Preparation of transition-metal-alkyl-complexes carrying a bidentate, dianionic ligandA new process, particularly simple, convenient and practical, for the direct synthesis of organometallic complexes of formula (I):(A)(ZR1m)n(A')MLpL'q wherein (ZR1m)n is a divalent group bridging A and A'; A and A' are independently-O-, -S-, or -N(R2)-, wherein R2 is hydrogen, alkyl, cycloalkyl, aryl, alkylaryl or arylalkyl; M is a transition metal belonging to group 3,4,5,6 or to the lanthanide or actinide groups; L is a monoanionic sigma ligand, such as alkyl, cycloalkyl, aryl, alkylaryl or arylalkyl, optionally containing Si or Ge; L' is halogen or -OR3, R3 being a hydrocarbon radical; m is 0,1 or 2; n is 1-8; p is 1-3; q is 0-2; said p9rocess comprises reacting the ligand (H-A)(ZR1m)n(A'-H) with about 1 molar equivalent of ML's in the presence of about (2+p) molar equivalents of LjB or LMgL', wherein B is an alkaline or alkaline-earth metal,s ranges from 3 to 6, and j is 1 or 2.Method for preparing the organometallic complex of following formula (i):(a) (zr 1m) n(a ') ml pl ' q(i) (zr in the formula 1m) nbe the c of a bridging a and a ' 1-c 50divalent group, z are c, si, ge, n, p, o or s; r 1group is identical or different mutually, is selected from hydrogen or line style or branch, saturated or undersaturated c 1-c 20alkyl, c 3-c 20cycloalkyl, c 6-c 20aryl, c 7-c 20alkaryl and c 7-c 20aralkyl; two or more r 1can form one or more saturated, unsaturated or aromatic nucleus together; m is 0,1 or 2;n is one 1 to 8 a integer;a and a ' are identical or different mutually, for be selected from-o-,-s-and-n (r 2)-the dianion group, r wherein 2be hydrogen, line style or branch, saturated or undersaturated c 1-c 20alkyl, c 3-c 20cycloalkyl, c 6-c 20aryl, c 7-c 20alkaryl or c 7-c 20aralkyl is chosen wantonly and is contained one or more atoms that belong to periodic table of elements 13-17 family; m is the transition metal that belongs to the periodic table of elements 3,4,5,6 families or group of the lanthanides or actinium series;substituting group l is identical or different mutually, for being selected from line style or branch, saturated or undersaturated c 1-c 20alkyl, c 3-c 20cycloalkyl, c 6-c 20aryl, c 7-c 20alkaryl or c 7-c 20the single anion sigma ligands of aralkyl, optional one or more si or the ge atom of containing; substituting group l ' is identical or different mutually, for halogen or-or 3, r wherein 3be selected from hydrogen, line style or branch, saturated or undersaturated c 1-c 20alkyl, c 3-c 20cycloalkyl, c 6-c 20aryl, c 7-c 20alkaryl and c 7-c 20aralkyl; p is one 1 to 3 a integer; q is one 0 to 2 a integer, and the oxidation state that p+q equals metal subtracts 2 and p+q≤3;described method comprises following step:(1) with formula (h-a) (zr 1m) n(a '-part h) and the formula l of about (2+p) molar equivalent jthe compound reaction of b or lmgl ', wherein a, a ', z, r 1, m, n, p, l and l ' and above-reported same meaning; b is basic metal or alkaline-earth metal; j is 1 or 2, and j is 1 when b is basic metal, and j is 2 when b is alkaline-earth metal; with (2) will be from the product of step (1) acquisition and the formula ml ' of about 1 molar equivalent scompound reaction, the same meaning of m and l ' and above-reported wherein; s is 3 to 6 for integer and the scope corresponding to the burning attitude.
