웨이퍼의 이온 주입을 행할 때에는, 웨이퍼 반송 로봇에 의해 웨이퍼 수용 카세트의 웨이퍼를 파지하여 각 웨이퍼 유지체의 탄성체 시트의 표면에 장착한다. 이온 주입이 종료되면, 웨이퍼 반송 로봇에 의해, 각 웨이퍼 유지체로부터 웨이퍼를 분리하고 웨이퍼 수용 카세트내로 되돌려 보낸다. 이 때, 계속하여 이온이 주입될 새로운 웨이퍼를 수용한 웨이퍼 수용 카세트가 로드 록 챔버내에 없는 경우에는, 웨이퍼 수용 카세트 내의 더미 웨이퍼를 파지하여 각 웨이퍼 유지체의 탄성체 시트의 표면에 장착한다. 이로써, 탄성체 시트의 표면에 부착되는 오염이 감소된다.
For carrying out ion implantation in wafers, a wafer transfer robot picks up a wafer from a wafer storage cassette and mounts it on a surface of an elastic sheet of each wafer holder. After completion of ion implantation, the wafer transfer robot dismounts the wafer from each wafer holder and returns it into the wafer storage cassette. When in the load lock chamber there is no wafer storage cassette storing new wafers to be subsequently subjected to ion implantation, the wafer transfer robot picks up a dummy wafer from another wafer storage cassette and mount it on the surface of the elastic sheet of each wafer holder. This decreases contaminants attaching to the surface of the elastic sheet.