탄소 나노튜브 콘택트 구조체는 DUT에 대한 가압 접속을 행하는데 이용될 수 있다. 콘택트 구조체는 탄소 나노튜브 막을 이용하여 형성될 수 있거나 또는 용액에서의 탄소 나노튜브에 의해 형성될 수 있다. 탄소 나노튜브 막은 희생 기판의 트렌치 내에서 성장될 수 있으며, 여기서 그후, 빔 또는 콘택트 소자와 같은 콘택트 구조체가 금속 도금에 의해 형성된다. 탄소 나노튜브 막은 또한 강성과 탄성을 제공하기 위해 콘택트 소자 상에 형성될 수 있고 콘택트 소자 내부에 분포된 금속 포스트들을 가질 수 있다. 콘택트 구조체들 또는 그 일부분은 또한 탄소 나노튜브를 포함한 용액에 의해 도금될 수 있다. 결과적인 콘택트 구조체가 단단할 수 있으며, 우수한 전기 전도성을 제공할 수 있다.
A carbon nanotube contact structure can be used for making pressure connections to a DUT. The contact structure can be formed using a carbon nanotube film or with carbon nanotubes in solution. The carbon nanotube film can be grown in a trench in a sacrificial substrate in which a contact structure such as a beam or contact element is then formed by metal plating. The film can also be formed on a contact element and have metal posts dispersed therein to provide rigidity and elasticity. Contact structures or portions thereof can also be plated with a solution containing carbon nanotubes. The resulting contact structure can be tough, and can provide good electrical conductivity.