본 발명은 촉매로서의 Cu 및 반응 촉진제 Zn을 함유하는 촉매 시스템의 존재 하에, 250 내지 350 ℃의 온도에서, 알킬 할라이드, 바람직하게는 CH3Cl을 규소와 접촉시키는 것으로 이루어진 직접 합성에 의한 알킬할로게노실란의 제조 방법에 관한 것이다. 규소를 함유하는 원료의 열탄소 환원 공정에 사용되는 원료에 의해 도입되는 Ni 및 V의 양에 대한 작용에 의해, 규소 내의 Ni 및 V의 양을 40 ppm 이하, 특히 30 ppm 이하, 바람직하게는 20 ppm 이하의 값으로 의도적으로 조절한다. 
The invention concerns a method for producing alkylhalogenosilanes by direct synthesis which consists in contacting an alkyl halide, preferably CH3Cl, with silicon, at a temperature ranging between 250 and 350 DEG C, in the presence of a catalytic system, comprising Cu as catalyst and a reaction promoter, Zn. The amount of Ni and V in the silicon is deliberately adjusted at a value not more than 40 ppm, in particular not more than 30 ppm, preferably not more than 20 ppm, by acting on the amount of Ni and V input by the raw materials used in the carbothermal reduction process of a raw material containing silicon.