기판 지지부로부터 잔류 전하를 방전시키기 위한 방법 및 장치가 제공된다. 일 예에서, 바디, 바디에 배치된 전극, 방사선 방출기, 및 확산기를 포함하는 기판 지지부가 제공된다. 바디는 워크피스 지지 표면에 형성된 하나 또는 그 초과의 홀들을 갖고, 워크피스 지지 표면은 상부에 기판을 수용하도록 구성된다. 전극은 기판을 워크피스 지지 표면에 정전기적으로 유지하도록 구성된다. 방사선 방출기는 워크피스 지지 표면에 형성된 하나 또는 그 초과의 홀들 중 제1 홀에 배치된다. 방사선 방출기는 제1 홀로부터 전자기 에너지를 방출하도록 구성된다. 확산기는 방사선 방출기 위에 제1 홀에 배치된다.
A kind of method and apparatus for discharging from substrate support residual charge.In one example, substrate support is provided, substrate support includes ontology, electrode, radiation transmitter and the diffuser of setting in the body.Ontology has the one or more holes being formed in work piece support surface, and work piece support surface is configured  to receive substrate in work piece support surface.Electrode is configured to substrate electrostatic remaining to work piece support surface.Radiation transmitter is arranged in first hole in the one or more holes being formed in work piece support surface.Radiation transmitter is configured to emit electromagnetic energy from the first hole.Diffuser is arranged in the first hole and is located above radiation transmitter.