名人堂地位崇高，今年除胡正明與王寧國，另外一位得主是ARES公司執行長史都華特（ Richard J Stuart）。
從90年代至今，進入名人堂的人有：惠普創辦人惠勒（William Hewlett）和派克（David Packard）；英特爾創辦人摩爾 （Gordon Moore）、諾宜斯（Robert Noyce）、應用材料公司前總裁丹梅登（DanMaydan）；蘋果創辦人沃茲尼克（Steve Wozniak）等人。包括今年，只有五位華人入選，另外三人是已故柏克萊加大前校長田長霖，柏克萊加大前工學院院長葛守仁（Ernest S. Kuh），以及林氏研究集團（Lam Research）創辦人林傑屏。
出生於北京、台灣長大的胡正明畢業台大電機系、柏克萊加大博士。胡正明曾任台積電首任技術長，目前為柏克萊教授，是半導體領域先驅級人物，因為在鰭式場效電晶體（FinFET）技術上取得突破而獲獎；鰭式電晶體為40多年來半導體領域重要變革，使得摩爾定律得以自2011年延續至今。
胡正明去年獲得國家技術與創新獎章，由歐巴馬總統頒獎；數月前他又得到中華民國蔡英文總統授予工業研究院院士，以及第十屆的潘文淵獎，兩個獎項也都是極具指標意義的科技大獎，先前的得獎講的人包括張忠謀等重量級科技人。
「非常光榮，」胡正明說，名人堂是很榮耀的獎項，涵蓋領域廣泛，不光只是關於電子方面，「在被提名前也不曉得」。
他在演講中建議工程師必須要有堅持與決心，因為工程師並不是追求簡單、快速獲勝的人，而是處理困難問題，「當別人放棄時，我們追尋解答。」另外，自己在貝爾實驗室、應用材料等多年經歷，也深深體驗到容忍不同意見，以及與不同背景的人一起合作的重要。