스테레오리소그라피 장치 및 스테레오리소그라피 장치를 위한 노출 시스템, 이때, 발광 다이오드가 광원으로 사용된다. 본 발명은 발광 다이오드로부터 빛을 정렬시키는 것 및 발광 다이오드의 교체 및 제어에 관련된다.
A stereolithography apparatus and an exposure system for a stereolithography apparatus, wherein light emitting diodes are used as light sources. The invention relates to aligning light from the light emitting diode and to the exchange and control the light emitting diodes.