3.2. Resistência a agentes atmosféricos e químicos 3.2.1. Resistência a agentes atmosféricos Três novas amostras (lentes ou amostras de material) são expostas às radiações de uma fonte com uma distribuição de energia espetral próxima da de um corpo negro a uma temperatura compreendida entre 5 500 K e 6 000 K. Colocam-se filtros adequados entre a fonte e as amostras, para reduzir o mais possível as radiações com comprimentos de onda inferiores a 295 nm e superiores a 2 500 nm. As amostras são expostas a uma iluminação energética de 1 200 W/m2 ± 200 W/m2 durante um período tal que a energia luminosa por elas recebida seja igual a 4 500 MJ/m2 ± 200 MJ/m2. No interior do recinto, a temperatura medida no painel negro nivelado com as amostras deve ser de 50 °C ± 5 °C. A fim de assegurar uma exposição regular, as amostras devem rodar em torno da fonte de radiação à velocidade de 1 a 5 voltas/min. As amostras são pulverizadas com água destilada de condutividade inferior a 1 mS/m à temperatura de 23 °C ± 5 °C, em conformidade com o seguinte ciclo: pulverização: 5 minutos; secagem: 25 minutos. 3.2.2. Resistência a agentes químicos