위상 지연 자 ( Wave Plate , 520 ) 는 제 2 편광자 ( 515 ) 와 안구 의 사이 에 배치 되 어 , 안구 로 입사 하 거나 안구 로부터 반사 되 어 나온 광 의 위상 을 변이 시킨다 . 특히 , 위상 지연 자 ( 520 ) 는 특정 파장 을 갖 는 광 이 이 를 투과 할 시 , 1 / 4 파장 길이 만큼 을 지연 시키 는 특성 을 갖 는 광학 소자 로 구현 되 어 , 위상 지연 자 ( 520 ) 를 통과 하 는 광 의 위상 을 45 ° 만큼 변이 시킨다 . 제 2 편광자 ( 515 ) 를 거쳐 안구 로 입사 하 는 광 은 위상 지연 자 ( 520 ) 를 거치 며 위상 이 45 ° 만큼 변이 되 고 , 안구 로 입사 된 후 안구 로부터 반사 되 어 나오 는 광 은 제 2 편광자 ( 515 ) 로 입사 되 기 전 에 다시 위상 지연 자 ( 520 ) 를 거치 며 다시 위상 이 45 ° 만큼 변이 된다 . 이 에 따라 , 제 2 편광자 ( 515 ) 를 거쳐 안구 로 입사 하 는 광 의 편광 성분 이 기 설정 된 편광 성분 과 수직 인 성분 이 라면 , 안구 로부터 반사 되 어 제 2 편광자 ( 515 ) 로 입사 되 는 광 의 편광 성분 은 위상 지연 자 ( 520 ) 를 2 회 거치 며 기 설정 된 편광 성분 으로 위상 이 변이 된다 . 위상 지연 자 ( 520 ) 의 위치 와 위상 변이 특성 에 따라 , 광원 으로부터 조사 된 광 제 1 편광자 ( 510 ) 를 통과 한 나머지 광이 안구 로 입사 되 었 다 반사 되 어 나오 며 위상 지연 자 ( 520 ) 에 의해 제 1 편광자 ( 510 ) 에 의해 반사 된 광과 동일 한 편광 성분 을 갖 게 되 어 , 서로 간섭 될 수 있 다 . 즉 , 안구 혼탁 도 감쇄 장치 ( 400 ) 는 간섭 될 광 의 편광 성분 을 변이 함 으로써 , 장치 에서 조사 된 광 만 을 온전히 간섭 시키 는 장점 을 갖 는다 .