Negative tone photosensitive compositionsVarious compositions encompassing polymers containing acidic pendent groups in combination with one or more reactive olefinic compounds and a photoacid generators form self-imageable negative tone films. Examples of such polymers include polymers and copolymers containing norbornene-type repeating units having acidic pendent groups, ring opened maleic anhydride polymers, polyacrylic acid, polyhydroxystyrene polymers, and the like. The films formed from such compositions provide self imageable, low-k, thermally stable layers for use in microelectronic and optoelectronic devices, among other applications.A kind of minus optical imaging composition comprising:a) there is the polymer of the acidic pendant groups of logical formula (i):wherein a is monomeric repeating unit, and y is the acidic pendant groups in phenolic hydroxyl group, carboxylic acid group and sulfonic group；b) it includes the compound of logical formula (ii), the compound of logical formula (iii) and logical formula (iv) that more than one compound, which is selected from, the group of compound:m-b-(x)z-b1-m1 (ii)h4-a-c(b-m)a (iii)d-m (iv)wherein,z is 1 to 5 integer；a is integer of 1 to 3；m and m1it is identical or different, and separately selected from the (c including being substituted or being unsubstituted2-c8) alkenyl, (c3-c8) ring alkenyl, (c7-c12) bicyclic alkenyl and (c7-c12) tricyclic alkenyl group, the substituent group be selected from (c1-c6) alkyl, (c1-c6) alkane oxygroup, (c2-c6) alkenyl, (c3-c8) cycloalkenyl, (c7-c12) bicyclic alkenyl, (c1-c6) alkoxy (c3-c6) alkenyl, (c1-c6) alkoxy (c3-c8) cycloalkenyl and (c1-c6) alkoxy (c7-c12) bicyclic alkenyl；b and b1it is identical or different, and separately for selected from including (cz2)b、(cz2o)b、(cz2s)b、(ch2)b(ch=ch)c- (ch2)b、(ch2)b-o-(ch2)b、(ch2)b-c6q10-(ch2)band (ch2)b-c6q4-(ch2)bgroup in key or bivalent group, wherein each b is independently 0 to 12 integer, and the integer that c is 1 to 6, z independently is h or f, c6q10it is the divalent asia replaced by q cyclohexyl, c6q4it is the bivalent phenylene radical replaced by q, wherein q is independently selected from h, f, ch3、cf3and och3；x is selected from including o, s, nr1、sir2r3、-(cz2)b-、-c(o)-、-c(o)o-、-oc(o)-、-oc(o)-o-、-s-c (o)-,-c (o)-s- ,-ch=ch- and-c ≡ c- ,-c6q4-c(o)-c6q4and-oc (o)-c6q4the key or group of-c (o) o-, wherein z and b are as defined above, and r1、r2and r3it independently is h, methyl, ethyl or linear chain or branched chain (c3-c12) alkyl, therefore o, nr1and/or s atom will not be bound directly each other；it includes ethyl, fluorination or perfluoromethyl or ethyl, linear chain or branched chain (c that d, which is selected from,3-c25) alkyl, linear chain or branched chain fluorine change or perfluorinated (c3-c25) alkyl and the (c that is substituted or is unsubstituted6-c18) cyclic hydrocarbon radical or multi-ring alkyl group；andc) photoacid generator.
네가티브 톤 감광성 조성물산성 펜던트기를 함유하는 중합체를, 1종 이상의 반응성 올레핀 화합물 및 광산발생제와 함께 포함하는 각종 조성물은, 자가화상형성 네가티브 톤 막을 형성한다. 상기 중합체의 예로는, 펜던트 산성기를 가지는 노르보르넨형 반복단위를 함유하는 중합체 및 공중합체, 개환 무수말레산 중합체, 폴리아크릴산, 폴리히드록시스티렌 중합체 등을 들 수 있다. 상기 조성물로부터 형성한 막은, 초소형전자 디바이스 및 광전자 디바이스에 쓰이는, 자가화상형성성을 가지며 유전율이 낮고 열적으로 안정적인 층을 제공한다.a) 식 (I)의 펜던트 산성기를 가지는 중합체와,[이미지](여기에서, A는 단량체 반복단위이고, Y는 페놀성수산기, 카르복시산기, 술폰산기로부터 선택되는 펜던트 산성기이다)b) 식 (II)의 화합물, 식 (III)의 화합물, 식 (IV)의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과,M-B-(X)z-B1-M1 (II)H4-a-C(B-M)a (III)D-M (IV)(여기에서,z는 1~5 사이의 정수이고,a는 1~3 사이의 정수이고,M 및 M1은 동일하거나 상이하며, 치환 또는 미치환 (C2-C8)알케닐, (C3-C8)시클로알케닐, (C7-C12)비시클로알케닐, (C7-C12)트리시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 각각 독립적으로 선택되고, 여기에서 상기 치환기는, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, (C2-C6)알케닐, (C3-C8)시클로알케닐, (C7-C12)비시클로알케닐, (C1-C6)알콕시(C3-C6)알케닐, (C1-C6)알콕시(C3-C8)시클로알케닐, (C1-C6)알콕시(C7-C12)비시클로알케닐로부터 선택되며,B 및 B1은 동일하거나 상이하며, (CZ2)b, (CZ2O)b, (CZ2S)b, (CH2)b-(CH=CH)c-(CH2)b, (CH2)b-O-(CH2)b, (CH2)b-C6Q10-(CH2)b, (CH2)b-C6Q4-(CH2)b로 이루어진 군으로부터 각각 독립적으로 선택되는 2가기 또는 결합이고, 여기에서 각 b는 독립적으로 0~12 사이의 정수이고, c는 1~6 사이의 정수이며, Z는 H 또는 F이고, C6Q10은 Q로 치환된 2가 시클로헥실렌, C6Q4는 Q로 치환된 2가 페닐렌이고, Q는 H, F, CH3, CF3, OCH3로부터 독립적으로 선택되고,X는 O, S, NR1, SiR2R3, -(CZ2)b-, -C(O)-, -C(O)O-, -OC(O)-, -OC(O)-O-, -S-C(O)-, -C(O)-S-, -CH=CH-, -C≡C-, -C6Q4-C(O)-C6Q4-, -OC(O)-C6Q4-C(O)O-로 이루어진 군으로부터 선택된 기 또는 결합이고, Z 및 b는 상기에서 정의한 바와 같으며, R1, R2, R3은 각각 독립적으로 H, 메틸, 에틸 또는 직쇄 또는 분지 (C3-C12)알킬기이고, O, NR1 및/또는 S 원자는 서로 직접적으로 연결되어 있지 않으며,D는 에틸, 플루오르화 또는 퍼플루오르화 메틸 혹은 에틸, 직쇄 또는 분지 (C3-C25)히드로카빌, 직쇄 또는 분지 플루오르화 또는 퍼플루오르화 (C3-C25)히드로카빌기, 치환 또는 미치환 (C6-C18)환상 또는 다환식 히드로카빌기으로 이루어진 군으로부터 선택된다),c) 광산발생제, 를 포함하는 것을 특징으로 하는, 네가티브 톤 사진화상형성(photoimageable) 조성물.