본 개시는 배기계의 효율적인 클리닝을 가능하게 하는 장치 가동 방법과 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 반응기 챔버의 내부에 가스를 제공해 상기 반응기 챔버의 내부 기판에 처리를 실시하는 것과 반응기 챔버에 기판을 로드 또는 언로드하고 있는 도중에 상기 반응기 챔버로 연결되는 배기 라인, 또는 상기 배기 라인으로 연결되는 드라이 펌프에 상기 반응기 챔버를 경유하지 않는 플라스마를 제공하여 상기 배기 라인과 상기 드라이 펌프 중 적어도 하나를 청소하는 것, 을 구비한다.
To provide a device operation method and a board processing device that enable efficient cleaning of an exhaust system. A device operation method includes the steps of supplying gas to the inside of a reactor chamber to process a substrate inside the reactor chamber, and supplying plasma that does not pass through the reactor chamber to an exhaust line connected to the reactor chamber or a dry pump connected to the exhaust line and cleaning at least one of the exhaust line and the dry pump while loading or unloading the substrate into the reactor chamber.