METHOD FOR PRODUCING DIFLUOROMETHYLENE COMPOUNDThe present invention provides a method for producing a difluoromethylene compound and an intermediate thereof, which are useful in the field of pharmaceuticals.Specifically provided is a method for producing a difluoromethylene compound, including a step of allowing a compound represented by formula (6): [Image] [wherein L1 represents a halogen atom, a cyano group, a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxy group, a halo-lower alkoxy group, or a hydroxy lower alkyl group; R1 represents a lower alkyl group, a halogen atom, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cyano group, or a hydroxy lower alkyl group; and W represents a nitrogen atom or a methine group] to react with a compound represented by formula (7) : [Image] [wherein R2 represents a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkenyl group, or an aralkyl group; and R3 represents a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom].A method for producing a compound represented by formula (9) : [Image] [wherein L1 represents a halogen atom, a cyano group, a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxy group, a halo-lower alkoxy group, or a hydroxy lower alkyl group; R1 represents a lower alkyl group, a halogen atom, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a cyano group, or a hydroxy lower alkyl group; and W represents a nitrogen atom or a methine group], the method comprising the following steps (A) to (F): a step (A): a step of allowing a compound represented by formula (1):[Image] [wherein R1, and W are as defined above] to react with a compound represented by formula (2): [Image] [wherein L1 is as defined above; L2 is a halogen atom or a group represented by -OSO2R4; R4 represents a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, or an aryl group (wherein the aryl group is optionally substituted with a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group); LG is a halogen atom or a group represented by -OSO2R5; and R5 represents a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, or an aryl group (wherein the aryl group is optionally substituted with a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group)] to give a compound represented by formula (3):[Image] [wherein L1, L2, R1, and W are as defined above], a step (B): a step of cyanating L2 of the compound represented by formula (3) to give a compound represented by formula (4): [Image] [wherein L1, R1, and W are as defined above], a step (C) : a step of reducing a nitro group of the compound represented by formula (4) to give a compound represented by formula (5):[Image] [wherein L1, R1, and W are as defined above] or a salt thereof, a step (D) : a step of halogenating an amino group of the compound represented by formula (5) or salt thereof to give a compound represented by formula (6): [Image] [wherein L1, R1, and W are as defined above, and XL is a halogen atom], a step (E) : a step of allowing the compound represented by formula (6) to react with a compound represented by formula (7) : [Image] [whereinR2 represents a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkenyl group, or an aralkyl group; and R3 represents a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom] to give a compound represented by formula (8): [Image] [wherein L1, R1, R2, and W are as defined above], and a step (F): a step of removing R2 of the compound represented by formula (8).
디플루오로메틸렌 화합물의 제조법본 발명은 의약 분야에서 유용한 디플루오로메틸렌 화합물 및 그 중간체의 제조법을 제공한다. 구체적으로는 식(6)：[이미지] [식중, L1은, 할로겐 원자, 시아노기, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알콕시기, 할로저급 알콕시기 또는 히드록시 저급 알킬기를 나타내고； R1은, 저급 알킬기, 할로겐 원자, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 시아노기 또는 히드록시 저급 알킬기를 나타내고； W는, 질소 원자 또는 메틴기를 나타낸다.] 으로 나타내어지는 화합물과, 식(7)：[이미지] [식중, R2는, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알케닐기 또는 아랄킬기를 나타내고； R3은, 염소 원자, 취소 원자 또는 옥소 원자를 나타낸다.] 로 나타내어지는 화합물을 반응시키는 공정을 포함하는 디플루오로메틸렌 화합물의 제조법을 제공한다.이하의 공정(A)∼(F)：공정(A)： 식(1)：[이미지][식중,R1은, 저급 알킬기, 할로겐 원자, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 시아노기 또는 히드록시 저급 알킬기를 나타내고；W는 질소 원자 또는 메틴기를 나타낸다.]로 나타내어지는 화합물과, 식(2)：[이미지][식중,L1은, 할로겐 원자, 시아노기, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알콕시기, 할로저급 알콕시기 또는 히드록시 저급 알킬기를 나타내고；L2는, 할로겐 원자 또는 －OSO2R4로 나타내어지는 기이고；R4는, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기 또는 아릴기를 나타내고(여기서, 당해(當該) 아릴기는, 할로겐 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.)；LG는, 할로겐 원자 또는 －OSO2R5로 나타내어지는 기이고；R5는, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다(여기서, 당해 아릴기는, 할로겐 원자, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.).]로 나타내어지는 화합물을 반응시켜, 식(3)：[이미지][식중, L1, L2, R1 및 W는 상기와 동의(同義)이다.]으로 나타내어지는 화합물을 얻는 공정,공정(B)： 식(3)으로 나타내어지는 화합물의 L2를 시아노화하는 것에 의해, 식(4)：[이미지][식중, L1, R1 및 W는 상기와 동의이다.]로 나타내어지는 화합물을 얻는 공정,공정(C)： 식(4)로 나타내어지는 화합물의 니트로기를 환원시켜, 식(5)：[이미지][식중, L1, R1 및 W는 상기와 동의이다.]로 나타내어지는 화합물 또는 그의 염을 얻는 공정,공정(D)： 식(5)로 나타내어지는 화합물 또는 그의 염의 아미노기를 할로겐화하는 것에 의해, 식(6)：[이미지][식중, L1, R1 및 W는 상기와 동의이고, XL은 할로겐 원자이다.]으로 나타내어지는 화합물을 얻는 공정,공정(E)： 식(6)으로 나타내어지는 화합물과, 식(7)：[이미지][식중,R2는, 저급 알킬기, 할로저급 알킬기, 시클로알킬기, 저급 알케닐기 또는 아랄킬기를 나타내고；R3은 염소 원자, 취소(臭素) 원자 또는 옥소(沃素) 원자를 나타낸다.]로 나타내어지는 화합물을 반응시켜, 식(8)：[이미지][식중, L1, R1, R2 및 W는 상기와 동의이다.]로 나타내어지는 화합물을 얻는 공정,공정(F)： 식(8)로 나타내어지는 화합물의 R2를 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 식(9)：[이미지][식중, L1, R1 및 W는 상기와 동의이다.]로 나타내어지는 화합물의 제조법.