본 논문에서 제안하는 스퍼터링 제어 시스템은 하나의 챔버에 최대 3개의 스퍼터링 타깃과 1개의 이온 건을 부착하는 방법이다.
The sputtering control system proposed in this paper is a method of attaching up to three sputtering targets and one ion gun to one chamber.