Optical proximity correction
অপটিক্যাল প্রক্সিমিটি করেকশন (ওপিসি) একটি ফোটোলিথোগ্রাফি বর্ধন কৌশল যা সাধারণত বিচ্ছুরণ বা প্রক্রিয়া প্রভাবের কারণে চিত্রের ত্রুটিগুলির জন্য ক্ষতিপূরণ করতে ব্যবহৃত হয়। ও. পি. সি-র প্রয়োজনীয়তা মূলত সেমিকন্ডাক্টর যন্ত্র তৈরিতে দেখা যায় এবং এটি সিলিকন ওয়েফারের খোদাই করা ছবিতে প্রক্রিয়াকরণের পরে মূল নকশার প্রান্ত স্থাপন অখণ্ডতা বজায় রাখার জন্য আলোর সীমাবদ্ধতার কারণে হয়। এই অভিক্ষিপ্ত চিত্রগুলি অনিয়মের সাথে প্রদর্শিত হয় যেমন লাইনের প্রস্থ যা নকশার চেয়ে সংকীর্ণ বা প্রশস্ত, এগুলি ইমেজিংয়ের জন্য ব্যবহৃত ফটোমাস্কের প্যাটার্ন পরিবর্তন করে ক্ষতিপূরণের জন্য উপযুক্ত। গোলাকার কোণের মতো অন্যান্য বিকৃতিগুলি অপটিক্যাল ইমেজিং সরঞ্জামের রেজোলিউশন দ্বারা চালিত হয় এবং এর ক্ষতিপূরণ করা কঠিন। এই ধরনের বিকৃতিগুলি যদি সংশোধন না করা হয়, তবে যা তৈরি করা হয়েছিল তার বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্যগুলি উল্লেখযোগ্যভাবে পরিবর্তন করতে পারে। অপটিক্যাল প্রক্সিমিটি সংশোধন প্রান্তগুলি সরিয়ে বা ফটোমাস্কে লেখা প্যাটার্নে অতিরিক্ত বহুভুজ যোগ করে এই ত্রুটিগুলি সংশোধন করে। এটি বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে প্রস্থ এবং ব্যবধানের উপর ভিত্তি করে প্রাক-গণনা করা লুক-আপ টেবিল দ্বারা চালিত হতে পারে (যা নিয়ম ভিত্তিক ওপিসি নামে পরিচিত) অথবা চূড়ান্ত প্যাটার্নটি গতিশীলভাবে অনুকরণ করার জন্য কম্প্যাক্ট মডেল ব্যবহার করে এবং এর ফলে প্রান্তগুলির গতিবিধি চালিত করে, সাধারণত বিভাগগুলিতে বিভক্ত, সর্বোত্তম সমাধান খুঁজে বের করার জন্য, (এটি মডেল ভিত্তিক ওপিসি হিসাবে পরিচিত)। এর উদ্দেশ্য হল সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারের উপর ডিজাইনার দ্বারা অঙ্কিত মূল বিন্যাসটি যতটা সম্ভব পুনরুত্পাদন করা। ওপিসির দুটি সর্বাধিক দৃশ্যমান সুবিধা হল বিভিন্ন ঘনত্বের অঞ্চলে বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে দেখা লাইনউইথের পার্থক্যগুলি সংশোধন করা (যেমন, একটি অ্যারের কেন্দ্র বনাম প্রান্ত, বা নেস্টেড বনাম বিচ্ছিন্ন রেখা), এবং লাইন প্রান্ত সংক্ষিপ্তকরণ (যেমন, ফিল্ড অক্সাইডের উপর গেট ওভারল্যাপ)। পূর্ববর্তী ক্ষেত্রে, এটি রেজোলিউশন বর্ধন প্রযুক্তির সাথে একসাথে ব্যবহার করা যেতে পারে যেমন বিচ্ছুরণ বার (সমাধানযোগ্য লাইনের সংলগ্ন উপ-রেজোলিউশন লাইন) এবং লাইনের প্রস্থ সমন্বয়। পরের ক্ষেত্রে, "কুকুর-কান" (সেরিফ বা হ্যামারহেড) বৈশিষ্ট্যগুলি নকশার লাইন প্রান্তে