Antimicrobial Acids and SaltsThe invention relates to novel acidic siloxane derivatives, the use, methods of use or processes making use of siloxane derivatives of this type, especially to achieve an anti-microbial, preservative and/or antiadhesive effect, for the protection of articles and/or materials, and a process for the manufacture of the novel compounds. The siloxane acids (which may also be in salt form) have the formula (I), formula (II) and/or formula (III), wherein the symbols have the meanings given in the specification.  A method of achieving an antimicrobial, preservative and/or microorganism adhesion inhibiting effect for the protection within or on the surface of an article and/or material which method comprises applying an acid compound, acid compound mixture or acid composition comprising, an acid of the formula I, wherein R1=a linear or branched C1-C7-alky; Q represents a linear or branched C1-C10-alkyl moiety substituted with 1-3 functional groups independently selected from the group consisting of COOH, P(O)(OH)2 and S(O)2(OH) which are attached via a C-atom to said moiety; m represents an integer from 1 to about 20; o represents an integer from 0 to 15; and the acid preferably has a polydispersity of up to about 3 and a weight-average molecular weight of 600 to about 3000; an acid of the general formula II, wherein R1=methyl Q represents a linear or branched C1-C10-alkyl moiety substituted with 1-3 functional groups independently selected from the group consisting of COOH, P(O)(OH)2 and S(O)2(OH) which are attached via a C-atom to said moiety; and n represents an integer from 0 to 15; and/or an acid of the formula III, wherein: R1=methyl Q represents a linear or branched C1-C10-alkyl moiety substituted with 1-3 functional groups independently selected from the group consisting of COOH, P(O)(OH)2 and S(O)2(OH) which are attached via a C-atom to said moiety; p represents an integer from 1 to about 20; q represents an integer from 1 to about 20; r represents an integer from 0 to 15; and the acid preferably has a polydispersity of up to about 3 and a weight-average molecular weight of 600 to about 3000; to an article and/or material in order to achieve an antimicrobial, preservative and/or microorganism adhesion inhibiting effect for the protection of said article and/or material; with the proviso that, if the acid compound, acid compound mixture or acid composition used is one comprising only one or more acids of the formula III wherein Q is selected solely from the group consisting of linear or branched C1-C10-alkyl moieties substituted with two functional COON groups attached via a C-atom to said moiety, the method either is limited to a method for achieving an antimicrobial and/or a preservative effect, or, the method is limited to coating or impregnation of materials comprising synthetic polymers or polymer precursors or monomeric compounds, or of articles made from such materials or to the bulk addition to a material or an article; or in addition to one or more acids of the formula III at least another acid compound comprising an acid of the formula I as defined above, an acid of the formula II as defined above; and/or at least one acid compound comprising an additional different acid of the formula III as mentioned above wherein at least one moiety Q is present which is a linear or branched C1-C10-alkyl moiety substituted with 1 to 3 COOH, P(O)(OH)2 and/or S(O)2(OH) groups, with the proviso that in the case of a compound of the formula III said moiety Q does not carry only 2 COOH groups, is applied in addition; and wherein an acid of the formula I, II and/or III the mentioned COOH, P(O)(OH)2 and S(O)2(OH) groups may also be partially or completely present in negatively charged form, so that the acids of the formula I, II and/or Ill may also be partially or completely be present as salts.
