SURFACE FORMULATIONS COMPRISING PHENOLSThe present disclosure describes surface formulations that form a layer on surfaces and comprise a phenol selected from: (I), (II), (III), (IV) or (V), with detailed descriptions of variables herein.A formulation, comprising:a phenol selected from the group consisting of:wherein n or m is 0, 1, 2, 3,4, 5, and n + m is more than or equal to 2;x1is selected from-chr1(ch2)p-, wherein r1is hydrogen, carboxyl, sulfonate, phosphonate, amino, hydroxyl, thiol or halogen, p is 0 or an integer;x2is a single bond, -oc (o) (ch)2)q-、-c(o)o(ch2)q-、-oc(o)(chr2)(ch2)q-、-c(o)o(chr2)(ch2)q-、-oc(o)cr2＝cr2-, wherein r2independently at each occurrence is hydrogen, carboxyl, sulfonate, phosphonate, amino, hydroxyl, thiol, or halogen, q is 0 or an integer;x3is selected from- (ch)2)rcr3wherein r is3is hydrogen, carboxyl, sulfonate, phosphonate, amino, hydroxyl, thiol or halogen, r is 0 or an integer;x4is ═ cr4oc(o)(ch2)s-、＝cr4c(o)o(ch2)s-、＝cr4oc(o)(chr4)(ch2)s-、＝cr4c(o)o(chr4)(ch2)s-、＝cr4(ch2)swherein r is4independently at each occurrence is hydrogen, carboxyl, sulfonate, phosphonate, amino, hydroxyl, thiol, or halogen, s is 0 or an integer;x5is a ternary, quaternary or pentabasic linking group which forms a fused bicyclic moiety in the phenol;x6is a single bond, methylene, ethylene, propylene, -o (ch)2)t-、-ch2o(ch2)t-、-och2(chr5)(ch2)t-、-ch2o(chr5)(ch2)t-、-oc(o)(ch2)t-、-c(o)o(ch2)t-、-oc(o)(chr5)(ch2)t-、-c(o)o(chr5)(ch2)t-, wherein r5is hydrogen, carboxyl, sulfonate, phosphonate, amino, hydroxyl, thiol or halogen, t is 0 or an integer;x7selected from halogen, sulfonate group, carboxylate group, phosphonate group, amino group, nitro group, -ch ═ chr6group, -c (o) r6the group, -ch (oh) r6group, wherein r6selected from hydrogen, c1-c6alkyl, aryl, heteroaryl, and heteroaryl,a carboxyl group, a sulfonate group, a phosphonate group, an amino group, an aminoalkylene group, a hydroxyl group, a hydroxyalkylene group, an alkoxy group, an alkoxyalkylene group, a thiol group, a thioalkylene group, an alkylthio group, or an alkylthio alkylene group;x8and x9independently selected from o, s, nh or nr7wherein r is7is c1-c6an alkyl group; x10selected from h, oh, or8、sh、sr8or nh2、nhr8wherein r is8is c1-c6an alkyl group;wherein the phenol further comprises a property selected from the group(i) the phenol forms a coating when the formulation is applied to a surface, and the water contact angle θ of the coatingcequal to or greater than 0 ° and not greater than 65 °,(ii) the phenol provides adhesion between the surface and the object, a 90degree peel strength of at least 38n/100mm as determined according to astm d6862-11,(iii) the phenol forms a coating when the formulation is applied to a surface, and the coating has a tape test rating of at least 2b as determined according to astm d3359-17,(iv) the phenol provides adhesion between the surface and the object, and has a lap shear strength of at least 0.1n/mm as measured according to astm d1002, d3163, d3165, or d58682，(v) the phenol provides adhesion between the surface and the object, a t peel strength of at least 60n/100mm as determined according to astm d1876,(vi) the phenol provides adhesion between the surface and the object with a 180 degree peel strength of at least 38n/100mm as determined according to astm d3330.
