크기가 7nm 미만인 피쳐를 복제하는 임프린팅 공정을 포함하는 나노성형 방법을 제공한다. 나노성형 방법은 2nm 미만인 복제된 피쳐의 라인 에지 조도를 생성 시킨다. 나노성형 방법은 a) 상부에 나노규모 피쳐가 형성된 제1 기판을 형성시키는 단계, b) 기판에 하나 이상의 중합체를 캐스팅하는 단계, c) 하나 이상의 중합체를 경화시켜 금형을 형성시키는 단계, d) 제1 기판으로부터 금형을 제거하는 단계, e) 상부에 성형 물질이 도포된 제2 기판을 제공하는 단계, f) 금형을 제2 기판으로 가압하여 성형 물질을 금형의 형상에 합치 시키는 단계, g) 성형 물질을 경화시키는 단계 및 h) 경화된 성형 물질을 갖는 제2 기판으로부터 금형을 제거하여 제1 기판의 복제품을 드러내는 단계를 포함한다. 
A nano-molding process including an imprint process that replicates features sizes less than 7 nanometers. The nano-molding process produces a line edge roughness of the replicated features that is less than 2 nanometers. The nano-molding process including the steps of: a) forming a first substrate having nano-scale features formed thereon, b) casting at least one polymer against the substrate, c) curing the at least one polymer forming a mold, d) removing the mold from the first substrate, e) providing a second substrate having a molding material applied thereon, f) pressing the mold against the second substrate allowing the molding material to conform to a shape of the mold, g) curing the molding material, and h) removing the mold from the second substrate having the cured molding material revealing a replica of the first substrate.