não pode ser superior a 10 %, incluindo as tolerâncias do processo fotométrico.2.2. Resistência a agentes atmosféricos e químicos2.2.1. Resistência a agentes atmosféricosExpõem-se três novas amostras (lentes ou amostras de material) às radiações de uma fonte com distribuição de energia espectral idêntica à de um corpo negro a uma temperatura entre 5500 K e 6000 K. Colocam-se filtros adequados entre a fonte e as amostras para reduzir o mais possível as radiações com comprimento de onda inferior a 295 nm e superior a 2500 nm. As amostras são expostas a uma iluminação energética de 1200 W/m2 ± 200 W/m2 durante um período tal que a energia luminosa recebida por elas seja igual a 4500 MJ/m2 +- 200 MJ/m2. No interior do recinto, a temperatura medida no painel negro nivelado com as amostras deve ser de 50 °C +- 5 °C. A fim de assegurar uma exposição regular, as amostras devem rodar em torno da fonte de radiação à velocidade de 1 a 5 voltas/min. As amostras são aspergidas com água destilada de condutividade inferior a 1 mS/m à temperatura de 23 °C +- 5 °C, em conformidade com o seguinte ciclo:- aspersão: 5 minutos;- secagem: 25 minutos.2.2.2. Resistência a agentes químicosUma vez realizados o ensaio referido no ponto 2.2.1 e a medição referida no ponto 2.2.3.1, aplica-se à superfície exterior de cada uma das três amostras a mistura definida no ponto 2.2.2.1, em conformidade com o ponto 2.2.2.2.2.2.2.1. Mistura de ensaioA mistura de ensaio será composta por 61,5 % de n-heptano, 12,5 % de tolueno, 7,5 % de tetracloreto de etilo, 12,5 % de tricloroetileno e 6 % de xileno (percentagens volumétricas).2.2.2.2. Aplicação da mistura de ensaioEmbeber até à saturação um pedaço de tecido (norma ISO 105, p. ex.) na mistura definida no ponto 2.2.2.1 e, não mais de 10 segundos depois, aplicá-lo durante 10 minutos à superfície exterior da amostra com uma pressão de 50 N/cm2, o que corresponde a aplicar uma força de 100 N a uma superfície de ensaio de 14 × 14 mm2.Durante este período de 10 minutos, o pedaço de tecido deve ser impregnado de novo com a mistura para que a composição do líquido aplicado seja sempre idêntica à prescrita.Durante o período de aplicação, é permitido aliviar a pressão aplicada à amostra para evitar a sua fendilhação.2.2.2.3. LimpezaNo final da aplicação da mistura de ensaio, as amostras devem ser secas ao ar livre e, em seguida, lavadas com a solução definida no ponto 2.3 (resistência a detergentes) a 23 °C +- 5 °C. Por fim, enxaguam-se cuidadosamente com água destilada a 23 °C +- 5 °C contendo, no máximo, 0,2 % de impurezas, e