3333l/mm X射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试
3333l/mm X射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试
针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求，将电子束光刻和X射线光刻技术相结合，制备出3 333 1/mm X射线全镂空透射光栅，栅线宽度接近150 nm，周期300 nm，栅线厚度为500 nm，有效光栅面积达到60%。首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模，然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制品，之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构，最后……