Method for forming antifouling coating filmProvided is a method for forming an antifouling coating film. The method for forming an antifouling coating film includes [1] a step for preparing a colored antifouling coating material which includes a predetermined Si-containing hydrolysable resin and a colored pigment; a coating film formed from the colored antifouling coating material has a target dry film thickness and completely covers the surface of an article to be coated, the color difference (delta E1) between a coating film having the target dry film thickness and a coating film having a dry film thickness of 0.8 T is 2.0 or greater, and preferably the color difference (delta E2) between a coating film having the target dry film thickness and a coating film having a dry film thickness of 1.2 T is less than 1.The formation method of an antifouling coat, it is the method that forms antifouling coat on the surface of coated article, comprising:[1] operation of the painted antifouling paint of preparation; with[2] said painted antifouling paint is painted on the surface of said coated article, up to the complete operation till hidden of filming of being formed by said painted antifouling paint of the surface of said coated article;wherein,said painted antifouling paint is the painted antifouling paint that contains water-disintegrable resin and coloring pigment, and it satisfies following condition (a)～(c):(a) have the surface of said coated article is hidden fully of target dry film thickness t by filming of forming of said painted antifouling paint,what (b) have a target dry film thickness t is that the aberration δ e1 that films that is formed by said painted antifouling paint of 0.8t is more than 2.0 by filming of forming of said painted antifouling paint and dry film thickness,(c) said water-disintegrable resin contains water-disintegrable resin (i) and/or water-disintegrable resin (ii);said water-disintegrable resin (i) is the water-disintegrable resin that has the group of the containing metal atom that contains divalent metallic atom m and be selected from least a siliceous group in the group that the group and the formula (iv) of group, formula (iii) expression of group, formula (ii) expression of formula (i) expression representin the said general formula (i), a and b represent independently that respectively 2～5 integer, m represent that 0～50 integer, n represent 3～80 integer, r 1～r 5represent alkyl, alkoxyl, phenyl, substituted-phenyl, phenoxy group or substituent phenoxy respectively independently, in the said general formula (ii), c and d represent independently that respectively 2～5 integer, p represent 0～50 integer, r 6, r 7and r 8represent alkyl, r respectively independently aor r b, at this, r afor in the formula, x representes 0～20 integer, r 23～r 27identical or different and the expression alkyl, r bfor in the formula, y representes 1～20 integer, r 28and r 29identical or different, expression alkyl, in the said general formula (iii), e, f, g and h represent independently that respectively 2～5 integer, q and s represent independently that respectively 0～50 integer, r represent 3～80 integer, r 9～r 12represent alkyl, alkoxyl, phenyl, substituted-phenyl, phenoxy group or substituent phenoxy respectively independently, in the said general formula (iv), i, j, k and l represent independently that respectively 2～5 integer, t and u represent independently that respectively 0～50 integer, v and w represent 0～20 integer, r respectively independently 13～r 22identical or different and the expression alkyl; said water-disintegrable resin (ii) is the water-disintegrable resin that has three organic siloxy carbonyls of formula (v) expression and be selected from least a kind of siliceous group in said general formula (i), (ii), (iii) and the group of (iv) representing,in the said general formula (v), r 40, r 41and r 42identical or different, and the hydrocarbon residue of expression carbon number 1～20.
