피연마물에 대해, 높은 평탄성을 부여할 수 있고, 또한 흠집의 발생을 억제할 수도 있는, 연마 패드 및 그 제조 방법을 제공한다. 연마 패드는, 독립 기포 및 연속 기포를 포함하는 발포 우레탄 시트를 표면에 구비하고 있고, 상기 발포 우레탄 시트가, 이하의 요건 (1)∼(3): (1) 연속 기포율(독립 기포 및 연속 기포의 합계 체적을 100체적％로 하였을 때의 연속 기포의 체적 비율)이 20∼80체적％, (2) 흡수 상태에서의 손실 계수 tanδ와 건조 상태에서의 손실 계수 tanδ의 비[tanδ(wet/dry)비]가, JIS K7244-4에 준거하여 측정(초기 하중 20g, 측정 주파수 1Hz, 온도 26℃, 인장 모드, 변형 범위 0.01∼0.1％)하였을 때, 1.3∼1.7, 및 (3) 쇼어 DO 경도가, ASTM D2240에 준거하여 측정하였을 때, 60∼80 을 만족시키도록 구성한다.
Provided is a polishing pad which is capable of providing a high flatness to a polishing workpiece and suppressing the formation of scratches, and a method therefor. The polishing pad comprises a foamed urethane sheet on the surface which includes closed cells and open cells and which satisfies the following requirements: (1) an open cell ratio is 20-80 vol% where the total volume of closed cells and open cells is taken as 100 vol%, (2) the ratio [tanδ (wet/dry) ratio] of a loss factor tanδ in a water-absorption state to that in a dry state is 1. 3-1. 7, the loss factors being measured according to JIS K7244-4 with an initial load of 20 g at a measuring frequency of 1 Hz at a temperature of 26°C in a tensile mode over a strain range from 0.01 to 0.1%, and (3) the Shore DO hardness according to ASTM D2240 is 60-80.