도 1 은 , 본 실시 형태 에 있 어서 의 검사 장치 의 구성 을 도시 하 는 구성도 이 다 . 도 1 에 있 어서 , 기판 에 형성 된 패턴 을 검사 하 는 검사 장치 ( 100 ) 는 , 하전 입자 빔 검사 장치 의 일례 이 다 . 전자 빔 은 , 하전 입자 빔 의 일례 이 다 . 검사 장치 ( 100 ) 는 , 전자 광학 화상 취득 기구 ( 화상 취득 기구 ) ( 155 ) 및 제 어계 회로 ( 160 ) ( 제 어부 ) 를 구비 하 고 있 다 . 전자 광학 화상 취득 기구 ( 화상 취득 기구 ) ( 155 ) 는 , 전자 빔 칼럼 ( 102 ) ( 전자 경통 ) , 검 사실 ( 103 ) , 검출 회로 ( 106 ) , 스트라이프 패턴 메모리 ( 123 ) , 구동 기구 ( 127 ) 및 레이저 측장 시스템 ( 122 ) 을 구비 하 고 있 다 . 전자 빔 칼럼 ( 102 ) 내 에 는 , 전자총 ( 조사원 ) ( 201 ) , 전자 렌즈 ( 202 ) , 성형 애퍼처 어레이 기판 ( 203 ) , 축소 렌즈 ( 205 ) , 전자 렌즈 ( 206 ) , 대물 렌즈 ( 207 ) , 주편 향기 ( 208 ) , 부편 향기 ( 209 ) , 일괄 블 랭킹 편 향기 ( 212 ) , 제한 애퍼처 기판 ( 213 ) , 빔 세 퍼 레이터 ( 214 ) , 전자 렌즈 ( 224 , 226 ) 및 멀티 검출기 ( 222 ) 가 배치 되 어 있 다 .