본 발명은 평편 기판들(S1, S2)의 하측면을 유체로 적심으로써 평편 기판들을 습윤 처리하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 처리되어야 할 기판의 하측면을 유체를 이용하여 적시기 위한 적어도 하나의 습윤화 롤러(WA, WB)를 구비한 적어도 하나의 습윤화 스테이션(BA, BB)을 포함하고, 상기 기판은 이송 방향(TR)으로 처리 롤러를 넘어 이동된다. 또한 상기 장치는 복수의 이송 롤러들(T1 내지 T7, WA, WB)을 구비한 롤러 이송 시스템을 포함하는바, 상기 이송 롤러들은 이송 방향으로 이격된 방식으로 연이어 배치되고 적어도 하나의 습윤화 롤러를 포함한다. 본 발명에 따르면 상기 습윤화 롤러는, 공급측에서 습윤화 롤러에 인접한 롤러 이송 시스템의 부분에 의하여 정해진 높이 레벨(Hu)보다 특정의 높이 오프셋(AHA) 만큼 더 높은 위치의 높이 레벨(Hm)에 배치된다.
A device for the wet treatment of flat substrates (S1, S2) by wetting the underside with fluid, wherein the device contains at least one wetting station (BA, BB) with at least one wetting roll (WA, WB) for wetting the underside of the substrates to be treated and moved in a transporting direction (TR) over the treatment roller with fluid, and also a roller transport system which has a plurality of transport rollers (T1 to T7, WA, WB), arranged one after another in a spaced apart manner in the transporting direction, including the at least one wetting roll, for transporting the substrates to be treated and resting on the transport rollers in the transporting direction. Furthermore, the invention relates to the use of such a device for the wet treatment of substrates. The wetting roll is arranged at a height (Hm) which is higher by a predetermined height offset (ΔHA) than a height (Hu) which is defined by a section, adjoining the supply side of the wetting roll, of the roller transport system.