본 발명은 포토리소그래피 마스크(100)의 적어도 하나의 결함(140)을 처리하기 위한 복구 형상(195)을 확인하는 방법으로서, 상기 방법은 아래의 단계들: (a) 적어도 하나의 결함(140)의 상기 복구 형상(195)에 대한 적어도 하나의 보정값(185)을 결정하는 단계 - 상기 보정값(185)은 상기 포토리소그래피 마스크(100)의 적어도 하나의 패턴 요소(130)의 위치(175)를 고려하며, 상기 적어도 하나의 패턴 요소는 상기 적어도 하나의 결함(140)과 접촉하지 않음 - ; 및 (b) 적어도 하나의 보정값(185)을 적용함으로써 복구 형상(195)을 보정하는 단계를 포함한다.
The present invention relates to a method for ascertaining a repair shape (195) for processing at least one defect (140) of a photolithographic mask (100) including the following steps: (a) determining at least one correction value (185) for the repair shape (195) of the at least one defect (140), wherein the correction value (185) takes account of a position (175) of at least one pattern element(130) of the photolithographic mask (100), said at least one pattern element not contacting the at least one defect (140); and (b) correcting the repair shape (195) by applying the at least one correction value (185).