磁过滤直流真空阴极弧制备含铬类金刚石膜的结构及其性能研究
磁过滤直流真空阴极弧制备含铬类金刚石膜的结构及其性能研究
采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了含铬类金刚石膜。用光学显微镜、椭偏仪、分光光度计、X射线光电子能谱、X射线衍射能谱、Raman光谱、纳米硬度计、摩擦磨损仪、洛氏硬度计检测了薄膜的组分结构、光学、力学等相关特性。结果表明，硅片上的薄膜厚度为47.6nm，碳含量为89%，sp3键占碳含量的55.15%。不锈钢片上的薄膜具有典型的DLC膜Raman光谱特征，在空气中的摩擦系数约为0.1，耐磨性能优良，膜与基体的结合性能良好。