Penipisan ozon
Penyebab utama penipisan ozon dan lubang ozon adalah berasal dari bahan-bahan kimia industri, terutama zat pendingin, pelarut, propelan, dan agen peniup-busa halokarbon (klorofluorokarbon (CFC), HCFC, halon), yang dirujuk sebagai zat penipis ozon (ozone-depleting substances; ODS). Senyawa ini dibawa oleh angin ke stratosfer setelah diemisikan dari permukaan.[2] Setelah zat ini berada di stratosfer, mereka melepaskan atom halogen melalui fotodisosiasi, yang mengkatalisis pemecahan ozon (O3) menjadi oksigen (O2).[3] Kedua jenis penipisan ozon ini diamati terjadi peningkatan ketika emisi halokarbon meningkat.
Lapisan ozon
Lapisan ozon dapat dirusak dengan katalis radikal bebas, termasuk nitrat oksida (NO), dinitrogen oksida (NO), hidroksil (OH), atom klorin (Cl), dan atom bromin (Br). Meskipun ada sumber alami untuk semua spesi ini, konsentrasi klorin dan bromin meningkat tajam dalam beberapa dekade terakhir karena pelepasan sejumlah besar senyawa buatan organohalogen, terutama klorofluorokarbon (CFC) dan bromofluorokarbon. Senyawa yang sangat stabil ini mampu bertahan naik ke stratosfer, di mana Cl dan Br radikal terbebaskan oleh aksi sinar ultraviolet. Setiap radikal kemudian bebas untuk memulai dan mengkatalisis reaksi berantai yang mampu menghancurkan lebih dari 100,000 molekul ozon. Pada tahun 2009, dinitrogen oksida adalah bahan perusak ozon (; ODS) terbesar yang dipancarkan melalui aktivitas manusia.