실용에 견딜 수 있는 도전성을 유지하면서, 또한 내후성을 구비하고, 패터닝 시에 적당한 식각률을 가지는 투명 도전막을 성막하기 위한 타겟에 이용할 수 있는 산화아연계 투명 도전막 형성 재료, 그 제조 방법, 그것을 이용한 타겟 및 산화아연계 투명 도전막 형성 방법을 제공한다. 본 발명의 산화아연계 투명 도전막 형성 재료는 실질적으로 아연, 니오브 및/또는 탄탈 및 산소로 구성되는 산화물 소결체로서, 니오브 및/또는 탄탈이 원자수비로 X/(Zn+X)=0.02 이상 0.1 이하(식 중, X는 니오브 및/또는 탄탈)가 되도록 함유되어 있다.
To provide a zinc oxide-based transparent conductive film-forming material usable for a target for film formation of a transparent conductive film which holds conductivity endurable for pracrtical use, has weather resistance, and has a suitable etching rate in patterning, a method for manufacturing the same, a target using the same, and a method for forming zinc oxide-based transparent conductive film. The zinc oxide-based transparent conductive film-forming material is an oxide sintered compact composed substantially of zinc, niobium and/or tantalum and oxygen, wherein niobium and/or tantalum is contained so as to be X/(Zn+X)=≥0.02 but  0.1 in atomic ratio (in the expression, X is niobium and/or tantalum).