습식 식각 의 경우 , 종래 의 임의 장치 를 포함 하 는 임의 의 적절 한 단일 웨이퍼 유형 또는 배치 유형 장치 가 사용 될 수 있 다 . 또한 , 종래 의 임의 용액 을 포함 하 여 습식 식각 용 임의 의 적절 한 용액 을 사용 할 수 있 다 . 막 의 주 성분 이 SiO 2 로 구성 되 기 때문 에 , HF 용액 의 고농도 를 습식 식각 용 으로 사용 하 는 경우 , 습식 식각 선택도 는 불 충분 하 게 된다 . 따라서 , 통상 적 으로 , 약 0 . 1 % 용액 과 같 은 낮 은 농도 의 HF 용액 이 습식 식각 용 으로 사용 된다 .