플라스마 처리의 유전체 창 부근에서의 이상 방전을 방지한다. 플라스마 처리 장치는 처리 용기 10의 상부 개구부를 밀봉하도록 설치되고 처리 용기 10 내에 마이크로파를 투과시키는 유전체 창 41과 처리 용기 10 내에서 유전체 창 41의 주연부를 지지하는 지지부 45를 가진다. 지지부 45는 유전체 창 41의 주연부를 지지하는 지지면 82와 지지면 82와 연속하는 면이며 유전체 창 41과 접하지 않은 비접촉면 84 사이의 유전체 창 41을 가로지르는 각도가 180도 이하이다.
To prevent abnormal discharge near a dielectric window in plasma processing. A plasma processing device comprises a dielectric window 41 provided so as to seal an opening in an upper part of a processing container 10 and for transmitting a microwave into the processing container 10, and a support part 45 for supporting a peripheral part of the dielectric window 41 in the processing container 10. In the support part 45, the angle across the dielectric window 41 between a support surface 82 supporting the peripheral part of the dielectric window 41 and a non-contact surface 84 continuing to the support surface 82 and not in contact with the dielectric window 41 is not more than 180 degrees.