페놀을 포함하는 표면 제제본 발명은 변수들이 본 명세서에 상세한 설명되는 표면에 층을 형성하며 다음 (I), (II), (III), (IV) 또는 (V)으로부터 선택된 페놀을 포함하는 표면 제제를 기술한다:[이미지](I), [이미지](II), [이미지](III), [이미지](IV), 또는 [이미지](V)다음으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 페놀을 포함하는 제제:[이미지], [이미지], [이미지], [이미지], 및 [이미지];여기서 n 또는 m = 0, 1, 2, 3, 4, 5 및 n + m ≥ 2; X1은 -CHR1(CH2)p-로부터 선택되며, 여기서 R1은 수소, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 하이드록실기, 티올기 또는 할로겐이고, p는 0 또는 정수이고; X2는 단일 결합, -OC(O)(CH2)q-, -C(O)O(CH2)q-, -OC(O)(CHR2)(CH2)q-, -C(O)O(CHR2)(CH2)q-, -OC(O)CR2=CR2-, 여기서 R2는 각 경우에 독립적으로 수소, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 하이드록실기, 티올기, 또는 할로겐이고, q는 0 또는 정수이고; X3는 -(CH2)rCR3=로부터 선택되며, 여기서 R3는 수소, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 하이드록실기, 티올기 또는 할로겐이고, r은 0 또는 정수이고; X4는 =CR4OC(O)(CH2)s-, =CR4C(O)O(CH2)s-, =CR4OC(O)(CHR4)(CH2)s-, =CR4C(O)O(CHR4)(CH2)s-, =CR4(CH2)s, 여기서 R4는 각 경우에 독립적으로 수소, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 하이드록실기, 티올기 또는 할로겐이고, s는 0 또는 정수이고; X5는 페놀에서 융합된 바이사이클릭 모이어티를 형성하는 3, 4 또는 5원 링커이고; X6은 단일 결합, 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, -O(CH2)t-, -CH2O(CH2)t-, -OCH2(CHR5)(CH2)t-, -CH2O(CHR5)(CH2)t-, -OC(O)(CH2)t-, -C(O)O(CH2)t-, -OC(O)(CHR5)(CH2)t-, -C(O)O(CHR5)(CH2)t-, 여기서 R5는 수소, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 하이드록실기, 티올기 또는 할로겐이고, t는 0 또는 정수이고; X7은 할로겐, 설포네이트기, 카복실레이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 나이트로기, -CH=CHR6 기, -C(O)R6 기, -CH(OH)R6기로부터 선택되며, 여기서 R6은 수소, C1-C6 알킬기, 카복실기, 설포네이트기, 포스포네이트기, 아미노기, 아미노알킬렌기, 하이드록실기, 하이드록실 알킬렌기, 알콕시기, 알콕시 알킬렌기, 티올기, 티오 알킬렌기, 알킬티오기 또는 알킬티오 알킬렌기로부터 선택되며; X8 및 X9는 각각의 경우 독립적으로 O, S, NH 또는 NR7로부터 선택될 수 있으며, 여기서 R7은 C1-C6 알킬이고; X10은 H, OH, OR8, SH, SR8 또는 NH2, NHR8로부터 선택되며, 여기서 R8은 C1-C6 알킬이다;페놀은 다음 그룹로부터 선택된 특성을 추가로 포함한다:(i) 페놀은 제제가 표면에 도포될 때 코팅을 형성하고 코팅은 ASTM D7334-08에 의해 결정된 바와 같이 0°이상 및 65°이하의 물 접촉각 θC를 가진다,(ii) 페놀은 ASTM D6862-11에 따라 결정된 적어도 38N/100mm의 90도 박리 저항성을 갖는 물체와 표면 사이에 접착력을 형성한다,(iii) 페놀은 제제가 표면에 도포되고 코팅이 ASTM D3359-17에 의해 결정된 적어도 2B의 테이프 테스트 등급을 가질 때 코팅을 형성한다,(iv) 페놀은 ASTM D1002, D3163, D3165 또는 D5868에 의해 결정된 적어도 0.1N/mm2의 랩 전단 저항을 갖는 표면과 물체 사이에 접착력을 형성한다,(v) 페놀은 ASTM D1876에 의해 결정된 적어도 60N/100mm의 T-박리 저항을 갖는 표면과 물체와 사이에 접착력을 형성한다,(vi) 페놀은 ASTM D3330에 의해 결정된 적어도 38N/100mm의 180도 박리 저항을 갖는 표면과 물체 사이에 접착력을 형성한다.