일체 형 ) 으로 구성 되 어 있 다 .