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熱酸化
熱酸化（ねつさんか、Thermal_oxidation）は、において、ウェーハの表面に酸化物（通常は二酸化ケイ素）の薄膜層を形成する方法である。 
この技術では、酸化剤を高温でウェーハに拡散させ、反応させる。酸化物の成長速度はDeal-Groveモデルで予測されることが多い。
熱酸化はさまざまな材料に適用されるが、シリコン基板を酸化して二酸化ケイ素を生成するのが最も一般的である。