DYE-SENSITIZED PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICEThe present invention relates to a photoelectric conversion device sensitized by supporting a methine based dye represented by the following formula (1): [KA 1]  (in the above formula, n represents an integer of 0 to 7; X and Y each represent a hydrogen atom, an optionally substituted aromatic residue, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue and the like. In addition, X and Y may combine together to form an optionally substituted ring. A1, A2 and A3 represent each independently an optionally substituted aromatic residue, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue and the like. In addition, when n is other than 0, a plural number of A1 and/or A2 and/or A3 may form an optionally substituted ring. The benzene ring "a" may have substituent selected from a halogen atom, an amide group, a hydroxyl group, a cyano group and the like); on a thin film of oxide semiconductor fine particles provided on a substrate, and has features that the device can be manufactured at low cost and has high conversion efficiency.A photoelectric conversion device characterized by using oxide semiconductor fine particles sensitized with a methine based dye represented by the following formula (1): [KA 1]  (in the formula (1), n represents an integer of 0 to 7; X and Y represent each independently a hydrogen atom, an optionally substituted aromatic residue, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a cyano group, an optionally substituted alkylsulfonyl group having 1 to 5 carbon atoms, an acyl group, an optionally substituted amide group or an alkoxycarbonyl group. In addition, X and Y may combine together to form an optionally substituted ring (provided that when Z represents a group represented by the following formula (3), pyrazolone ring is excluded). A1, A2 and A3 represent each independently a hydrogen atom, an optionally substituted aromatic residue, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue, a hydroxyl group, a phosphoric acid group, a cyano group, a halogen atom, a carboxyl group, a carbonamide group, an optionally substituted alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an arylcarbonyl group, or an acyl group. In addition, when n is 2 or more and each of A2 and A3 exists plurally, each of A2 and A3 may be same or different from each other. In addition, when n is other than 0, a plural number of A1 and/or A2 and/or A3 may form an optionally substituted ring. Z represents a group represented by the following formula (2) or (3)): [KA 2]   (the benzene ring 'a' in the formula (2) may optionally have, besides the substituent described in the formula (2), 1 to 4 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, an amide group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted alkoxy group, an acyl group, a substituted or unsubstituted amino group, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue and an optionally substituted aromatic residue. In addition, when a plural number of substituents exist, these substituents may combine together to form an optionally substituted ring. In addition, said substituents on the benzene ring 'a' may combine together with said A1 and/or A2 and/or A3 to form an optionally substituted ring. The ring Cy in the formula (2) is 4- to 7-membered ring, and may contain a carbon atom and a hetero atom other than the nitrogen atom described in the formula (2) as a ring member atom. In addition, the ring Cy may have a substituent, and when the ring Cy has a plural number of substituents, arbitrary substituents thereof may combine together to form further a ring. The benzene ring 'b' in the formula (3) may have, besides the substituent described in the formula (3), 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, an optionally substituted amide group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted alkoxy group, an acyl group, a substituted or unsubstituted amino group, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue and an optionally substituted aromatic residue. In addition, when a plural number of substituents exist, these substituents may combine together to form an optionally substituted ring. In addition, said substituent on the benzene ring 'b' may combine together with any one of the above-described A1, A2 and A3 to form an optionally substituted ring. E in the formula (3) represents an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon residue having 2 to 4 carbon atoms. When E has a plural number of substituents, arbitrary substituents thereof may combine together to form a ring. R1 represents an optionally substituted aromatic residue, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon residue or an acyl group).
색소증감 광전변환소자본 발명은 기판상에 형성된 산화물 반도체 미립자의 박막에, 하기 식(1)으로 나타내는 메틴계 색소를 담지, 증감시킨 광전변환소자에 관한 것으로서, 저렴하게 제조할 수 있고, 변환효율이 높다고 하는 특징을 갖는다:  (상기 식에서, n은 0∼7의 정수를, X 및 Y는 각각 수소원자, 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기 등을 나타낸다. 또, X와 Y는 결합하여, 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. A1, A2 및 A3은 각각 독립적으로 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기 등을 나타낸다. 또, n이 0 이외의 경우에는, A1 및/또는 A2 및/또는 A3의 복수 개로 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. 벤젠환 a는 할로겐 원자, 아미드기, 하이드록실기, 시아노기 등을 치환기로 가질 수 있다).하기 식(1)으로 나타내는 메틴계 색소에 의해서 증감된 산화물 반도체 미립자를 사용하는 것을 특징으로 하는 광전변환소자:  (상기 식(1)에서, n은 0∼7의 정수를 나타낸다. X 및 Y는 각각 독립적으로 수소원자, 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기, 카르복실기, 인산기, 설폰산기, 시아노기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1∼5의 알킬설포닐기, 아실기, 치환될 수 있는 아미드기, 또는 알콕시카르보닐기를 나타낸다. 또, X와 Y는 결합하여, 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다(단, Z가 하기 식(3)의 기를 나타내는 경우는, 피라졸론환을 제외한다.). A1, A2 및 A3은 각각 독립적으로 수소원자, 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기, 하이드록실기, 인산기, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복실기, 카르본아미드기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 아릴옥시기, 알콕시카르보닐기, 아릴카르보닐기 또는 아실기를 나타낸다. 또, n이 2 이상에서 A2 및 A3의 각각이 복수 존재하는 경우에는, 각각의 A2 및 A3은 서로 동일하거나 또는 서로 다를 수 있다. 또, n이 0 이외의 경우, A1 및/또는 A2 및/또는 A3의 복수 개로 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. Z 는 하기 식(2) 및 (3)으로 나타내는 기를 나타낸다.  상기 식(2)에서, 벤젠환 a는 식(2)에 기재 이외에, 할로겐 원자, 아미드기, 하이드록실기, 시아노기, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 아실기, 치환 혹은 비치환 아미노기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기 및 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1개∼4개의 치환기를 가질 수 있다. 또, 복수의 치환기가 존재하는 경우, 그것들의 치환기는 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. 또, 벤젠환 a 상의 그 치환기는 상기의 A1 및/또는 A2 및/또는 A3과 결합하여 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다, 상기 식(2)에서, 환 Cy는 4∼7원환이며, 환 구성원자로서 탄소원자, 식(2) 기재의 질소원자 이외의 헤테로원자를 포함할 수 있다. 또, 치환기를 가질 수 있으며, 환 Cy가 복수의 치환기를 가지는 경우에는, 임의의 치환기 끼리로 추가로 환을 형성할 수 있다, 상기 식(3)에서, 벤젠환 b는 식(3)에 기재 이외에, 할로겐 원자, 치환될 수 있는 아미드기, 하이드록실기, 시아노기, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 아실기, 치환 혹은 비치환 아미노기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기 및 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1개∼3개의 치환기를 가질 수 있다. 또, 복수의 치환기가 존재하는 경우 그것들의 치환기는 서로 결합하여 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. 또, 벤젠환 b상의 그 치환기는 상기의 A1, A2 및 A3 중 어느 하나와 결합하여 치환기를 가질 수 있는 환을 형성할 수 있다. 식(3)에 있어서의 E는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 2∼4의 포화 또는 불포화의 탄화수소 잔기를 나타낸다. E가 복수의 치환기를 가지는 경우에는, 그 임의의 치환기 끼리로 환을 형성할 수 있다. R1은 치환기를 가질 수 있는 방향족 잔기, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소 잔기 또는 아실기를 나타낸다.)