2-oxoimidazole derivs.Compounds represented by general formula (I), their salts or esters; processes for producing the same; and analgesics, antagonists against tolerance to narcotic analgesics typified by morphine, antagonists against dependence on narcotic analgesics typified by morphine, analgesic enhancers, antiobestics, drugs for ameliorating brain function, remedies for schizophrenia, remedies for Parkinson's disease, remedies for chorea, antidepressive drugs, remedies for diabetes insipidus, remedies for polyuria, or remedies for hypotension, each drug containing the above compounds as the active ingredient. In said formula, (a) represents an optionally substituted aromatic carbon ring or heterocycle; Cy represents an optionally substituted, mono-, di- or tricyclic C3-20 aliphatic carbon ring; (b) represents an optionally substituted, mono- or di-cyclic C3-14 aliphatic heterocycle containing nitrogen; R represents hydrogen, lower alkenyl, lower alkynyl, lower cycloalkyl, amino, lower alkylamino, di(lower alkyl)amino, hydroxy, lower alkoxy, carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, lower alkylcarbamoyl, di(lower alkyl)carbamoyl or optionally substituted lower alkyl; and R represents hydrogen or lower alkyl.The compound shown in the general formula (i) and salt or ester: in the formula: be also can be by substituent aromatic carbon ring or the heterocycle selected one group that forms from halogen atom, low alkyl group, amino, low-grade alkane amino, rudimentary di alkylamino group, hydroxyl, lower alkoxy and carboxyl; a r2be also can be by substituent aromatic carbon ring or the heterocycle selected one group that forms from halogen atom, low alkyl group, amino, low-grade alkane amino, rudimentary di alkylamino group, hydroxyl, lower alkoxy and carboxyl; cy be also can have from halogen atom, rudimentary inclined to one side alkylidene group, low-grade alkenyl, alkynyl of low-grade chain, amino, low-grade alkane amino, rudimentary di alkylamino group, lower alkoxy and-r 4shown in a ring type, two ring types or the three-ring type aliphatic carbon cyclic group of substituent 3～20 carbon of selecting in the group form a group; be also can have from halogen atom, rudimentary inclined to one side alkylidene group, low-grade alkenyl, alkynyl of low-grade chain, amino, low-grade alkane amino, rudimentary di alkylamino group, hydroxyl, lower alkoxy, carboxyl, lower alkoxycarbonyl, formamyl, elementary alkyl amido methanoyl, lower dialkyl formamyl and-r 3shown in a ring type or the aliphatic nitrogenous heterocyclic radical of two ring types of substituent 3～14 carbon of selecting in the group form a group; r 1it is hydrogen atom; low-grade alkenyl; alkynyl of low-grade chain; low-grade cycloalkyl; amino; low-grade alkane amino; rudimentary di alkylamino group; hydroxyl; lower alkoxy; carboxyl; lower alkoxycarbonyl; formamyl; elementary alkyl amido methanoyl or lower dialkyl formamyl perhaps also can have from halogen atom; low-grade cycloalkyl; amino; low-grade alkane amino; rudimentary di alkylamino group; the low alkyl group sulfoamido; the aminosulfonyl amido; (low-grade alkane amino) sulfoamido; (rudimentary di alkylamino group) sulfoamido; carbamyl amino; (low-grade alkyl amino formyl) amino; (lower dialkyl carbamyl) amino; hydroxyl; lower alkoxy; carbamoyloxy; the low-grade alkyl amino methanoyl; the lower dialkyl carbamoyloxy; carboxyl; lower alkoxycarbonyl; formamyl; elementary alkyl amido methanoyl; the lower dialkyl formamyl and-a r2shown in the substituent low alkyl group selected in the group form a group; r 2be hydrogen atom or low alkyl group; r 3be also can have from amino; the low alkyl group sulfoamido; the aminosulfonyl amido; (low-grade alkane amino) sulfoamido; (rudimentary di alkylamino group) sulfoamido; carbamyl amino; (low-grade alkyl amino formyl) amino; (lower dialkyl carbamyl) amino; hydroxyl; carbamoyloxy; the low-grade alkyl amino methanoyl; the lower dialkyl carbamoyloxy; carboxyl; lower alkoxycarbonyl; formamyl; elementary alkyl amido methanoyl; the lower dialkyl formamyl; aromatic heterocycle and-r 5shown in the substituent low alkyl group selected in the group form a group; r 4be also can be by the substituent low alkyl group of selecting a group that forms from the cycloalkyl of 3～10 carbon and aromatic carbon ring or heterocyclic radical; r 5be the low-grade alkane amino that aromatic carbon ring base or heterocyclic radical also can be arranged, rudimentary di alkylamino group or lower alkoxy.
