Photosensitive resin composition, cured film, method for forming cured film, organic EL display device, and liquid crystal display deviceDisclosed is a photosensitive resin composition which contains: a copolymer that contains a structural unit (1) having at least one group selected from among carboxy groups protected by acid-decomposable groups and phenolic hydroxy groups protected by acid-decomposable groups and a structural unit (2) having at least one group selected from among epoxy groups and oxetanyl groups; a photoacid generator of a specific structure having an oxime sulfonate group; a sensitizer; and a solvent.Photosensitive polymer combination, it contains:(a) multipolymer, this multipolymer comprise have be selected from by the carboxyl of sour decomposability radical protection and by at least 1 the structural unit (1) in the phenol property hydroxyl of sour decomposability radical protection and have the epoxy radicals of being selected from and oxetanyl at least 1 structural unit (2);(b) be selected from least a kind of photoacid generator in the photoacid generator shown in formula (i), general formula (os-1), general formula (os-3), general formula (os-4) and the general formula (os-5);(c) sensitizer; and(d) solvent,r 1a-c(r 2a)=n-o-so 2-r 3a (i) in the general formula (i), r 1athe expression carbon number is that 1～6 alkyl, carbon number are that 1～4 haloalkyl, phenyl, xenyl, naphthyl, 2-furyl, 2-thienyl, carbon number are 1～4 alkoxy or cyanic acid, works as r 1aduring for phenyl, xenyl, naphthyl or anthryl, it is that 1～4 alkyl, carbon number are that 1～4 alkoxy and the substituting group in the nitro replace that these groups also can be selected from halogen atom, hydroxyl, carbon number, r 2athe expression carbon number be 1～10 alkyl, carbon number be 1～10 alkoxy, carbon number be 1～5 haloalkyl, carbon number be 1～5 halogenated alkoxy, can by the substituted phenyl of w, can be by the substituted naphthyl of w or can be by the substituted anthryl of w, dialkyl amido, morpholinyl or cyanic acid, r 2awith r 1abonding and form 5 yuan of rings or 6 yuan of rings each other also, these 5 yuan rings or 6 yuan of rings can also with can have 1 or 2 any substituent phenyl ring and be connected, r 3athe expression carbon number be 1～10 alkyl, carbon number be 1～10 alkoxy, carbon number be 1～5 haloalkyl, carbon number be 1～5 halogenated alkoxy, can by the substituted phenyl of w, can be by the substituted naphthyl of w or can be by the substituted anthryl of w, w representes that halogen atom, cyanic acid, nitro, carbon number are that 1～10 alkyl, carbon number are that 1～10 alkoxy, carbon number are that 1～5 haloalkyl or carbon number are 1～5 halogenated alkoxy,in the general formula (os-1), r 1expression hydrogen atom, alkyl, alkenyl, alkoxy, alkoxy carbonyl, acyl group, carbamyl, sulfamoyl, sulfo group, cyanic acid, aryl or heteroaryl, r 2the expression alkyl or aryl, x representes-o-,-s-,-nh-,-nr 5-,-ch 2-,-cr 6h-or-cr 6r 7-, r 5～r 7represent alkyl or aryl independently of one another, r 21～r 24represent hydrogen atom, halogen atom, alkyl, alkenyl, alkoxy, amino, alkoxy carbonyl, alkyl-carbonyl, aryl carbonyl, amide group, sulfo group, cyanic acid or aryl independently of one another, in general formula (os-3)～general formula (os-5), r 1expression alkyl, aryl or heteroaryl, the r of a plurality of existence 2represent hydrogen atom, alkyl, aryl or halogen atom independently of one another, r that can a plurality of existence 6represent halogen atom, alkyl, alkoxy, sulfonic group, amino-sulfonyl or alkoxy sulfonyl independently of one another, x representes o or s, and n representes 1 or 2, and m representes 0～6 integer.
