如何突破光刻技术难题？
之前大幅度的新闻报道华为芯片缺货，光刻技术受限于西方发达国家，光刻机基本依靠进口，通过了解查询得知光刻技术包含了整个欧美日韩的顶尖技术成果：美国光源设备；德国蔡司镜头；日本光学器材；英特尔、台积电、三星制程分配技术；瑞典轴承，法国阀件等等。可以说光刻机是当前世界上最顶级的工程技术，材料技术，设计水平，制造工艺上百年的综合智慧的体现。最顶尖的ASML7nm光刻机整体有13个子系统，ASML公司拿到这些从不同国家采购到的配件还要在经过自己的精密设计和多次调试。光刻机的难度还在于：①组装复杂（所有上万元件精度，分辨率达到最高）；②控制精度难（光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知）；③光源（制造EUV需要极高的能量，还要有合格的光源）④镜头（光刻机的中心镜头对于镜头要求高，需要高纯度透光以及高抛光目前先进光刻机镜头全部由手工打磨而成）。高端光刻机被称现代光学工业之花，其制造难度之大，领很多国家望而却步。最先进一台EUV光刻机的重量将近200吨，零件更是10万+。ASML公司每年也就出售20多台机。 对于我们国家来说，虽然我国最先进的芯片设计已经突破5nm，但是由于缺少光刻机，只能实现14nm的量产（月产能3.5万片）。中芯国际想购买一台EUV（极紫外光）光刻机（基于7nm工艺），价格1.2亿欧元受到美国阻挠，时值两年仍未交货。而我国国内没有先进的芯片制造，华为手机芯片只能通过台积电芯片代加工。 如何突破在于教育，日本这一点的成绩做的非常突出，即使受到美国两颗原子弹的袭击，战后依旧重视教育，总体获得诺贝尔奖人数28位，远超出我国的2位。 光刻技术问题不在于突破，而在于创新，为什么最新的产品总能从西方流入，我们应该反思从东方流入西方的技术是否还停留在四大发明，郑和下西洋阶段呢。我们不仅要突破更需要会创新的未来。 看看现在，校园各类幺蛾子事件，让人汗颜，来自同胞互相诋毁的压力有时远大于科技研究的压力，袁隆平爷爷走了，一位老人家走了，还是为国家做过特殊贡献的人。网络上还能出现诋毁的声音，某些人的义务教育估计是白读了，浪费国家资源，有自己的良知吗？ 躲得过饥荒的我们，不曾想也不敢想作为后继者是否可以担当科技之大任，再次出现“国家之脊梁”。任何一个团队，一个集体，一个社会，一个国家，一个民族都应该急需某种凝聚力，才能突破各类难题。