Pyrrolopyrazine derivatives as SYK and JAK inhibitorsThe present invention relates to the use of novel pyrrolopyrazine derivatives of Formula (I), wherein the variables Q and R1 and R2 are defined as described herein, which inhibit JAK and SYK and are useful for the treatment of auto-immune and inflammatory diseases.The compound or pharmaceutically acceptable salt thereof of formula i,wherein:r 1h or oh; r 2be phenyl, heterocyclylalkyl, heteroaryl or cycloalkyl, it is separately randomly by one or more r 2' replace; each r 2' be hydroxyl, halogen, oxo, low alkyl group, low-grade alkenyl, low-grade alkynyl, low-grade halogenated alkyl, lower alkoxy, elementary halogenated alkoxy, rudimentary hydroxyalkyl, amino, low-grade alkyl amino, lower dialkyl amino, cyano group, rudimentary cyano group alkyl, cycloalkyl, heterocyclylalkyl, c (=o) r independently 3or s (=o) 2r 3each r 3oh, cycloalkyl or low alkyl group independently; q is q 2, q 3or q 4q 2be heterocyclylalkyl, cycloalkyl, cycloalkenyl group, heterocyclylalkyl phenyl, heteroaryl, bicyclic aryl or assorted bicyclic aryl, it is separately randomly by one or more q 2areplace; q 2aq 2bor q 2cq 2bhalogen, oxo, hydroxyl, – cn, – sch 3, – s (o) 2ch 3huo – s (=o) ch 3q 2cq 2dor q 2eor two q 2aform together bicyclic system, randomly by one or more q 2bor q 2creplace; q 2dshi – o (q 2e), – s (=o) 2(q 2e), – c (=o) n (q 2e) 2, – s (o) 2(q 2e), – c (=o) (q 2e), – c (=o) o (q 2e), – n (q 2e) c (=o) (q 2e), – n (q 2e) c (=o) o (q 2e) huo – n (q 2e) c (=o) n (q 2e) 2each q 2eh or q independently 2e'; each q 2e' be low alkyl group, phenyl, benzyl, low-grade halogenated alkyl, cycloalkyl, cycloalkenyl group, heterocyclylalkyl or heteroaryl independently, randomly by one or more q 2freplace; q 2fq 2gor q 2hq 2ghalogen, hydroxyl, cyano group, oxo huo – c (=o) (q 2h); q 2hlow alkyl group, low-grade halogenated alkyl, lower alkoxy, amino, phenyl, benzyl, cycloalkyl, heterocyclylalkyl or heteroaryl, randomly by one or more q 2ireplace; q 2ihalogen, hydroxyl, cyano group, low alkyl group, low-grade halogenated alkyl or lower alkoxy; q 3shi – o-q 3a, – s-q 3a, – c (=o) (q 3a), – o (ch 2) mc (=o) (q 3a), – s (=o) (q 3a), – s (=o) 2(q 3a), – n (q 3a) 2, – n (q 3a) s (=o) 2(q 3a), – n (q 3a) c (=o) (q 3a), – c (=o) n (q 3a) 2, n (q 3a) c (=o) n (q 3a) 2huo – n (q 3a) (ch 2) mc (=o) n (q 3a) 2each q 3aq independently 3bor q 3cm is 0,1 or 2;q 3bh; q 3clow alkyl group, low-grade halogenated alkyl, phenyl, cycloalkyl, heterocyclylalkyl or heteroaryl, randomly by one or more q 3dreplace; each q 3dq independently 3eor q 3fq 3ehalogen or hydroxyl; q 3flow alkyl group, lower alkoxy, low-grade halogenated alkyl, phenyl, cycloalkyl, heterocyclylalkyl or heteroaryl, randomly by one or more q 3greplace; or two q 3fform together cycloalkyl, heterocyclylalkyl or heteroaryl, randomly by one or more q 3greplace; each q 3ghalogen, hydroxyl, low alkyl group, rudimentary hydroxyalkyl, low-grade halogenated alkyl, amide group or lower alkoxy independently; q 4q 4aor q 4bq 4ahydroxyl, halogen or cyano group; q 4blow alkyl group, lower alkoxy, low-grade alkynyl, low-grade alkenyl, rudimentary hydroxyalkyl, amino or low-grade halogenated alkyl, randomly by one or more q 4creplace; q 4cq 4dor q 4eeach q 4dhalogen, hydroxyl or cyano group independently; each q 4elow alkyl group, low-grade halogenated alkyl, lower alkoxy, amino, cycloalkyl, phenyl, heterocyclylalkyl or heteroaryl independently, randomly by one or more q 4freplace; and each q 4fhydroxyl, halogen, low alkyl group, low-grade alkenyl, oxo, low-grade halogenated alkyl, lower alkoxy, rudimentary hydroxyalkyl or amino independently.
