적어도 텅스텐, 및 테트라에틸 오르소실리케이트 또는 질화규소를 함유하는 층을 갖는 피연마물의 표면에 잔류하는 불순물을 충분히 제거하면서 텅스텐의 용해 속도를 억제하는 수단을 제공하는 것이다. 술폰산(염)기를 갖는 고분자 화합물, 아미노산 및 폴리올로부터 선택되는 1종 이상의 화합물, 및 분산매를 포함하는 표면 처리용 조성물을 제공하고, 연마된 표면 처리에 사용된다. 적어도 텅스텐, 및 테트라에틸 오르토실리케이트 또는 질화규소를 함유하는 층을 갖는 연마 대상물.
To provide a means for suppressing the rate of dissolution of tungsten while sufficiently removing the impurities remaining on a surface of a polished object to be polished having a layer containing at least tungsten, and tetraethyl orthosilicate or silicon nitride. To provide a composition for surface treatment, which contains a polymer compound having a sulfonic acid (salt) group, at least one compound selected from an amino acid and a polyol, and a dispersing medium, and is used for treating a surface of a polished object to be polished having a layer containing at least tungsten, and tetraethyl orthosilicate or silicon nitride.