2.2. Resistência a agentes atmosféricos e químicos 2.2.1. Resistência a agentes atmosféricos Expõem-se três novas amostras (lentes ou amostras de material) às radiações de uma fonte com distribuição de energia espectral idêntica à de um corpo negro à temperatura de 5 500 oK a 6 000 oK. Colocam-se filtros entre a fonte e as amostras, para reduzir o mais possível as radiações com comprimento de onda inferior a 295 nm e superior a 2 500 nm. As amostras são expostas a uma iluminação energética de 1 200 W/m2 ± 200 W/m2 durante um período tal que a energia luminosa por elas recebida seja igual a 4 500 MJ/m2 ± 200 MJ/m2. A temperatura dentro do recinto, medida no painel negro colocado a nível com as amostras, deve ser 50 °C ± 5 °C. Para assegurar uma exposição regular, as amostras devem rodar em torno da fonte de radiação a uma velocidade compreendida entre 1 e 5 min-1. As amostras são aspergidas com água destilada de condutividade inferior a 1 mS/m à temperatura de 23 °C ± 5 °C, em conformidade com o seguinte ciclo: aspersão: 5 minutos; secagem: 25 minutos. 2.2.2. Resistência a agentes químicos Uma vez realizados o ensaio referido no n.o 2.2.1 e a medição referida no n.o 2.2.3.1 infra, aplica-se à superfície exterior de cada uma das três amostras, em conformidade com o n.o 2.2.2.2, a mistura definida no n.o 2.2.2.1. 2.2.2.1. Mistura de ensaio A mistura de ensaio é composta por 61,5 % de n-heptano, 12,5 % de tolueno, 7,5 % de tetracloreto de etilo, 12,5 % de tricloroetileno e 6 % de xileno (percentagens em volume). 2.2.2.2. Aplicação da mistura de ensaio