본 발명은 (a) 본원에서 정의한 바와 같은 화학식 II의 화합물을 농축 브롬화수소와 접촉시켜 본원에서 정의한 바와 같은 화학식 III의 화합물을 수득하고, (b) 화학식 III의 화합물을 함유하는 반응 혼합물을 (1) 식 R1NCO의 이소시아네이트와 접촉시키거나, 또는 (2) 정의한 바와 같은 화학식 IV의 화합물과 접촉시켜 본원에서 정의한 바와 같은 화학식 V의 화합물을 수득하고, (c) 화학식 V의 화합물을 함유하는 반응 혼합물을 식 R5COOH의 카르복실산의 존재하에, 본원의 식 R1R2NH의 아민과 접촉시키고 하기 화학식 I의 생성물을 형성시켜 단리시키는 것을 포함하는, 하기 화학식 I의 생성물 또는 이의 제약학적으로 허용가능한 염의 제조 방법에 관한 것이다. <화학식 I>상기 식에서, R은 저급 알킬이며; R1은 수소, 저급 알킬, 저급 시클로알킬, 저급 시클로알킬 저급 알킬, 저급 비시클로알킬, 아릴 또는 아릴 저급 알킬이며; R2는 저급 알킬, 저급 시클로알킬, 저급 시클로알킬 저급 알킬, 저급 비시클로알킬, 아릴 또는 아릴 저급 알킬이거나; 또는 R1 및 R2는 여기에 부착된 질소와 함께 화학식 Ia 의 기를 형성하고, 여기에서 Y는 수소 또는 저급 알킬이며, Z는 수소, 저급 알킬, 할로겐, 저급 알콕시 또는 히드록시이며; X는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐 또는 트리플루오로메틸이며; m은 0, 1 또는 2이다.
This invention relates to a process for the preparation of a product of formula (I), wherein R is loweralkyl; R1 is hydrogen, loweralkyl, lowercycloalkyl, lowercycloalkylloweralkyl, lowerbicycloalkyl, aryl or arylloweralkyl; R2 is loweralkyl, lowercycloalkyl, lowercycloalkylloweralkyl, lowerbicycloalkyl, aryl or arylloweralkyl; or R1 and R2 taken together with the nitrogen atom to which they are attached form a group of formula (Ia), wherein Y is hydrogen or loweralkyl and Z is hydrogen, loweralkyl, halogen, loweralkoxy or hydroxy; X is loweralkyl, loweralkoxy, halogen or trifluoromethyl; and m is 0, 1 or 2; or a pharmaceutically acceptable salt thereof; which process comprises: (a) contacting a compound of formula (II) as defined herein with fortified hydrogen bromide to afford a compound of formula (III) as defined herein; (b) contacting the reaction mixture containing a compound of formula (III) with either: (1) an isocyanate of formula R1NCO, or (2) with a compound of formula (IV) as defined to afford a compound of formula (V) as defined herein, and (c) contacting the reaction mixture containing the compound of formula (V) with an amine of the formula R1R2NH herein in the presence of a carboxylic acid of the formula R5COOH and forming and isolating the product of formula (I).