科宇系統代理歐美半導體與光電產業的專業量測分析系統，包括微米、納米級物體表面的三維精密測量儀、濕製程濃度分析儀、光罩檢查機、探針台、CV / IV 量測系統、薄膜和片電阻的測量儀、以及太陽電池製程中的片電阻與漏電流量的量測等機台和周邊耗材。
In-line, real-time concentration monitor ，化學液濃度分析儀，濕製程多通道即時濃度監測系統適用於清洗(Clean)、蝕刻(Etch)、去光阻(Strip)等化學槽監測，如半導體製程SC1、SC2、BOE、DHF、EKC、ACT；光電產業Al etch、BOE、PR STRIPPER；太陽能廠裡製程中的HF/HNO3、KOH/IPA等化學液濃度監控，依據不同的需求有不同的選擇。
NTM，In-Situ Wafer Temperature Monitor，非接觸式的紅外光測溫器，適用於製程中測量晶圓表面溫度，NTM會自動進行反射率(Emissivity)的補償，CI-SEMI的NTM廣泛的使用在OEM的製造商機台上，用於如CVD 、PVD、Dry Etch、RTP等製程機台上，OEM的製造商例如Applied Material、TEL、Novellus、Ulvac等。
Probe Stations 晶圓探針台 4"~12" wafer probe. Photomask Inspection Station 光罩顯微檢驗機台 inspecting particles on pellicles or glass and pattern defects.專為光罩檢查設計，操作容易搭配8種照明模式容易觀測各種缺陷。