본 발명은, 보관 안정성이 우수한 연마용 조성물을 제공한다. 본 발명은, 지립과 할로겐 원자를 함유하는 산화제를 포함하고, 연마용 조성물 중의 상기 지립이 갖는 실라놀기 수의 총합 (A)(단위: 개)를 연마용 조성물 중의 상기 산화제의 농도 (B)(단위: 질량％)로 나눈 값 (A/B)가 8×1023 이하인, 연마용 조성물이다.
The present invention provides a polishing composition having excellent storage stability. The present invention relates to a polishing composition including abrasive grains and an oxidant containing a halogen atom, a value (A/B) obtained by dividing the total number (A) (unit: number) of silanol groups contained in the abrasive grains in the polishing composition by a concentration (B) (unit: % by mass) of the oxidant in the polishing composition being 8×1023 or less.