Deposition platform for flexible substrates and method of operation thereofAn apparatus for processing a flexible substrate is described. The apparatus includes a vacuum chamber having a first chamber portion, a second chamber portion and a third chamber portion, an unwinding shaft for supporting the flexible substrate to be processed and a winding shaft supporting the flexible substrate having the thin film deposited thereon, wherein the unwinding shaft and the winding shaft are arranged in the first chamber portion, at least one gap sluice for separating the first chamber portion from the second chamber portion, wherein the gap sluice is configured such that the flexible substrate can move there through and the gap sluice can be opened and closed for providing a vacuum seal, a coating drum having a rotation axis and a curved outer surface for guiding the substrate along the curved outer surface through a first vacuum processing region and at least one second vacuum processing region, wherein a first portion of the coating drum is provided in the second chamber portion and the remaining portion of the coating drum is provided in the third chamber portion, a first processing station corresponding to the first processing region and at least one second processing station corresponding to the at least one second vacuum processing region, wherein the first processing station and the second processing station each includes a flange portion for providing a vacuum connection. Further, the third chamber portion has a convex shaped chamber wall portion, wherein the third chamber portion has at least two openings provided therein, particularly wherein the at least two openings are essentially parallel to the convex shaped chamber wall portion; and wherein the first processing station and the at least one second processing station are configured to be received in the at least two openings, wherein the flange portions of the first processing station and the second processing station provide a vacuum tight connection with the third chamber.1., for the treatment of an equipment for flexible base board, described equipment comprises:vacuum chamber, described vacuum chamber has the first chamber portion, the second chamber portion and the 3rd chamber portion;unwinding axle and winding axle, described unwinding axle is for supporting pending described flexible base board, and described winding axle has thin film deposition described flexible base board thereon for supporting, and wherein said unwinding axle and described winding axle are disposed in described first chamber portion;at least one gap gate, for making described first chamber portion be separated with described second chamber portion, wherein said gap gate be configured to make described flexible base board can from wherein mobile by and described gap gate can open and close to provide vacuum-sealing;painting drum, described painting drum has turn axle and bending outside surface, for guiding described substrate by the first vacuuming area and at least one the second vacuuming area along described bending outside surface, the first part of wherein said painting drum is arranged in described second chamber portion, and the remainder of described painting drum is arranged in described 3rd chamber portion;the first treatment station corresponding to described first treatment zone and at least one second treatment station corresponding at least one the second vacuuming area described, wherein said first treatment station and described second treatment station comprise separately:flange portion, described flange portion is used for providing bonding in vacuum;wherein said 3rd chamber portion has convex chamber walls, and wherein said 3rd chamber portion has at least two openings be arranged on wherein, and specifically, wherein said at least two openings are arranged essentially parallel to described convex chamber wall part; and at least two openings described in wherein said first treatment station and at least one second treatment station described are configured to be received in, wherein said first treatment station and the described flange portion of described second treatment station provide and are connected with the vacuum-sealing of described 3rd chamber portion.
