극단 자외광 리소그래피용 펠리클, 그 제조 방법 및 노광 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 펠리클은, 펠리클막을 배치한 제1 프레임체와, 상기 제1 프레임체의 상기 펠리클막이 배치된 면과는 반대 측 면을 받치는 제1 면을 포함하는 후육부와, 상기 제1 면에 접속되며, 상기 제1 프레임체의 측면을 받치는 제2 면을 갖고, 상기 펠리클막과 상기 제1 프레임체를 외측에서 둘러싸는 제2 프레임체와, 상기 제2 프레임체의 상기 후육부에 배치된 관통 구멍과, 상기 펠리클막이 배치된 상기 제1 프레임체의 면과 교차하는 상기 제2 프레임체 외측의 측면에 배치되고, 상기 관통 구멍을 덮는 필터를 구비한다.
A pellicle for use in extreme ultraviolet lithography, a production method thereof and an exposure method are provided. This pellicle comprises: a first frame body on which a pellicle film is arranged; a second frame body which encompasses the pellicle film and the first frame body and which comprises a thick portion including a first surface that receives the surface of the first frame body opposite of the surface where the aforementioned pellicle film is arranged, and a second surface which is connected to the first surface and receives a lateral surface of the first frame body; a through-hole which is arranged in the thick portion of the second frame body; and a filter which is arranged on an outer lateral surface of the second frame body which intersects with the surface of the first frame body where the pellicle film is arranged and which covers the through-hole.