산화물 상을 함유하고 화학양론적 조성과 비교하여 감소된 산소 함량을 갖는 타겟 재료로 이루어진 광 흡수층을 제조하기 위한 스퍼터링 타겟이 공지되어 있다. 이와 같은 스퍼터링 타겟을 토대로 해서, 전기 전도성 상을 함유하고 전하 및 입자 형성을 회피하는 스퍼터링 타겟을 제공하기 위하여, 본 발명에 따라, 타겟 재료가 몰리브덴(Mo-상)으로 이루어진 금속 상을 함유하는 것, 그리고 산화물 상이 산화아연(ZnO-상) 및 화학식 MNOn-x를 갖는 혼합 산화물 상을 함유하는 것이 제안되며, 이 경우 M은 주요 성분인 아연(Zn)을 나타내고, N은 보조 성분인 니오븀(Nb) 및/또는 티타늄(Ti) 중 적어도 하나를 나타내며, 이 경우 x는 0보다 크고, n은 혼합 산화물 상의 화학양론적 조성의 산소 원자의 수를 지시한다.
There is a known sputtering target for producing a light-absorbing layer that consists of a target material which contains an oxide phase and has a reduced oxygen content in comparison with the stoichiometric composition. To provide on this basis a sputtering target which contains an electrically conductive phase and avoids charges and particle formation, it is proposed according to the inventionthat the material of the target contains a metallic phase of molybdenum (Mo phase) and that the oxide phase contains zinc oxide (ZnO phase) and a mixed-oxide phase with the formula MNOn-x, where M represents the main component zinc (Zn), and N denotes at least one of the secondary components niobium (Nb) and/or titanium (Ti), and where x is greater than zero and n denotes the number of oxygen atoms of the stoichiometric composition of the mixed-oxide phase.