레지스트막의 각 층간의 밀착성이 우수하고, 고정밀도의 패턴을 부여하고, 가스 배리어성 및 내용제성이 높은 적층체를 얻을 수 있는 패턴 형성 방법 및 이를 이용하여 제조한 전자 디바이스를 제공한다. 지지체에, 조성물을 사용하여 막을 형성하는 공정(1)과, 막의 소정 부분에 활성 에너지선을 조사하여 소정 부분의 현상성을 변화시키는 노광 공정(2)과, 막을 현상하여 패턴을 얻는 현상 공정(3)을 포함하는 패턴 형성 방법이며, 조성물로서, 현상액에 대한 용해성이 서로 상이한 복수의 조성물을 사용하고, 얻어지는 패턴이 다층 구조를 갖는다.
Provided are a pattern formation method for producing a laminate having excellent adhesion among layers of resist film, affording a high-definition pattern, and having high gas-barrier properties and solvent resistance; and an electronic device manufactured using the same. The pattern formation method includes (1) a step for using a composition to form a film on a support, (2) an exposure step for irradiating a prescribed section of the film with an active energy beam, and changing the developability of the prescribed section; and (3) a developing step for developing the film to obtain a pattern. A plurality of compositions that differ in solubility to the developing solution are used as the composition, and the resulting pattern has a multilayer structure.