HARD COATING AND HARD COATING-COATED MEMBERTwo types of nanolayer alternating layers (38, 40), each of which is formed by alternately laminating two types of nanolayers (a nanolayer A layer (32n), a nanolayer B layer (34n), and a nanolayer C layer (36n)) of the A composition, the B composition, and the C composition, are alternately laminated at a prescribed film thickness, wherein the A layer (32) is a single composition layer of one of the A composition (AlCrSi [alpha] nitride), the B composition (CrBSi [beta] nitride), and the C composition (AlCr (SiC) [gamma] nitride); and the two types of nanolayer alternating layers (38, 40) are formed by alternately laminating two types of nanolayers (a nanolayer A layer (32n), a nanolayer B layer (34n), and a nanolayer C layer (36n)). According to the present invention, the excellent wear resistance, toughness, lubricity, and deposition resistance can be obtained, such as, for example, excellent durability in cutting a titanium alloy. Thus, in addition to a titanium alloy, for example, during cutting of various materials to be cut such as carbon steel, stainless steel, cast iron, and alloy steel, or under harsh processing conditions such as high-speed processing and dry processing, breakage and peeling of the hard coating film are suppressed by means of high toughness, thereby enabling a long service life of a tool to be achieved.A hard coating film adhered to the surface of the base material so as to coat the surface,the hard coating is formed by alternately laminating a single composition layer composed of any one of a composition a, a composition b and a composition c and two kinds of nano-layer alternating layers each composed of nano-layers alternately laminated in any two combinations of three combinations of the composition a and the composition b, the composition a and the composition c, the composition b and the composition c, so that the total film thickness is in the range of 0.5 to 20 [ mu ] m,the component a has a composition formula of alacrbsicαdwherein a, b, c and d are 0.30. ltoreq. a.ltoreq.0.80, 0.15. ltoreq. b.ltoreq.0.65, 0. ltoreq. c.ltoreq.0.45, 0. ltoreq. d.ltoreq.0.10 and a + b + c + d.ltoreq.1, respectively, si and α are optional additive components, and α is one or more elements selected from the group consisting of b, c, ti, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w,the component b has a composition formula of crebfsigβhwherein e, f, g and h are 0.40. ltoreq. e.ltoreq.0.95, 0.05. ltoreq. f.ltoreq.0.30, 0. ltoreq. g.ltoreq.0.45, 0. ltoreq. h.ltoreq.0.10 and e + f + g + h.ltoreq.1, si and β are optional additive components, and the optional additive component β is at least one element selected from the group consisting of c, al, ti, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w,the composition of c is alicrj(sic)kγlwherein i, j, k and l are 0.20. ltoreq. i.ltoreq.0.85, 0.10. ltoreq. j.ltoreq.0.50, 0.03. ltoreq. k.ltoreq.0.45, 0. ltoreq. l.ltoreq.0.10, and i + j + k + l is 1, and the optional additive component γ is at least one element selected from the group consisting of b, ti, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w,the film thickness of the single composition layer is in the range of 0.5 to 1000nm,the thicknesses of the nano layers forming the two nano layer alternating layers are all within the range of 0.5-500 nm, and the thicknesses of the nano layers forming the two nano layer alternating layers are all within the range of 1-1000 nm.
경질 피막 및 경질 피막 피복 부재A 조성 (AlCrSiα 의 질화물), B 조성 (CrBSiβ 의 질화물) 및 C 조성 (AlCr(SiC)γ 의 질화물) 중의 1 종류의 단일 조성층인 A 층 (32) 과, A 조성, B 조성 및 C 조성의 나노레이어층 (나노레이어 A 층 (32n), 나노레이어 B 층 (34n), 나노레이어 C 층 (36n)) 중의 2 개를 교대로 적층한 2 종류의 나노레이어 교호층 (38, 40) 이, 각각 소정의 막두께로 교대로 적층됨으로써, 예를 들어 티탄 합금에 대한 절삭 가공에서도 우수한 내구성이 얻어지는 등, 우수한 내마모성, 인성, 윤활성 및 내용착성이 얻어지게 된다. 이로써, 티탄 합금 외에, 예를 들어 탄소강이나 스테인리스강, 주철, 합금강 등의 각종 피삭재에 대한 절삭 가공에 있어서, 혹은 고속 가공이나 드라이 가공 등의 가혹한 가공 조건에 있어서, 높은 인성에 의해서 경질 피막의 깨짐이나 박리가 억제되어 공구의 장수명화를 실현할 수 있었다.모재의 표면을 피복하도록 그 표면에 부착되는 경질 피막으로서,상기 경질 피막은,A 조성, B 조성 및 C 조성 중의 어느 1 개의 조성으로 이루어지는 단일 조성층과, 상기 A 조성 및 상기 B 조성, 상기 A 조성 및 상기 C 조성, 상기 B 조성 및 상기 C 조성의 3 종류의 조합 중의 어느 2 종류의 조합으로 각 조성의 나노레이어층이 교대로 적층된 2 종류의 나노레이어 교호층의,합계 3 종류의 층이 교대로 적층되고, 총 막두께가 0.5 ∼ 20 ㎛ 의 범위 내가 되도록 구성되어 있고,상기 A 조성은, 조성식이 AlaCrbSicαd [단, a, b, c, d 는 각각 원자비로, 0.30 ≤ a ≤ 0.80, 0.15 ≤ b ≤ 0.65, 0 ≤ c ≤ 0.45, 0 ≤ d ≤ 0.10, 그리고 a ＋ b ＋ c ＋ d ＝ 1 이고, Si 및 α 는 임의 첨가 성분이며, 임의 첨가 성분 α 는 B, C, Ti, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 에서 선택되는 1 종 이상의 원소이다] 인 질화물이고,상기 B 조성은, 조성식이 CreBfSigβh [단, e, f, g, h 는 각각 원자비로, 0.40 ≤ e ≤ 0.95, 0.05 ≤ f ≤ 0.30, 0 ≤ g ≤ 0.45, 0 ≤ h ≤ 0.10, 그리고 e ＋ f ＋ g ＋ h ＝ 1 이고, Si 및 β 는 임의 첨가 성분이며, 임의 첨가 성분 β 는 C, Al, Ti, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 에서 선택되는 1 종 이상의 원소이다] 인 질화물이고,상기 C 조성은, 조성식이 AliCrj(SiC)kγl [단, i, j, k, l 은 각각 원자비로, 0.20 ≤ i ≤ 0.85, 0.10 ≤ j ≤ 0.50, 0.03 ≤ k ≤ 0.45, 0 ≤ l ≤ 0.10, 그리고 i ＋ j ＋ k ＋ l ＝ 1 이고, 임의 첨가 성분 γ 는 B, Ti, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 에서 선택되는 1 종 이상의 원소이다] 인 질화물이고,상기 단일 조성층의 막두께는 0.5 ∼ 1000 ㎚ 의 범위 내이고,상기 2 종류의 나노레이어 교호층을 구성하고 있는 상기 나노레이어층의 각 막두께는, 모두 0.5 ∼ 500 ㎚ 의 범위 내이고, 상기 2 종류의 나노레이어 교호층의 각 막두께는 모두 1 ∼ 1000 ㎚ 의 범위 내인 것을 특징으로 하는 경질 피막.