도 1 은 , 일 실시 형태 에 관한 연마 장치 를 도시 하 는 모식도 다 . 도 1 에 도시 하 는 바 와 같이 , 연마 장치 는 , 기판 의 일례 인 웨이퍼 W 를 보유 지지 하 는 센터 링 스테이지 ( 10 ) 및 프로세스 스테이지 ( 20 ) 를 갖 고 있 다 . 센터 링 스테이지 ( 10 ) 는 , 웨이퍼 W 의 센터링 을 행하 기 위한 스테이지 이 며 , 프로세스 스테이지 ( 20 ) 는 , 웨이퍼 W 를 연마 하 기 위한 스테이지 다 . 웨이퍼 W 의 센터링 중 은 , 웨이퍼 W 는 센터 링 스테이지 ( 10 ) 만 에 의해 보유 지지 되 고 , 웨이퍼 W 의 연마 중 에 는 , 웨이퍼 W 는 프로세스 스테이지 ( 20 ) 만 에 의해 보유 지지 된다 .