NOVEL ORGANOPOLYSILOXANE OR ACID NEUTRALIZATION SALT THEREOF, AND USES OF THESEAn object is to provide a novel silicone material that has an excellent surface activity ability and characteristics of an oil agent while being a material of a PEG-Free structure including no polyoxyalkylene structure and the like, enables ionic management and viscosity management which have been difficult to implement with conventional hydrophilic silicone materials, and has a unique property of an oil agent, to largely increase a degree of freedom of compounding and designing for a formulation technician, and to provide an application of the material.A silicone material according to the present invention is a novel organopolysiloxane or acid-neutralized salt thereof that contains a side-chain bonded hydrophilic group having tertiary-amine structure and represented by Formula: -CqH2q-O-CH2-CH(OH)-CH2-N(RQ1)(RQ2) (wherein q is a number ranging from 1 to 6, RQ1 and RQ2 are a halogen-substituted or non-substituted monovalent hydrocarbon group or alkanol group, at least one of RQ1 and RQ2 has a hydroxyl group, but total number of hydroxyl groups in RQ1 and RQ2 is 3 or less), and any of RQ1 and RQ2 does not have a nitrogen atom in the group.An organopolysiloxane represented by the following general formula (1) or acid-neutralized salt thereof: [Formula 1]         R1aR2bL1cQdSiO(4-a-b-c-d)/2     (1){wherein R1 represents a monovalent organic group not having nitrogen atom or polyoxyalkylene structure or any reactive structure to radical polymerization (with the proviso that R2, L and Q are excluded therefrom), a hydrogen atom, or a hydroxyl group; R2 represents a halogen-substituted or non-substituted, and linear or branched monovalent hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, L1 represents a silylalkyl group having a siloxane dendron structure, in the case of i = 1, represented by the following general formula (3)  (wherein R3 independently represents a substituted or non-substituted, and linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, R4 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, Z is a divalent organic group, i specifies a number of generations of said silylalkyl group, represented by Li, in the case in which a number of generations of said silylalkyl group, which is a number of repetitions of said silylalkyl group, is k, i is an integer ranging from 1 to k, and a number of generations k is an integer ranging from 1 to 10, Li+1 is said silylalkyl group in the case of i < k, and Li+1 is R4 in the case of i = k, and hi is a number ranging from 0 to 3), or an organosiloxane group in the form of a chain, represented by the following general formula (2-1)  (wherein R11 is independently a substituted or non-substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a hydroxyl group or a hydrogen atom, at least one of R11 is said monovalent hydrocarbon group; t is a number ranging from 2 to 10; and r is a number ranging from 1 to 500), or represented by the following general formula (2-2)  (wherein R11 and r are the same as defined above); Q represents a side-chain bonded hydrophilic group having tertiary-amine structure and represented by following general formula: -CqH2q-O-CH2-CH(OH)-CH2-N(RQ1)(RQ2) (wherein q is a number ranging from 1 to 6, RQ1 and RQ2 are a halogen-substituted or non-substituted monovalent hydrocarbon group or alkanol group, at least one of RQ1 and RQ2 has a hydroxyl group, but total number of hydroxyl groups in RQ1 and RQ2 is at most three (3), and any of RQ1 and RQ2 does not have a nitrogen atom in the group); and each of a, b, c, and d is independently a number having the following range: 1.0 ≤ a ≤ 2.5, 0 ≤ b ≤ 1.5, 0 ≤ c ≤ 1.5, and 0.0001 ≤ d ≤ 1.5} and the number of Si atoms ranging from 4 to 1000.
