이재용 ( 52 ) 삼성전자 부회장이 2일 새해 첫 경영 활동으로 ‘ 세계 최초 3나노 반도체 공정 ’ 을 개발 중인 경기도 화성 사업장을 찾았다. 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 경기 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 3나노미터 ( [UNK] · 10억분의 1m ) 공정 기술 관련 보고를 받고 반도체 부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다. 이 부회장은 “ 과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것 ” 이라고 강조했다. 이날 오전 서울 소공동 대한상공회의소에서 열린 정부 신년합동 인사회에 참석했던 이재용 부회장은
달리 차세대 기술인 ‘ GAA ( Gate - All - Around ) ’ 가 적용된다. 7나노 · 5나노 대비 차이점이다. GAA 구조는 게이트 ( Gate · 보라색 부분 ) 가 전류가 흐르는 통로인 원통형 채널 ( Channel · 회색 부분 ) 4면 전체를 둘러싸고 있다. 총 3면을 감싸는 현재 ‘ 지느러미 ( 핀펫 ) ’ 구조 대비 전류 흐름을 보다 세밀하게 제어할 수 있다. 삼성전자에서 반도체 사업을 담당하는 디바이스솔루션 ( DS ) 부문에 따르면 GAA 기반 3나노 공정은 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품 대비 칩 면적을 약 35 % 이상 줄일 수
해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것 ” 이라고 강조했다. 이날 오전 서울 소공동 대한상공회의소에서 열린 정부 신년합동 인사회에 참석했던 이재용 부회장은 곧장 화성사업장으로 이동했다. 정부 신년회 때 [UNK] 넥타이는 화성 사업장에 도착해선 풀었다. 이날 이 부회장이 보고받은 차세대 3나노 반도체 공정은 삼성의 반도체 위탁생산 ( 파운드리 ) 공정에서 가장 먼저 쓰일 예정이다. 파운드리는 비메모리 분야의 한 축으로, 내년 하반기까지 3나노 칩을 세계 최초 양산한다는 것이 삼성의 목표다. 파운드리 세계 1위 업체인 대만 TS
수 있다. 삼성전자에서 반도체 사업을 담당하는 디바이스솔루션 ( DS ) 부문에 따르면 GAA 기반 3나노 공정은 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품 대비 칩 면적을 약 35 % 이상 줄일 수 있다. 이에 더해 소비전력은 50 % 줄어들고, 성능 ( 연산 처리속도 ) 은 약 30 % 향상된다. 이 부회장은 이날 새해 첫 경영 회의에서 익숙했던 과거 경영 관행과의 결별도 주문했다. 그는 “ 잘못된 관행 · 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자 ” 고 주문했다. 노동조합을 인정하지 않았던 경영 스타일, 회계 · 재무상의 무결점만을 추구했
했다. 그는 “ 잘못된 관행 · 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자 ” 고 주문했다. 노동조합을 인정하지 않았던 경영 스타일, 회계 · 재무상의 무결점만을 추구했던 경영 관행에서 벗어나자는 의도로 보인다. 특히 이 부회장은 “ 이웃, 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자 ” 고 당부했다.
공정에서 가장 먼저 쓰일 예정이다. 파운드리는 비메모리 분야의 한 축으로, 내년 하반기까지 3나노 칩을 세계 최초 양산한다는 것이 삼성의 목표다. 파운드리 세계 1위 업체인 대만 TSMC와 비교해 삼성전자가 내세우고 있는 극자외선 ( EUV ) 공정을 이용해 7나노 이하 미세공정에서 시장 점유율을 높이겠다는 계획이다. 삼성전자의 최신 3나노 공정에는 이전 공정과 달리 차세대 기술인 ‘ GAA ( Gate - All - Around ) ’ 가 적용된다. 7나노 · 5나노 대비 차이점이다. GAA 구조는 게이트 ( Gate · 보라색 부분 ) 가 전류가 흐르는
이재용(52) 삼성전자 부회장이 2일 새해 첫 경영 활동으로 ‘세계 최초 3나노 반도체 공정’을 개발 중인 경기도 화성 사업장을 찾았다. 삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 경기 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 3나노미터(㎚·10억분의 1m) 공정 기술 관련 보고를 받고 반도체 부문 사장단과 차세대 반도체 전략을 논의했다.