SYK 및 JAK 억제제로서 피롤로피라진 유도체본 발명은 JAK 및 SYK를 억제하고 자가면역 및 염증성 질환의 치료에 유용한 신규의 하기 화학식 I의 피롤로피라진 유도체의 용도에 관한 것이다: 화학식 I 상기 식에서, 변수 Q, R1 및 R2는 본원에 정의된 바와 같다.하기 화학식 I의 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염:화학식 I[이미지]상기 식에서,R1은 H 또는 OH이고;R2는 하나 이상의 R2'으로 각각 임의적으로 치환된 페닐, 헤테로사이클로알킬, 헤테로아릴 또는 사이클로알킬이고;R2'은 각각 독립적으로 하이드록시, 할로, 옥소, 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 저급 할로알킬, 저급 알콕시, 저급 할로알콕시, 저급 하이드록시알킬, 아미노, 저급 알킬아미노, 저급 다이알킬아미노, 시아노, 저급 시아노알킬, 사이클로알킬, 헤테로사이클로알킬, C(=O)R3 또는 S(=O)2R3이고;R3은 각각 독립적으로 OH, 사이클로알킬 또는 저급 알킬이고;Q는 Q2, Q3 또는 Q4이고;Q2는 하나 이상의 Q2a로 임의적으로 치환된 헤테로사이클로알킬, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 헤테로사이클로알킬 페닐, 헤테로아릴, 바이아릴 또는 헤테로바이아릴이고;Q2a는 Q2b 또는 Q2c이고;Q2b는 할로겐, 옥소, 하이드록시, -CN, -SCH3, -S(O)2CH3 또는 -S(=O)CH3이고; Q2c는 Q2d 또는 Q2e이거나;2개의 Q2a는 함께 하나 이상의 Q2b 또는 Q2c로 임의적으로 치환된 이환형 고리 시스템을 형성하고;Q2d는 -O(Q2e), -S(=O)2(Q2e), -C(=O)N(Q2e)2, -S(O)2(Q2e), -C(=O)(Q2e), -C(=O)O(Q2e), -N(Q2e)C(=O)(Q2e), -N(Q2e)C(=O)O(Q2e) 또는 -N(Q2e)C(=O)N(Q2e)2이고;Q2e는 각각 독립적으로 H 또는 Q2e'이고;Q2e'은 각각 독립적으로 하나 이상의 Q2f로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 페닐, 벤질, 저급 할로알킬, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴이고;Q2f는 Q2g 또는 Q2h이고;Q2g는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 옥소 또는 -C(=O)(Q2h)이고;Q2h는 하나 이상의 Q2i로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 저급 할로알킬, 저급 알콕시, 아미노, 페닐, 벤질, 사이클로알킬, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴이고; Q2i는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 저급 알킬, 저급 할로알킬 또는 저급 알콕시이고;Q3은 -O-Q3a, -S-Q3a, -C(=O)(Q3a), -O(CH2)mC(=O)(Q3a), -S(=O)(Q3a), -S(=O)2(Q3a), -N(Q3a)2, -N(Q3a)S(=O)2(Q3a), -N(Q3a)C(=O)(Q3a), -C(=O)N(Q3a)2, N(Q3a)C(=O)N(Q3a)2 또는 -N(Q3a)(CH2)mC(=O)N(Q3a)2이고;Q3a는 각각 독립적으로 Q3b 또는 Q3c이고;m은 0, 1 또는 2이고;Q3b는 H이고;Q3c는 하나 이상의 Q3d로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 저급 할로알킬, 페닐, 사이클로알킬, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴이고; Q3d는 각각 독립적으로 Q3e 또는 Q3f이고;Q3e는 할로겐 또는 하이드록시이고;Q3f는 하나 이상의 Q3g로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 할로알킬, 페닐, 사이클로알킬, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴이거나; 2개의 Q3f는 함께 하나 이상의 Q3g로 임의적으로 치환된 사이클로알킬, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴을 형성하고;Q3g는 각각 독립적으로 할로겐, 하이드록시, 저급 알킬, 저급 하이드록시알킬, 저급 할로알킬, 아미도 또는 저급 알콕시이고;Q4는 Q4a 또는 Q4b이고;Q4a는 하이드록시, 할로겐 또는 시아노이고; Q4b는 하나 이상의 Q4c로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 알키닐, 저급 알케닐, 저급 하이드록시알킬, 아미노 또는 저급 할로알킬이고; Q4c는 Q4d 또는 Q4e이고;Q4d는 각각 독립적으로 할로겐, 하이드록시 또는 시아노이고;Q4e는 각각 독립적으로 하나 이상의 Q4f로 임의적으로 치환된 저급 알킬, 저급 할로알킬, 저급 알콕시, 아미노, 사이클로알킬, 페닐, 헤테로사이클로알킬 또는 헤테로아릴이고; Q4f는 각각 독립적으로 하이드록시, 할로겐, 저급 알킬, 저급 알케닐, 옥소, 저급 할로알킬, 저급 알콕시, 저급 하이드록시알킬 또는 아미노이다.