Benzamide derivatives and their use as vasopressin antagonistsThis invention relates to new benzamide derivatives having a vasopressin antagonistic activity, etc, and represented by general formula (I), wherein R is aryl optionally substituted with lower alkoxy, etc, R is lower alkyl, etc, R is hydrogen, etc, R is lower alkoxy, etc, R is hydrogen, etc, A is NH, etc, E is -C(0)-, etc, X is -CH=CH-, -CH=N-, or S, and Y is CH or N, and pharmaceutically acceptable salts thereof, to processes for preparation thereof and to a pharmaceutical composition comprising the same.Following formula: compound and its pharmacy acceptable salt: wherein r 1be aryl, ring (rudimentary) alkyl or heterocyclic radical, they are selected from following substituting group separately and are replaced: halogen; hydroxyl; nitro; amino; acyl group; the acyl group that replaces; acyl group (rudimentary) alkyl sulphinyl; acyl group (rudimentary) alkyl sulphonyl; acyloxy; low-grade alkyl amino (rudimentary) alkyl carbamoyloxy base; aryl; cyano group; heterocyclic radical; selected the low-grade alkenyl of replacement by the aryl of the acyl group of acyl group, replacement, aryl or acyl substituted; selected the alkynyl of low-grade chain of replacement by the acyl amino of amino, acyl amino or replacement; be selected from following group and selected the low alkyl group of replacement: the aryl of the acyl group of the acyl amino of halogen, amino, lower alkyl amino, acyl amino, replacement, hydroxyl, acyloxy, acyl group (rudimentary) alkanoyloxy, acyl group, replacement, acyl group (rudimentary) alkoximino, aryl or acyl substituted;selected the lower alkylthio of replacement by the acyl group of acyl group or replacement;be selected from following group and selected the alkoxyl group of replacement: aryl, the aryl that replaces, hydroxyl, acyloxy, amino, lower alkyl amino, the amino of protection, heterocyclic radical, the pyridyl of acyl substituted, the pyridyl of the acyl substituted that replaces, halogen, acyl group (rudimentary) alkylamino, the acyl group of n-protected (rudimentary) alkylamino, n-acyl group (rudimentary) alkyl-n-(rudimentary) alkylamino, acyl group, the acyl group that replaces, amido, the amido that replaces, low alkyl group diazanyl carbonylamino, oxyimino, acyl group (rudimentary) alkoximino, acyl group (rudimentary) alkoximino that replaces, acyl group (rudimentary) alkoxyl group, the guanidine radicals of guanidine radicals or n-protected; withselected the rudimentary alkenyloxy of replacement by the acyl group of acyl group or replacement;r 2be hydrogen; selected the low alkyl group of replacement by hydroxyl, aryl or acyl group; or ring (rudimentary) alkyl; r 3be hydrogen; halogen; hydroxyl; acyloxy; the acyloxy that replaces; by the low alkyl group of hydroxyl or lower alkoxy selection replacement; selected the lower alkoxy of replacement by the amino of aryl, amino, protection, acyl group, hydroxyl, cyano group or lower alkylthio; nitro; amino; acyl group; the acyl group that replaces; or ring (rudimentary) alkoxyl group; r 4it is hydroxyl; halogen; nitro; amino; the amino of protection; lower alkyl amino; acyloxy; amino (rudimentary) alkylamino; the amino of n-protected (rudimentary) alkylamino; be selected from following group and selected the lower alkoxy of replacement: the amido of the acyl group of the aryl of hydroxyl, aryl, replacement, acyl group, replacement, amino, lower alkyl amino, amido, replacement, the amino of protection, heterocyclic radical or guanidine radicals; be selected from following group and selected the lower alkylthio of replacement: aryl (rudimentary) alkoxyl group of the amido of the acyl group of acyl group, replacement, amino, lower alkyl amino, amido, replacement, the amino of protection, heterocyclic radical, hydroxyl, low alkyl group sulfonyloxy, aryl-sulfonyl oxygen, aryl (rudimentary) alkoxyl group or replacement; be selected from the low alkyl group that following group replaces: the amido of the acyl group of acyl group, replacement, amino, lower alkyl amino, amido, replacement, the amino of protection, heterocyclic radical, hydroxyl, low alkyl group sulfonyloxy or aryl-sulfonyl oxygen; selected the low-grade alkenyl of replacement by acyl group; selected the alkynyl of low-grade chain of replacement by the amino of hydroxyl, amino, protection, low alkyl group sulfonyloxy or aryl-sulfonyl oxygen; amino (rudimentary) alkyl sulphonyl; the amino of n-protected (rudimentary) alkyl sulphonyl; the lower alkyl amino alkylsulfonyl; the heterocyclic radical alkylsulfonyl; amino (rudimentary) alkyl sulphinyl; the amino of n-protected (rudimentary) alkyl sulphinyl; piperidines oxygen base; or the piperidines oxygen base of n-protected; r 5be hydrogen, low alkyl group, lower alkoxy or halogen; a is a singly-bound, o or nh;e is a low-grade alkylidene, rudimentary alkylene group, and-c (o)-,-s (o) 2-, or formula-g-j-group, wherein g be low-grade alkylidene and j be o or-n (r 6)-(be r wherein 6be the group of hydrogen or n-protected); x is-ch=ch--ch=n-or s; withy is ch or n.