তৈরি করা যেতে পারে। ও. পি. সি-র ফটোমাস্ক তৈরির উপর একটি ব্যয় প্রভাব রয়েছে যার মাধ্যমে মাস্ক লেখার সময় মাস্ক এবং ডেটা-ফাইলগুলির জটিলতার সাথে সম্পর্কিত এবং একইভাবে ত্রুটির জন্য মাস্ক পরিদর্শন বেশি সময় নেয় কারণ সূক্ষ্ম প্রান্ত নিয়ন্ত্রণের জন্য একটি ছোট স্পট আকারের প্রয়োজন হয়। রেজোলিউশনের প্রভাবঃ কে1 ফ্যাক্টর প্রচলিত বিচ্ছুরণ-সীমিত রেজোলিউশনটি রেলে মানদণ্ড দ্বারা দেওয়া হয় যেখানে সংখ্যাসূচক অ্যাপারচার এবং আলোক উৎসের তরঙ্গদৈর্ঘ্য। একটি পরামিতি সংজ্ঞায়িত করে এই মানের সাথে সমালোচনামূলক বৈশিষ্ট্যের প্রস্থের তুলনা করা প্রায়শই সাধারণ, যেমন বৈশিষ্ট্যের প্রস্থ একই আকারের বিচ্ছিন্ন বৈশিষ্ট্যগুলির তুলনায় ওপিসি থেকে কম সুবিধা সহ নেস্টেড বৈশিষ্ট্যগুলির সমান। কারণ হল নেস্টেড বৈশিষ্ট্যগুলির স্থানিক ফ্রিকোয়েন্সি বর্ণালীতে বিচ্ছিন্ন বৈশিষ্ট্যগুলির তুলনায় কম উপাদান রয়েছে। বৈশিষ্ট্যের পিচ হ্রাস পাওয়ার সাথে সাথে সংখ্যাসূচক অ্যাপারচার দ্বারা আরও উপাদানগুলি কাটা হয়, যার ফলে পছন্দসই ফ্যাশনে প্যাটার্নকে প্রভাবিত করতে আরও বেশি অসুবিধা হয়। আলোকসজ্জা এবং স্থানিক সঙ্গতির প্রভাব আলোক উৎসের সঙ্গতির মাত্রা তার কৌণিক ব্যাপ্তির এবং সংখ্যাসূচক ছিদ্রের অনুপাত দ্বারা নির্ধারিত হয়। এই অনুপাতকে প্রায়শই আংশিক সঙ্গতি ফ্যাক্টর বলা হয়। এটি প্যাটার্নের গুণমানকেও প্রভাবিত করে এবং তাই ওপিসির প্রয়োগকে প্রভাবিত করে। চিত্র সমতলে সঙ্গতিপূর্ণ দূরত্ব মোটামুটিভাবে দুটি চিত্র বিন্দু দ্বারা দেওয়া হয় যা এই দূরত্বের চেয়ে বেশি দ্বারা পৃথক করা কার্যকরভাবে সম্পর্কহীন হবে, যা একটি সহজ ওপিসি প্রয়োগের অনুমতি দেয়। এই দূরত্ব আসলে 1-এর কাছাকাছি মানের জন্য রেলে মানদণ্ডের কাছাকাছি। একটি সম্পর্কিত বিষয় হল যে ওপিসি ব্যবহার আলোকসজ্জার প্রয়োজনীয়তা পরিবর্তন করে না। যদি অফ-অ্যাক্সিস আলোকসজ্জার প্রয়োজন হয়, তবে অন-অ্যাক্সিস আলোকসজ্জায় স্যুইচ করার জন্য ওপিসি ব্যবহার করা যাবে না, কারণ অন-অ্যাক্সিস আলোকসজ্জার জন্য, অফ-অ্যাক্সিস আলোকসজ্জার প্রয়োজন হলে ইমেজিং তথ্য চূড়ান্ত অ্যাপারচারের বাইরে ছড়িয়ে ছিটিয়ে থাকে, যা কোনও ইমেজিং প্রতিরোধ করে। অপটিক্যাল প্রজেকশন সিস্টেমে বিচ্যুতির প্রভাব তরঙ্গমুখ, বা আলোকসজ্জার কোণগুলির বর্ণালী বা বিস্তারকে বিকৃত করে, যা ফোকাসের গভীরতাকে প্রভাবিত করতে পারে। ও. পি. সি-র ব্যবহার ফোকাসের গভীরতার ক্ষেত্রে উল্লেখযোগ্য সুবিধা প্রদান করতে পারে, তবে বিচ্যুতিগুলি এই সুবিধাগুলি অফসেট করার চেয়ে আরও বেশি কিছু করতে পারে। ফোকাসের