衬底和退火处理对NiFe薄膜瞬时反射率的影响
衬底和退火处理对NiFe薄膜瞬时反射率的影响
用磁控溅射法制备Ni80Fe20薄膜，用中温管式炉对NiFe薄膜进行500℃退火处理，用X射线衍射仪对退火后的薄膜进行结构分析。运用飞秒激光泵浦一探测技术研究了衬底和退火处理对NiFe薄膜瞬时反射率的影响。实验结果表明：硅片和K9玻璃衬底对20nm厚NiFe薄膜的瞬时反射率曲线影响较小，对40nm和60nm厚NiFe薄膜的瞬时反射率曲线影响较大；经退火处理后的NiFe薄膜的瞬时反射率曲线由小于5ps的时间尺度和大于5ps的时间尺度两部分组成。