Fungicides with hydroximic and hydrazonic groupsThe invention concerns fungicidal compounds, and compositions containing them, of general formula (I) in which G is selected from the groups G1 to G9: (a) in which the different symbols represent various organic groups. The invention also concerns a method for treating plants using these compounds.General formula (i) compound that contains hydroximic acid or hydrazonic acid functional group: wherein g is selected from group g 1 to g9: wherein:n=0 or 1q 1be nitrogen-atoms or ch group, q 2be oxygen or sulphur atom, q 3be oxygen or sulphur atom, q 4be nitrogen-atoms or cr 11group, q 5be oxygen or sulphur atom or nr 12group, y is oxygen or sulphur atom or amino (nh) or oxygen amino (onh) group,w 1be oxygen or sulphur atom or sulfinyl (so) or alkylsulfonyl (so 2) group, w 2be sauerstoffatom or nr 13group, work as w 2when being sauerstoffatom, p=1, work as w 2be nr 13during group, p=0 or 1, x 1, x 2and x 3be hydrogen atom, halogen atom independently of one another; or hydroxyl, sulfydryl, nitro, thiocyano, azido-, cyano group or five fluorosulfonyls; low alkyl group, low-grade halogenated alkyl, alkoxyl group, halogenated alkoxy, alkylthio, halogenated alkylthio, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkylthio alkyl, halogenated alkylthio alkyl, cyano group alkyl, cyano alkoxy, cyano group alkylthio, alkyl sulfinyl, haloalkyl sulfinyl, alkyl sulphonyl, halogenated alkyl sulfonyl or alkoxyl group alkylsulfonyl; orlow-grade cycloalkyl, lower halogenated cycloalkyl, alkenyl, alkynyl, alkenyl oxy, alkynyloxy base, alkenyl thio or alkynyl sulfenyl; oramino, n-alkylamino, n, n-dialkylamino, amido, aminoalkyl group, n-alkyl amino alkyl, n, n-dialkylaminoalkyl or amidoalkyl; orcarboxyl, formamyl, n-alkyl-carbamoyl, n, n-dialkyl amido formyl radical or elementary alkoxy carbonyl; oracyl group;x 4be hydrogen atom, halogen atom; or low alkyl group, low-grade halogenated alkyl, alkoxyl group or halogenated alkoxy; or cyano group or nitro,r 1and r 2independently be hydrogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl, low-grade cycloalkyl or lower halogenated cycloalkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkylthio alkyl, halogenated alkylthio alkyl or cyano group alkyl separately; or cyano group, acyl group, carboxyl, formamyl, n-alkyl-carbamoyl or n, n-dialkyl amido formyl radical, elementary alkoxy carbonyl, alkylthio carbonyl, halo alkoxy carbonyl, alkoxyl group thiocarbonyl, halogenated alkoxy thiocarbonyl or alkylthio thiocarbonyl; oraminoalkyl, n-alkyl amino alkyl, n, n-dialkylaminoalkyl or amidoalkyl,r 1and r 2form divalent group together, as being replaced by one or more halogen atoms arbitrarily, or the alkylidene group that is replaced by one or more low alkyl groups arbitrarily, r 3be hydrogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl, low-grade cycloalkyl or lower halogenated cycloalkyl, alkoxyl group, halogenated alkoxy, alkylthio, halogenated alkylthio, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkylthio alkyl, halogenated alkylthio alkyl or cyano group alkyl; or nitro, cyano group, acyl group, carboxyl, formamyl, n-alkyl-carbamoyl, n, n-dialkyl amido formyl radical, elementary alkoxy carbonyl, alkylthio carbonyl, halo alkoxy carbonyl, alkoxyl group thiocarbonyl, halogenated alkoxy thiocarbonyl or alkylthio thiocarbonyl; oralkenyl, alkynyl, n, n-dialkyl amido or n, n-dialkyl aminoalkyl; orany phenyl or benzyl that replaces,r 4be low alkyl group or low-grade halogenated alkyl, low-grade cycloalkyl, lower halogenated cycloalkyl or alkoxyalkyl; or alkoxyl group, halogenated alkoxy, alkylthio, alkylamino or dialkylamino,r 5or r 6be low alkyl group or low-grade halogenated alkyl independently of one another, r 7be low alkyl group, low-grade halogenated alkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkenyl or alkynyl, r 8be low alkyl group, low-grade halogenated alkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkenyl, alkynyl, formyl radical or acyl group, r 9be hydrogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl or low-grade cycloalkyl, lower halogenated cycloalkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkenyl or alkynyl, r 10be halogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl, low-grade cycloalkyl or lower halogenated cycloalkyl or alkoxyl group, halogenated alkoxy, alkylthio, halogenated alkylthio, alkyl sulfinyl, haloalkyl sulfinyl, alkyl sulphonyl or halogenated alkyl sulfonyl r 11and r 12be hydrogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl or low-grade cycloalkyl, lower halogenated cycloalkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkenyl or alkynyl independently of one another, r 13be hydrogen atom, low alkyl group or low-grade halogenated alkyl, low-grade cycloalkyl, lower halogenated cycloalkyl, alkoxyalkyl, halogenated alkoxy alkyl, alkylthio alkyl or halogenated alkylthio alkyl, the allyl group that replaces arbitrarily, the propargyl that replaces arbitrarily or any benzyl that replaces; or acyl group, n-alkyl-carbamoyl, n, n-dialkyl amido formyl radical, elementary alkoxy carbonyl, alkylthio carbonyl, halo alkoxy carbonyl, alkoxyl group thiocarbonyl, halogenated alkoxy thiocarbonyl or alkylthio thiocarbonyl; oralkyl sulphonyl, halogenated alkyl sulfonyl or the aryl sulfonyl that replaces arbitrarily,condition is:work as w 2and q 2be sauer...
