(به : ) فرایند به دست آوردن سهم الکترونیکی مورد نظر از در یک میزبان است. این اصطلاح اغلب به استفاده از انرژی حرارتی پس از کاشت یون آلاینده‌ها محدود می‌شود. در رایج‌ترین مثال صنعتی، به دنبال کاشت یونی آلاینده‌های مانند فسفر، آرسنیک و بور به سیلیکون اعمال می‌شود. جای خالی ایجاد شده در دمای بالا (۱۲۰۰ درجه سانتیگراد) حرکت این گونه‌ها را از محل‌های شبکه به شبکه‌های تسهیل می‌کند درحالی که آسیب ناشی از فرایند کاشت می‌شود. یک فرایند نسبتاً سریع، دمای اوج اغلب برای کمتر از یک ثانیه برای کمینه کردن مواد شیمیایی ناخواسته حفظ می‌شود.
{"title": "فعال‌سازی آلاینده", "link": "https://fa.wikipedia.org//w/index.php?title=%D9%81%D8%B9%D8%A7%D9%84%E2%80%8C%D8%B3%D8%A7%D8%B2%DB%8C_%D8%A2%D9%84%D8%A7%DB%8C%D9%86%D8%AF%D9%87&oldid=35022756", "language": "fa"}