간섭계는 검출기의 픽셀들의 대응하는 어레이와 정렬되는 픽셀들의 어레이를 포함하는 위상 시프트 마스크를 사용한다. 위상 시프트 마스크 내의 각각의 픽셀은 테스트 빔과 기준 빔 사이의 다수의 미리결정된 위상 시프트들 중 하나를 생성하도록 적응된다. 예를 들어, 픽셀들은 테스트 빔과 기준 빔 사이의 미리결정된 위상 시프트들을 생성하기 위해 다수의 편광자 배향들 또는 위상 지연들 중 하나를 갖는 선형 편광자들 또는 위상 지연 요소들일 수 있다. 위상 시프트 마스크 내의 픽셀들은 하나의 컬럼 폭인 로우들, 하나의 로우 높이인 컬럼들, 또는 다수의 로우들 및 컬럼들의 블록들의 반복되는 픽셀 그룹들 내에 미리결정된 위상 시프트들의 각각을 포함하도록 어레이 내에 배열된다.
An interferometer uses a phase shift mask that includes an array of pixels that are aligned with a corresponding array of pixels of a detector. Each pixel in the phase shift mask is adapted to produce one of a number of predetermined phase shifts between a test beam and a reference beam. For example, the pixels may be linear polarizers or phase delay elements having one of the number of polarizer orientations or phase delays to produce the predetermined phase shifts between the test beam and the reference beam. The pixels in the phase shift mask are arranged in the array to include each of the predetermined phase shifts in repeating pixel groups in rows that are one column wide, columns that are one row high, or blocks of multiple rows and columns.