본 발명은 알칼리 가용성 노볼락 수지(A), 자체로는 알칼리에 불용성 또는 난용성이지만, 산의 작용에 의해 알칼리에 가용성으로 되는 수지 또는 화합물(B), 산 발생제(C), 퀴논디아지도 그룹을 함유하는 감광제(D), 및 필요한 경우, 알칼리 가용성 아크릴계 수지(E) 및 막 품질 개선용 가교제(F)를 함유하는 화학 증폭형 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 이러한 화학 증폭형 감광성 수지 조성물은 후막 및 초후막 대응 화학 증폭형 감광성 수지 조성물이며, 자기 헤드의 자극(magnetic pole)이나 LSI 접속용 단자로서 사용되는 범프(bump)를 형성할 때의 레지스트로서 바람직하게 사용된다
[Object] To provide a chemically amplified photosensitive resin composition suitable for forming a thick film and a super thick film, which has high sensitivity, high film residual properties, good coating properties, high resolution and a good pattern shape, and which gives a pattern excellent in heat resistance, in a photosensitive resin composition requiring the formation of a thick resist pattern film such as in the formation of a magnetic pole of a magnetic head or of a bump. [Solving means] A chemically amplified photosensitive resin composition including an alkali soluble novolak resin (A), a resin or compound (B) which in itself is insoluble or slightly soluble in alkali, but becomes soluble in alkali by the action of an acid, that is acid generating agent (C), and a photosensitizing agent (D) containing a quinonediazide group, as well as, if necessary, an alkali soluble acrylic resin (E) and a crosslinking agent (F) for improving film quality.