본 발명은 대상이 되는 표면의 재질, 형상에 관계없이 물리적으로 견고하고 약제에 의한 제거도 어려운 규산 염화합물의 석출을 억제할 수 있는 석출 억제제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 석출 억제제는 N,N-디(2-하이드록시에틸) 글리신 및/또는 그 염을 포함하는 것을 특징으로 한다.
To provide a deposition suppressor capable of suppressing deposition of a silicate compound which is physically strong and difficult to be removed by an agent, regardless of the material or the shape of an object surface. A deposition suppressor contains N,N-di(2-hydroxyethyl)glycine and/or its salt.