포토마스크의 노광처리수에 따라, 금속으로 이루어지는 차광패턴을 가지는 포토마스크와, 레지스트막으로 이루어지는 차광패턴(7a)을 가지는 포토마스크(MR1)로 적절히 구분하여 사용하여 노광처리를 행한다.
Productivity of a semiconductor integrated circuit device is improved. According to how many times the photomask is used, a photomask having an opaque pattern made of metal and a photomask having an opaque pattern made of a resist film are properly used, and thereby an exposure treatment is performed.  