大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计
大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计
极紫外光刻技术是半导体制造实现22nm及以下节点的下一代光刻技术，高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计满足22nm产业化光刻机需求的极紫外光刻投影物镜，采用6枚高次非球面反射镜，像方数值孔径达到0.3，像方视场宽度达到1.5mm。整个曝光视场内的线宽变化小于1.6%。物面到像面的距离为1075mm，像方工作距大于30mm。该物镜结合离轴照明或相移掩模等分辨率增强技术，能够在更大的焦深内实现22nm光刻分辨率的光刻胶成像，满足半导体制造中22nm节点技术对产业化极紫外光刻物镜的需求。