반도체 제조 장치가 오버홀을 한 직후라도 반도체 제조 장치의 처리를 제어하는 레시피를 효율적으로 산출할 수 있는 제조 프로세스 제어 시스템을 제공한다. 반도체 장치의 제조 프로세스 제어 시스템은 반도체 제조 장치 상태를 나타내는 장치 상태 테이블을 격납하는 데이터베이스와 상기 장치 상태 테이블을 기초로 상기 반도체 제조 장치의 오버홀이 필요할지를 판정하는 제어부를 가진다. 상기 제어부는 상기 데이터베이스에 격납된 상기 장치 상태 테이블에서 추출된 상기 반도체 제조 장치의 레시피값의 이력을 기초로 상기 반도체 제조 장치의 오버홀 후의 레시피값을 산출하도록 해도 좋고 상기 오버홀 후의 레시피값은 상기 레시피값의 이력에서 상기 오버홀의 바로 옆 소정 수 오버홀 후의 레시피값을 이동평균해 산출해도 좋다.
To provide a manufacturing process control system in which the recipe for controlling the processing of a semiconductor production apparatus can be calculated efficiently, even immediately after the semiconductor manufacturing apparatus has been overhauled. The fabrication process control system of semiconductor device comprises a database for storing a table indicating the state of a semiconductor production apparatus, and a control section for determining whether overhaul of the semiconductor production apparatus is required, based on the apparatus state table. The control section may calculate the recipe value after overhauling the semiconductor production apparatus, based on the record of recipe values of the semiconductor production apparatus extracted from the apparatus state table stored in the database, and the recipe value after overhaul may be calculated, by conducting moving average of a predetermined number of recipe values after overhaul, in close proximity to the overhaul from the record of recipe values.