Low pH, hydrolytically stable, cosmetic compsn. containing acidic activesThe present invention relates to leave on, oil-in-water, skin care compositions, comprising: (A) from about 0.05% to about 20% of an acidic active ingredient, preferably having a solubility parameter from about 6 to about 12; (B) from about 0.1% to about 25% of alkoxylated alcohols, alkoxylated polyols, and mixtures thereof; (C) from about 1% to about 20% of an acid stable, hydrophobic, structuring agent selected from the group consisting of saturated C16 to C30 fatty alcohols, saturated C16 to C30 fatty alcohols containing from about 1 to about 5 moles of ethylene oxide, saturated C16 to C30 diols, saturated C16 to C30 monoglycerol ethers, saturated C16 to C30 hydroxy fatty acids, and mixtures thereof, having a melting point of at least about 45 DEG C; (D) from about 0.05% to about 10% of an acid stable, hydrophilic surfactant selected from the group consisting of anionic, cationic, zwitterionic, nonionic surfactant, and mixtures thereof; and (F) from about 25% to about 99.7% water; wherein the pH of the composition is about 3.5 or less. These cosmetic compositions provide improved physical and chemical stability, while providing good skin deposition and good skin penetration of the active ingredients, while also providing low dermal irritation.The light skin care compositions of skin, it contains:(a) percentage by weight is approximately 0.05%～20%, preferably approximately is 0.1%～10% acid active ingredient, and its solubility parameter is more preferably greatly between 6～12.these acid active ingredients are preferably from by salicylic acid, acetylsalicylic acid, suitable-tretinoin, anti--tretinoin, azelaic acid, tetracycline, ibuprofen, naproxen, acetominophen, hydrocortisone, resorcinol, phenyl phenol, phenoxypropanol, phenoxy group isopropyl alcohol, 2,4,4 '-three chloro-2 '-dihydroxy diphenyl ether, 3,4,4 '-select in the set that trichloro-symmetrical diphenyl urea, octopirox, 2-phenylbenzimidazole-5-sulfonic acid, dihydroxy acetone and their mixture constitute;(b) about 0.1%～25% alkoxyl alcohol, alkoxy polyols and their mixture, their molecular formula is: wherein, r can select from the set of being made up of alcohol, polyhydric alcohol, two pure and mild their mixture, and the chain length of about 2～10 carbon atoms be arranged; n is an integer of about 3～40; x can select from the set that is made of hydrogen, methyl, ethyl, propyl group or their mixture; (c) about 1%～20% a acid is stable, the structuring reagent of hydrophobicity, and it can be from by saturated c 16to c 30aliphatic alcohol, contain the saturated c of about 1～5 mole oxirane 16to c 30aliphatic alcohol, saturated c 16to c 30dihydroxylic alcohols, saturated c 16to c 30single glycerin ether, saturated c 16to c 30hydroxy fatty acid and the set that constitutes of their mixture in select, approximately at least 45 ℃ fusing point will be arranged simultaneously; (d) about 0.05%～10% hydrophilic surfactant that acid is stable can be selected from the set that is made of anion, cation, amphion, nonionic surfactant and their mixture.be more preferably from the set that cation, nonionic surfactant and their mixture constitute and select;(f) about 25%～99.7% water; wherein the ph value of compositions approximately is 3.5 or lower, and preferably between 2.5～3.5, wherein the viscosity of compositions is more preferably 3,000～200, between the 000cps.
산성 활성 성분을 함유하는 저 pH의 가수분해적으로 안정한 화장 조성물본 발명은 (A) 바람직하게는 약 6 내지 약 12의 용해도 파라메타를 갖는 산성 활성 성분 약 0.05% 내지 약 20%; (B) 알콕시화 알콜, 알콕시화 폴리올 및 이들의 혼합물 약 0.1% 내지 약 25%; (C) C16-C30 포화 지방 알콜, 약 1 내지 약 5몰의 에틸렌 옥사이드를 함유하는 C16-C30 포화 지방 알콜, C16-C30 포화 디올, C16-C30 포화 모노글리세롤 에테르, C16-C30 포화 하이드록시 지방산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된 약 45℃ 이상의 융점을 갖는 산-안정성의 소수성 구조화제 약 1% 내지 약 20%; (D) 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된 산-안정성의 친수성 계면활성제 약 0.05% 내지 약 10%; 및 (F) 물 약 25% 내지 약 99.7%를 포함하는, 약 3.5 이하의 pH를 갖는 리브-온(leave-on) 수중유 피부 보호 조성물에 관한 것이다. 이러한 화장 조성물은 향상된 물리화학적 안정성을 제공하는 동시에 활성 성분의 피부 침착 및 피부 침투성이 양호하고 또한 피부 자극성이 낮다.(A) 바람직하게는 살리실산, 이세틸 살리실산, 시스-레티노산, 트랜스-레티노산, 아젤라산, 테트라사이클린, 이부프로펜, 나프록센, 아세트아미노펜, 하이들코르티손, 레조시놀, 페녹시에탄올, 페녹시프로판올, 페녹시이소프로판올, 2,4,4'-트리클로로-2'-하이드록시디페닐 에테르, 3,4,4'-트리클로로카이브아닐리드, 옥토피록스, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 디하이드록시아세톤, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된, 약 6 내지 약 12의 용해도 파라메타를 갖는 산성 활성 성분 약 0.05 내지 약 20중량%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 10중량%; (B) 하기 일반식을 갖는 알콕시화 알콜, 알콕시화 폴리올 및 이들의 혼합물 약 0.1 내지 약 25중량%; [이미지] 상기 식에서 R은 약 2 내지 약 10개의 탄소원자를 가진 알콜, 폴리올, 디올 및 이들이 혼합물로 이루어진 군중에서 선택되고, n은 약 3 내지 약 40의 정수이며, X는 수소, 메틸, 에틸, 포리필 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된다; (C) C16-C30 포화 지방 알콜, 약 1 내지 약 5몰의 에틸렌 옥사이드를 함유하는 C16-C30 포화 지방 알콜, C16-C30 포화 디올, C16-C30 포화 모노글리세롤 에테르, C16-C30 포화 하이드록시 지방산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된 약 45℃ 이상의 융점을 갖는 산-안정성의 소수성 구조화제 약 1 내지 약 20중량%; (D) 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택된 산-안정성의 친수성 계면활성제 약 0.05 내지 약 10중량%; 및 (E) 물 약 25 내지 약 99.7중량%를 포함하며, 약 3.5 이하, 바람직하게는 약 2.5 내지 약 3.5의 pH 및 바람직하게는 약 3,000 내지 약 200,000PCS의 점도를 갖는 리브-온피부 보호 조성물(leave on skin care composition).