DISSOLUTION RATE MODIFIERS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONSOligomers of polycyclic olefin monomers, and optionally allylic or olefinic monomers, and a method of making such oligomers that includes reacting polycyclic olefin monomers in the presence of a Ni or Pd containing catalyst, or in the case of allylic monomers in the presence of a free radical initiator. The oligomers can be included in photoresist compositions as dissolution rate modifiers. The photoresist compositions can further include a polymeric binder resin, a photoacid generator, and solvents.A dissolution rate modifier, comprising: an oligomer comprising repeating units derived from monomers in accordance with one or more of Formulae A, B, C, D or E:Formula A Formula BFormula CFormula DYFormula E said repeating units comprising a first repeating unit derived monomers comprising a fluorinated acid labile group substituent according to Formula A and/or Formula E, and optionally other repeating units comprising one or more of the monomers according to Formulae A, B, C, D or E, with the proviso that if a monomer according to Formula A is not present, a monomer according to Formula E must be included and if a monomer according to Formulae D or E are present at least one monomer according to Formulae A, B or C must be present, with the proviso that where at least one repeating unit is derived from Formulae D or E , deriving the oligomer comprises employing a free radical catalyst and where said repeating units are only derived from monomers according to Formulae A, B and/or C, deriving the oligomer comprises employing a Ni or Pd comprising catalyst; wherein m is an integer from 0 to 5; Z is — CH2- -CH2-CH2-, -O-, — S-, or — NH-; wherein at least one substituent R1, R2, R3' R4, independently, is a fluorinated carbinol having from 1 to about 10 carbon atoms optionally protected by an acid labile group, and the remaining R , R , R , and R4, independently, are hydrogen, halogen, or a hydrocarbyl containing from 1 to about 20 carbon atoms, or a hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms substituted at any hydrogen atom with an O, S, N, or Si, or a fluorinated hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms wherein each carbon atom, independently, is substituted with 0, 1, 2, or 3 fluorine atoms; wherein at least one of R5, R6, R7, or R8 independently contain an acid labile moiety, and the remaining one or more R5, R6, R7, or R8, independently are hydrogen, halogen, or a hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms, or a hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms substituted at any hydrogen atom with an O, S, N, or Si, or a fluorinated hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms wherein each carbon atom, independently, is substituted with 0, 1, 2, or 3 fluorine atoms; wherein R9, R10, R11, or R12 are independently selected from a hydrogen atom, a hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms, and a hydrocarbyl having from 1 to about 20 carbon atoms substituted at any hydrogen atom, with O, S, N, or Si, and optionally contain an epoxy, hydroxyl, and/or carboxylic acid functional group; wherein Y is a fluorinated carbinol having from 1 to about 10 carbon atoms optionally protected by an acid labile group, X is OH, CN, OC(O)R13, C(O)OR13, OR13, N(R13)2, where R13 is a linear or branched or cyclic aliphatic hydrocarbyl group containing 1 to about 12 carbons atoms and optionally at least one carbon atom of said hydrocarbyl contains 1, 2, or 3 fluorine atoms; and said oligomer having a weight average molecular weight (Mw) of less than about 3,000 as measured by Gel Permeation Chromatography. 