ভাল গভীরতার জন্য আলোকীয় অক্ষের সাথে তুলনীয় কোণে ভ্রমণকারী বিচ্ছুরিত আলোর প্রয়োজন হয় এবং এর জন্য উপযুক্ত আলোক কোণ প্রয়োজন। সঠিক আলোকসজ্জা কোণ ধরে নিলে, ওপিসি একটি প্রদত্ত পিচের জন্য সমকোণ বরাবর আরও বিচ্ছুরিত আলো নির্দেশ করতে পারে, তবে সঠিক আলোকসজ্জা কোণ ছাড়া, এই ধরনের কোণগুলিও উদ্ভূত হবে না। একাধিক এক্সপোজারের প্রভাব যেহেতু অতীতের প্রযুক্তি প্রজন্মগুলিতে ফ্যাক্টরটি ক্রমাগত সঙ্কুচিত হচ্ছে, সার্কিট প্যাটার্ন তৈরির জন্য একাধিক এক্সপোজারে যাওয়ার প্রত্যাশিত প্রয়োজনীয়তা আরও বাস্তব হয়ে ওঠে। এই পদ্ধতিটি ওপিসির প্রয়োগকে প্রভাবিত করবে, কারণ প্রতিটি এক্সপোজার থেকে চিত্রের তীব্রতার সমষ্টি বিবেচনা করতে হবে। এটি পরিপূরক ফটোমাস্ক কৌশলের ক্ষেত্রে, যেখানে একটি বিকল্প-অ্যাপারচার ফেজ-শিফ্টিং মাস্ক এবং একটি প্রচলিত বাইনারি মাস্কের চিত্রগুলি একসাথে যুক্ত করা হয়। একাধিক-খোদাই প্যাটার্নের প্রভাব একই ফটোরেসিস্ট ফিল্মের একাধিক এক্সপোজারের বিপরীতে, একাধিক স্তরের প্যাটার্নে একই ডিভাইস স্তরের প্যাটার্নের জন্য পুনরাবৃত্তি ফটোরেসিস্ট লেপ, জমা এবং খোদাই জড়িত। এটি একই স্তরকে প্যাটার্ন করার জন্য আলগা নকশার নিয়মগুলি ব্যবহার করার সুযোগ দেয়। এই শিথিল নকশার নিয়মগুলিতে ছবি তোলার জন্য ব্যবহৃত লিথোগ্রাফি সরঞ্জামের উপর নির্ভর করে, ওপিসি আলাদা হবে। ভবিষ্যৎ প্রযুক্তি প্রজন্মের জন্য মাল্টিপল-এচ প্যাটার্নিং একটি জনপ্রিয় কৌশল হয়ে উঠতে পারে। পার্শ্ব প্রাচীর ত্যাগের বৈশিষ্ট্যগুলি ব্যবহার করে একাধিক-খোদাই প্যাটার্নের একটি নির্দিষ্ট রূপ, বর্তমানে 10 এনএম-এর কম বৈশিষ্ট্যগুলি পদ্ধতিগতভাবে প্যাটার্নের একমাত্র প্রদর্শিত উপায়। ন্যূনতম অর্ধ-পিচ ত্যাগের বৈশিষ্ট্যের জমা হওয়া পুরুত্বের সাথে মিলে যায়। ও. পি. সি অ্যাপ্লিকেশন আজ, ইলেকট্রনিক ডিজাইন অটোমেশন (ই. ডি. এ) বিক্রেতাদের বাণিজ্যিক প্যাকেজ ব্যবহার না করে ও. পি. সি খুব কমই অনুশীলন করা হয়। অ্যালগরিদম, মডেলিং কৌশল এবং বড় গণনা খামারগুলির ব্যবহার 130 এনএম ডিজাইনের নিয়ম (যখন মডেল ভিত্তিক ওপিসি প্রথম ব্যবহৃত হয়েছিল) থেকে শুরু করে সবচেয়ে উন্নত ডিজাইনের নিয়ম পর্যন্ত সবচেয়ে গুরুত্বপূর্ণ প্যাটার্ন স্তরগুলিকে রাতারাতি সংশোধন করতে সক্ষম করেছে। উন্নত নোডগুলির সাথে পরিশীলিত ওপিসির প্রয়োজনীয় স্তরগুলির সংখ্যা বৃদ্ধি পেয়েছে, কারণ পূর্বে অ-সমালোচনামূলক স্তরগুলির এখন ক্ষতিপূরণের প্রয়োজন হয়। ও. পি. সি-র ব্যবহার কম বৈশিষ্ট্যের মধ্যে সীমাবদ্ধ নয় যা আজ সাধারণত দেখা যায়, তবে যে কোনও পছন্দসই চিত্র