신규 오가노폴리실록산 또는 그의 산 중화 염, 및 그것들의 용도 폴리옥시알킬렌 구조 등을 함유하지 않는, PEG-FREE 구조이면서, 뛰어난 계면 활성능 및 유제로서의 특성을 가지고, 또한 종래의 친수성 실리콘 재료에서는 실현 곤란했던, 이온성 매니지먼트 및 점도 매니지먼트가 가능하고, 또한 유제로서 특이한 성질을 구비한, 처방 설계 기술자에게 있어서의 배합이나 설계의 자유도를 크게 확장하는 신규한 실리콘 재료 및 그의 용도를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 실리콘 재료는 식: -CqH2q-O-CH2-CH(OH)-CH2-N(RQ1)(RQ2)(식 중, q는 1∼6의 범위의 수이며, RQ1 및 RQ2는 관능기 중에 질소 원자를 함유하지 않고, 할로겐 원자에 의해 치환 또는 비치환의 1가 탄화수소기 또는 알칸올 기이며, RQ1 및 RQ2 중 어느 한쪽은 하이드록실기를 가지고, 또한 RQ1 및 RQ2 중의 하이드록실기의 합계수는 3 이하이다)로 표시되는 3급 아민 구조를 함유하고, 분자쇄 측쇄에 결합한 친수성 기를 함유하는, 신규한 오가노폴리실록산 또는 그의 산 중화 염이다. 하기 일반식(1):[화 1]{식 중, R1은 질소 원자, 폴리옥시알킬렌 구조 또는 라디칼 중합에 대한 반응성 구조를 가지지 않는 1가 유기기(단, R2, L1 및 Q를 제외한다), 수소 원자 또는 수산기를 나타내고;R2는 탄소 원자수 6∼30의, 할로겐 원자에 의해 치환 또는 비치환의, 직쇄상 또는 분기상의 1가 탄화수소기이며L1은, i=1일 때, 하기 일반식(3);[화 2](식 중, R3은 각각 독립하여 탄소 원자수 1∼30의, 치환 또는 비치환의, 직쇄상 또는 분기상의 1가 탄화수소기를 나타내고, R4는 각각 독립하여 탄소 원자수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, Z는 2가 유기기를 나타내고, i는 Li로 표시되는 실릴알킬기의 계층을 나타내고, 당해 실릴알킬기의 반복수인 계층수가 k일 때, 1∼k의 정수이며, 계층수 k는 1∼10의 정수이며, Li+1은, i가 k 미만일 때는 당해 실릴알킬기이며, i=k일 때는 R4이며, hi는 0∼3의 범위의 수이다)로 표시되는 실록산 덴드론 구조를 가지는 실릴알킬기, 또는하기 일반식(2-1);[화 3](식 중, R11은 각각 독립하여 치환 또는 비치환의 탄소 원자수 1∼30의 1가 탄화수소기, 수산기 또는 수소 원자이며, R11 중 적어도 하나는 상기 1가 탄화수소기이다. t는 2∼10의 범위의 수이며, r은 1∼500의 범위의 수이다) 또는 하기 일반식(2-2);[화 4](식 중, R11 및 r은 상기한 바와 같다)로 표시되는 쇄상의 오가노실록산기이며,Q는 식: -CqH2q-O-CH2-CH(OH)-CH2-N(RQ1)(RQ2) (식 중, q는 1∼6의 범위의 수이며, RQ1 및 RQ2는 관능기 중에 질소 원자를 함유하지 않고, 할로겐 원자에 의해 치환 또는 비치환의 1가 탄화수소기 또는 알칸올기이며, RQ1 및 RQ2 중 어느 한쪽은 하이드록실기를 가지고, 또한 RQ1 및 RQ2 중의 하이드록실기의 합계수는 3 이하이다)로 표시되는 3급 아민 구조를 함유하고, 분자쇄 측쇄에 결합한 친수성 기이며,a, b, c 및 d는 각각 1.0≤a≤ 2.5, 0≤b≤1.5, 0≤c≤1.5, 0.0001≤d≤1.5의 범위에 있는 수이다}로 표시되고, 또한 규소 원자수가 4∼1000의 범위인, 오가노폴리실록산 또는 그의 산 중화 염.