PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY COMPRISING A MIXTURE OF PHOTOACTIVE COMPOUNDSThe present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.A photoresist composition comprising; a) a polymer containing an acid labile group; and, b) a mixture of photoactive compounds, where the mixture comprises a lower absorbing compound selected from structure (1 ) and (2), and a higher absorbing compound selected from structure (4) and (5),0) (2)(4) (5) where Ri and R2 are independently C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, C5-5o aralkyl or C5-5o monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group; each of R5, Re, R7, Re, and R9 are independently hydrogen, hydroxyl, C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, C5-50 aralkyl or C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group; m=1-5; X' is an anion; and Ar is selected from naphthyl, anthryl, and structure (3), (3) . where each of R30, R31, R32, R33> and R34 are independently selected from hydrogen, hydroxyl, C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, C1-20 straight or branched alkoxy chain, C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, C5-50 cyclic alkylcarbonyl group, C5-50 aryl group, C5-50 arylcarbonylmethylene group, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, peryl group, pyryl group, thienyl group, C5-50 aralkyl group, — O— C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, -O— C5-50 aryl group, -O— C5-50 aralkyl group, -O— C5-50 arylcarbonylmethylene group, or — O— C(=O)— O— R18 where Rιβ is C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, C5-50 aryl, or C5-50 aralkyl group; the C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, C1-20 straight or branched alkoxy chain, C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, C5.50 cyclic alkylcarbonyl group, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, peryl group, pyryl group, thienyl group, C5-50 aralkyl group, C5-50 aryl group, or C5-50 arylcarbonylmethylene group being unsubstituted or substituted by one or more groups selected from the group consisting of halogen, CMO alkyl, C3-20 cyclic alkyl, CMO alkoxy, C3.20 cyclic alkoxy, di CMO alkylamino, dicyclic di CMO alkylamino, hydroxyl, cyano, nitro, oxo, aryl, aralkyl, oxygen, aryloxy, arylthio, and groups of formulae (II) to (VI):R10 R-I4 Rl6— 0-C-OR12 — 0-C-OR13 — O-C — π— OR13 — O-Si— R17 C-OR12I II i II i n ΛR11 O R15 O R16 0(ll) (Ml) (IV) (V) (VI) wherein R10 and Rn each independently represent a hydrogen atom, a C-ι-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, or a C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, or R10 and Rn together can represent an alkylene group to form a five- or six-membered ring, R12 represents a C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, a C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, or a C5-50 aralkyl group, or R10 and R12 together represent an alkylene group which forms a five- or six-membered ring together with the interposing — C— O — group, the carbon atom in the ring being optionally substituted by an oxygen atom,R-I3 represents a Cι-2o straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms or a C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, R14 and R15 each independently represent a hydrogen atom, a C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms or a C5.50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group,R16 represents a C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, a C5-50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, a C5. 50 aryl group, or a C5-50 aralkyl group, and R-17 represents C1-20 straight or branched alkyl chain optionally containing one or more O atoms, a C5.50 monocyclic, bicyclic, or tricylic alkyl group, a C5.50 aryl group, a C5-50 aralkyl group, the group — Si(Rι6)2 i7, or the group Y is a single bond or (Cι-C6)alkyl.
광활성 화합물의 혼합물을 포함하는 원자외선리소그래피용 포토레지스트 조성물본 발명은 알칼리 수용액으로 현상이 가능하고, 원자외선의 노광 파장에서 이미지화될 수 있는 신규 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 신규 포토레지스트의 이미지화 방법 및 신규 광산 발생제에 관한 것이다.(a) 산 민감성 기를 함유하는 중합체; 및 (b) 하기 화학식 1 및 2의 화합물 중에서 선택되는 저흡광성 화합물 및 화학식 4 및 5의 화합물 중에서 선택되는 고흡광성 화합물을 포함하는 광활성 화합물의 혼합물 을 포함하는 포토레지스트 조성물. [화학식 1]  [화학식 2]  [화학식 4]  [화학식 5]  (상기 식에서, R1 및 R2는 독립적으로 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 아랄킬 또는 C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기이며; R5, R6, R7, R8 및 R9 는 각각 독립적으로 수소, 히드록실; 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 아랄킬 또는 C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기이며; m은 1∼5이고; X-는 음이온이고; Ar은 나프틸, 안트릴 및 하기 화학식 3의 기 중에서 선택됨) [화학식 3]  (상기 식에서, R30, R31, R32, R33 및 R34는 각각 수소, 히드록실; 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 사슬, C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, C5-50 시클릭 알킬카르보닐기, C5-50 아릴기, C5-50 아릴카르보닐메틸렌기, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페릴기, 피릴기, 티에닐기, C5-50 아랄킬기, -O-C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, -O-C5-50 아릴기, -O-C5-50 아랄킬기, -O-C5-50 아릴카르보닐메틸렌기 또는 -O-C(=O)-O-R18 [여기서, R18은 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, C5-50 아릴 또는 C5-50 아랄킬 기임] 중에서 독립적으로 선택되고; 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 상기 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 사슬, C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, C5-50 시클릭 알킬카르보닐기, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페릴기, 피릴기, 티에닐기, C5-50 아랄킬기, C5-50 아릴기 또는 C5-50 아릴카르보닐메틸렌기는 비치환되거나, 또는 할로겐, C1-10 알킬, C3-20 시클릭 알킬, C1-10 알콕시, C3-20 시클릭 알콕시, 디 C1-10 알킬아미노, 디시클릭 디 C1-10 알킬아미노, 히드록실, 시아노, 니트로, 옥소, 아릴, 아랄킬, 산소, 아릴옥시, 아릴티오 및 하기 화학식 II∼VI의 기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 기로 치환됨) [화학식 II]  [화학식 III]  [화학식 IV]  [화학식 V]  [화학식 VI]  (상기 식에서, R10 및 R11은 각각 독립적으로 수소 원자; 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; 또는 C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기이거나, 또는 R10 및 R11은 함께 5원 또는 6원 고리를 형성하는 알킬렌기를 나타낼 수 있으며, R12는 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, 또는 C5-50 아랄킬기이거나, 또는 R10 및 R12는 함께, 개재된 -C-O-기와 함께 5원 또는 6원 고리를 형성하는 알킬렌기를 나타내고, 상기 고리 내의 탄소 원자는 산소 원자로 임의로 치환되며, R13은 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; 또는 C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기이고, R14 및 R15는 각각 독립적으로 수소 원자; 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; 또는 C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기이며, R16은 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, C5-50 아릴기 또는 C5-50 아랄킬기이며, R17은 하나 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 C1-20 직쇄 또는 분지쇄의 알킬 사슬; C5-50 모노시클릭, 비시클릭 또는 트리시클릭 알킬기, C5-50 아릴기, C5-50 아랄킬기, -Si(R16)2R17기 또는 -O-Si(R16)2R17 기이며; Y는 단일 결합 또는 (C1-C6)알킬임)