노광 마스크들의 수가 감소될 수 있고, 대응하는 포토리소그래피 공정의 수도 또한 감소될 수 있고, 그에 의해 공정의 간단화가 실현될 수 있다.
The number of exposure masks may be reduced, and the number of corresponding photolithography processes may also be reduced, whereby simplification of the process may be realized.