레지스 트 막 을 선택 노광 하 는 공정 에 는 다양 한 파장 의 광선 , 예 를 들 어 자외선 , X 선 등 을 이용 할 수 있 고 , 반도체 레지스 트 용 으로 는 통상 적 으로 g 선 , i 선 , 엑 시머 레이저 ( 예 를 들 어 , XeCl , KrF , KrCl , ArF , ArCl 등 ) , 연 ( 軟 ) X 선 등 이 사용 된다 . 노광 에너지 는 예 를 들 어 0 . 1 ∼ 1000 mJ / ㎠, 바람직 하 게 는 1 ∼ 100 mJ / ㎠ 정도 이 다 .