본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치(10)는 유리 기판이 되는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 처리 가스(Ga)를 공급하여 소정의 표면 처리를 실시하기 위한 표면 처리 장치(11)를 구비한다. 표면 처리 장치(11)는 처리 가스 생성 장치(16)와, 처리 가스(Ga)를 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 공급하는 급기로(17)와, 처리 가스(Ga)에 제해 처리를 실시하는 제해 장치(18)와, 한쪽의 주표면에 공급된 처리 가스(Ga)를 제해 장치(18)에 도입하는 배기로(19)와, 급기로(17)에 무해 가스(Gb)를 도입하는 무해 가스 도입로(20)를 구비한다. 무해 가스 도입로(20)와 급기로(17)의 합류 위치(P1)보다 급기로(17)의 하류측에는 무해 가스(Gb)와 처리 가스(Ga) 중 어느 한쪽이 도입 가능하게 되어 있다.
A glass substrate production device 10 according to the present invention is provided with a surface treatment unit 11 for supplying a treatment gas Ga onto one main surface of a plate-like glass, which serves as a glass substrate, to perform a specific surface treatment. The surface treatment unit 11 is provided with: a treatment gas generation unit 16; a gas supply passage 17 through which the treatment gas Ga is supplied onto one main surface of the plate-like glass; a detoxification unit 18 for subjecting the treatment gas Ga to a detoxification treatment; a gas exhaust passage 19 throughwhich the treatment gas Ga supplied onto the one main surface is introduced into the detoxification unit 18; and a harmless gas inlet passage 20 through which a harmless gas Gb is introduced into thegas supply passage 17. Either one of the harmless gas Gb and the treatment gas Ga can be introduced into the downstream side of the gas supply passage 17 relative to a junction P1 of the harmless gasinlet passage 20 and the gas supply passage 17.