(과제) 어모퍼스 하이드로 카본막의 최표면의 관능기를 치환시킨다. (해결 수단) Low―k막(105)에서 피복된 실리콘 기판(Sub) 상에 어모퍼스 하이드로 카본막(110)을 형성한다. 다음으로, 어모퍼스 하이드로 카본막(110)에 실란 가스 분위기 중이 아닌 가열 처리를 시행한다. 이어서, 이 가열 처리를 시행한 직후의 어모퍼스 하이드로 카본막(110)에 실란 가스 분위기 중에서 가열 처리를 시행한다. 이 가열 처리를 시행한 후, 하드 마스크 등의 막(115)을 형성한다. 
The functional groups in the outermost surface of an amorphous hydrocarbon film are replaced. An amorphous hydrocarbon film (110) is formed over a silicon substrate (Sub) coated with a low-k film (105). The amorphous hydrocarbon film (110) is heated not in a silane gas atmosphere. Immediately after the heating, the amorphous hydrocarbon film (110) is heated in a silane gas atmosphere. After this heating, a film (115) such as a hard mask is formed.