하드 마스크 는 실리콘 웨이퍼 에 패턴 을 형성 할 수 있 는 마스크 역할 을 수행 하 는 것 으로 , 하드 마스크 재료 로 다양 한 물질 이 이용 되 고 있 으며 , 예 로 는 폴리 실리콘 , 실리콘 나이트 라이드 , 실리콘 옥시 나이트 라이드 , 티타늄 나이트 라이드 , 무 정형 탄소 ( amorphous carbon ) 등 이 있 다 . 상기 하드 마스크 는 기존 에 는 프로필렌 가스 의 화학 증착 방법 ( CVD ) 을 이용 하 여 형성 하 였으나 , CVD 에 의한 하드 마스크 막 제조 공정 은 증착 기 의 사용 으로 인한 비용 의 증가 와 공정 시간 의 증가 단점 이 있 고 , 최근 에 평탄 성 또는 갭 필 ( Gap Fill ) 특성 의 요구 가 커져서 사용 이 제한 되 고 있 다 . 따라서 하드 마스크 막 제조 에 스핀 도포 가 가능 한 재료 를 이용 하 여 스핀 - 온 코팅 공정 으로 진행 하 여 비용 과 공정 시간 을 단축 하 려는 노력 이 있 다 .