벤즈아미드 유도체 및 바소프레신 길항제로서의 그의 용도본 발명은 바소프레신 길항황성을 가진 하기 화학식(I)의 신규 벤즈아미드 유도체 및 약제학적으로 허용되는 그의 염. 그의 제조방법 및 그들을 함유하는 약제학적 조성물에 관한 것이다.상기 식에서,R1은 저급 알콕시에 의해 임의로 치환된 아릴 등이며,R2는 저급 알킬 등이고,R3은 수소 등이며,R4는 저급 알콕시 등이고,R5는 수소 등이며,A는 NH등 이고,E는 등이며,X는 -CH=CH-, -CH=N- 또는 S이며,Y는 CH 또는 N이다.화학식 (I)의 화합물 및 그의 약제학적으로 허용되는 염 : [이미지] 상기 식에서, R1 은 각각 할로겐; 하이드록시; 니트로; 아미노; 아실; 치환된 아실; 아실(저급)알킬설피닐; 아실(저급)알킬설포닐; 아실옥시; 저급 알킬아미노(저급)알킬카바모일옥시; 아릴; 사이노; 헤테로사이클릭 그룹; 아실, 치환된 아실, 아릴 또는 아실-치환된 아릴에 의해 임의로 치환된 저급 알케닐; 아미노, 아실아미노 또는 치환된 아실아미노에 의해 임의로 치환된 저급 알키닐; 할로겐, 아미노, 저급 알킬아미노. 아실아미노, 치환된 아실아미노, 하이드록시, 아실옥시, 아실(저급)알카노일옥시, 아실, 치환된 아실, 아실(저급)알콕시이미노, 아릴 또는 아실-치환된 아릴에 의해 임의로 치환된 저급 알킬; 아실 또는 치환된 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알킬티오; 아릴, 치환된 아릴, 하이드록시, 아실옥시, 아미노, 저급 알킬아미노, 보호된 아미노, 헤테로사이클릭 그룹, 아실-치환된 피리딜, 치환된 아실-치환된 피리딜, 할로겐, 아실(저급)알킬아미노, N-보호된 아실(저급)알킬아미노, N-아실(저급)알킬-N-저급알킬아미노, 아실, 치환된 아실, 아실아미노, 치환된 아실아미노, 저급 알킬히드라지노카보닐아미노, 하이드록시이미노, 아실(저급)알콕시이미노, 치환된 아실(저급)알콕시이미노, 아실(저급)알콕시, 구아니디노 또는 N-보호된 구아니디노에 의해 임의로 치환된 알콕시; 및 아실 또는 치환된 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알케닐옥시로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체로 치환될 수 있는 아릴, 사이클로(저급)알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹이고; R2 는 수소; 하이드록시, 아릴 또는 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알킬; 또는 사이클로(저급)알킬이며; R3 은 수소; 할로겐; 하이드록시; 아실옥시; 치환된 아실옥시; 하이드록시 또는 저급 알콕시에 의해 임의로 치환된 저급 알킬; 아릴, 아미노, 보호된 아미노, 아실, 하이드록시, 시아노 또는 저급 알킬티오에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시; 니트로; 아미노; 아실; 치환된 아실; 또는 사이클로(저급)알킬옥시이고; R4 는 하이드록시; 할로겐; 니트로; 아미노; 보호된 아미노; 저급 알킬아미노; 아실옥시; 아미노(저급)알킬아미노; N-보호된 아미노(저급)알킬아미노; 하이드록시, 아릴, 치환된 아릴, 아실, 치환된 아실, 아미노, 저급 알킬아미노, 아실아미노, 치환된 아실아미노, 보호된 아미노, 헤테로사이클릭 그룹 또는 구아니디노에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시; 아실, 치환된 아실, 아미노, 저급 알킬아미노, 아실아미노, 치환된 아실아미노, 보호된 아미노, 헤테로사이클릭 그룹, 하이드록시, 저급 알킬설포닐옥시, 아릴설포닐옥시, 아르(저급)알콕시 또는 치환된 아르(저급)알콕시에 의해 임의로 치환된 저급 알킬티오; 아실, 치환된 아실, 아미노, 저급 알킬아미노, 아실아미노, 치환된 아실아미노, 보호된 아미노, 헤테로사이클릭 그룹, 하이드록시, 저급 알킬설포닐 옥시 또는 아릴설포닐옥시에 의해 치환된 저급 알킬; 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알케닐; 하이드록시, 아미노, 보호된 아미노, 저급 알킬설포닐옥시 또는 아릴설포닐옥시에 의해 임의로 치환된 저급 알키닐; 아미노(저급)알킬설포닐; N-보호된 아미노(저급)알킬설포닐; 저급 알킬아미노설포닐; 헤테로사이클릭설포닐; 아미노(저급)알킬설포닐; N-보호된 아미노(저급)알킬설피닐; 피페리딜옥시; 또는 N-보호된 피페리딜옥시이며; R5 는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시 또는 할로겐이고; A는 단일 결합, O 또는 NH이며; E는 저릅 알킬렌, 저급 알케닐렌. [이미지]또는 화학식 -G-J-의 그룹이고, 여기에서, G는 저급 알킬렌이며, J는 0 또는 [이미지](여기에서, R6 는 수소 또는 N-보호 그룹이다)이고, X는 -CH=CH-, -CH=N- 또는 S이며; Y는 CH 또는 N이다.