항균성 산 및 염본 발명은 제품 및/또는 재료를 보호하기 위해 특히 항균, 보호 및/또는 부착 방지 효과를 얻기 위한 신규한 산성 실록산 유도체, 그 용도, 이용 방법 또는 이러한 형태의 실록산 유도체를 이용하기 위한 방법 및 상기 신규한 화합물의 제조방법에 관련된다. 상기 실록산 산(염 형태로 존재할 수 있음)은 하기 식(I), (II), 및/또는 (III)를 갖는다.    상기 식에서, 변수는 명세서 중에서 정의한 바와 같다. 제품 및/또는 재료의 보호를 위해 항균, 보존 및/또는 미생물 부착 억제 효과를 얻도록 제품 및/또는 재료에 하기 식(I), (II) 및/또는 (III)의 산을 포함하는 산 화합물을 적용하는 것을 포함하는, 제품 및/또는 재료의 내부 또는 표면의 보호를 위해 항균, 보존 및/또는 미생물 부착 억제 효과를 얻는 방법.  상기 식에서, R1은 저급 알킬, 특히 메틸이고; Q는 직쇄 또는 측쇄 C1-C10-알킬 잔기로서, C-원자를 통해 상기 잔기에 결합되는 COOH, P(O)(OH)2 및 S(O)2(OH)로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된 1 내지 3의 관능기로 치환되고; m은 1 내지 약 20의 정수이고; o는 0 내지 15의 정수이고; 및 상기 산은 바람직하게는 약 3 이하의 다분산도 및 600 내지 약 3000의 중량 평균 분자량을 갖고;  상기 식에서, R1은 메틸이고, Q는 직쇄 또는 측쇄 C1-C10-알킬 잔기로서, C-원자를 통해 상기 잔기에 결합되는 COOH, P(O)(OH)2 및 S(O)2(OH)로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된 1 내지 3의 관능기로 치환되고; 및 n은 0 내지 15의 정수이고;  상기 식에서, R1은 메틸이고, Q는 직쇄 또는 측쇄 C1-C10-알킬 잔기로서, C-원자를 통해 상기 잔기에 결합되는 COOH, P(O)(OH)2 및 S(O)2(OH)로 이루어진 군에서 독립적으로 선택된 1 내지 3의 관능기로 치환되고; p는 1 내지 약 20의 정수이고; q는 1 내지 약 20의 정수이고; r은 0 내지 15의 정수이고; 및 상기 산은 바람직하게는 약 3 이하의 다분산도 및 600 내지 약 3000의 중량 평균 분자량을 갖고; 단, 상기 산 화합물이 단지 하나 이상의 식(III)의 산을 포함하는 것이 사용되는 경우로서, 이때 Q가 단지 C-원자를 통해 잔기에 결합되는 2개의 관능 COOH기로 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C10-알킬 잔기로 구성된 군으로부터 선택되는 경우, 그 용도는 항균 및/또는 보존 효과를 얻기 위한 용도로 한정되거나, 또는 그 용도가 미생물 부착 억제 효과를 제공하기 위한 것인 경우, 그 용도는 합성 중합체 또는 중합체 전구체 또는 단량체 화합물을 포함하는(특히 구성되는) 재료, 또는 그러한 재료로부터 제조되는 제품을 코팅 또는 함침하거나, 또는 재료 또는 제품에 벌크 부가하는 것에 한정되고; 또는 하나 이상의 식(III)의 산 이외에 상기에 정의된 식(I)의 산, 상기에 정의된 식(II)의 산을 포함하는 적어도 다른 산 화합물; 및/또는 상기에 정의된 식(III)의 부가적인 다른 산을 포함하는 적어도 하나의 산 화합물도 적용되고, 이때 적어도 하나의 잔기 Q는 1 내지 3의 COOH, P(O)(OH)2 및/또는 S(O)2(OH)기로 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C10-알킬 잔기이고, 단 식(III)의 화합물의 경우 상기 잔기 Q는 단지 2개의 COOH기를 갖지 않으며, 바람직하게는 식(I), (II) 및/또는 (III)의 산에서, COOH, P(O)(OH)2 및 S(O)2(OH)기는 또한 부분적으로 또는 완전하게 음으로 대전된 형태로 존재할 수 있고, 그 결과 식(I), (II) 및/또는 (III)의 산은 또한 부분적으로 또는 완전하게 염으로서 존재할 수 있는 것을 특징으로 하는 항균, 방부제 및/또는 미생물 부착을 달성하는 방법.