Curing agent for episulfide compounds, curable composition, cured product of episulfide compound, and method for curing episulfide compoundThe present invention provides a photobase-generating curing agent for episulfide compounds, which has excellent base generation efficiency, while generating no outgas. A curing agent for episulfide compounds of the present invention is composed of a compound represented by general formula (1). In general formula (1), X1 represents, for example, an oxygen atom; each of X2 and X3 represents, for example, a hydrogen atom; R1 represents, for example, a methyl group; both R2 and R3 are absent; each of R4, R5, R6, R7, R8 and R9 represents, for example, a hydrogen atom; R10 represents, for example, a methyl group; and B represents a base.An episulfide compounds solidifying agent, it comprises the compound shown in following general formula (1),in general formula (1),x 1, x 2and x 3separately for being selected from any one atom in the group that is made up of the alkylidene group of hydrogen atom, sauerstoffatom, carbonatoms 1 ~ 3, sulphur atom, alkylsulfonyl and silanol group or group, r1, r2 and r3 is separately for being selected from by the alkyl of carbonatoms 1 ~ 20, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 20, two rings or three-ring type aryl, containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, the heteroaryl of two rings or three-ring type, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 15, the cycloalkyl of two rings or three-ring type, and containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, any one group in the group of the heterocyclylalkyl composition of two rings or three-ring type, also can for being selected from by r1, r2 and r3 composition group in more than 2 group bondings thus formed ring texture, this ring texture can also have in ring selects free oxygen atom, more than 1 or 2 heteroatoms in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, wherein, x 1, x 2and x 3during for hydrogen atom or silanol group, r1, r2 and r3 do not exist, r4, r5, r6, r7, r8 and r9 is separately for being selected from by hydrogen atom, halogen atom, hydroxyl, sulfydryl, nitro, silanol group, the alkyl of carbonatoms 1 ~ 20, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 20, two rings or three-ring type aryl, containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, the heteroaryl of two rings or three-ring type, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 15, the cycloalkyl of two rings or three-ring type, and containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, any one atom in the group of the heterocyclylalkyl composition of two rings or three-ring type or group, also can be that r4 and r6 or r6 and r9 forms unsaturated link(age) jointly with the c-c existed together,r10 is for being selected from by hydrogen atom, the alkyl of carbonatoms 1 ~ 20, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 20, two rings or three-ring type aryl, containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, the heteroaryl of two rings or three-ring type, the monocycle of carbonatoms 3 ~ 15, the cycloalkyl of two rings or three-ring type, and containing selecting free oxygen atom, the monocycle of 1 ~ 5 heteroatomic carbonatoms 3 ~ 15 in the group of nitrogen-atoms and sulphur atom composition, any one atom in the group of the heterocyclylalkyl composition of two rings or three-ring type or group,b is alkali.
에피설파이드 화합물용 경화제, 경화성 조성물 및 에피설파이드 화합물의 경화물 및 에피설파이드 화합물의 경화 방법본 발명은, 염기 발생 효율이 뛰어나며, 아웃 가스의 발생이 일어나지 않는 광염기 발생형의 에피설파이드 화합물용 경화제를 제공한다. 본 발명의 에피설파이드 화합물용 경화제는, 하기 일반식 (1)로 나타내는 화합물로 이루어진다. (일반식 1) 일반식 (1) 중, X1는, 예를 들면, 산소 원자이며, X2, 및 X3는, 예를 들면, 수소 원자이다. R1는 예를 들면, 메틸기이며, R2, 및 R3는 모두 존재하지 않는다. R4, R5, R6, R7, R8, 및 R9는 예를 들면, 모두 수소 원자이다. R10는 예를 들면, 메틸기이다. B는, 염기이다.하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물로 이루어진, 에피설파이드 화합물용 경화제.(일반식 1)[이미지]일반식 (1) 중,X1, X2, 및 X3는 각각 독립하여 수소 원자, 산소 원자, 탄소수 1∼3의 알킬렌기, 유황 원자, 설포닐기, 및 실라놀기로부터 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 원자 또는 기이다. R1, R2, 및 R3는, 각각 독립하여 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 3∼20의 단환, 2환 또는 3환식 아릴기, 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 아릴기, 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 시클로알킬기, 및 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 기이다. R1, R2, 및 R3로부터 이루어진 군으로부터 선택되는 2 이상의 기가 결합하여 환상 구조를 형성하고 있어도 되고, 이 환상 구조는 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 이상의 헤테로 원자를 환 내에 갖고 있어도 된다. 단, X1, X2, 및 X3가 수소 원자 또는 실라놀기의 경우는, R1, R2, 및 R3는 존재하지 않는다. R4, R5, R6, R7, R8, 및 R9는, 각각 독립하여 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 메르캅토기, 니트로기, 실라놀기, 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 3∼20의 단환, 2환 또는 3환식 아릴기, 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 아릴기, 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 시클로알킬기, 및산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 원자 또는 기이다. R4와 R6 또는 R6와 R9가 하나가 되어, 존재하는 탄소-탄소 결합과 함께 불포화 결합을 형성하고 있어도 된다.R10는, 수소 원자, 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 3∼20의 단환, 2환 또는 3환식 아릴기, 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 아릴기, 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 시클로알킬기, 및 산소 원자, 질소 원자 및 유황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1∼5개의 헤테로 원자를 포함한 탄소수 3∼15의 단환, 2환 또는 3환식의 헤테로 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 원자 또는 기이다.B는 염기이다.