히드록심기 및 히드라존기를 갖는 살진균제본 발명은 화학식 (I)의 살진균 화합물(식중, G 는 G1 내지 G9 기로부터 선택되고, 상이한 표시는 다양한 유기기를 나타낸다), 및 이를 함유하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이들 화합물을 사용한 식물의 처리 방법에 관한 것이다.화학식 (I) 의 히드록심기 또는 히드라존기를 함유하는 화합물, 뿐만 아니라 화학식 (I)의 화합물의 염, 금속 및 준금속 착체 및 광학 및 입체 이성질체 : [이미지] [상기 식에서, G 는 G1 내지 G9 기로부터 선택된다 : [이미지] [이미지] (식 중 : n = 0 또는 1 Q1 은 질소 원자 또는 CH 기, Q2 는 산소 또는 황 원자, Q3 은 산소 또는 황 원자, Q4 는 질소 원자 또는 CR11 기, Q5 는 산소 또는 황 원자 또는 NR12 기, Y 는 산소 또는 황 원자 또는 아미노(NH) 또는 옥시아미노(ONH)기), W1 은 산소 또는 황 원자 또는 술피닐(SO) 또는 술포닐(SO2)기, W2 는 산소 원자 또는 NR13 기, p = 1 (W2 가 산소 원자일 때), p = 0 또는 1 (W2 가 NR13 기일 때), X1, X2 및 X3 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 ; 또는 히드록실, 메르캅토, 니트로, 티오시아나토, 아지도, 시아노 또는 펜타플루오로술포닐기 ; 저급 알킬, 저급 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬, 시아노알킬, 시아노알콕시, 시아노알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 알콕시술포닐기 ; 또는 저급 시클로알킬, 저급 할로시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알케닐티오 또는 알키닐티오기 ; 또는 아미노, N-알킬아미노, N,N-디알킬아미노, 아실아미노, 아미노알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬 또는 아실아미노알킬기 ; 또는 카르복실, 카르바모일, N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일 또는 저급 알콕시카르보닐기 ; 또는 아실기 ; X4 는 수소 원자, 할로겐 원자 ; 또는 저급 알킬, 저급 할로알킬, 알콕시 또는 할로알콕시기 ; 또는 시아노 또는 니트로 라디칼, R1 및 R2 는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, 저급 시클로알킬 또는 저급 할로시클로알킬기, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬 또는 시아노알킬기 ; 또는 시아노, 아실, 카르복실, 카르바모일, N-알킬카르바모일 또는 N,N-디알킬카르바모일기, 저급 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐 또는 알킬티오티오카르보닐기 ; 또는 아미노알킬, N-알킬아미노알킬, N,N-디알킬아미노알킬 또는 아실아미노알킬기, R1 및 R2 는 하나 이상의 할로겐 원자로 임의 치환되거나 하나 이상의 저급 알킬기로 임의 치환된, 알킬렌기와 같은 2 가 라디칼을 형성할 수 있고, R3 은 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, 저급 시클로알킬 또는 저급 할로시클로알킬기, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로알킬티오알킬 또는 시아노알킬기 ; 또는 니트로, 시아노, 아실, 카르복실, 카르바모일, N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 저급 알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐 또는 알킬티오티오카르보닐기 ; 또는 알케닐, 알키닐, N,N-디알킬아미노 또는 N,N-디알킬아미노알킬기 ; 또는 임의 치환 페닐 또는 벤질기, R4 는 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, 저급 시클로알킬, 저급 할로시클로알킬 또는 알콕시알킬기 ; 또는 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 알킬아미노 또는 디알킬아미노기, R5 및 R6 는, 서로 독립적으로, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, R7 은 저급 알킬, 저급 할로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알케닐 또는 알키닐기, R8 은 저급 알킬, 저급 할로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알케닐, 알키닐, 포르밀 또는 아실기, R9 는 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기 또는 저급 시클로알킬, 저급 할로시클로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알케닐 또는 알키닐기, R10 은 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, 저급 시클로알킬 또는 저급 할로시클로알킬기 또는 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 할로알킬티오, 알킬술피닐, 할로알킬술피닐, 알킬술포닐 또는 할로알킬술포닐기, R11 및 R12 는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기 또는 저급 시클로알킬, 저급 할로시클로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알케닐 또는 알키닐기, R13 은 수소 원자, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬기, 저급 시클로알킬, 저급 할로시클로알킬, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬 또는 할로알킬티오알킬기, 임의 치환 알릴기, 임의 치환 프로파길기 또는 임의 치환 벤질기 ; 또는 아실, N-알킬카르바모일, N,N-디알킬카르바모일, 저급 알콕시카르보닐, 알킬티오카르보닐, 할로알콕시카르보닐, 알콕시티오카르보닐, 할로알콕시티오카르보닐 또는 알킬티오티오카르보닐기 ; 또는 알킬술포닐, 할로알킬술포닐 또는 임의 치환 아릴술포닐기, 단, W2 및 Q2 가 산소 원자이고, G 가 G1 기일 때, R5 는 알킬기가 아니고, R4 는 알콕시, 알킬아미노 또는 디알킬아미노기가 아니며, R3 은 수소 원자, 알킬 또는 할로알킬기, 시클로알킬 또는 할로시클로알킬기, 알콕시알킬, 할로알콕시알킬, 알킬티오알킬, 시아노알킬, 알케닐, 알키닐 또는 디알킬아미노알킬기, 또는 임의 치환 페닐 또는 벤질기가 아니다].