본 발명은 CVD 챔버에서 표면 증착물을 제거하는데 유용한 하이드로플루오르올레핀 조성물에 관한 것이며, 가스 혼합물이 하이드로플루오르올레핀을 포함하는, 챔버 내 또는 원격 챔버 내에서 가스 혼합물을 활성화시킴으로써 생성된 활성화된 가스 혼합물을 이용하여 화학 기상 증착 챔버의 내부로부터 표면 증착물을 제거하는 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to hydrofluorolefin compositions useful for removing surface deposits in CVD chambers, and relates to methods for removing surface deposits from the interior of a chemical vapor deposition chamber by using an activated gas mixture created by activating a gas mixture in the chamber or in a remote chamber, where the gas mixture comprises a hydrofluorolefin.