본 발명 은 노광 장치 및 그 를 이용 한 반도체 소자 에 관한 것 으로 , 특히 편광 ( Polarization ) 조명 시스템 을 이용 하 는 노광 공정 시 노광 마스크 에 위상 지 연기 ( Phase retarder ) 를 포함 하 여 노광 광원 으로 사용 되 는 편광 의 방향 을 조절 함 으로써 , 노광 공정 마진 을 증가 시켜 소자 의 수율 과 신뢰 성 을 향상 시킬 수 있 는 기술 이 다 .