Ionization radiation imageable photopolymer compositionsThis invention discloses compositions that can be polymerized/crosslinked imagewise upon exposure to ionization radiation such as x-ray, electron beam, ion beam, and gamma-ray. This invention also discloses methods of use for these compositions for microfabrication of ceramics, for stereolithography, and for x-ray, e-beam, and ion-beam lithography which can be used for photoresists.Can form by following material substantially by ionising radiation by the composition of imaging polymerized/cross-linked for one kind:(a) 10-90wt% has the reactive monomer of at least one amide functional group, and described monomer is selected from: r wherein 1, r 2, r 3, r 4and r 5be selected from hydrogen; aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); unsaturated aliphatic group c nh 2n-1(n=1-20); have the substituent aliphatic group of acid amides or acrylamide and have the substituent aliphatic group of r ' o-, wherein r ' represents aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); r wherein 1and r 2be selected from hydrogen; aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); unsaturated aliphatic group c nh 2n-1(n=1-20); and acetamide; r wherein 1and r 2be selected from hydrogen; aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); and unsaturated aliphatic group c nh 2n-1(n=1-20); r wherein 1and r 2be selected from hydrogen; aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); unsaturated aliphatic group c nh 2n-1(n=1-20); and the amino aliphatic group c that replaces nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); (b) 10-90wt% multi-group crosslink agent, described crosslinking chemical is made of the skeleton that has 2 functional groups at least, and described skeleton is selected from:(1) line style or branched aliphatic chain-(crh) n-, n=1-1000, wherein r represents aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); (2) glycol chain-(ch 2ch 2o) n-, n=1-1000 wherein; (3) propylene glycol chain-(ch (ch n) ch 2o) n-, n=1-1000 wherein; (4) cyclohexyl; with(5) isocyanuric acid ester c 3n 3o 3and wherein functional group is selected from: (a) acrylate r wherein 1, r 2and r 3be selected from hydrogen and aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); (b) carboxylic acid-cooh;(c) epoxide r wherein 1, r 2and r 3be selected from hydrogen or aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); with (d) vinyl r wherein 1, r 2and r 3be selected from hydrogen or aliphatic group c nh 2n+1and c nh 2n-1(n=1-20); with (c) the 0.1-80wt% granularity is the inorganic ray sensitizer of 1-1000 nanometer, and described ray sensitizer is selected from v b-vi b semiconductor, v b-vii b semiconductor, ii b-vi b semiconductor, ii b-v b semiconductor, iii b-v b semiconductor, iii b-vi b semiconductor, i b-vi b semiconductor and iv b-vii b semiconductor.
이온화 방사선 화상화가능한 광중합체 조성물본 발명은 X-선, 전자 비임, 이온 비임 및 감마선과 같은 이온화 방사선에 노출시에 화상으로 중합/가교될 수 있는 조성물을 개시한다. 본 발명은 또한 세라믹의 미세조립, 입체 리소그래피, 및 포토레지스트를 위해 사용가능한 X-선, e-비임 및 이온 비임 리소그래피를 위해 상기 조성물을 사용하는 방법을 개시한다.(A) 하기 화학식 1, 2, 3 및 4로 구성된 군에서 선택되며, 적어도 하나의 아미드 작용기를 갖는 반응성 단량체 10 내지 90 중량%; (B) 적어도 2개의 작용기를 갖는 주쇄로 구성되고, 상기 주쇄가 (1) 직쇄 또는 분지쇄 지방족 사슬, -(CRH)n- (식중, n=1∼1000, R은 지방족기, CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20)를 나타낸다); (2) 에틸렌 글리콜 사슬, -(CH2CH2O)n- (식중, n=1∼1000); (3) 프로필렌 글리콜 사슬, -(CH(CH3)CH2O)n- (식중, n=1∼1000); (4) 시클로헥실; 및 (5) 이소시아누레이트, C3N3O3 로 구성된 군에서 선택되고, 상기 작용기가 (a) 아크릴레이트, [이미지] (식중, R1, R2 및 R3는 수소 및 지방족 기 CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20)로 구성된 군에서 선택된다); (b) 카르복실산, -COOH; (c) 에폭시드, [이미지] (식중, R1, R2 및 R3는 수소 또는 지방족기 CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20)로부터 선택된다); 및 (d) 비닐 [이미지] (식중, R1, R2 및 R3는 수소 또는 지방족 기 CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20)로부터 선택된다) 로 구성된 군에서 선택되는 다작용성 가교제 10 내지 90 중량%; 및 (C) VB-VIB 반도체, VB-VIIB 반도체, IIB-VIB 반도체, IIB-VB 반도체, IIIB-VB 반도체, IIIB-VIB 반도체, IB-VIB 반도체 및 IVB-VIIB 반도체로 구성된 군에서 선택되며, 1 내지 1000 나노미터 범위의 입자 크기를 갖는 무기 방사선 증감제 0.1 내지 80 중량% 로 본질적으로 구성된, 이온화 방사선에 의해 화상으로 중합/가교될 수 있는 조성물. <화학식 1> [이미지] 상기 식에서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 수소; 지방족 기 CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20); 불포화 지방족 기 CnH2n-1 (n=1 내지 20); 아미드 또는 아크릴아미드 치환기를 갖는 지방족 기, 및 R'O-치환기를 갖는 지방족 기 (식중, R'는 지방족 기, CnH2n+1 및 CnH2n-1 (n= 1 내지 20)를 나타낸다)로 구성된 군에서 선택된다. <화학식 2> [이미지] 상기 식에서, R1 및 R2는 수소; 지방족 기 CnH2n+1 및 Cn H2n-1 (n= 1 내지 20); 불포화 지방족 기 CnH2n-1 (n=1 내지 20); 및 아세트아미드로 구성된 군에서 선택된다. <화학식 3> [이미지] 상기 식에서, R1 및 R2는 수소; 지방족 기 CnH2n+1 및 Cn H2n-1 (n= 1 내지 20); 및 불포화 지방족 기 CnH2n-1 (n=1 내지 20)으로 구성된 군에서 선택된다. <화학식 4> [이미지] 상기 식에서, R1 및 R2는 수소; 지방족 기 CnH2n+1 및 Cn H2n-1 (n=1 내지 20); 불포화 지방족 기 CnH2n-1 (n=1 내지 20); 및 아미노-치환된 지방족 기 CnH 2n+1 및 CnH2n-1 (n=1 내지 20)으로 구성된 군에서 선택된다.