2.1.2.2. Resultados A diferença entre os valores fotométricos medidos em cada amostra antes e depois do ensaio não deve ser superior a 10 %, incluindo as tolerâncias do procedimento fotométrico. 2.2. Resistência aos agentes atmosféricos e químicos 2.2.1. Resistência a agentes atmosféricos Expõem-se três novas amostras (lentes ou amostras de material) às radiações emitidas por uma fonte com distribuição de energia espectral idêntica à de um corpo negro a uma temperatura entre 5 500 oK e 6 000 oK. Colocam-se filtros entre a fonte e as amostras, a fim de reduzir tanto quanto possível as radiações com comprimento de onda inferior a 295 nm e superior a 2 500 nm. As amostras são expostas a uma iluminação energética de 1 200 W/m2 ± 200 W/m2 durante um período tal que a energia luminosa recebida por elas seja igual a 4 500 MJ/m2 ± 200 MJ/m2. A temperatura dentro do recinto, medida no painel negro colocado ao nível das amostras, deve ser de 50 °C ± 5 °C. Para assegurar uma exposição regular, as amostras devem rodar, em torno da fonte de radiação, a uma velocidade compreendida entre 1 e 5 rotações/min. As amostras são pulverizadas com água destilada de condutividade inferior a 1 µS/m à temperatura de 23 °C ± 5 °C, em conformidade com o seguinte ciclo: pulverização : 5 minutos; secagem : 25 minutos; 2.2.2. Resistência aos agentes químicos Uma vez realizado o ensaio referido no ponto 2.2.1 e a medição referida no ponto 2.2.3.1, aplica-se à superfície exterior de cada uma das três amostras, em conformidade com o ponto 2.2.2.2, a mistura definida no ponto 2.2.2.1.