경제성이 뛰어나 고품질 박막을 안정적으로 형성하는 것이 가능한 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시 형태에 관한 스퍼터링 타겟(10)은, 제1 타겟부(120)와 제2 타겟부(130)를 구비한다. 제1 타겟부(120)는, 에로젼 영역(12)을 형성한다. 제2 타겟부(130)는, 제1 타겟부(120)로 피복되는 제1 영역(개구부(131))과 비에로젼 영역(13)을 형성하는 제2 영역을 갖는다. 제2 타겟부(130)는, 제1 타겟부(120)와 마찰 교반 접합에 의해 일체화 된다.
Disclosed are: a sputtering target which is economically advantageous and enables the formation of a high-quality thin film in a stable manner; and a process for producing the sputtering target. Specifically disclosed is a sputtering target (10) comprising a first target part (120) and a second target part (130). The first target part (120) forms an erosion region (12). The second target part (130) comprises a first region (an opening (131)) that is covered with the first target part (120) and a second region that forms a non-erosion region (13). The second target part (130) is integrated with the first target part (120) by friction/agitation bonding.