플라즈마 처리 시스템에 있어서 전극 및 접지 사이에 RF 접지 경로를 선택적으로 제공하는 장치. 이 장치는 RF 전도 경로 구조 및 환상 구조를 포함한다. 환상 구조 및 RF 전도 경로 구조는 서로에 대한 2개의 상대 위치를 갖는다. 2개의 상대 위치 중 제 1 상대 위치는 환상 구조가 RF 전도 경로 구조와 전기적으로 결합하여 RF 전도 경로 구조에 접지를 제공하는 것을 특징으로 한다. 2개의 상대 위치 중 제 2 상대 위치는 환상 구조가 상기 RF 전도 경로로부터 전기적으로 분리되는 것을 특징으로 한다.
An arrangement in a plasma processing system for selectively providing an RF grounding path between an electrode and ground. The arrangement includes an RF conduction path structure and an annular structure. The annular structure and the RF conduction path structure having two relative positions relative to one another. A first relative position of the two relative positions is characterized by the annular structure electrically coupling with the RF conduction path structure to provide a ground to the RF conduction path structure. A second relative position of the two relative positions is characterized by the annular structure being electrically uncoupled from the RF conduction path.