본 발명 에서 는 중공 음극 방전 스퍼터링 시스템 및 상기 시스템 에 사용 되 는 중공 음극 방전 반응기 가 제공 된다 . 상기 중공 음극 방전 스퍼터링 시스템 은 A ) 가스 주입구 와 가스 배출구 가 일 측 에 형성 된 진공 챔버 와 , B ) 상기 진공 챔버 내부 에 배치 되 고 , 중공 음극 방전 에 의한 방전 가스 의 플 라즈 마 생 성 과 , 상기 플 라즈 마 와 내벽 과 의 충돌 에 의해 증착 하 고자 하 는 원자 의 생 성 이 수행 되 는 중공 음극 방전 반응기 와 , 여기 서 상기 중공 음극 방전 반응기 는 a ) 평행 하 게 배열 된 상판 과 바닥 판 , 상기 상판 과 바닥 판 을 연결 하 는 측판 을 포함 하 고 , 상기 상판 과 바닥 판 과 측판 에 의해 규정 된 중공 음극 방전 공간 을 갖 는 음극 어셈블리 와 , b ) 상기 음극 어셈블리 의 바닥 판 내부 에 형성 된 , 상기 증착 하 고자 하 는 원자 의 배출구 를 포함 하 여 이루어짐 , C ) 상기 중공 음극 방전 반응기 로 방전 에너지 를 공급 하 는 전원 과 , D ) 상기 바닥 판 의 하부 에 배치 된 기판 을 포함 한다 . 상기 중공 음극 방전 스퍼터링 시스템 은 타켓 표면 에 내식 성 과 내수성 등 이 우수 한 금속 층 또는 비금속 층 을 효율 적 으로 증착 시킬 수 있 다 . 또한 , 상기 중공 음극 방전 스퍼터링 시스템 은 , 기존 의 마그네트론 스퍼터링 장치 와 달리 , 음극 의 침식 이 전체 에 걸쳐서 일정 하 게 일어나 는 장점 을 제공 한다 . 이것 은 전극 의 효율 ( 사용 완료 후 전극 무게 / 전극 초기 무게 ) 을 상승 시킨다 .