이미징 광학 시스템은, 오브젝트 면(11)의 오브젝트 필드(9)를 이미지 면(14)의 이미지 필드(13)로 이미징하는 복수의 미러를 갖는다. 미러들 중 적어도 하나의 반사면이 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 곡면으로 구성되어 있다. 오브젝트 필드는 1 보다 더 큰 종횡비(x/y)를 갖고, 오브젝트 필드의 최소 횡 치수와 최대 횡 치수의 비율이 0.9보다 더 작다. 추가적인 양태에 있어서, 오브젝트 필드(9) 및/또는 이미지 필드(13)는 미러-대칭 필드 형상으로부터 일탈해 있다. 오브젝트 필드(9)를 조명하기 위한 조명 광학 시스템(10)은 대응하여 형성된 오브젝트 필드(9)를 조명하도록 설계되어 있는 조명 광(3)을 안내하는 구성 요소들을 갖는다. 결과는, 이미징 광학 시스템에 의해 이미징되는 필드에 걸치어, 이미징 오차의 교정에 대한 증가되는 요구들이 고려되는 이미징 광학 시스템, 조명 광학 시스템 및 그와 함께 갖추어지는 투영 노광 시스템이다.
An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.