방오 도막의 형성 방법[1] 소정의 Si 함유 가수분해성 수지 및 착색 안료를 포함하는 착색 방오 도료로서, 목표 건조 도막을 갖는 도막이 피도물의 표면을 완전히 은폐하고; 목표 건조막 두께를 갖는 도막과, 건조막 두께가 0.8T인 도막의 색차 ΔE1이 2.0 이상; 바람직하게는 목표 건조막 두께를 갖는 도막과, 건조막 두께가 1.2T인 도막의 색차 ΔE2가 1 미만인 착색 방오 도료를 조제하는 공정과, [2] 피도물 표면이 착색 방오 도료로 이루어지는 도막에 의해서 완전히 은폐될 때까지, 착색 방오 도료를 피도물 표면에 도공하는 공정을 포함하는 방오 도막의 형성 방법이 제공된다. 피도물의 표면에 방오 도막을 형성하는 방법으로서, [1] 가수분해성 수지 및 착색 안료를 포함하는 착색 방오 도료로서, 하기 조건 (a)?(c)를 만족시키는 착색 방오 도료를 조제하는 공정과: (a) 목표 건조막 두께 T를 갖는 상기 착색 방오 도료로부터 형성되는 도막이, 상기 피도물의 표면을 완전히 은폐한다, (b) 목표 건조막 두께 T를 갖는 상기 착색 방오 도료로부터 형성되는 도막과, 건조막 두께가 0.8T인 상기 착색 방오 도료로부터 형성되는 도막과의 색차 ΔE1이 2.0 이상이다, (c) 상기 가수분해성 수지가 가수분해성 수지(i) 및/또는 가수분해성 수지(ii)를 포함한다, [2] 상기 피도물의 표면이 상기 착색 방오 도료로 이루어지는 도막에 의해서 완전히 은폐될 때까지, 상기 착색 방오 도료를 상기 피도물의 표면에 도공하는 공정을 포함하고, 상기 가수분해성 수지(i)은, 하기 화학식 I로 표시되는 기, 하기 화학식 II로 표시되는 기, 하기 화학식 III으로 표시되는 기, 및 하기 화학식 IV로 표시되는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 실리콘 함유기와, 2가의 금속 원자 M을 함유하는 금속 원자 함유기를 갖는 가수분해성 수지이며, 상기 가수분해성 수지(ii)는, 상기 화학식 I, II, III 및 IV로 표시되는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 실리콘 함유기와, 하기 화학식 V로 표시되는 트라이오가노실릴옥시카보닐기를 갖는 가수분해성 수지인, 방오 도막의 형성 방법: [화학식 I][이미지][상기 화학식 I 중, a 및 b는 각각 독립적으로 2?5의 정수를 나타내고, m은 0?50의 정수, n은 3?80의 정수를 나타낸다. R1?R5는 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 페닐기, 치환 페닐기, 페녹시기 또는 치환 페녹시기를 나타낸다.][화학식 II] [이미지][상기 화학식 II 중, c 및 d는 각각 독립적으로 2?5의 정수를 나타내고, p는 0?50의 정수를 나타낸다. R6, R7 및 R8은 각각 독립적으로 알킬기, Ra 또는 Rb를 나타낸다. 여기서, Ra는, [이미지](식 중, x는 0?20의 정수를 나타낸다. R23?R27은 동일 또는 상이하고, 알킬기를 나타낸다.)이며, Rb는, [이미지](식 중, y는 1?20의 정수를 나타낸다. R28 및 R29는 동일 또는 상이하고, 알킬기를 나타낸다.)이다.][화학식 III] [이미지][상기 화학식 III 중, e, f, g 및 h는 각각 독립적으로 2?5의 정수를 나타내고, q 및 s는 각각 독립적으로 0?50의 정수를 나타내고, r은 3?80의 정수를 나타낸다. R9?R12는 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 페닐기, 치환 페닐기, 페녹시기 또는 치환 페녹시기를 나타낸다.][화학식 IV][이미지][상기 화학식 IV 중, i, j, k 및 l은 각각 독립적으로 2?5의 정수를 나타내고, t 및 u는 각각 독립적으로 0?50의 정수를 나타내고, v 및 w는 각각 독립적으로 0?20의 정수를 나타낸다. R13?R22는 동일 또는 상이하고, 알킬기를 나타낸다.][화학식 V][이미지][상기 화학식 V 중, R40, R41 및 R42는 동일 또는 상이하고, 탄소수 1?20의 탄화수소 잔기를 나타낸다.]