HARD COATING AND MEMBER COATED WITH HARD COATINGProvided is a hard coating 24, which is coated on the surface of a tool substrate, and in which an A layer 34, a B layer 36, and a nanoscale alternating layer 40 are alternately laminated to a film thickness of 0.5-20 mu m by physical vapor deposition, wherein the nanoscale alternating layer 40 is obtained by alternately laminating a C layer 39 and a nanoscale A layer 37 or nanoscale B layer 38 tonano-order thicknesses, the nanoscale A layer 37 or nanoscale B layer 38 having the same composition as the A layer 34 or B layer 36. The A layer 34 has a compositional formula of (AlaTibCrcAlphad)Nand a thickness of 0.5-1000 nm, the B layer 36 has a compositional formula of (AleTifCrgBetah)CXN1-X, and a thickness of 0.5-1000 nm, the nanoscale alternating layer 40 has a thickness of 1-1000 nm, the C layer 39 has a compositional formula of [AliCrj(SiC)kGammal]CYN1-Y, and the C layer 39 and the nanoscale A layer 37 or nanoscale B layer have a thickness of 0.5-500 nm.Hard film is hard film be coated on the surface of the base metal, which is characterized in thata layers, b layers and nanometer layer alternating layer are alternately laminated by the hard film using physical vapor deposition, to become 0.5~20 μm the mode of total film thickness constitute,described a layers is that composition formula is (alatibcrcαd) n, α be a kind in c, b, si, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w above element, atomic ratio a, b, c, d meet respectively 0.10≤a≤0.85,0.02≤b≤0.70,0.03≤c≤0.65,0≤ the alticr nitride of d≤0.10 and a+b+c+d=1, the thickness with 0.5~1000nm,described b layers is that composition formula is (aletifcrgβh)cxn1-x, β be in b, si, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w 1 kind or more element, atomic ratio e, f, g, h and x meet respectively 0.10≤e≤0.85,0.02≤f≤0.70,0.03≤g≤ 0.65, the alticr nitride or alticr carbonitride of 0≤h≤0.10, e+f+g+h=1 and 0≤x≤0.6, have 0.5~ the thickness of 1000nm,the nanometer layer alternating layer is a layers of the nanometer layer or nanometer layer b that will have with described a layers or the b layers of identical composition made of layer is alternately laminated with c layers, the thickness with 1~1000nm,described nanometer layer a layers or b layers of the nanometer layer thickness for being respectively provided with 0.5~500nm,described c layers is that composition formula is [alicrj(sic)kγl]cyn1-y, γ be selected from b, ti, v, y, zr, nb, mo, hf, ta and w one or more of element, atomic ratio i, j, k, l and y meet 0.20≤i≤0.85,0.05≤j≤0.50,0.01≤k respectively ≤ 0.45, alcr (sic) nitride of 0≤l≤0.10, i+j+k+l=1 and 0≤y≤0.6 or alcr (sic) carbonitride, thickness with 0.5~500nm.
경질 피막 및 경질 피막 피복 부재공구 모재 (30) 의 표면에 피복되는 경질 피막 (24) 은, 물리적 증착법에 의해, A 층 (34) 과, B 층 (36) 과, A 층 (34) 또는 B 층 (36) 과 동일한 조성을 갖는 나노레이어 A 층 (37) 또는 나노레이어 B 층 (38) 및 C 층 (39) 이 나노오더의 두께로 교대로 적층된 나노레이어 교호층 (40) 이 교대로 적층되어, 0.5 ∼ 20 ㎛ 의 막두께가 되도록 구성된 것이고, A 층 (34) 은, 조성식이 (AlaTibCrcαd)N 이고, 0.5 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖고, B 층 (36) 은, 조성식이 (AleTifCrgβh)CXN1-X 이고, 0.5 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖고, 나노레이어 교호층 (40) 은 1 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖는 것이고, C 층 (39) 은, 조성식이 [AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y 이고, 나노레이어 A 층 (37) 또는 나노레이어 B 층 (38) 및 C 층 (39) 은 0.5 ∼ 500 nm 의 두께를 갖는다.모재의 표면에 피복되는 경질 피막으로서, 상기 경질 피막은, 물리적 증착법에 의해, A 층과, B 층과, 나노레이어 교호층이 교대로 적층되어, 0.5 ∼ 20 ㎛ 의 총 막두께가 되도록 구성된 것이고, 상기 A 층은, 조성식이 (AlaTibCrcαd)N 이고, α 는 C, B, Si, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 원소이고, 원자비 a, b, c, d 는 각각, 0.10 ≤ a ≤ 0.85, 0.02 ≤ b ≤ 0.70, 0.03 ≤ c ≤ 0.65, 0 ≤ d ≤ 0.10, 및, a ＋ b ＋ c ＋ d ＝ 1 을 만족하는 AlTiCr 질화물로서, 0.5 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖는 것이고, 상기 B 층은, 조성식이 (AleTifCrgβh)CXN1-X 이고, β 는 B, Si, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 원소이고, 원자비 e, f, g, h 및 X 는 각각, 0.10 ≤ e ≤ 0.85, 0.02 ≤ f ≤ 0.70, 0.03 ≤ g ≤ 0.65, 0 ≤ h ≤ 0.10, e ＋ f ＋ g ＋ h ＝ 1, 및, 0 ≤ X ≤ 0.6 을 만족하는 AlTiCr 질화물 혹은 AlTiCr 탄질화물로서, 0.5 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖는 것이고, 상기 나노레이어 교호층은, 상기 A 층 또는 상기 B 층과 동일한 조성을 갖는 나노레이어 A 층 또는 나노레이어 B 층과, C 층이 교대로 적층된 것으로서, 1 ∼ 1000 nm 의 두께를 갖는 것이고, 상기 나노레이어 A 층 또는 나노레이어 B 층은, 각각 0.5 ∼ 500 nm 의 두께를 갖고, 상기 C 층은, 조성식이 [AliCrj(SiC)kγl]CYN1-Y 이고, γ 는 B, Ti, V, Y, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta 및 W 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 원소이고, 원자비 i, j, k, l 및 Y 는 각각, 0.20 ≤ i ≤ 0.85, 0.05 ≤ j ≤ 0.50, 0.01 ≤ k ≤ 0.45, 0 ≤ l ≤ 0.10, i ＋ j ＋ k ＋ l ＝ 1, 및, 0 ≤ Y ≤ 0.6 을 만족하는 AlCr(SiC) 질화물 혹은 AlCr(SiC) 탄질화물로서, 0.5 ∼ 500 nm 의 두께를 갖는 것인 것을 특징으로 하는 경질 피막.