감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막의 형성 방법, 유기 ＥＬ 표시 장치, 및 액정 표시 장치산분해성기로 보호된 카르복시기 및 산분해성기로 보호된 페놀성 수산기에서 선택된 적어도 하나를 갖는 구조 단위 (1)과, 에폭시기 및 옥세타닐기에서 선택된 적어도 하나를 갖는 구조 단위 (2)를 함유하는 공중합체, 옥심설포네이트기를 갖는 특정 구조의 광산발생제, 증감제, 및 용제를 함유하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.(A) 산분해성기로 보호된 카르복시기 및 산분해성기로 보호된 페놀성 수산기에서 선택된 적어도 하나를 갖는 구조 단위 (1)과, 에폭시기 및 옥세타닐기에서 선택된 적어도 하나를 갖는 구조 단위 (2)를 함유하는 공중합체, (B) 하기 일반식 (Ⅰ), 일반식 (OS-1), 일반식 (OS-3), 일반식 (OS-4), 및 일반식 (OS-5)로 표시되는 광산발생제에서 선택된 적어도 1종의 광산발생제, (C) 증감제, 및 (D) 용제를 함유하는 감광성 수지 조성물.R1A-C(R2A)＝N-O-SO2-R3A (I)[일반식 (Ⅰ) 중, R1A은 탄소 원자수 1?6의 알킬기, 탄소 원자수 1?4의 할로겐화 알킬기, 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 2-푸릴기, 2-티에닐기, 탄소 원자수 1?4의 알콕시기 또는 시아노기를 나타내고, R1A이 페닐기, 비페닐기, 나프틸기 또는 안트라닐기일 경우, 이들 기는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 1?4의 알킬기, 탄소 원자수 1?4의 알콕시기 및 니트로기로 이루어지는 군에서 선택된 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. R2A은 탄소 원자수 1?10의 알킬기, 탄소 원자수 1?10의 알콕시기, 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알킬기, 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알콕시기, W로 치환되어 있어도 되는 페닐기, W로 치환되어 있어도 되는 나프틸기 또는 W로 치환되어 있어도 되는 안트라닐기, 디알킬아미노기, 모르폴리노기 또는 시아노기를 나타낸다. R2A과 R1A은 서로 결합하여 5원환 또는 6원환을 형성해도 되고, 당해 5원환 또는 6원환은 1개 또는 2개의 임의의 치환기를 가져도 되는 벤젠환과 연결되어 있어도 된다. R3A은 탄소 원자수 1?10의 알킬기, 탄소 원자수 1?10의 알콕시기, 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알킬기, 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알콕시기, W로 치환되어 있어도 되는 페닐기, W로 치환되어 있어도 되는 나프틸기 또는 W로 치환되어 있어도 되는 안트라닐기를 나타낸다. W는 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1?10의 알킬기, 탄소 원자수 1?10의 알콕시기, 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알킬기 또는 탄소 원자수 1?5의 할로겐화 알콕시기를 나타낸다.][이미지][일반식 (OS-1) 중, R1은 수소 원자, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기, 아실기, 카르바모일기, 설파모일기, 설포기, 시아노기, 아릴기, 또는, 헤테로아릴기를 나타낸다. R2은 알킬기, 또는, 아릴기를 나타낸다. X는 -O-, -S-, -NH-, -NR5-, -CH2-, -CR6H-, 또는, -CR6R7-을 나타내고, R5?R7은 각각 독립적으로, 알킬기, 또는 아릴기를 나타낸다. R21?R24은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 아미노기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르보닐기, 아릴카르보닐기, 아미드기, 설포기, 시아노기, 또는, 아릴기를 나타낸다.][이미지][일반식 (OS-3)?일반식 (OS-5) 중, R1은 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타내고, 복수 존재하는 R2은 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 아릴기,또는 할로겐 원자를 나타내며, 복수 존재할 수 있는 R6은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 알킬기, 알킬옥시기, 설폰산기, 아미노설포닐기, 또는 알콕시설포닐기를 나타내고, X는 O 또는 S를 나타내며, n은 1 또는 2를 나타내고, m은 0?6의 정수를 나타낸다.]