2.2. Resistência a agentes atmosféricos e químicos 2.2.1. Resistência a agentes atmosféricos Expõem-se três novas amostras (lentes ou amostras de material) às radiações de uma fonte com distribuição de energia espetral idêntica à de um corpo negro a uma temperatura entre 5 500 K e 6 000 K. Colocam-se filtros adequados entre a fonte e as amostras, para reduzir o mais possível as radiações com comprimentos de onda inferiores a 295 nm e superiores a 2 500 nm. Expõem-se as amostras a uma iluminação energética de 1 200 W/m2 ± 200 W/m2 durante um período tal que a energia luminosa por elas recebida seja igual a 4 500 MJ/m2 ±200 MJ/m2. A temperatura dentro do recinto, medida no painel negro colocado a nível com as amostras, deve ser 50 °C ± 5 °C. A fim de assegurar uma exposição regular, as amostras devem rodar em torno da fonte de radiação a uma velocidade compreendida entre 1 e 5 min-1. Pulverizam-se as amostras com água destilada de condutividade inferior a 1 mS/m à temperatura de 23 °C ± 5 °C, em conformidade com o seguinte ciclo: pulverização : 5 minutos; secagem : 25 minutos. 2.2.2. Resistência a agentes químicos Uma vez realizado o ensaio indicado no ponto 2.2.1 anterior e a medição descrita no ponto 2.2.3.1 seguinte, aplica-se à superfície exterior de cada uma das três amostras referidas a mistura definida no ponto 2.2.2.1 seguinte, tal como explicitado no ponto 2.2.2.2 seguinte. 2.2.2.1. Mistura de ensaio A mistura de ensaio é composta por 61,5 % de n-heptano, 12,5 % de tolueno, 7,5 % de tetracloreto de etilo, 12,5 % de tricloroetileno e 6 % de xileno (percentagens volumétricas).