일본 특허 2739730 호 공보 에 개시 된 하향 프리즘 시트 방식 은 , 도광 판 으로 의 출사 광 을 반사 로 되돌리 지 않 고 직접 한 번 에 법선 방향 으로 출사 시키 기 때문 에 입 광 얼룩 을 시인 할 수 있 는 영역 ( 15 ) 이 커지 는 결점 이 있 다 . 또한 , 입 광 얼룩 개선 을 목적 으로 하향 프리즘 시트 위 에 확산 시트 를 적층 시켜도 , 입 광 얼룩 의 개선 효과 는 작 다 . 따라서 , 비 표시 영역 이 큰 사양 의 백라이트 에 한정 해서 사용 되 고 있 는 것 이 현실 이 다 .