NADIC ANHYDRIDE POLYMERS AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITIONS DERIVED THEREFROMVarious vinyl addition polymers of nadic anhydride are disclosed. Examples of such polymers include copolymers and terpolymers of nadic anhydride with a wide variety of norbornene-type monomers. The nadic anhydride polymers are found to be useful in forming a wide variety of photosensitive compositions, both positive and negative, which are capable of forming high resolution imageable films exhibiting excellent dielectric properties (low-k) and thermal properties, and thus are useful in the fabrication of a variety of microelectronic and optoelectronic devices, among others.A kind of polymer, it includes:a) the first repetitive unit of the general formula (ia) of the monomer of derivative self-drifting (i):whereinindicate the position being bonded with another repetitive unit；n is 0 to 3 integer；x and x ' are identical or different, and are each independently selected from ch2、ch2-ch2, o and s, wherein ch2or ch2-ch2optionally by (c1- c6) alkyl substitution；r and r ' are identical or different, and are each independently selected from hydrogen and (c1-c6) alkyl；b) the second repetitive unit of the general formula (iia) of the monomer of derivative self-drifting (ii):whereinindicate the position being bonded with another repetitive unit；n is 0 to 3 integer；y and y ' are identical or different, and are each independently selected from ch2、ch2-ch2, o and s；r1、r2、r3and r4at least one of selected from general formula (a) monoradical and general formula (b) monoradical:-(ch2)a-l-c(cf3)2-oh(b)whereina is 0 to 3 integer；the integer that b is 1 to 4；c is 1 to 4 integer；l is selected from chemical bond, o and s；r5(the c for being substituted or being unsubstituted selected from hydrogen, methyl, ethyl, fluorination or perfluoromethyl or ethyl, linear chain or branched chain3- c12) the alkyl, (c that is substituted or is unsubstituted3-c8) the naphthenic base, (c that is substituted or is unsubstituted1-c12) alkyl (c3-c8) ring the alkyl, (c for being substituted or being unsubstituted6-c10) the aryl, (c that is substituted or is unsubstituted1-c12) alkyl (c6-c10) aryl, (the c for being substituted or being unsubstituted2-c12) acyl group and the (c that is substituted or is unsubstituted7-c11) aroyl；remaining r1、r2、r3and r4it is identical or different, and be each independently selected from including following group: hydrogen, halogen, methyl, second (the c that base, fluorination or perfluoromethyl or ethyl, linear chain or branched chain are substituted or are unsubstituted3-c12) alkyl, be substituted or not (the c being substituted1-c6) the alkoxy, (c that is substituted or is unsubstituted3-c8) the naphthenic base, (c that is substituted or is unsubstituted7- c12) bicyclic alkyl and the (c that is substituted or is unsubstituted7-c12) the tricyclic alkyl, (c that is substituted or is unsubstituted1-c12) alkyl (c3-c8) the naphthenic base, (c that is substituted or is unsubstituted6-c10) aryl and the (c that is substituted or is unsubstituted1-c12) alkyl (c6- c16) aryl, wherein the substituent group is selected from halogen, hydroxyl, (c1-c6) alkyl, (c1-c6) alkoxy, (c2-c6) alkenyl, (c3- c8) naphthenic base, (c7-c12) bicyclic alkyl, (c1-c6) alkoxy (c3-c6) alkyl, (c1-c6) alkoxy (c3-c8) naphthenic base and (c1-c6) alkoxy (c7-c12) bicyclic alkyl.
무수나드산 중합체 및 그로부터 유래한 감광성 조성물무수나드산의 각종 비닐 첨가 중합체를 개시한다. 해당 중합체의 실시예는 무수나드산과 각종 광범위한 노르보르넨형 단량체의 공중합체 및 삼원중합체를 포함한다. 무수나드산 중합체는, 포지티브와 네가티브 양쪽 모두의 감광성 조성물 형성에 유용하며, 상기 조성물은 유전율이 낮고 열적으로 안정적인 고해상도 화상형성필름 형성이 가능하고, 따라서 각종 초소형전자 디바이스 및 광전자 디바이스 제조에 유용하게 쓰일 수 있다.a) 식 (I)의 단량체로부터 유래한 식 (IA)의 제 1 반복단위와,[이미지] (IA)[이미지] (I)(여기에서,[이미지]는 기타 반복단위와 결합이 발생하는 위치를 나타내고,n은 0~3의 정수이며,X 및 X'는 동일하거나 상이하며, CH2 및 CH2-CH2로부터 각각 독립적으로 선택되고, 여기에서 CH2 또는 CH2-CH2는 (C1-C6)알킬, O 및 S로 필요에 따라 치환되며,R 및 R'는 동일하거나 상이하며 수소 및 (C1-C6)알킬로부터 각각 독립적으로 선택된다)b) 식 (II)의 단량체로부터 유래한 식 (IIA)의 제 2 반복단위[이미지] (IIA)[이미지] (II)(여기에서,[이미지]는 기타 반복단위와 결합이 발생하는 위치를 나타내고,n은 0~3의 정수이며,Y 및 Y'는 동일하거나 상이하고, CH2, CH2-CH2, O 및 S로부터 각각 독립적으로 선택되며,R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나는 식 (A)의 1가기(monovalent group) 및 식 (B)의 1가기로부터 선택되고,[이미지] (A)-(CH2)a-L-C(CF3)2-OH (B)여기에서,a는 0~3의 정수이고,b는 1~4의 정수이고,c는 1~4의 정수이고,L은 결합, O 및 S로부터 선택되고,R5는 수소, 메틸, 에틸, 플루오르화 또는 퍼플루오르화 메틸 혹은 에틸, 직쇄 또는 분지 치환 또는 미치환 (C3-C12)알킬, 치환 또는 미치환 (C3-C8)시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C1-C12)알킬(C3-C8)시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C6-C10)아릴, 치환 또는 미치환 (C1-C12)알킬(C6-C10)아릴, 치환 또는 미치환 (C2-C12)아실, 및 치환 또는 미치환 (C7-C11)아로일로부터 선택되고,나머지 R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 상이하며, 수소, 할로겐, 메틸, 에틸, 플루오르화 또는 퍼플루오르화 메틸 혹은 에틸, 직쇄 또는 분지 치환 또는 미치환 (C3-C12)알킬, 치환 또는 미치환 (C1-C6)알콕시, 치환 또는 미치환 (C3-C8)시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C7-C12)비시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C7-C12)트리시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C1-C12)알킬(C3-C8)시클로알킬, 치환 또는 미치환 (C6-C10)아릴, 및 치환 또는 미치환 (C1-C12)알킬(C6-C16)아릴로 이루어진 군으로부터 각각 독립적으로 선택되고, 상기 치환기는, 할로겐, 히드록시, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, (C2-C6)알케닐, (C3-C8)시클로알킬, (C7-C12)비시클로알킬, (C1-C6)알콕시(C3-C6)알킬, (C1-C6)알콕시(C3-C8)시클로알킬, 및 (C1-C6)알콕시(C7-C12)비시클로알킬로부터 선택된다)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 중합체.