다음 으로 , 제 1 소수 화제 ( 액체 ) 를 기판 ( W ) 에 공급 하 는 제 1 소수 화 처리 ( 소수 화 공정 , 제 1 소수 화 공정 ) 가 행하 여진다 ( S 104 ) . 구체 적 으로 는 , 제 어 장치 ( 22 ) 는 제 1 소수 화제 공급 유닛 ( 16 ) 을 제어 함 으로써 , 차 단판 ( 3 ) 을 처리 위치 에 위치 시키 고 , 또한 , 스핀 척 ( 2 ) 에 의해 기판 ( W ) 을 회전 시키 면서 , 중심축 노즐 ( 14 ) 로부터 기판 ( W ) 의 상면 중앙부 를 향하 여 제 1 소수 화제 를 토출 시킨다 . 이 에 의해 , 제 1 소수 화제 가 기판 ( W ) 의 상면 전체 영역 에 공급 된다 . 전술 한 바 와 같이 , 용제 는 소수 화제 를 용해 시킬 수 있 는 액체 이 기 때문 에 , 기판 ( W ) 의 상면 전체 영역 에 제 1 소수 화제 가 공급 됨 으로써 , 기판 ( W ) 에 부착 되 어 있 는 용제 가 제 1 소수 화제 로 치환 된다 . 이 에 의해 , 제 1 소수 화제 가 패턴 ( P ) 의 내부 까지 들어가 서 , 기판 ( W ) 의 상면 이 소수 화 된다 ( 제 1 소수 화 처리 ) . 그리고 , 제 1 소수 화 처리 가 소정 시간 에 걸쳐 행하 여 지 면 , 제 어 장치 ( 22 ) 는 제 1 소수 화제 공급 유닛 ( 16 ) 을 제어 하 여 제 1 소수 화제 의 토출 을 정지 시킨다 .