포토레지스트 조성물용 용해속도 개질제본 발명에 따라서 폴리시클릭 올레핀 단량체 및 임의의 알릴계 또는 올레핀계 단량체의 올리고머 및 폴리시클릭 올레핀 단량체를 Ni 또는 Pd 함유 촉매의 존재하에서 또는 알릴계 단량체의 경우에 자유 라디칼 개시제의 존재하에서 반응시키는 단계를 포함하는 이러한 올리고머의 제조방법이 제공된다. 상기 올리고머는 용해속도 개질제로서 포토레지스트 조성물에 포함될 수 있다. 상기 포토레지스트 조성물은 중합체 바인더 수지, 포토 액시드 발생제 및 용매를 추가로 포함할 수 있다. 화학식 A, B, C, D 또는 E 중 하나 이상에 따른 단량체로부터 유도되는 반복 유니트를 포함하는 올리고머를 포함하는 용해속도 개질제.  상기 반복 유니트는 화학식 A 및/또는 화학식 E에 따른 불소화된 산 반응성기(labile group) 치환체를 포함하는 제 1반복 유니트 유도된 단량체 및 임의로 화학식 A, B, C, D 또는 E에 따른 단량체 중 하나 이상을 포함하는 다른 반복 유니트를 포함하며, 상기 화학식 A에 따른 단량체가 존재하지 않는 경우에, 화학식 E에 따른 단량체는 포함되어야 하며, 화학식 D 또는 E에 따른 단량체가 존재하는 경우에, 화학식 A, B 또는 C에 따른 최소 하나의 단량체가 존재하여야 하며, 이 때, 최소 하나의 반복 유니트가 화학식 D 또는 E로부터 유도되며, 올리고머의 유도(derivig)는 자유 라디칼 촉매의 사용을 포함하며, 상기 반복 유니트는 단지 화학식 A, B 및/또는 C에 따른 단량체로부터만 유도되는 경우, 상기 올리고머의 유도는 Ni 또는 Pd 포함 촉매의 사용을 포함하며; 상기 식에서, m은 0 내지 5의 정수이며; Z는 -CH2-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, 또는 -NH-이며; 최소 하나의 치환체 R1, R2, R3, R4는 독립적으로, 산 반응성기에 의해 임의로 보호된 1 내지 약 10개의 탄소원자를 갖는 불소화된 카르비놀이며, 나머지 R1, R2, R3, 및 R4는 독립적으로, 수소, 할로겐 또는 탄소원자가 1 내지 약 20개인 하이드로카르빌 또는 어떠한 수소원자가 O, S, N, 또는 Si로 치환된 1 내지 약 20개의 탄소원자를 갖는 하이드로카르빌 또는 각각의 탄소원자가 독립적으로, 0, 1, 2, 또는 3개의 불소원자로 치환된 탄소원자가 1 내지 약 20개인 불소화된 하이드로카르빌이며; 이때 R5, R6, R7 또는 R8 중 적어도 하나는 독립적으로 산 반응성기를 포함하며 나머지 하나 이상의 R5, R6, R7 또는 R8은 독립적으로, 수소, 할로겐 또는 탄소원자가 1 내지 약 20개인 하이드로카르빌 또는 어떠한 수소원자가 O, S, N 또는 Si로 치환된 탄소원자가 1 내지 약 20개인 하이드로카르빌 또는 각각의 탄소원자가 독립적으로, 0, 1, 2, 또는 3개의 불소원자로 치환된 탄소원자가 1 내지 약 20개인 불소화된 하이드로카르빌이며; 이때 상기 식에서 R9, R10, R11, 또는 R12는 독립적으로 수소원자, 탄소원자가 1 내지 약 20개인 하이드로카르빌 및 어떠한 수소원자가 O, S, N 또는 Si로 치환된 탄소원자가 1 내지 약 20개인 하이드로카르빌이며, 임의로 에폭시, 하이드록시 및/또는 카르복시산 작용기를 포함하며; 상기 식에서 Y는 산 반응성기에 의해 임의로 보호된 탄소원자가 1 내지 약 10개인 불소화된 카르비놀이며, X는 OH, CN, OC(O)R13, C(O)OR13, OR13, N(R13)2이며, 여기서 R13은 탄소원자가 1 내지 약 12개인 선형 또는 분지형 또는 고리형 지방족 하이드로카르빌기이며, 임의로 상기 하이드로카르빌기 중 적어도 하나의 탄소원자는 1, 2, 또는 3개의 불소원자를 함유하며; 상기 올리고머는 겔침투 크로마토그래피로 측정하여, 약 3,000 미만의 중량평균분자량(Mw)를 갖는다. 