COMPOSITIONS COMPRISING A PI3K INHIBITOR AND AN HDAC INHIBITORThe invention relates to a pharmaceutical composition comprising at least one PI3K inhibitor of Formula I or a pharmaceutically acceptable salt thereof and at least one HDAC inhibitor such as a compound of Formula II or a pharmaceutically acceptable salt thereof; or at least one PI3K inhibitor such as a compound of Formula I or a pharmaceutically acceptable salt thereof and at least one HDAC inhibitor of Formula II or a pharmaceutically acceptable salt thereof.A pharmaceutical composition comprising: a) at least one PI3K inhibitor of Formula I or a pharmaceutically acceptable salt thereof and at least one HDAC inhibitor such as a compound of Formula II or a pharmaceutically acceptable salt thereof; or b) at least one PI3K inhibitor such as a compound of Formula I or a pharmaceutically acceptable salt thereof and at least one HDAC inhibitor of Formula II or a pharmaceutically acceptable salt thereof: wherein: W is O, N—H, N—(C1-C10 alkyl) or S;each X is independently CH or N;R1 is a 5 to 7-membered saturated or unsaturated, optionally substituted heterocycle containing at least 1 heteroatom selected from N or O;R2 is LY;each L is a direct bond, C1-C10 alkylene, C2-C10 alkenylene or C2-C10 alkynylene;Y is an optionally substituted fused, bridged or spirocyclic non-aromatic 5-12 membered heterocycle containing up to 4 heteroatoms selected from N or O; andeach R3 is independently H, C1-C10 alkyl, halogen, fluoro C1-C10 alkyl, O—C1-C10 alkyl, NH—C1-C10 alkyl, S—C1-C10 alkyl, O-fluoro C1-C10 alkyl, NH-acyl, NH—C(O)—NH—C1-C10 alkyl, C(O)—NH—C1-C10 alkyl, aryl or heteroaryl;and or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein:each R/ is independently selected from H and QR1; each Q is independently selected from a bond, CO, CO2, NH, S, SO, SO2 or O;each R1 is independently selected from H, C1-C10 alkyl, C2-C10 alkenyl, C2-C10 alkynyl, aryl, heteroaryl, C1-C10 cycloalkyl, halogen, C1-C10 alkylaryl, C1-C10 alkyl heteroaryl or C1-C10 heterocycloalkyl;each L is independently selected from a 5 to 10-membered nitrogen-containing heteroaryl;W is a zinc-binding group;each R2 is independently hydrogen or C1 to C6 alkyl; andR3 is an aryl or heteroaryl;each aryl or heteroaryl may be substituted by up to three substituents selected from C1-C6 alkyl, hydroxy, C1-C3 hydroxyalkyl, C1-C3 alkoxy, C1-C3 haloalkoxy, amino, C1-C3 mono alkylamino, C1-C3 bis alkylamino, C1-C3 acylamino, C1-C3 aminoalkyl, mono (C1-C3 alkyl) amino C1-C3 alkyl, bis(C1-C3 alkyl) amino C1-C3 alkyl, C1-C3-acylamino, C1-C3 alkyl sulfonylamino, halo, nitro, cyano, trifluoromethyl, carboxy, C1-C3 alkoxycarbonyl, aminocarbonyl, mono C1-C3 alkyl aminocarbonyl, bis C1-C3 alkyl aminocarbonyl, —SO3H, C1-C3 alkylsulfonyl, aminosulfonyl, mono C1-C3 alkyl aminosulfonyl and bis C1-C3-alkyl aminosulfonyl; andeach alkyl, alkenyl or alkynyl may be substituted with halogen, NH2, NO2 or hydroxyl.
PI3K 저해제 및 HDAC 저해제를 포함하는 조성물본 발명은 1종의 화학식 I의 PI3K 저해제 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염 및 적어도 1종 이상의 HDAC 저해제, 예컨대, 화학식 II의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염; 또는 적어도 1종 이상의 PI3K 저해제, 예컨대, 화학식 I의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염과 적어도 1종 이상의 화학식 II의 HDAC 저해제 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염을 포함하는 약제학적 조성물에 관한 것이다.다음을 포함하는 약제학적 조성물: a) 적어도 1종 이상의 하기 화학식 I(화학식 I식 중, W는 O, N-H, N-(C1-C10 알킬) 또는 S이고;각각의 X는 독립적으로 CH 또는 N이며;R1은 N 또는 O으로부터 선택된 적어도 1개의 헤테로원자를 함유하는, 5 내지 7-원의 포화된 또는 불포화된, 임의로 치환된 복소환이고;R2는 LY이고;각각의 L은 직접 결합, C1-C10 알킬렌, C2-C10 알켄일렌 또는 C2-C10 알킨일렌이며;Y는 N 또는 O로부터 선택된 최대 4개의 헤테로원자를 함유하는, 임의로 치환된 융합된, 가교된 또는 스피로환식 비-방향족 5-12원 복소환이고; 그리고각각의 R3은 독립적으로 H, C1-C10 알킬, 할로겐, 플루오로 C1-C10 알킬, O- C1-C10 알킬, NH-C1-C10 알킬, S-C1-C10 알킬, O-플루오로 C1-C10 알킬, NH-아실, NH-C(O)-NH-C1-C10 알킬, C(O)-NH-C1-C10 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴) 의 PI3K 저해제 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염과 적어도 1종의 HDAC 저해제, 예컨대, 하기 화학식 II (화학식 II식 중,각각의 R'은 독립적으로 H 및 QR1로부터 선택되고;각각의 Q는 독립적으로 결합, CO, CO2, NH, S, SO, SO2 또는O로부터 선택되며;각각의 R1은 독립적으로 H, C1-C10 알킬, C2-C10 알켄일, C2-C10 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, C1-C10 사이클로알킬, 할로겐, C1-C10 알킬아릴, C1-C10 알킬 헤테로아릴 또는 C1-C10 헤테로사이클로 알킬로부터 선택되고;각각 L은 독립적으로 5 내지 10-원 질소-함유 헤테로아릴로부터 선택되며; W는 아연-결합기이고;각각의 R2는 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C6 알킬이며; 그리고R3은 아릴 또는 헤테로아릴이고;각각의 아릴 또는 헤테로아릴은 C1-C6 알킬, 하이드록시, C1-C3 하이드록시알킬, C1-C3 알콕시, C1-C3 할로알콕시, 아미노, C1-C3 모노 알킬아미노, C1-C3 비스 알킬아미노, C1-C3 아실아미노, C1-C3 아미노알킬, 모노 (C1-C3 알킬) 아미노 C1-C3 알킬, 비스(C1-C3 알킬) 아미노 C1-C3 알킬, C1-C3-아실아미노, C1-C3 알킬 설포닐아미노, 할로, 나이트로, 사이아노, 트라이플루오로메틸, 카복시, C1-C3 알콕시카보닐, 아미노카보닐, 모노 C1-C3 알킬 아미노카보닐, 비스 C1-C3 알킬 아미노카보닐, -SO3H, C1-C3 알킬설포닐, 아미노설포닐, 모노 C1-C3 알킬 아미노설포닐 및 비스 C1-C3-알킬 아미노설포닐로부터 선택된 최대 3개의 치환기에 의해 치환될 수 있으며; 그리고각각의 알킬, 알켄일 또는 알킨일은 할로겐, NH2, NO2 또는 하이드록실로 치환될 수 있다)의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염; 또는b) 적어도 1종의 PI3K 저해제, 예컨대, 하기 화학식 I의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염과 적어도 1종의 하기 화학식 II의 HDAC 저해제 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염을 포함하는 약제학적 조성물.