기판(1000) 내에 액티브 영역(173)이 정의되고, 액티브 영역(173) 내에 드레인 영역(121) 및 소오스 영역(122)이 형성될 수 있다.
An active region 173 may be defined in the substrate 1000, and a drain region 121 and a source region 122 may be formed in the active region 173.