2-옥소이미다졸 유도체 본 발명은 하기 화학식 Ⅰ 로 표시되는 화합물, 그의 염 또는 에스테르, 이들의 제조 방법 및 이들을 유효성분으로 하는 진통약, 모르핀으로 대표되는 마약성 진통약 내성 극복약, 모르핀으로 대표되는 마약성 진통약 의존성 극복약, 진통작용 증강약, 항비만약, 뇌기능 개선약, 정신분열증 치료약, 퍼킨슨병 치료약, 무도병 치료약, 항우울증약, 요붕증 치료약, 다뇨증 치료약 또는 저혈압 치료약에 관한 것이다 :[화학식 Ⅰ][식중,는 치환기를 가질 수 있는 방향족 탄소 또는 복소고리를 나타내고 ; Cy 는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 20 의 1, 2 또는 3 고리성 지방족 탄소고리기를 나타내고 ;는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 14 의 1 또는 2 고리성 지방족 질소함유 복소고리기를 나타내고 ; R1 은 수소원자, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 시클로저급알킬기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 수산기, 저급알콕시기, 카르복실기, 저급알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 저급알킬카르바모일기 또는 디저급알킬카르바모일기를 의미하거나, 또는 치환기를 가질 수 있는 저급알킬기를 나타내고 ; R2 는 수소원자 또는 저급알킬기를 의미한다].하기 화학식 Ⅰ 로 표시되는 화합물, 그의 염 또는 에스테르 : [화학식 Ⅰ] [이미지] [식중, [이미지] 는 할로겐원자, 저급알킬기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 수산기, 저급알콕시기 및 카르복실기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 방향족 탄소 또는 복소고리를 나타내고 ; Ar2 는 할로겐원자, 저급알킬기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 수산기, 저급알콕시기 및 카르복실기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 방향족 탄소 또는 복소고리기를 나타내고 ; Cy 는 할로겐원자, 저급알킬리덴기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 저급알콕시기 및 -R4 로 표시되는 기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 20 의 1, 2 또는 3 고리성 지방족 탄소고리기를 나타내고 ; [이미지] 는 할로겐원자, 저급알킬리덴기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 수산기, 저급알콕시기, 카르복실기, 저급알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 저급알킬카르바모일기, 디저급알킬카르바모일기 및 -R3 으로 표시되는 기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3 내지 14 의 1 또는 2 고리성 지방족 질소함유 복소고리기를 나타내고 ; R1 은 수소원자, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 시클로저급알킬기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 수산기, 저급알콕시기, 카르복실기, 저급알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 저급알킬카르바모일기 또는 디저급알킬카르바모일기를 의미하거나, 또는 할로겐원자, 시클로저급알킬기, 아미노기, 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기, 저급알킬술포닐아미노기, 아미노술포닐아미노기, (저급알킬아미노)술포닐아미노기, (디저급알킬아미노)술포닐아미노기, 카르바모일아미노기, (저급알킬카르바모일)아미노기, (디저급알킬카르바모일)아미노기, 수산기, 저급알콕시기, 카르바모일옥시기, 저급알킬카르바모일옥시기, 디저급알킬카르바모일옥시기, 카르복실기, 저급알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 저급알킬카르바모일기, 디저급알킬카르바모일기 및 -Ar2 로 표시되는 기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급 알킬기를 나타내고 ; R2 는 수소원자 또는 저급알킬기를 나타내고 ; R3 은 아미노기, 저급알킬술포닐아미노기, 아미노술포닐아미노기, (저급알킬아미노)술포닐아미노기, (디저급알킬아미노)술포닐아미노기, 카르바모일아미노기, (저급알킬카르바모일)아미노기, (디저급알킬카르바모일)아미노기, 수산기, 카르바모일옥시기, 저급알킬카르바모일옥시기, 디저급알킬카르바모일옥시기, 카르복실기, 저급알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 저급알킬카르바모일기, 디저급알킬카르바모일기, 방향족 복소고리기 및 -R5 로 표시되는 기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급알킬기를 나타내고 ; R4 는 탄소수 3 내지 10 의 시클로알킬기 및 방향족 탄소 또는 복소고리기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기를 가질 수 있는 저급알킬기를 나타내고 ; R5 는 방향족 탄소 또는 복소고리기를 가질 수 있는 저급알킬아미노기, 디저급알킬아미노기 또는 저급알콕시기를 의미한다].