সংশোধন পরিকল্পনায় প্রয়োগ করা যেতে পারে যা সঠিকভাবে মডেল করা যেতে পারে। উদাহরণস্বরূপ, ইলেকট্রন বিম লিথোগ্রাফিতে প্রক্সিমিটি এফেক্ট সংশোধন বাণিজ্যিক ইলেক্ট্রন-বিম লিথোগ্রাফি সরঞ্জামগুলিতে একটি স্বয়ংক্রিয় ক্ষমতা হিসাবে অন্তর্ভুক্ত করা হয়। যেহেতু অনেক অ-লিথোগ্রাফিক প্রক্রিয়া তাদের নিজস্ব প্রক্সিমিটি প্রভাব প্রদর্শন করে, যেমন, রাসায়নিক-যান্ত্রিক পলিশিং বা প্লাজমা খোদাই, এই প্রভাবগুলি মূল ওপিসির সাথে মিশ্রিত করা যেতে পারে। সাব-রেজোলিউশন অ্যাসিস্ট ফিচার (এস. আর. এ. এফ) সাব-রেজোলিউশন অ্যাসিস্ট ফিচার (এস. আর. এ. এফ) হল এমন বৈশিষ্ট্য যা লক্ষ্যযুক্ত বৈশিষ্ট্য থেকে পৃথক করা হয় তবে তাদের মুদ্রণের ক্ষেত্রে সহায়তা করে, যদিও সেগুলি নিজেরাই মুদ্রিত হয় না। এস. আর. এ. এফ মুদ্রণ একটি সমালোচনামূলক ফলন বিরোধী এবং যেখানে অবাঞ্ছিত মুদ্রণ ঘটতে পারে সেখানে এস. আর. এ. এফ নির্ধারণ ও অপসারণের জন্য অতিরিক্ত ও. পি. সি মডেলের প্রয়োজন। লক্ষ্যযুক্ত বৈশিষ্ট্যের আকার পরিবর্তন এবং/অথবা সংযুক্তির তুলনায় বিচ্ছুরণ বর্ণালীতে এস. আর. এ. এফ-এর আরও স্পষ্ট প্রভাব রয়েছে। মুদ্রণ না করার প্রয়োজনীয়তা শুধুমাত্র কম মাত্রায় তাদের ব্যবহারকে সীমাবদ্ধ করে। এটি স্টোকাস্টিক প্রভাব নিয়ে সমস্যা তৈরি করতে পারে। তাই তাদের প্রধান প্রয়োগ হল বিচ্ছিন্ন বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য ফোকাসের গভীরতা উন্নত করা (ঘন বৈশিষ্ট্যগুলি এস. আর. এ. এফ বসানোর জন্য পর্যাপ্ত জায়গা রাখে না)। যেহেতু এস. আর. এ. এফগুলি উচ্চ স্থানিক ফ্রিকোয়েন্সি বা বিচ্ছুরণ ক্রমের দিকে শক্তি পুনরায় বিতরণ করে, তাই ফোকাসের গভীরতা আলোক কোণের (স্থানিক ফ্রিকোয়েন্সি বা বিচ্ছুরণ ক্রমের বর্ণালীর কেন্দ্র) পাশাপাশি পিচের (স্থানিক ঘনত্ব বা বিচ্ছুরণ ক্রমের পৃথকীকরণ) উপর বেশি নির্ভরশীল। বিশেষত, বিভিন্ন এস. আর. এ. এফ (অবস্থান, আকৃতি, আকার) বিভিন্ন আলোকসজ্জার নির্দিষ্টকরণের ফলস্বরূপ হতে পারে। প্রকৃতপক্ষে, কিছু পিচ নির্দিষ্ট আলোকসজ্জার কোণের জন্য এস. আর. এ. এফ-এর ব্যবহার নিষিদ্ধ করে। যেহেতু পিচটি সাধারণত পূর্বনির্ধারিত, তাই এস. আর. এ. এফ ও. পি. সি ব্যবহারের পরেও কিছু আলোক কোণ এড়ানো উচিত। সাধারণত, যদিও, এস. আর. এ. এফ একটি সম্পূর্ণ সমাধান হতে পারে না, এবং শুধুমাত্র ঘন কেসের কাছে যেতে পারে, এটির সাথে মেলে না। আরও দেখুন গণনামূলক লিথোগ্রাফি ফেজ-শিফট মাস্ক বিপরীত লিথোগ্রাফি রেফারেন্স বাহ্যিক লিঙ্ক ফ্র্যাঙ্ক জেনারি লিথোগ্রাফি (মাইক্রোফ্যাব্রিকেশন) দ্বারা চিত্র সহ ওপিসির ওভারভিউ