가요성 기판들을 위한 증착 플랫폼 및 그 작동 방법가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치가 설명된다. 이 장치는, 제 1 챔버 부분, 제 2 챔버 부분 및 제 3 챔버 부분을 갖는 진공 챔버, 프로세싱될 가요성 기판을 지지하기 위한 언와인딩 샤프트(unwinding shaft) 및 박막이 상부에 증착된 가요성 기판을 지지하는 와인딩 샤프트(winding shaft) ― 언와인딩 샤프트 및 와인딩 샤프트는 제 1 챔버 부분에 배열됨 ―, 제 2 챔버 부분으로부터 제 1 챔버 부분을 분리하기 위한 적어도 하나의 갭 슬루스(gap sluice) ― 갭 슬루스는, 가요성 기판이 갭 슬루스를 통해 이동할 수 있고 갭 슬루스가 진공 시일을 제공하기 위해 개방되고 폐쇄될 수 있도록 구성됨 ―, 회전 축 및 만곡된 외측 표면을 갖는 코팅 드럼 ― 상기 만곡된 외측 표면은 제 1 진공 프로세싱 영역 및 적어도 하나의 제 2 진공 프로세싱 영역을 통해 만곡된 외측 표면을 따라 기판을 가이딩하며, 코팅 드럼의 제 1 부분은 제 2 챔버 부분에 제공되고, 코팅 드럼의 나머지 부분은 제 3 챔버 부분에 제공됨 ―, 및 제 1 프로세싱 영역에 대응하는 제 1 프로세싱 스테이션 및 적어도 하나의 제 2 진공 프로세싱 영역에 대응하는 적어도 하나의 제 2 프로세싱 스테이션을 포함하고, 제 1 프로세싱 스테이션 및 적어도 하나의 제 2 프로세싱 스테이션은 각각, 진공 연결부(vacuum connection)를 제공하기 위한 플랜지 부분;을 포함한다. 또한, 제 3 챔버 부분은 볼록 형상 챔버 벽 부분을 가지고, 제 3 챔버 부분은 제 3 챔버 부분의 내부에 제공되는 적어도 2개의 개구들을 가지며, 특히 적어도 2개의 개구들은 볼록 형상 챔버 벽 부분에 본질적으로 평행하고, 제 1 프로세싱 스테이션 및 적어도 하나의 제 2 프로세싱 스테이션은 적어도 2개의 개구들 내에 수용되도록 구성되며, 제 1 프로세싱 스테이션 및 제 2 프로세싱 스테이션의 플랜지 부분들은 제 3 챔버 부분과의 진공 기밀 연결부(vacuum tight connection)를 제공한다.가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치로서,제 1 챔버 부분, 제 2 챔버 부분 및 제 3 챔버 부분을 갖는 진공 챔버;프로세싱될 가요성 기판을 지지하기 위한 언와인딩 샤프트(unwinding shaft) 및 박막이 상부에 증착된 상기 가요성 기판을 지지하는 와인딩 샤프트(winding shaft) ― 상기 언와인딩 샤프트 및 상기 와인딩 샤프트는 상기 제 1 챔버 부분에 배열됨 ―; 상기 제 2 챔버 부분으로부터 상기 제 1 챔버 부분을 분리하기 위한 적어도 하나의 갭 슬루스(gap sluice) ― 상기 갭 슬루스는, 상기 가요성 기판이 상기 갭 슬루스를 통해 이동할 수 있고 상기 갭 슬루스가 진공 시일을 제공하기 위해 개방되고 폐쇄될 수 있도록 구성됨 ―; 회전 축 및 만곡된 외측 표면을 갖는 코팅 드럼 ― 상기 만곡된 외측 표면은 제 1 진공 프로세싱 영역 및 적어도 하나의 제 2 진공 프로세싱 영역을 통해 상기 만곡된 외측 표면을 따라서 기판을 가이딩하며, 상기 코팅 드럼의 제 1 부분은 상기 제 2 챔버 부분에 제공되고, 상기 코팅 드럼의 나머지 부분은 상기 제 3 챔버 부분에 제공됨 ―; 제 1 프로세싱 영역에 대응하는 제 1 프로세싱 스테이션 및 상기 적어도 하나의 제 2 진공 프로세싱 영역에 대응하는 적어도 하나의 제 2 프로세싱 스테이션을 포함하고,상기 제 1 프로세싱 스테이션 및 제 2 프로세싱 스테이션은 각각, 진공 연결부(vacuum connection)를 제공하기 위한 플랜지 부분;을 포함하고, 상기 제 3 챔버 부분은 볼록 형상 챔버 벽 부분을 가지고, 상기 제 3 챔버 부분은 상기 제 3 챔버 부분의 내부에 제공되는 적어도 2개의 개구들을 가지며, 특히 상기 적어도 2개의 개구들은 상기 볼록 형상 챔버 벽 부분에 본질적으로 평행하고, 상기 제 1 프로세싱 스테이션 및 상기 적어도 하나의 제 2 프로세싱 스테이션은 적어도 2개의 개구들 내에 수용되도록 구성되며, 상기 제 1 프로세싱 스테이션 및 상기 제 2 프로세싱 스테이션의 상기 플랜지 부분들은 상기 제 3 챔버 부분과의 진공 기밀 연결부(vacuum tight connection)를 제공하는가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치.