본 발명 의 포토 마스크 의 용도 에 는 특별히 제한 은 없 다 . 예 를 들 어 , LCD ( Liquid Crystal Display ) 나 유기 EL 디스플레이 용 의 박막 트랜지스터 ( TFT ) 제조 용 이 며 , 특히 S / D 레이어 및 반도체 층 을 1 회 의 포토 리소그래피 공정 에 의해 가공 할 때 사용 하 는 다 계조 포토 마스크 에 , 유리 하 게 적용 할 수 있 다 .