기판 처리 장치는, 외부로부터 이송된 기판이 배치되고, 내부 상태가 진공 상태 및 대기압 상태로 변경되는 로드록 챔버; 상기 기판에 대해 공정을 수행하는 기판 처리 모듈; 상기 로드록 챔버와 상기 기판 처리 모듈 사이에 상기 기판이 이송되는 이송 챔버; 및 상기 이송챔버 내에 설치되어 상기 기판을 이송하는 기판 이송 로봇을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
A substrate processing apparatus may include: a loadlock chamber in which a substrate transferred from the outside is disposed, and an internal state thereof is changed to a vacuum state and an atmospheric pressure state; a substrate processing module in which a process is performed on the substrate; a transfer chamber in which the substrate is transferred, the transfer chamber being disposed between the loadlock chamber and the substrate processing module; and a substrate transfer robot installed within the transfer chamber and transferring the substrate.