화학식 I 의 화합물 ( 여기 서 , Q 는 반응 도식 2 의 하단 에 나타낸 라디칼 로서 정의 되 고 , X , A , X 1 , G 1 , R 1 , R 2 , R 7 , 및 R 8 은 상기 화학식 I 에서 와 같이 정의 됨 ) 은 반응 도식 2 에 기재 된 방법 에 의해 얻 어 질 수 있 다 . 선택 적 으로 마이크로파 가열 하 에서 , 100 내지 160 ℃ 의 온도 에서 불활성 용매 , 예컨대 DMF 중 에서 불화 아연 ( II ) , 및 팔라듐 ( 0 ) 촉매 , 예컨대 트리스 ( 디 벤질 리덴 아세톤 ) 디 팔라듐 ( 0 ) - 클로로포름 부가물 ( Pd 2 ( dba ) 3 ) , 리간드 , 예 를 들 어 Xantphos 의 존재 하 에서 , 화학식 III 의 화합물 ( 여기 서 , Q , 및 A 및 R 1 은 상기 화학식 I 에서 와 같이 정의 되 고 , X 는 S 또는 SO 2 이 고 , Xb 1 은 바람직 하 게 는 할로겐 ( 더욱 더 바람직 하 게 는 염소 , 브롬 또는 요오드 ) 임 ) 을 화학식 V 의 화합물 ( 트리 메틸 실릴 - 아 세토 니트릴 ) 로 처리 함 으로써 화학식 II 의 화합물 ( 여기 서 , A , Q , 및 R 1 은 상기 일반 화학식 I 에서 와 같이 정의 되 고 , X 는 S 또는 SO 2 임 ) 이 생성 된다 . 그러 한 방법 은 문헌 에 , 예 를 들 어 문헌 [ J . Am . Chem . Soc . 2005 , 127 , 15824 - 15832 ] 에 기재 되 어 있 다 . 화학식 II 의 화합물 은 불활성 용매 , 예컨대 THF , DMF , 1 , 4 - 디옥산 또는 아 세토 니트릴 중 에서 염기 , 예컨대 수소화나트륨 , K 2 CO 3 , 또는 Cs 2 CO 3 의 존재 하 에서 , 일반 화학식 VIa 및 화학식 VIb 의 알킬화 시약 ( 여기 서 , Xb 2 는 바람직 하 게 는 Br , I , OSO 3 Me 또는 OTf 이 고 , R 7 are R 8 은 화학식 I 에서 와 같이 정의 됨 ) 으로 순차 적 으로 처리 되 어 화학식 I 의 화합물 을 생성 할 수 있 다 .