두자리 음이온성 리간드를 운반하는 전이금속-알킬 착물의 제조방법본 발명은 하기 식 (I) 로 표시되는 유기금속 착물의 직접 합성을 위한 신규한, 특히 간단하며, 편리하고 실용적인 제조방법에 관한 것이다. (A)(ZR1m)n(A')MLPL'q (I) [식 중, (ZR1m)n 은 A 와 A' 를 가교하는 2가기이고; A 및 A' 는 독립적으로 -O-, -S- 또는 -N(R2)- 이며, 여기서 R2 은 수소, 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기, 알킬아릴기 또는 아릴알킬기이고; M 은 3, 4, 5, 6 족 또는 란탄족 또는 악티늄족에 속하는 전이금속이고; L 은 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기, 알킬아릴기 및 아릴알킬기와 같은 1 가 음이온 시그마 리간드이고, 하나이상의 Si 나 Ge 원자를 포함할 수 있으며; L' 은 할로겐 또는 -OR3이며, 여기서 R3 은 수소, 또는 탄화수소 라디칼이며; m 은 0, 1 또는 2, n 은 1-8, p 는 1-3, q 는 0-2 이다. ]. 상기 방법은 (2 + p)몰당량의 식 LjB 또는 LMgL' 의 존재 하, 상기 리간드 (H-A)(ZR1m)n(A'-H) 를 1 몰당량의 ML's 과 반응시키는 단계를 포함하고, 여기서 B 는 알카리 금속 또는 알카리 토금속이며; s 는 3 내지 6 이며, j 는 1 또는 2 이다.하기 식 (I) 로 표시되는 유기금속 착물의 제조방법으로서, 하기의 단계 (1) 및 (2) 를 포함하는 방법: [화학식 1] (A)(ZR1m)n(A')MLPL'q (I) [식 중, (ZR1m)n 은 A 와 A' 를 가교하는 C1-C50 2가기이고; Z 는 C, Si, Ge, N, P 및 B 로 구성되는 군으로부터 선택되며; R1 기는 서로 같거나 다르며, 수소, 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 C1-C20 알킬기, C3-C20 시클로알킬기, C6-C20 아릴기, C7-C20 알킬아릴기 및 C7-C20 아릴알킬기이고, 둘 이상의 R1 기는 함께 하나 이상의 포화, 불포화 또는 방향족 고리를 형성할 수 있으며, m 은 0, 1 또는 2 이며; n 은 1 내지 8 의 정수이고; A 및 A' 는 서로 같거나 다르며, -O-, -S- 및 -N(R2)- 에서 선택되는 2 가의 음이온기이며, 여기서 R2 은 수소, 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 C1-C20 알킬기, C3-C20 시클로알킬기, C6-C20 아릴기, C7-C 20 알킬아릴기 또는 C7-C20 아릴알킬기이고, 주기율표 13-17 군에 속하는 하나 이상의 원자를 함유할 수 있으며; M 은 3, 4, 5, 6 족 또는 원소 주기율표의 란탄족 또는 악티늄족에 속하는 전이금속이고; 치환체 L 은 서로 같거나 다르며, 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 C1-C20 알킬기, C3-C20 시클로알킬기, C6-C20 아릴기, C7-C 20 알킬아릴기 및 C7-C20 아릴알킬기로부터 선택되는 1 가 음이온 시그마 리간드이고, 하나이상의 Si 나 Ge 원자를 포함할 수 있으며; 치환체 L' 은 서로 같거나 다르며, 할로겐 또는 -OR3이며, 여기서 R3 은 수소, 선형 또는 분지, 포화 또는 불포화 C1-C20 알킬기, C3-C20 시클로알킬기, C6-C20 아릴기, C7-C20 알킬아릴기 및 C7-C20 아릴알킬기이며; p 는 1 내지 3 의 정수이고; q 는 0 내지 2 의 정수이고, p + q 는 금속 M 의 산화수에서 2 를 뺀 것과 동일하고, 및 p + q ≤3 이다.]; 단계 (1): 식 (H-A)(ZR1m)n(A'-H)의 리간드를 약 (2 + p)몰당량의 식 LjB 또는 LMgL' 의 화합물과 반응시키는 단계 [식 중, A, A', Z, R1, m, n, p, L 및 L' 는 상기와 같은 의미이고; B 는 알카리 금속 또는 알카리 토금속이며; j 는 1 또는 2 이고, B 가 알카리 금속이면 j 는 1, B 가 알카리 토금속이면 j 는 2 이다.] ; 및, 단계 (2): 상기 단계 (1)로 얻어진 생성물을 식 ML's 화합물 1 몰당량과 반응시키는 단계 [식 중, M 및 L'는 상기와 같은 의미이고, s 는 금속의 산화수에 대응하는 정수이며, 3 내지 6 의 범위이다.].